JP7411536B2 - 反射防止フィルム - Google Patents

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Description

関連出願との相互参照
本出願は、２０１６年３月９日付の韓国特許出願第１０－２０１６－００２８４６８号
、２０１６年３月１１日付の韓国特許出願第１０－２０１６－００２９３３６号、２０１
６年３月１４日付の韓国特許出願第１０－２０１６－００３０３９５号、および２０１７
年３月９日付の韓国特許出願第１０－２０１７－００２９９５９号に基づく優先権の利益
を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含
まれる。
本発明は、反射防止フィルムに関し、より詳しくは、低い反射率および高い透光率を有
しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現することができ、ディスプレイ装
置の画面の鮮明度を高めることができる反射防止フィルムに関する。
一般に、ＰＤＰ、ＬＣＤなどの平板ディスプレイ装置には、外部から入射する光の反射
を最小化するための反射防止フィルムが装着される。
光の反射を最小化するための方法としては、樹脂に無機微粒子などのフィラーを分散さ
せて基材フィルム上にコーティングし、凹凸を付与する方法（ａｎｔｉ－ｇｌａｒｅ：Ａ
Ｇコーティング）；基材フィルム上に屈折率が異なる多数の層を形成させて光の干渉を利
用する方法（ａｎｔｉ－ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲコーティング）、またはこれらを混
用する方法などがある。
そのうち、前記ＡＧコーティングの場合、反射する光の絶対量は、一般的なハードコー
トと同等の水準であるが、凹凸を通した光の散乱を利用して目に入る光の量を低減するこ
とによって低反射効果を得ることができる。しかし、前記ＡＧコーティングは表面凹凸に
よって画面の鮮明度が落ちるため、最近はＡＲコーティングに対する多くの研究がなされ
ている。
前記ＡＲコーティングを利用したフィルムとしては、基材フィルム上にハードコート層
（高屈折率層）、低反射コーティング層などが積層された多層構造のものが商用化されて
いる。しかし、前記のように多数の層を形成させる方法は、各層を形成する工程を別途に
行うことによって、層間密着力（界面接着力）が弱く耐スクラッチ性が低下するという欠
点がある。
また、従来は、反射防止フィルムに含まれる低屈折層の耐スクラッチ性を向上させるた
めには、ナノメートルサイズの多様な粒子（例えば、シリカ、アルミナ、ゼオライトなど
の粒子）を添加する方法が主に試みられた。しかし、前記のようなナノメートルサイズの
粒子を用いる場合、低屈折層の反射率を低下させながら耐スクラッチ性を同時に高めにく
い限界があり、ナノメートルサイズの粒子によって低屈折層の表面が有する防汚性が大き
く低下した。
これにより、外部から入射する光の絶対反射量を低減し、表面の耐スクラッチ性と共に
防汚性を向上させるための多くの研究がなされているが、それによる物性改善の程度が不
十分である。
本発明は、低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性
を同時に実現することができ、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めることができる反
射防止フィルムを提供する。
本明細書では、Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度の
ｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトル（ｑｍ
ａｘ）で１個以上のピークを示す、反射防止フィルムが提供される。
以下、発明の具体的な実現例による反射防止フィルムに関してより詳細に説明する。
本明細書において、光重合性化合物は、光が照射されると、例えば、可視光線または紫
外線が照射されると、重合反応を起こす化合物を通称する。
また、含フッ素化合物は、化合物のうちの少なくとも１個以上のフッ素元素が含まれて
いる化合物を意味する。
さらに、（メタ）アクリル［（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ］は、アクリル（ａｃｒｙｌ）お
よびメタクリル（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌ）の両方ともを含む意味である。
また、（共）重合体は、共重合体（ｃｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍ
ｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）の両方ともを含む意味である。
さらに、中空シリカ粒子（ｓｉｌｉｃａ ｈｏｌｌｏｗ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは、
ケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ粒子であって、前記シリカ粒
子の表面および／または内部に空き空間が存在する形態の粒子を意味する。
発明の一実現例によれば、Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する
散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベク
トル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示す、反射防止フィルムが提供できる。
そこで、本発明者らは、反射防止フィルムに関する研究を進行させて、Ｘ線照射による
小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．
０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示す
条件を満足する反射防止フィルムは、低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐ス
クラッチ性および防汚性を同時に実現できる点を実験を通して確認して、発明を完成した
。
具体的には、反射防止フィルムが、Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトル
に対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の
散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上の散乱強度のｌｏｇ値のピークを示せるか否かは、
前記反射防止フィルムの内部構造、例えば、反射防止フィルムに含まれる有機または無機
粒子間の平均的距離に関係する。
Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラ
フにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以
上のピークを示す条件を満足する反射防止フィルムは最適化された屈折率値を維持するこ
とができ、これにより、前記反射防止フィルムは低い反射率を実現することができる。
例えば、前記Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌ
ｏｇ値のグラフで０．０７５８ｎｍ－１未満の散乱ベクトルでピークを示す場合、前記反
射防止フィルムに含まれる有機または無機粒子間の距離が過度に遠くなるなどの理由から
、前記反射防止フィルムの屈折率が高くなり、これにより、反射率も非常に高くなり得る
。
一方、前記Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏ
ｇ値のグラフで０．１２５６ｎｍ－１超過の散乱ベクトルでピークが最初に現れる場合、
前記反射防止フィルムに含まれる有機または無機粒子間の距離が過度に小さくなって、前
記反射防止フィルムの粗さが高くなり、耐スクラッチ性と防汚性が低下することがある。
前記ピーク（ｐｅａｋ）は、「Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対
する散乱強度のｌｏｇ値のグラフ」において、前記散乱強度のｌｏｇ値が上に膨らんで現
れる極値である。このような極値または変曲点は、前記反射防止フィルムに含まれる有機
または無機粒子の配列によって散乱が極大化される地点であり得る。
上述のように、前記実現例の反射防止フィルムは、Ｘ線照射による小角散乱で定義され
る散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２
５６ｎｍ－１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示すことができる。より
具体的には、前記実現例の反射防止フィルムに対するＸ線照射による小角散乱で定義され
る散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、前記０．０７５８～０．
１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）の範囲は、前記散乱ベクトルに対する散乱
強度のｌｏｇ値のピークが最初に現れる地点であり得る。
前記Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルは、下記一般式１で定義される
。
［一般式１］
ｑ＝４π ｓｉｎθ／λ
前記一般式１において、ｑは、散乱ベクトルであり、θは、散乱角度の１／２値であり
、λは、照射されたＸ線の波長である。
具体的には、前記Ｘ線照射による小角散乱は、透過モードまたは斜入射Ｘ線小角散乱を
意味し、例えば、１ｃｍ×１ｃｍ（横×縦）の大きさの反射防止フィルムに対して、０．
６３Å～１．５４Åの波長のＸ線を４ｍの距離から照射して測定することができる。
例えば、Ｘ線小角散乱分析（ＳＡＸＳ、Ｓｍａｌｌ Ａｎｇｌｅ Ｘ－ｒａｙ Ｓｃａ
ｔｔｅｒｉｎｇ）は、Ｐｏｈａｎｇ加速器４Ｃビームラインで試料にＸ線を透過させて散
乱ベクトル（ｑ）に応じた散乱強度を測定して行われる。より具体的には、前記小角散乱
の測定は、検出器（Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）と約４ｍ離れた位置に試料を置いてＸ線を入射し
て測定することができ、垂直の大きさが０．０２３ｍｍ、水平の大きさが０．３ｍｍのＸ
線を用い、検出器としては２Ｄ ｍａｒ ＣＣＤを用いることができる。また、散乱して
出る２Ｄ回折パターンをイメージとして得て、これをＳｔａｎｄａｒｄ試料を通して得ら
れたｓａｍｐｌｅ－ｔｏ－ｄｅｔｅｃｔｏｒ距離を用いてｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎし、ｃ
ｉｒｃｕｌａｒ ａｖｅｒａｇｅを通して散乱ベクトル（ｑ）に応じた散乱強度を換算す
ることができる。
一方、前記反射防止フィルムに対するＸ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクト
ルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１
の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示す条件は、前記反射防止フィルムの
特性である反射防止フィルムに含まれる成分、光学特性、表面特性および内部特性などを
調節して達成することができる。
例えば、前記反射防止フィルムは、ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バイ
ンダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層
；を含むことができる。
具体的には、前記反射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層および前記低屈折層
の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布し得る。
従来は、反射防止フィルムの耐スクラッチ性を高めるために無機粒子を過剰添加したが
、反射防止フィルムの耐スクラッチ性を高めるのに限界があり、むしろ反射率と防汚性が
低下する問題点があった。
これに対し、前記反射防止フィルムに含まれる低屈折層内で中空状無機ナノ粒子および
ソリッド状無機ナノ粒子が互いに区分可能に分布させる場合、低い反射率および高い透光
率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現することができる。
具体的には、前記反射防止フィルムの低屈折層のうち、前記ハードコート層および前記
低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子を主に分布させ、前記界面の反対面側
には中空状無機ナノ粒子を主に分布させる場合、従来無機粒子を用いて得られていた実際
の反射率に比べてより低い反射率を達成することができ、また、前記低屈折層が大きく向
上した耐スクラッチ性および防汚性を共に実現することができる。
上述のように、前記反射防止フィルムに対するＸ線照射による小角散乱で定義される散
乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６
ｎｍ－１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示す条件を満足することによ
って、フィルムは、低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および
防汚性を同時に実現することができる。
上述のように、前記低屈折層は、バインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空
状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含み、前記ハードコート層の一面に形成
されるが、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上は、前記ハードコート層
および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの５０％以内に存在し得る。
「前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が特定領域に存在する」とは、
前記低屈折層の断面において、前記ソリッド状無機ナノ粒子が前記特定領域に大部分存在
