CN116057422A - 防反射构件、以及使用上述防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品、以及防反射构件的选定方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种能够改善耐擦伤性的防反射构件。一种防反射构件，其在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层，并满足下述条件1。<条件1>以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出各波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1时，波长1.25μm下的标高的功率谱强度P1显示出0.015以上。

Description

防反射构件、以及使用上述防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品、以及防反射构件的选定方法
技术领域
本发明涉及防反射构件、以及使用上述防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品、以及防反射构件的选定方法。
背景技术
在液晶显示装置、有机EL显示装置、微型LED显示装置等显示装置、展示柜等中，为了改善可见性，已知在装置表面设置防反射构件。近年来，车载导航等车载用显示器、平板电脑、智能手机等使用者直接用手接触屏幕进行操作的触控面板式的图像显示装置正在普及，在触控面板式的图像显示装置中也设有防反射构件。
防反射构件例如通过在透光性基材上形成防反射层来制作。关于防反射层，已知利用溅射法等将折射率不同的无机薄膜成膜的干式法、通过涂布形成含有微粒的树脂层的湿式法等。
通常，与具有无机薄膜的防反射构件相比，具有树脂层的防反射构件具有斜向反射色调的变化小、耐碱性等化学稳定性优异、成本低的优点，通用性优异。但是，与具有无机薄膜的防反射构件相比，具有树脂层的防反射构件具有耐擦伤性等机械特性差的倾向。因此，对于具有树脂层的防反射构件，要求改善耐擦伤性。
在具有树脂层的防反射构件中，例如在专利文献1和专利文献2中，使低折射率层含有二氧化硅等中空状无机纳米颗粒和实心状无机纳米颗粒。此外，使实心状无机纳米颗粒偏在于与硬膜的界面侧，并且使中空状无机纳米颗粒偏在于上述界面的相反侧。这样，能够兼顾高的抗划伤性和低反射率。
在专利文献3中公开了下述内容：使低折射率层中的活性二氧化硅微粒偏在于硬涂层侧的界面和/或与硬涂层相反侧的界面，形成在低折射率层中密集地填充有中空状二氧化硅微粒的状态，由此提高表面硬度。
在专利文献4中公开了下述内容：在光学基材上形成防反射膜，该防反射膜在以活性硅烷类为主要成分的粘结剂中分散有中空二氧化硅微粒和微细二氧化硅颗粒。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2018-533068号公报
专利文献2：日本特表2018-533762号公报
专利文献3：日本专利第6011527号公报
专利文献4：日本特开2007-078711号公报
发明内容
发明所要解决的课题
但是，专利文献1～4的具有树脂层的防反射构件无法获得与具有无机薄膜的防反射构件同等的耐钢丝绒性。专利文献1～4的防反射构件为了实现低反射率而在低折射率层中包含中空颗粒。中空颗粒一方面容易实现低反射率，但另一方面强度弱。因此，认为包含中空颗粒的专利文献1～4的防反射构件难以实现优异的耐钢丝绒性。
防反射构件多适用于触控面板等人用手接触的机会多的部位。因此，耐钢丝绒性不好的防反射构件不能说通用性高。
本发明涉及具有包含中空颗粒的低折射率层的防反射构件、以及使用该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品，其课题在于改善耐擦伤性。另外，本发明涉及具有包含中空颗粒的低折射率层的防反射构件，其课题在于提供能够改善耐擦伤性的防反射构件的选定方法。
用于解决课题的手段
本发明提供下述[1]～[5]。
[1]一种防反射构件，其为在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层的防反射构件，其满足下述条件1。
<条件1>
以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
[2]一种偏振片，该偏振片具有：偏振元件；配置于上述偏振元件的一侧的第一透明保护板；和配置于上述偏振元件的另一侧的第二透明保护板，其中，上述第一透明保护板和上述第二透明保护板中的任一者为上