するとの意味で定義され、具体的には、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％
以上は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体の体積を測定して確認可能である。
前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子が特定の領域に存在するか否か
は、それぞれの中空状無機ナノ粒子またはソリッド状無機ナノ粒子が前記特定の領域内に
粒子として存在するか否かで決定し、前記特定領域の境界面にわたって存在する粒子は除
いて決定する。
また、上述のように、前記低屈折層において、前記ハードコート層および前記低屈折層
の間の界面の反対面側には中空状無機ナノ粒子が主に分布し得るが、具体的には、前記中
空状無機ナノ粒子全体中の３０体積％以上、５０体積％以上、または７０体積％以上が、
前記ソリッド状無機ナノ粒子全体より、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界
面から前記低屈折層の厚さ方向により遠い距離に存在し得る。
より具体的には、前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚
さの３０％以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在し得る。ま
た、前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０％超過
の領域に前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在し得る。
前記反射防止フィルムの低屈折層のうち、前記ハードコート層および前記低屈折層の間
の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子を主に分布させ、前記界面の反対面側には中空状無
機ナノ粒子を主に分布させることによって、前記低屈折層内に互いに屈折率が異なる２つ
以上の部分または２つ以上の層が形成され、これにより、前記反射防止フィルムの反射率
が低くなり得る。
前記低屈折層において、前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機ナノ粒子の特異
的分布は、後述の特定の製造方法において、前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無
機ナノ粒子の間の密度の差を調節し、前記２種のナノ粒子を含む低屈折層形成用光硬化性
樹脂組成物を乾燥温度を調節することにより得られる。
具体的には、前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５
０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有することができ、また、前記ソリッド状無機ナノ粒子およ
び前記中空状無機ナノ粒子の間の密度の差は、０．５０ｇ／ｃｍ３～１．５０ｇ／ｃｍ３
、または０．６０ｇ／ｃｍ３～１．００ｇ／ｃｍ３であってもよい。このような密度の差
によって、前記ハードコート層上に形成される低屈折層において、前記ソリッド状無機ナ
ノ粒子がハードコート層側により近い側に位置し得る。ただし、後述の製造方法や実施例
などから確認されるように、前記２種の粒子間の密度の差にもかかわらず、所定の乾燥温
度および時間を作用してこそ、上述した低屈折層内における粒子の分布様相を実現するこ
とができる。
前記反射防止フィルムの低屈折層のうち、前記ハードコート層および前記低屈折層の間
の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子を主に分布させ、前記界面の反対面側には中空状無
機ナノ粒子を主に分布させる場合、従来無機粒子を用いて得られていた反射率より低い反
射率を実現することができる。具体的には、前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ～７８
０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下、または０．５０～０．７％、または０．６
０％～０．７０％、または０．６２％～０．６７％の平均反射率を示すことができる。
一方、前記実現例の反射防止フィルムにおいて、前記低屈折層は、前記ソリッド状無機
ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体
中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含むことができ、前記第１層が、第２層に
比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面により近く位置し得る。
上述のように、前記反射防止フィルムの低屈折層では、前記ハードコート層および前記
低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が主に分布し、前記界面の反対面側に
は中空状無機ナノ粒子が主に分布するが、前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機
ナノ粒子それぞれの主に分布する領域が低屈折層内で可視的に確認される独立した層を形
成することができる。
また、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層は、
前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの５０％以
内に位置し得る。より具体的には、前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記
低屈折層全体厚さの３０％以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が
含まれている第１層が存在し得る。
さらに、上述のように、前記低屈折層において、前記ハードコート層および前記低屈折
層の間の界面の反対面側には中空状無機ナノ粒子が主に分布し得るが、具体的には、前記
中空状無機ナノ粒子全体中の３０体積％以上、または５０体積％以上、または７０体積％
以上が、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体より、前記ハードコート層および前記低屈折層
の間の界面から前記低屈折層の厚さ方向により遠い距離に存在し得る。これにより、上述
のように、前記第１層が、第２層に比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層の間
の界面により近く位置し得る。
また、上述のように、前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機ナノ粒子それぞれ
が主に分布する領域である第１層および第２層それぞれが低屈折層内に存在する点を可視
的に確認可能である。例えば、透過電子顕微鏡［Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ］または走査電子顕微鏡［Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ］などを用いて第１層および第２層それぞれが低屈折層内
に存在する点を可視的に確認することができ、また、低屈折層内で第１層および第２層そ
れぞれに分布するソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機ナノ粒子の比率も確認可能で
ある。
一方、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層、お
よび前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層それぞれは、
１つの層内で共通した光学特性を共有することができ、これにより、１つの層と定義され
る。
より具体的には、前記第１層および第２層それぞれは、楕円偏光法（ｅｌｌｉｐｓｏｍ
ｅｔｒｙ）で測定した偏極の楕円率を前記一般式１のコーシーモデル（Ｃａｕｃｈｙ ｍ
ｏｄｅｌ）で最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）した時、特定のコーシーパラメータＡ、Ｂおよび
Ｃを有し、これにより、第１層および第２層は互いに区分可能である。また、前記楕円偏
光法（ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ）で測定した偏極の楕円率を下記一般式１のコーシーモ
デル（Ｃａｕｃｈｙ ｍｏｄｅｌ）で最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）により前記第１層および
第２層の厚さも導出できるため、前記低屈折層内における第１層および第２層の定義が可
能になる。
Figure 0007411536000001
前記一般式１において、ｎ（λ）は、λ波長における屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ
ｉｎｄｅｘ）であり、λは、３００ｎｍ～１８００ｎｍの範囲であり、Ａ、ＢおよびＣは
、コーシーパラメータである。
一方、前記楕円偏光法（ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ）で測定した偏極の楕円率を前記一
般式１のコーシーモデル（Ｃａｕｃｈｙ ｍｏｄｅｌ）で最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）した
時に導出されるコーシーパラメータＡ、ＢおよびＣは、１つの層内における平均値であっ
てよい。これにより、前記第１層および第２層の間に界面が存在する場合、前記第１層お
よび第２層が有するコーシーパラメータＡ、ＢおよびＣの重なる領域が存在し得る。ただ
し、この場合にも、前記第１層および第２層それぞれが有するコーシーパラメータＡ、Ｂ
およびＣの平均値を満足する領域に応じて、前記第１層および第２層の厚さおよび位置が
特定される。
例えば、前記低屈折層に含まれている第１層に対して、楕円偏光法（ｅｌｌｉｐｓｏｍ
ｅｔｒｙ）で測定した偏極の楕円率を下記一般式１のコーシーモデル（Ｃａｕｃｈｙ ｍ
ｏｄｅｌ）で最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）した時、下記Ａは１．０～１．６５、Ｂは０．０
０１０～０．０３５０、Ｃは０～１×１０－３の条件を満足することができ、また、前記
低屈折層に含まれている第１層に対して、前記Ａは１．３０～１．５５、または１．４０
～１．５２、または１．４９１～１．５１１、かつ、前記Ｂは０～０．００５、または０
～０．００５８０、または０～０．００５７３、かつ、前記Ｃは０～１×１０－３、また
は０～５．０×１０－４、または０～４．１３５２×１０－４の条件を満足することがで
きる。
また、前記低屈折層に含まれている第２層に対して、楕円偏光法（ｅｌｌｉｐｓｏｍｅ
ｔｒｙ）で測定した偏極の楕円率を下記一般式１のコーシーモデル（Ｃａｕｃｈｙ ｍｏ
ｄｅｌ）で最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）した時、前記Ａは１．０～１．５０、Ｂは０～０．
００７、Ｃは０～１×１０－３の条件を満足することができ、また、前記低屈折層に含ま
れている第２層に対して、前記Ａは１．１０～１．４０、または１．２０～１．３５、ま
たは１．２１１～１．３４９、かつ、前記Ｂは０～０．００７、または０～０．００５５
０、または０～０．００５１３、かつ、前記Ｃは０～１×１０－３、または０～５．０×
１０－４、または０～４．８６８５×１０－４の条件を満足することができる。
一方、上述した実現例の反射防止フィルムにおいて、前記低屈折層に含まれる第１層と
第２層は、異なる範囲の屈折率を有することができる。
より具体的には、前記低屈折層に含まれる第１層は、５５０ｎｍにおいて、１．４２０
～１．６００、または１．４５０～１．５５０、または１．４８０～１．５２０、または
１．４９１～１．５１１の屈折率を有することができる。また、前記低屈折層に含まれる
第２層は、５５０ｎｍにおいて、１．２００～１．４１０、または１．２１０～１．４０
０、または１．２１１～１．３７５の屈折率を有することができる。
上述した屈折率の測定は、通常知られた方法を使用することができ、例えば、前記低屈
折層に含まれる第１層と第２層それぞれに対して、３８０ｎｍ～１，０００ｎｍの波長で
測定された楕円偏光とＣａｕｃｈｙモデルを用いて、５５０ｎｍにおける屈折率を計算し
て決定することができる。
前記ソリッド状無機ナノ粒子は、１００ｎｍ以下の最大直径を有し、その内部に空き空
間が存在しない形態の粒子を意味する。
また、前記中空状無機ナノ粒子は、２００ｎｍ以下の最大直径を有し、その表面および
／または内部に空き空間が存在する形態の粒子を意味する。
前記ソリッド状無機ナノ粒子は、０．５～１００ｎｍ、または１～３０ｎｍの直径を有
することができる。
前記中空状無機ナノ粒子は、１～２００ｎｍ、または１０～１００ｎｍの直径を有する
ことができる。
前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機ナノ粒子の直径は、粒子断面で確認され
る最長直径を意味することができる。
一方、前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に
（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（
Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有することができる
。前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれが表面に上述した
反応性官能基を含有することによって、前記低屈折層は、より高い架橋度を有することが
でき、これによって、より向上した耐スクラッチ性および防汚性を確保することができる
。
一方、上述した低屈折層は、光重合性化合物、光反応性官能基を含む含フッ素化合物、
中空状無機ナノ粒子、ソリッド状無機ナノ粒子、および光開始剤を含む光硬化性コーティ
ング組成物から製造できる。
これにより、前記低屈折層に含まれるバインダー樹脂は、光重合性化合物の（共）重合
体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含むことができ
る。
前記実現例の光硬化性コーティング組成物に含まれる光重合性化合物は、製造される低
屈折層のバインダー樹脂の基材を形成することができる。具体的には、前記光重合性化合
物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含むことが
できる。より具体的には、前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基
を１以上、または２以上、または３以上含む単量体またはオリゴマーを含むことができる
。
前記（メタ）アクリレートを含む単量体またはオリゴマーの具体例としては、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、ト
リレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエト
キシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、またはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変
性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレート
オリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、またはこれらの２種以上の混合
物が挙げられる。この時、前記オリゴマーの分子量は、１，０００～１０，０００である
ことが好ましい。
前記ビニル基を含む単量体またはオリゴマーの具体例としては、ジビニルベンゼン、ス
チレン、またはパラメチルスチレンが挙げられる。
前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物の含有量が大きく限定される
ものではないが、最終的に製造される低屈折層や反射防止フィルムの機械的物性などを考
慮して、前記光硬化性コーティング組成物の固形分中の前記光重合性化合物の含有量は、
５重量％～８０重量％であってもよい。前記光硬化性コーティング組成物の固形分は、前
記光硬化性コーティング組成物中の液状の成分、例えば、後述のように選択的に含まれる
有機溶媒などの成分を除いた固体の成分のみを意味する。
一方、前記光重合性化合物は、上述した単量体またはオリゴマーのほか、フッ素系（メ
タ）アクリレート系単量体またはオリゴマーをさらに含んでもよい。前記フッ素系（メタ
）アクリレート系単量体またはオリゴマーをさらに含む場合、前記（メタ）アクリレート
またはビニル基を含む単量体またはオリゴマーに対する前記フッ素系（メタ）アクリレー
ト系単量体またはオリゴマーの重量比は、０．１％～１０％であってもよい。
前記フッ素系（メタ）アクリレート系単量体またはオリゴマーの具体例としては、下記
化学式１～５からなる群より選択される１種以上の化合物が挙げられる。
Figure 0007411536000002
前記化学式１において、Ｒ１は、水素基または炭素数１～６のアルキル基であり、ａは
、０～７の整数であり、ｂは、１～３の整数である。
Figure 0007411536000003
前記化学式２において、ｃは、１～１０の整数である。
Figure 0007411536000004
前記化学式３において、ｄは、１～１１の整数である。
Figure 0007411536000005
前記化学式４において、ｅは、１～５の整数である。
Figure 0007411536000006
前記化学式５において、ｆは、４～１０の整数である。
一方、前記低屈折層には、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物に由来する部分が
含まれる。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物には１以上の光反応性官能基が含まれている
かまたは置換されていてもよいし、前記光反応性官能基は、光の照射によって、例えば、
可視光線または紫外線の照射によって重合反応に参加できる官能基を意味する。前記光反
応性官能基は、光の照射によって重合反応に参加できると知られた多様な官能基を含むこ
とができ、その具体例としては、（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖ
ｉｎｙｌ）、またはチオール基（Ｔｈｉｏｌ）が挙げられる。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物それぞれは、２，０００～２００，０００、
好ましくは５，０００～１００，０００の重量平均分子量（ＧＰＣ法によって測定したポ
リスチレン換算の重量平均分子量）を有することができる。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の重量平均分子量が小さすぎると、前記光硬
化性コーティング組成物において、含フッ素化合物が表面に均一で効果的に配列できずに
最終的に製造される低屈折層の内部に位置するが、これにより、前記低屈折層の表面が有
する防汚性が低下し、前記低屈折層の架橋密度が低くなって、全体的な強度や耐スクラッ
チ性などの機械的物性が低下することがある。
また、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の重量平均分子量が高すぎると、前記
光硬化性コーティング組成物で他の成分との相溶性が低くなり得、これにより、最終的に
製造される低屈折層のヘイズが高くなったり、光透過度が低くなり得、前記低屈折層の強
度も低下することがある。
具体的には、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ｉ）１つ以上の光反応性官
能基が置換され、少なくとも１つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物また
は脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素が
フッ素に置換され、１つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族
化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）１つ以上の光反応性官能
基が置換され、少なくとも１つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキル
シロキサン系高分子（例えば、ポリジメチルシロキサン系高分子）；ｉｖ）１以上の光反
応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物
、または前記ｉ）～ｉｖ）のうちの２以上の混合物、またはこれらの共重合体が挙げられ
る。
前記光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記
光反応性官能基を含む含フッ素化合物２０～３００重量部を含むことができる。
前記光重合性化合物対比、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物が過剰に添加され
る場合、前記実現例の光硬化性コーティング組成物のコーティング性が低下したり、前記
光硬化性コーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐久性や耐スクラッチ性を有
しないことがある。また、前記光重合性化合物対比、前記光反応性官能基を含む含フッ素
化合物の量が小さすぎると、前記光硬化性コーティング組成物から得られた低屈折層が十
分な防汚性や耐スクラッチ性などの機械的物性を有しないことがある。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ケイ素またはケイ素化合物をさらに含ん
でもよい。つまり、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、選択的に内部にケイ素
またはケイ素化合物を含有することができ、具体的には、前記光反応性官能基を含む含フ
ッ素化合物中のケイ素の含有量は、０．１重量％～２０重量％であってもよい。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物に含まれるケイ素は、前記実現例の光硬化性
コーティング組成物に含まれる他の成分との相溶性を高めることができ、これにより、最
終的に製造される屈折層にヘイズ（ｈａｚｅ）が発生するのを防止して透明度を高める役
割を果たすことができる。一方、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物中のケイ素の
含有量が過度に大きくなると、前記光硬化性コーティング組成物に含まれている他の成分
と前記含フッ素化合物との間の相溶性がむしろ低下し、これにより、最終的に製造される
低屈折層や反射防止フィルムが十分な透光度や反射防止性能を有することができず、表面
の防汚性も低下することがある。
前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比、前記中空状無
機ナノ粒子１０～４００重量部および前記ソリッド状無機ナノ粒子１０～４００重量部を
含むことができる。
前記低屈折層中の前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子の含有量が多
すぎる場合、前記低屈折層の製造過程で前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナ
ノ粒子の間の相分離が十分に起こらずに混在して反射率が高くなり得、表面凹凸が過度に
発生して防汚性が低下することがある。また、前記低屈折層中の前記中空状無機ナノ粒子
およびソリッド状無機ナノ粒子の含有量が小さすぎる場合、前記ハードコート層および前
記低屈折層の間の界面から近い領域に前記ソリッド状無機ナノ粒子中に多数位置しにくい
ことがあり、前記低屈折層の反射率は非常に高くなり得る。
前記低屈折層は、１ｎｍ～３００ｎｍ、または５０ｎｍ～２００ｎｍの厚さを有するこ
とができる。
一方、前記ハードコート層としては、通常知られたハードコート層を大きな制限なく使
用することができる。
前記ハードコート層の一例として、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂および前記バイ
ンダー樹脂に分散した有機または無機微粒子；を含むハードコート層が挙げられる。
前記ハードコート層に含まれる光硬化型樹脂は、紫外線などの光が照射されると、重合
反応を起こし得る光硬化型化合物の重合体であって、当業界における通常のものであって
もよい。具体的には、前記光硬化性樹脂は、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシ
ドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレート、およびポリエーテルアクリレー
トからなる反応性アクリレートオリゴマー群；およびジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチレンプロピル
トリアクリレート、プロポキシル化グリセロールトリアクリレート、トリメチルプロパン
エトキシトリアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、プロポキシル化
グリセロトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびエチレン
グリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体群より選択される１種以
上を含むことができる。
前記有機または無機微粒子は、粒径が具体的に限定されるものではないが、例えば、有
機微粒子は、１～１０μｍの粒径を有し、前記無機粒子は、１ｎｍ～５００ｎｍ、または
１ｎｍ～３００ｎｍの粒径を有することができる。前記有機または無機微粒子は、粒径は
体積平均粒径で定義される。
また、前記ハードコートフィルムに含まれる有機または無機微粒子の具体例が限定され
るものではないが、例えば、前記有機または無機微粒子は、アクリル系樹脂、スチレン系
樹脂、エポキシド樹脂、およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、酸化ケイ素、
二酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛からなる
無機微粒子であってもよい。
前記ハードコート層のバインダー樹脂は、重量平均分子量１０，０００以上の高分子量
（共）重合体をさらに含んでもよい。
前記高分子量（共）重合体は、セルロース系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン
系ポリマー、エポキシド系ポリマー、ナイロン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、および
ポリオレフィン系ポリマーからなる群より選択される１種以上であってもよい。
一方、前記ハードコートフィルムの他の例として、光硬化性樹脂のバインダー樹脂；お
よび前記バインダー樹脂に分散した帯電防止剤を含むハードコートフィルムが挙げられる
。
前記ハードコート層に含まれる光硬化型樹脂は、紫外線などの光が照射されると、重合
反応を起こし得る光硬化型化合物の重合体であって、当業界における通常のものであって
もよい。ただし、好ましくは、前記光硬化型化合物は、多官能性（メタ）アクリレート系
単量体またはオリゴマーであってもよく、この時、（メタ）アクリレート系官能基の数は
２～１０、好ましくは２～８、より好ましくは２～７であるのが、ハードコート層の物性
確保の側面で有利である。より好ましくは、前記光硬化型化合物は、ペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリ
スリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、およびトリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレートからな
る群より選択される１種以上であってもよい。
前記帯電防止剤は、４級アンモニウム塩化合物；ピリジニウム塩；１～３個のアミノ基
を有する陽イオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、
ホスホン酸塩基などの陰イオン性化合物；アミノ酸系またはアミノ硫酸エステル系化合物
などの両性化合物；イミノアルコール系化合物、グリセリン系化合物、ポリエチレングリ
コール系化合物などの非イオン性化合物；スズまたはチタンなどを含む金属アルコキシド
化合物などの有機金属化合物；前記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩などの金属
キレート化合物；これら化合物の２種以上の反応物または高分子化物；これら化合物の２
種以上の混合物であってもよい。ここで、前記４級アンモニウム塩化合物は、分子内に１
個以上の４級アンモニウム塩基を有する化合物であってもよいし、低分子型または高分子
型を制限なく使用することができる。
また、前記帯電防止剤としては、導電性高分子と金属酸化物微粒子も使用可能である。
前記導電性高分子としては、芳香族共役系ポリ（パラフェニレン）、ヘテロ環式共役系の
ポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、ヘテロ原子を含む共役
系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖
を有する共役系の複鎖状共役系化合物、共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロ
ック共重合させた導電性複合体などがある。さらに、前記金属酸化物微粒子としては、酸
化亜鉛、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化セリウム、インジウムスズ酸化物、酸化インジ
ウム、酸化アルミニウム、アンチモンドーピングされた酸化スズ、アルミニウムドーピン
グされた酸化亜鉛などが挙げられる。
前記光硬化性樹脂のバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した帯電防止剤
を含むハードコートフィルムは、アルコキシシラン系オリゴマーおよび金属アルコキシド
系オリゴマーからなる群より選択される１種以上の化合物をさらに含んでもよい。
前記アルコキシシラン系化合物は、当業界における通常のものであってもよいが、好ま
しくは、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびグリシドキシプロピル
トリエトキシシランからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよい。
また、前記金属アルコキシド系オリゴマーは、金属アルコキシド系化合物および水を含
む組成物のゾル－ゲル反応により製造することができる。前記ゾル－ゲル反応は、上述し
たアルコキシシラン系オリゴマーの製造方法に準ずる方法で行うことができる。
ただし、前記金属アルコキシド系化合物は、水と急激に反応し得るため、前記金属アル
コキシド系化合物を有機溶媒に希釈した後、水をゆっくりドロップする方法で前記ゾル－
ゲル反応を行うことができる。この時、反応効率などを勘案して、水に対する金属アルコ
キシド化合物のモル比（金属イオン基準）は、３～１７０の範囲内で調節することが好ま
しい。
ここで、前記金属アルコキシド系化合物は、チタンテトラ－イソプロポキシド、ジルコ
ニウムイソプロポキシド、およびアルミニウムイソプロポキシドからなる群より選択され
る１種以上の化合物であってもよい。
前記ハードコート層は、０．１μｍ～１００μｍの厚さを有することができる。
前記ハードコート層の他の一面に結合された基材をさらに含んでもよい。前記基材の具
体的な種類や厚さは大きく限定されるものではなく、低屈折層または反射防止フィルムの
製造に使用されると知られた基材を大きな制限なく使用することができる。
一方、前記実現例の反射防止フィルムは、光硬化型化合物またはその（共）重合体、光
反応性官能基を含む含フッ素化合物、光開始剤、中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無
機ナノ粒子を含む低屈折層形成用樹脂組成物をハードコート層上に塗布し、３５℃～１０
０℃、または４０℃～８０℃の温度で乾燥する段階；および前記樹脂組成物の乾燥物を光
硬化する段階；を含む反射防止フィルムの製造方法により提供できる。
具体的には、前記反射防止フィルムの製造方法により提供される反射防止フィルムは、
低屈折層内で中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子が互いに区分可能に分布
させ、これにより、低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および
防汚性を同時に実現することができる。
より詳しくは、前記反射防止フィルムは、ハードコート層；および前記ハードコート層
の一面に形成され、バインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子
およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含み、前記ハードコート層および前記
低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの５０％以内に前記ソリッド状無機ナノ粒
子全体中の７０体積％以上が存在し得る。
また、前記中空状無機ナノ粒子全体中の３０体積％以上が、前記ソリッド状無機ナノ粒
子全体より、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層の厚さ
方向により遠い距離に存在し得る。
さらに、前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０
％以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在し得る。また、前記
ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０％超過の領域に
前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在し得る。
さらに、前記反射防止フィルムの製造方法により提供される反射防止フィルムにおいて
、前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０重量％以上が含まれている
第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０重量％以上が含まれている第２層とを含
むことができ、前記第１層が、第２層に比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層
の間の界面により近く位置し得る。
前記低屈折層は、光硬化型化合物またはその（共）重合体、光反応性官能基を含む含フ
ッ素化合物、光開始剤、中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折
層形成用樹脂組成物をハードコート層上に塗布し、３５℃～１００℃、または４０℃～８
０℃の温度で乾燥することにより形成される。
前記ハードコート層上に塗布された低屈折層形成用樹脂組成物を乾燥する温度が３５℃
未満であれば、前記形成される低屈折層の有する防汚性が大きく低下することがある。ま
た、前記ハードコート層上に塗布された低屈折層形成用樹脂組成物を乾燥する温度が１０
０℃超過であれば、前記低屈折層の製造過程で前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状
無機ナノ粒子の間の相分離が十分に起こらずに混在して、前記低屈折層の耐スクラッチ性
および防汚性が低下するだけでなく、反射率も非常に高くなり得る。
前記ハードコート層上に塗布された低屈折層形成用樹脂組成物を乾燥する過程で、前記
乾燥温度と共に前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機ナノ粒子の間の密度の差を
調節することによって、上述した特性を有する低屈折層を形成することができる。前記ソ
リッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い
密度を有することができ、このような密度の差によって、前記ハードコート層上に形成さ
れる低屈折層で前記ソリッド状無機ナノ粒子がハードコート層側により近い側に位置し得
る。
具体的には、前記ソリッド状無機ナノ粒子は、２．００ｇ／ｃｍ３～４．００ｇ／ｃｍ
３の密度を有し、前記中空状無機ナノ粒子は、１．５０ｇ／ｃｍ３～３．５０ｇ／ｃｍ３
の密度を有することができる。
一方、前記ハードコート層上に塗布された低屈折層形成用樹脂組成物を３５℃～１００
℃の温度で乾燥する段階は、１０秒～５分間、または３０秒～４分間行われる。
前記乾燥時間が短すぎる場合、上述した前記ソリッド状無機ナノ粒子および中空状無機
ナノ粒子の間の相分離現象が十分に起こらないことがある。これに対し、前記乾燥時間が
長すぎる場合、前記形成される低屈折層がハードコート層を侵食し得る。
一方、前記低屈折層は、光硬化型化合物またはその（共）重合体、光反応性官能基を含
む含フッ素化合物、中空状無機ナノ粒子、ソリッド状無機ナノ粒子、および光開始剤を含
む光硬化性コーティング組成物から製造できる。
前記低屈折層は、前記光硬化性コーティング組成物を所定の基材上に塗布し、塗布され
た結果物を光硬化することにより得られる。前記基材の具体的な種類や厚さは大きく限定
されるものではなく、低屈折層または反射防止フィルムの製造に使用されると知られた基
材を大きな制限なく使用することができる。
前記光硬化性コーティング組成物を塗布するのに通常使用される方法および装置を格別
な制限なく使用可能であり、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティング法、グ
ラビアコーティング法、２ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅコーティング法、ｖａｃｕｕｍ ｓ
ｌｏｔ ｄｉｅコーティング法、２ｒｏｌｌコーティング法などを使用することができる
。
前記低屈折層は、１ｎｍ～３００ｎｍ、または５０ｎｍ～２００ｎｍの厚さを有するこ
とができる。これにより、前記所定の基材上に塗布される前記光硬化性コーティング組成
物の厚さは、約１ｎｍ～３００ｎｍ、または５０ｎｍ～２００ｎｍであってもよい。
前記光硬化性コーティング組成物を光硬化させる段階では、２００～４００ｎｍの波長
の紫外線または可視光線を照射することができ、照射時の露光量は１００～４，０００ｍ
Ｊ／ｃｍ２が好ましい。露光時間も特に限定されるものではなく、使用される露光装置、
照射光線の波長または露光量に応じて適宜変化させることができる。
また、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化させる段階では、窒素大気条件を適用
するために、窒素パージングなどを行うことができる。
前記光硬化型化合物、中空状無機ナノ粒子、ソリッド状無機ナノ粒子、および光反応性
官能基を含む含フッ素化合物に関する具体的な内容は、前記一実現例の反射防止フィルム
に関して上述した内容を含む。
前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子それぞれは、所定の分散媒に分
散したコロイド状に組成物に含まれる。前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナ
ノ粒子を含むそれぞれのコロイド状は、分散媒として有機溶媒を含むことができる。
前記光硬化性コーティング組成物中の前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナ
ノ粒子それぞれの含有量範囲や前記光硬化性コーティング組成物の粘度などを考慮して、
前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子それぞれのコロイド状中の含有量
が決定可能であり、例えば、前記コロイド状中の前記中空状無機ナノ粒子およびソリッド
状無機ナノ粒子それぞれの固形分含有量は、５重量％～６０重量％であってもよい。
ここで、前記分散媒中の有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エ
チレングリコール、ブタノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド類；酢酸エチル、
酢酸ブチル、ガンマブチロラクトンなどのエステル類；テトラヒドロフラン、１，４－ジ
オキサンなどのエーテル類；またはこれらの混合物が含まれる。
前記光重合開始剤としては、光硬化性樹脂組成物に使用できると知られた化合物であれ
ば大きな制限なく使用可能であり、具体的には、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノ
ン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物、または
これらの２種以上の混合物を使用することができる。
前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記光重合開始剤は１～１００重量部の含
有量で使用できる。前記光重合開始剤の量が小さすぎると、前記光硬化性コーティング組
成物の光硬化段階で未硬化残留する物質が発生することがある。前記光重合開始剤の量が
多すぎると、未反応開始剤が不純物として残留したり、架橋密度が低くなって、製造され
るフィルムの機械的物性が低下したり、反射率が非常に高くなり得る。
一方、前記光硬化性コーティング組成物は、有機溶媒をさらに含んでもよい。
前記有機溶媒の非制限的な例を挙げると、ケトン類、アルコール類、アセテート類およ
びエーテル類、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
このような有機溶媒の具体例としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、アセチルアセトン、またはイソブチルケトンなどのケトン類；メタノール、エタノール
、ジアセトンアルコール、ｎ－プロパノール、ｉ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－
ブタノール、またはｔ－ブタノールなどのアルコール類；エチルアセテート、ｉ－プロピ
ルアセテート、またはポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセ
テート類；テトラヒドロフランまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエ
ーテル類；またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
前記有機溶媒は、前記光硬化性コーティング組成物に含まれる各成分を混合する時期に
添加されるか、各成分が有機溶媒に分散または混合された状態で添加されることによって
、前記光硬化性コーティング組成物に含まれる。前記光硬化性コーティング組成物中の有
機溶媒の含有量が小さすぎると、前記光硬化性コーティング組成物の流れ性が低下して、
最終的に製造されるフィルムに縞模様が生じるなどの不良が発生することがある。また、
前記有機溶媒の過剰添加時、固形分含有量が低くなって、コーティングおよび成膜が十分
でなくてフィルムの物性や表面特性が低下し、乾燥および硬化過程で不良が発生すること
がある。これにより、前記光硬化性コーティング組成物は、含まれる成分の全体固形分の
濃度が１重量％～５０重量％、または２～２０重量％となるように有機溶媒を含むことが
できる。
前記ハードコート層は、反射防止フィルムに使用できると知られた材質であれば大きな
制限なく使用可能である。
前記ハードコート層の形成に使用される成分に関しては、前記一実現例の反射防止フィ
ルムに関して上述した通りである。
前記ハードコート層形成用高分子樹脂組成物を塗布するのに通常使用される方法および
装置を格別の制限なく使用可能であり、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティ
ング法、グラビアコーティング法、２ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅコーティング法、ｖａｃ
ｕｕｍ ｓｌｏｔ ｄｉｅコーティング法、２ｒｏｌｌコーティング法などを使用するこ
とができる。
前記ハードコート層形成用高分子樹脂組成物を光硬化させる段階では、２００～４００
ｎｍの波長の紫外線または可視光線を照射することができ、照射時の露光量は１００～４
，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。露光時間も特に限定されるものではなく、使用される
露光装置、照射光線の波長または露光量に応じて適宜変化させることができる。また、前
記ハードコート層形成用高分子樹脂組成物を光硬化させる段階では、窒素大気条件を適用
するために、窒素パージングなどを行うことができる。
本発明によれば、低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および
防汚性を同時に実現することができ、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めることがで
きる反射防止フィルムおよび前記反射防止フィルムの製造方法が提供可能である。
実施例１の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 実施例２の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 実施例３の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 実施例４の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 実施例５の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 実施例６の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 比較例１の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 比較例２の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 比較例３の反射防止フィルムの断面ＴＥＭ写真を示すものである。 実施例１の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 実施例２の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 実施例３の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 実施例４の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 実施例５の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 実施例６の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 比較例１の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 比較例２の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。 比較例３の反射防止フィルムに対してＸ線を照射して得られた小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフを示すものである。
発明を下記の実施例でより詳細に説明する。ただし、下記の実施例は本発明を例示する
ものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定されるものではない。
＜製造例＞
製造例：ハードコートフィルムの製造
ＫＹＯＥＩＳＨＡ社の塩タイプの帯電防止ハードコート液（固形分５０重量％、製品名
：ＬＪＤ－１０００）をトリアセチルセルロースフィルムに＃１０ｍａｙｅｒ ｂａｒで
コーティングし、９０℃で１分間乾燥した後、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、
約５～６μｍの厚さを有するハードコートフィルムを製造した。
＜実施例１～５：反射防止フィルムの製造＞
実施例１～４
（１）低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して、中空状シ
リカナノ粒子（直径：約５０～６０ｎｍ、密度：１．９６ｇ／ｃｍ３、ＪＳＣ ｃａｔａ
ｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）２８１重量部、ソリッド状シリカナノ粒
子（直径：約１２ｎｍ、密度：２．６５ｇ／ｃｍ３）６３重量部、第１含フッ素化合物（
Ｘ－７１－１２０３Ｍ、ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）１３１重量部、第２含フッ素化合物（ＲＳ
－５３７、ＤＩＣ社）１９重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）３１
重量部を、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃
度３重量％となるように希釈した。
（２）低屈折層および反射防止フィルムの製造
前記製造例のハードコートフィルム上に、前記得られた光硬化性コーティング組成物を
＃４ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０～１２０ｎｍとなるようにコーティングし、下
記表１の温度および時間で乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パージング下、前
記乾燥したコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
実施例５
（１）低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００重量部に対して、中空
状シリカナノ粒子（直径：約５０～６０ｎｍ、密度：１．９６ｇ／ｃｍ３、ＪＳＣ ｃａ
ｔａｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）２６８重量部、ソリッド状シリカナ
ノ粒子（直径：約１２ｎｍ、密度：２．６５ｇ／ｃｍ３）５５重量部、第１含フッ素化合
物（Ｘ－７１－１２０３Ｍ、ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）１４４重量部、第２含フッ素化合物（
ＲＳ－５３７、ＤＩＣ社）２１重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）
３１重量部を、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形
分濃度３重量％となるように希釈した。
（２）低屈折層および反射防止フィルムの製造
前記製造例のハードコートフィルム上に、前記得られた光硬化性コーティング組成物を
＃４ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０～１２０ｎｍとなるようにコーティングし、下
記表１の温度および時間で乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パージング下、前
記乾燥したコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
Figure 0007411536000007
実施例６
（１）ハードコート層（ＨＤ２）の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート３０ｇ、高分子量共重合体（ＢＥＡＭＳＥＴ３
７１、Ａｒａｋａｗａ社、Ｅｐｏｘｙ Ａｃｒｙｌａｔｅ、分子量４０，０００）２．５
ｇ、メチルエチルケトン２０ｇ、およびレベリング剤（Ｔｅｇｏ ｗｅｔ２７０）０．５
ｇを均一に混合した後に、屈折率が１．５２５の微粒子としてアクリル－スチレン共重合
体（体積平均粒径：２μｍ、製造会社：Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ）２ｇを添加し
て、ハードコート組成物を製造した。
こうして得られたハードコート組成物をトリアセチルセルロースフィルムに＃１０ｍａ
ｙｅｒ ｂａｒでコーティングし、９０℃で１分間乾燥した。前記乾燥物に１５０ｍＪ／
ｃｍ２の紫外線を照射して、５μｍの厚さを有するハードコート層を製造した。
（２）低屈折層および反射防止フィルムの製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して、中空状シ
リカナノ粒子（直径：約５０～６０ｎｍ、密度：１．９６ｇ／ｃｍ３、ＪＧＣ ｃａｔａ
ｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）１３５重量部、ソリッド状シリカナノ粒
子（直径：約１２ｎｍ、密度：２．６５ｇ／ｃｍ３）８８重量部、第１含フッ素化合物（
Ｘ－７１－１２０３Ｍ、ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）３８重量部、第２含フッ素化合物（ＲＳ－
５３７、ＤＩ社）１１重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）７重量部
を、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）：イソプロ
ピルアルコールを３：３：４の重量比で混合した溶媒に固形分濃度３重量％となるように
希釈して、低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物を製造した。
前記製造されたハードコート層（ＨＤ２）上に、前記得られた低屈折層製造用光硬化性
コーティング組成物を＃４ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０～１２０ｎｍとなるよう
にコーティングし、６０℃の温度で１分間乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パ
ージング下、前記乾燥したコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
＜比較例：反射防止フィルムの製造＞
比較例１
前記低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物を塗布し、常温（２５℃）で乾燥した
点を除いて、実施例１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
比較例２
前記実施例１で用いたソリッド状シリカナノ粒子６３重量部をペンタエリスリトールト
リアクリレート（ＰＥＴＡ）６３重量部に代替した点を除いて、前記実施例１と同様の方
法で低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物を製造し、実施例１と同様の方法で反射
防止フィルムを製造した。
比較例３
前記低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物を塗布し、１４０℃で乾燥した点を除
いて、実施例５と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
＜実験例：反射防止フィルムの物性の測定＞
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、次の項目の実験を施し
た。
１．反射防止フィルムの平均反射率の測定
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムが可視光線領域（３８０～７８０ｎｍ
）で示す平均反射率を、Ｓｏｌｉｄｓｐｅｃ３７００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ）装備を用いて
測定した。
２．防汚性の測定
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面に黒ネームペンで５ｃｍの長さ
の直線を描き、無塵布を用いて擦った時の消される回数を確認して、防汚性を測定した。
＜測定基準＞
Ｏ：消された時点が１０回以下
△：消された時点が１１回～２０回
Ｘ：消された時点が２０回超過
３．耐スクラッチ性の測定
前記スチールウールに荷重をかけて２７ｒｐｍの速度で１０回往復し、実施例および比
較例で得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される１ｃｍ以下のスクラ
ッチ１個以下が観察される最大荷重を測定した。
４．屈折率の測定
前記実施例で得られた低屈折層のうち、相分離された領域に対して３８０ｎｍ～１，０
００ｎｍの波長で測定された楕円偏光とＣａｕｃｈｙモデルを用いて、５５０ｎｍにおけ
る屈折率を計算した。
具体的には、前記実施例それぞれで得られた低屈折層に対して、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａ
ｍ Ｃｏ．Ｍ－２０００の装置を用いて、７０°の入射角を適用し、３８０ｎｍ～１００
０ｎｍの波長範囲で線偏光を測定した。前記測定された線偏光測定データ（Ｅｌｌｉｐｓ
ｏｍｅｔｒｙ ｄａｔａ（Ψ、Δ））を、Ｃｏｍｐｌｅｔｅ ＥＡＳＥ ｓｏｆｔｗａｒ
ｅを用いて、前記低屈折層の第１、第２層（Ｌａｙｅｒ１、Ｌａｙｅｒ２）に対して、下
記一般式１のコーシーモデル（Ｃａｕｃｈｙ ｍｏｄｅｌ）でＭＳＥが３以下となるよう
に最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）した。
Figure 0007411536000008
前記一般式１において、ｎ（λ）は、λ波長における屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ
ｉｎｄｅｘ）であり、λは、３００ｎｍ～１８００ｎｍの範囲であり、Ａ、ＢおよびＣは
、コーシーパラメータである。
５．Ｘ線照射による小角散乱で散乱ベクトルに応じた散乱強度の測定
実施例および比較例それぞれの反射防止フィルムから得られた１ｃｍ×１ｃｍ（横×縦
）の試験片に対して、１．５４Åの波長のＸ線を４ｍの距離から照射して、散乱ベクトル
および散乱強度を測定することができる。
具体的には、前記散乱角度は、Ｐｏｈａｎｇ加速器４Ｃビームラインで試料にＸ線を透
過させて散乱ベクトル（ｑ）に応じた散乱強度を測定した。より具体的には、前記小角散
乱の測定は、検出器（Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）と約４ｍ離れた位置に試料を置いてＸ線を入射
して測定し、垂直の大きさが０．０２３ｍｍ、水平の大きさが０．３ｍｍのＸ線を用い、
検出器としては２Ｄ ｍａｒ ＣＣＤを用いた。そして、散乱して出る２Ｄ回折パターン
をイメージとして得て、これをＳｔａｎｄａｒｄ試料を通して得られたｓａｍｐｌｅ－ｔ
ｏ－ｄｅｔｅｃｔｏｒ距離を用いてｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎし、ｃｉｒｃｕｌａｒ ａｖ
ｅｒａｇｅを通して散乱ベクトル（ｑ）に応じた散乱強度を換算した。
［一般式１］
ｑ＝４π ｓｉｎθ／λ
前記一般式１において、ｑは、散乱ベクトルであり、θは、散乱角度の１／２値であり
、λは、照射されたＸ線の波長である。
そして、前記測定結果に基づいてＸ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに
対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、最初のピークが出る散乱ベクトルの値（ｑ
ｍａｘ）を求めた。
Figure 0007411536000009
Figure 0007411536000010
前記表２および図１０～１５から確認されるように、実施例１～６の反射防止フィルム
は、Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグ
ラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトルで１個以上のピーク
を示し、また、前記表２に示されているように、可視光線領域で０．７０％以下の低い反
射率を示しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現できる点が確認された。
また、図１～６に示されているように、実施例１～６の反射防止フィルムの低屈折層で
は、中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子が相分離されており、前記ソリッ
ド状無機ナノ粒子が前記反射防止フィルムのハードコート層および前記低屈折層の間の界
面側に大部分存在して集中しており、前記中空状無機ナノ粒子はハードコート層から遠い
側に大部分存在して集中している点が確認される。
さらに、前記表３に示されているように、実施例の低屈折層において、中空状無機ナノ
粒子およびソリッド状無機ナノ粒子が相分離されて区分される第１領域および第２領域は
、異なる範囲の屈折率を示し、具体的には、ソリッド状無機ナノ粒子が主に分布する第１
領域は、１．４２０以上の屈折率を示し、中空状無機ナノ粒子が主に分布する第２領域は
、１．４００以下の屈折率を示す点が確認された。
これに対し、前記表２および図１６～１８から確認されるように、比較例１～３の反射
防止フィルムに対するＸ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強
度のｌｏｇ値のグラフでは、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトル範囲で
ピークが現れず、このような比較例１～３の反射防止フィルムは、それぞれ相対的に高い
反射率と共に、低い耐スクラッチ性および防汚性を示す点が確認された。
また、図７および９に示されているように、比較例１～３の反射防止フィルムの低屈折
層では、中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子が相分離されずに混在してい
る点が確認される。

Claims (9)

  1. １層のハードコート層；および光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含み、
    １層の基材フィルムに接して前記１層のハードコート層を備え、前記１層のハードコート層に接して前記低屈折層を備え、
    前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、前記第１層が、前記第２層に比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面により近く位置し、
    前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有し前記中空状無機ナノ粒子の密度が１．５０ｇ／ｃｍ３～３．５０ｇ／ｃｍ３であり、前記ソリッド状無機ナノ粒子は、２．００ｇ／ｃｍ ３ ～４．００ｇ／ｃｍ ３ の密度を有し、
    前記ソリッド状無機ナノ粒子が、１～３０ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子が、１０～１００ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく、
    前記低屈折層が、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１３５～４００重量部、および前記ソリッド状無機ナノ粒子６３～４００重量部で含み、前記低屈折層は、前記中空状無機ナノ粒子を前記ソリッド状無機ナノ粒子に比べてより高い重量で含み、
    前記中空状無機ナノ粒子は、中空状シリカナノ粒子であり、前記ソリッド状無機ナノ粒子は、ソリッド状シリカナノ粒子であり、
    前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、またはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、およびこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され、
    前記バインダー樹脂は、前記光重合性化合物の（共）重合体と光反応性官能基を含む含フッ素化合物とが架橋した（共）重合体を含み、前記バインダー樹脂は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物を２０～３００重量部含み、
    Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルの大きさに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８～０．１２５６ｎｍ－１の散乱ベクトルの大きさで１個以上のピーク（ｑｍａｘ）を示し、
    前記Ｘ線照射による小角散乱は、１ｃｍ×１ｃｍ（横×縦）の大きさの反射防止フィルムに対して、１．５４Åの波長のＸ線を４ｍの距離から照射して測定するものである、
    反射防止フィルム。
  2. 前記散乱ベクトルの大きさは、下記一般式１で定義される、請求項１に記載の反射防止フィルム：
    ［一般式１］
    ｑ＝４πｓｉｎθ／λ
    前記一般式１において、ｑは、散乱ベクトルの大きさであり、θは、散乱角度の１／２値であり、λは、照射されたＸ線の波長である。
  3. 前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  4. 前記低屈折層は、楕円偏光法（ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ）で測定した偏極の楕円率を下記一般式２のコーシーモデル（Ｃａｕｃｈｙ ｍｏｄｅｌ）で最適化（ｆｉｔｔｉｎｇ）した時、Ａは１．０～１．６５であり、Ｂは０．００１０～０．０３５０であり、Ｃは０～１×１０－３の条件を満足する第１領域と、Ａは１．０～１．５０であり、Ｂは０～０．００７であり、Ｃは０～１×１０－３の条件を満足する第２領域を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム：
    （式中、ｎ（λ）は、λ波長における屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ ｉｎｄｅｘ）であり、λは、３００ｎｍ～１８００ｎｍの範囲であり、Ａ、ＢおよびＣは、コーシーパラメータである）。
  5. 前記低屈折層は、５５０ｎｍで１．４２０以上の屈折率を示す前記第１層および５５０ｎｍで１．４００以下の屈折率を示す前記第２層を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  6. 前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  7. 前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物はそれぞれ、２，０００～２００，０００の重量平均分子量を有する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  8. 前記ハードコート層は、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子；を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  9. 前記有機微粒子は、１～１０μｍの粒径を有し、
    前記無機微粒子は、１ｎｍ～５００ｎｍの粒径を有する、請求項８に記載の反射防止フィルム。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101813707B1 (ko) 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
US10222510B2 (en) * 2016-03-09 2019-03-05 Lg Chem, Ltd Anti-reflective film
CN110632686B (zh) 2016-07-14 2021-10-29 株式会社Lg化学 防反射膜
WO2018062856A1 (ko) 2016-09-27 2018-04-05 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101991928B1 (ko) * 2017-04-28 2019-06-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR102241335B1 (ko) * 2018-01-30 2021-04-16 주식회사 엘지화학 코팅 조성물
KR20190097639A (ko) * 2018-02-12 2019-08-21 삼성에스디아이 주식회사 반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102196429B1 (ko) * 2018-03-16 2020-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102280262B1 (ko) * 2018-05-18 2021-07-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102194998B1 (ko) * 2018-06-26 2020-12-24 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102518416B1 (ko) 2018-07-31 2023-04-06 삼성디스플레이 주식회사 저굴절층 및 이를 포함하는 전자 장치
JP7567168B2 (ja) 2019-01-10 2024-10-16 大日本印刷株式会社 反射防止部材、並びに、これを備える偏光板、画像表示装置及び反射防止性物品
KR102337211B1 (ko) 2019-03-12 2021-12-09 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
JP7399536B2 (ja) * 2019-03-29 2023-12-18 エルジー・ケム・リミテッド 耐赤化層
WO2020204341A1 (ko) * 2019-03-29 2020-10-08 주식회사 엘지화학 광학 적층체
JP7335047B2 (ja) * 2019-03-29 2023-08-29 エルジー・ケム・リミテッド 光学積層体
CN113631970B (zh) * 2019-03-29 2024-01-09 株式会社Lg化学 显示装置
US12083771B2 (en) * 2019-03-29 2024-09-10 Lg Chem, Ltd. Optical laminate
EP3950308A4 (en) * 2019-03-29 2022-04-27 Lg Chem, Ltd. OPTICAL LAMINATE
CN113614595B (zh) * 2019-03-29 2023-08-22 株式会社Lg化学 抗变红层
KR102484680B1 (ko) * 2019-03-29 2023-01-05 주식회사 엘지화학 광학 적층체
KR102416811B1 (ko) * 2019-03-29 2022-07-06 주식회사 엘지화학 내적화층
KR102484682B1 (ko) * 2019-03-29 2023-01-05 주식회사 엘지화학 광학 적층체
CN113614593B (zh) * 2019-03-29 2023-08-11 株式会社Lg化学 抗变红层
WO2020204330A1 (ko) * 2019-03-29 2020-10-08 주식회사 엘지화학 광학 적층체
CN113613884A (zh) * 2019-03-29 2021-11-05 株式会社Lg化学 光学层合体
KR102449532B1 (ko) 2019-07-30 2022-09-29 히가시야마 필름 가부시키가이샤 반사 방지 필름
WO2021049903A1 (ko) * 2019-09-11 2021-03-18 주식회사 엘지화학 광학 적층체
EP4112300A4 (en) * 2020-02-28 2024-03-27 Nippon Sheet Glass Company, Limited LOW REFRACTIVE INDEX FILM, LAMINATE, OPTICAL ELEMENT, WINDBREAKER MATERIAL AND DISPLAY DEVICE
CN114514445B (zh) * 2020-03-16 2024-10-18 株式会社Lg化学 抗反射膜
CN115702368A (zh) * 2020-06-17 2023-02-14 三菱瓦斯化学株式会社 防反射基材
CN116057422A (zh) 2020-07-15 2023-05-02 大日本印刷株式会社 防反射构件、以及使用上述防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品、以及防反射构件的选定方法
JP2024064786A (ja) * 2022-10-28 2024-05-14 東山フイルム株式会社 反射防止フィルム

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013130865A (ja) 2011-11-25 2013-07-04 Fujifilm Corp 帯電防止反射防止フィルム、帯電防止反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
JP2014240929A (ja) 2013-06-12 2014-12-25 大日本印刷株式会社 タッチパネル付光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2015232614A (ja) 2014-06-09 2015-12-24 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム及びディスプレイ

Family Cites Families (118)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5740226A (en) 1995-11-30 1998-04-14 Fujitsu Limited Film thickness measuring and film forming method
JP2000035408A (ja) 1998-07-17 2000-02-02 Fujitsu Ltd Ｘ線反射率法を用いた膜構造解析方法
FR2801684B1 (fr) 1999-11-26 2002-04-26 Commissariat Energie Atomique Filtre anticalorique et procede de fabrication de ce filtre
JP2001290257A (ja) 2000-04-04 2001-10-19 Dainippon Printing Co Ltd ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス並びにこれを用いたパターン形成方法
JP2002341103A (ja) * 2001-05-18 2002-11-27 Lintec Corp 光学用フィルム
JP2003142476A (ja) 2001-11-01 2003-05-16 Asahi Kasei Corp 絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜
JP4085630B2 (ja) * 2001-12-21 2008-05-14 Ｊｓｒ株式会社 エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、並びにそれを用いた硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
US6633392B1 (en) 2002-01-17 2003-10-14 Advanced Micro Devices, Inc. X-ray reflectance system to determine suitability of SiON ARC layer
JP2003322627A (ja) 2002-04-26 2003-11-14 Japan Science & Technology Corp 多層薄膜分析方法および測定装置
AU2003263911A1 (en) 2002-08-19 2004-03-03 Rensselaer Polytechnic Institute Surface modification of cvd polymer films
TWI287559B (en) 2002-08-22 2007-10-01 Konica Corp Organic-inorganic hybrid film, its manufacturing method, optical film, and polarizing film
JP2004212791A (ja) 2003-01-07 2004-07-29 Dainippon Printing Co Ltd 光学部材およびその製造方法
JP4464155B2 (ja) 2003-02-10 2010-05-19 大日本印刷株式会社 バリアフィルム
JP2004255635A (ja) 2003-02-25 2004-09-16 Dainippon Printing Co Ltd 透明積層フィルム、反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP2005062350A (ja) 2003-08-08 2005-03-10 Sekisui Chem Co Ltd 反射防止フィルム
US7282272B2 (en) 2003-09-12 2007-10-16 3M Innovative Properties Company Polymerizable compositions comprising nanoparticles
JP4238147B2 (ja) 2004-01-29 2009-03-11 積水化学工業株式会社 中空樹脂微粒子及び反射防止フィルム
JP2005234003A (ja) 2004-02-17 2005-09-02 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
WO2005085913A1 (ja) 2004-03-09 2005-09-15 Teijin Dupont Films Japan Limited 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2006079067A (ja) 2004-08-12 2006-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム
DE502004005147D1 (de) 2004-09-07 2007-11-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Verfahren zur Bestimmung von physikalischen Eigenschaften einer optischen Schicht oder eines Schichtsystems
JP5232365B2 (ja) 2005-06-01 2013-07-10 富士フイルム株式会社 フッ素化光重合開始剤を含む光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、およびそれを用いた画像表示装置
US7629051B2 (en) 2005-06-01 2009-12-08 Fujifilm Corporation Optical film containing fluorinated photopolymerization initiator, antireflective film, polarizing plate and image display unit including same
JP2007078711A (ja) 2005-09-09 2007-03-29 Asahi Kasei Corp 反射防止膜
JP2007098833A (ja) 2005-10-06 2007-04-19 Konica Minolta Opto Inc 機能性薄膜を有する物品、機能性薄膜の製造方法、反射防止フィルム、及び表示装置
JP5032785B2 (ja) 2006-03-31 2012-09-26 大日本印刷株式会社 反射防止積層体及びその製造方法
JP2007272131A (ja) 2006-03-31 2007-10-18 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止積層体及びその製造方法
US20070243370A1 (en) 2006-04-05 2007-10-18 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate and image display device
JP5220286B2 (ja) 2006-06-15 2013-06-26 日東電工株式会社 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置
US20080032053A1 (en) * 2006-08-04 2008-02-07 Kostantinos Kourtakis Low refractive index composition
GB0617480D0 (en) * 2006-09-06 2006-10-18 Univ Sheffield Novel nanoparticles
JP5526468B2 (ja) 2006-09-29 2014-06-18 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP2008111964A (ja) 2006-10-30 2008-05-15 Hitachi Maxell Ltd 光学フィルムおよびその製造方法
JP2008137190A (ja) 2006-11-30 2008-06-19 Jsr Corp 反射防止積層体
JP4678399B2 (ja) 2006-12-01 2011-04-27 Ｊｓｒ株式会社 反射防止膜
JPWO2008081885A1 (ja) 2006-12-28 2010-04-30 日本ゼオン株式会社 重合性組成物
JP5271575B2 (ja) 2007-03-20 2013-08-21 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
KR101194180B1 (ko) 2007-08-01 2012-10-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 적층체
JP5217744B2 (ja) 2007-08-02 2013-06-19 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法
WO2009064128A2 (en) 2007-11-13 2009-05-22 Lg Chem, Ltd. Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same
US20100311868A1 (en) 2007-11-30 2010-12-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Low refractive index composition, abrasion resistant anti-reflective coating, and method for forming abrasion resistant anti-reflective coating
JP5114438B2 (ja) 2008-02-13 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置
JP2009204698A (ja) 2008-02-26 2009-09-10 Panasonic Electric Works Co Ltd 反射防止基材及びその製造方法
US20110120554A1 (en) 2008-03-27 2011-05-26 Rensselaer Polytechnic Institute Ultra-low reflectance broadband omni-directional anti-reflection coating
JP2009244382A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Sharp Corp 機能性フィルム及び表示装置
KR100947031B1 (ko) 2008-04-03 2010-03-11 한국과학기술원 3파장 광원을 이용한 위상물체의 굴절률과 두께 측정장치및 그 방법
US8343622B2 (en) 2008-07-01 2013-01-01 3M Innovative Properties Company Flexible high refractive index hardcoat
JP2010152311A (ja) 2008-07-22 2010-07-08 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
KR20100020906A (ko) * 2008-08-13 2010-02-23 소니 가부시끼가이샤 광학 필름 및 그 제조 방법, 눈부심방지성 필름, 광학층이 부착된 편광자 및 표시 장치
JP5531509B2 (ja) 2008-09-05 2014-06-25 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2010085579A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Toray Ind Inc 反射防止光学物品およびシロキサン系樹脂組成物の製造方法
JP5411477B2 (ja) 2008-09-30 2014-02-12 積水化学工業株式会社 中空有機−無機ハイブリッド微粒子、反射防止性樹脂組成物、反射防止フィルム用コーティング剤、反射防止積層体及び反射防止フィルム
JP2009163260A (ja) 2009-04-20 2009-07-23 Jsr Corp 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
JP2011081120A (ja) 2009-10-06 2011-04-21 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
KR101378603B1 (ko) * 2009-10-16 2014-03-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 디스플레이 패널
JP2011088787A (ja) 2009-10-22 2011-05-06 Hitachi Maxell Ltd 反射防止膜用組成物、反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜付き基材
KR101184995B1 (ko) 2009-11-30 2012-10-02 제이에스알 가부시끼가이샤 반사 방지용 적층체 및 그 제조 방법, 그리고 경화성 조성물
JP5592671B2 (ja) 2010-03-02 2014-09-17 リンテック株式会社 防眩性ハードコートフィルム及びそれを用いた偏光板
KR101092573B1 (ko) 2010-04-06 2011-12-13 주식회사 엘지화학 반사 방지 코팅용 조성물, 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR20110121233A (ko) 2010-04-30 2011-11-07 동국대학교 산학협력단 반사방지필름 및 그의 제조방법
JP5762120B2 (ja) 2010-05-11 2015-08-12 日揮触媒化成株式会社 シリカ系粒子の製造方法
JP2011248036A (ja) 2010-05-26 2011-12-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 反射防止フィルム
JP5614112B2 (ja) 2010-06-07 2014-10-29 東レ株式会社 二軸配向積層ポリエステルフィルム
EP2594614B1 (en) 2010-07-14 2015-07-08 LG Chem, Ltd. Antireflective and antiglare coating composition, antireflective and antiglare film, and method for producing same
US8393756B2 (en) * 2010-07-26 2013-03-12 Cirocomm Technology Corp. Light unit for LED lamp and method for the same
JP4854098B1 (ja) 2010-08-10 2012-01-11 孝司 成澤 成膜方法およびそれを用いた成膜装置
JP2012063687A (ja) 2010-09-17 2012-03-29 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム、反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイ
CN103299217B (zh) 2011-01-14 2016-01-20 大日本印刷株式会社 防反射膜、防反射膜的制造方法、偏振片和图像显示装置
JP2012159744A (ja) 2011-02-01 2012-08-23 Jsr Corp 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP5647924B2 (ja) 2011-03-18 2015-01-07 富士フイルム株式会社 光学部材の製造方法
JP5881096B2 (ja) 2011-03-30 2016-03-09 株式会社タムロン 反射防止膜及び光学素子
WO2012147527A1 (ja) 2011-04-26 2012-11-01 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP6040936B2 (ja) * 2011-05-16 2016-12-07 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2013008025A (ja) 2011-05-26 2013-01-10 Jsr Corp 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP2012247606A (ja) 2011-05-27 2012-12-13 Jsr Corp 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP5787288B2 (ja) 2011-06-15 2015-09-30 国立研究開発法人物質・材料研究機構 パラジウムイオン吸着性化合物を担持したメソポーラスシリカおよびそれを用いたパラジウムイオンコレクターおよびパラジウム回収方法
EP2749607B1 (en) 2011-08-26 2019-04-17 LG Chem, Ltd. Composition for anti-glare coating and anti-glare film manufactured by using same
KR101189198B1 (ko) * 2011-08-26 2012-10-09 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름의 제조 방법
US9390984B2 (en) 2011-10-11 2016-07-12 Bruker Jv Israel Ltd. X-ray inspection of bumps on a semiconductor substrate
JP2013104959A (ja) 2011-11-11 2013-05-30 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
JP5874740B2 (ja) 2011-12-26 2016-03-02 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2013205645A (ja) 2012-03-28 2013-10-07 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイ
JP6097619B2 (ja) 2012-04-06 2017-03-15 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置
KR101519497B1 (ko) 2012-04-25 2015-05-12 주식회사 엘지화학 내찰상성이 우수한 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
EP2787010B1 (en) 2012-05-25 2021-12-15 LG Chem, Ltd. Poly-rotaxane compound, photocurable coating composition, and coating film
CN104066778B (zh) 2012-05-25 2016-10-26 株式会社Lg化学 硬涂膜
CN104334342B (zh) * 2012-06-06 2016-03-09 东丽株式会社 叠层体、导电性叠层体和触摸面板、以及涂料组合物和使用该涂料组合物的叠层体的制造方法
JP2013254118A (ja) 2012-06-07 2013-12-19 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、及びこれを用いた偏光板
JP2014016607A (ja) 2012-06-13 2014-01-30 Ube Exsymo Co Ltd 反射防止材料
JP2014041249A (ja) 2012-08-22 2014-03-06 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルム
JP6268692B2 (ja) 2012-09-14 2018-01-31 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP6042151B2 (ja) 2012-09-25 2016-12-14 旭化成株式会社 シリカ粒子を含む半導体用絶縁材料
JP6089547B2 (ja) 2012-10-03 2017-03-08 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2014085383A (ja) 2012-10-19 2014-05-12 Cheil Industries Inc 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
KR101523821B1 (ko) 2012-10-30 2015-05-28 (주)엘지하우시스 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름
FR3000568B1 (fr) 2012-12-28 2015-03-13 Essilor Int Lentille ophtalmique apte au debordage comprenant une bicouche hydrophobe et une couche temporaire de fluorure metallique
CN103091733B (zh) 2013-01-23 2015-03-18 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种背光模组用光学反射膜
JP2013178534A (ja) 2013-04-05 2013-09-09 Nitto Denko Corp 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置
JP2015028874A (ja) 2013-07-30 2015-02-12 デクセリアルズ株式会社 導電性積層体、及びその製造方法、情報入力装置、並びに表示装置
JP6153093B2 (ja) 2013-09-03 2017-06-28 株式会社豊田中央研究所 反射防止膜及びその製造方法
JP6365942B2 (ja) 2013-11-21 2018-08-01 大日本印刷株式会社 タッチパネル付き表示装置
JP2015108733A (ja) 2013-12-05 2015-06-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
WO2015177645A2 (en) 2014-03-25 2015-11-26 Devos John Arthur Thin-film coating apparatus for applying enhanced performance coatings on outdoor substrates
TWI628457B (zh) 2014-04-17 2018-07-01 日商大日本印刷股份有限公司 防眩膜、偏光板、液晶面板以及影像顯示裝置
KR101779647B1 (ko) 2014-06-19 2017-10-11 (주)엘지하우시스 반사방지 조성물 및 제조방법 및, 반사방지 필름
JP2016018068A (ja) 2014-07-08 2016-02-01 旭硝子株式会社 防眩膜付き基材および物品
CN104458589A (zh) 2014-12-02 2015-03-25 中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所 一种光学薄膜可见光波段光学常数精确标定的方法
JP5935231B2 (ja) 2015-03-11 2016-06-15 国立研究開発法人物質・材料研究機構 Ｘ線イメージングの方法及び装置
US10895657B2 (en) * 2017-01-13 2021-01-19 Franklin Sensors Inc. Apparatus and methods for obscured feature detection with uniform electric fields
JP6825198B2 (ja) 2015-07-14 2021-02-03 大日本印刷株式会社 防眩性光学積層体及び画像表示装置
JP6723705B2 (ja) 2015-08-31 2020-07-15 キヤノン株式会社 光学部材および撮像機器
KR101813707B1 (ko) * 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR102294715B1 (ko) 2016-01-13 2021-08-26 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101959510B1 (ko) * 2016-03-04 2019-03-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
US10222510B2 (en) * 2016-03-09 2019-03-05 Lg Chem, Ltd Anti-reflective film
WO2017157682A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Sony Corporation Wireless telecommunications system, terminal device, infrastructure equipment, integrated circuitry and methods
CN110632686B (zh) * 2016-07-14 2021-10-29 株式会社Lg化学 防反射膜
JP6895760B2 (ja) 2017-02-03 2021-06-30 日揮触媒化成株式会社 シリカ系粒子分散液の製造方法、シリカ系粒子分散液、透明被膜形成用塗布液及び透明被膜付基材

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013130865A (ja) 2011-11-25 2013-07-04 Fujifilm Corp 帯電防止反射防止フィルム、帯電防止反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
JP2014240929A (ja) 2013-06-12 2014-12-25 大日本印刷株式会社 タッチパネル付光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2015232614A (ja) 2014-06-09 2015-12-24 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム及びディスプレイ

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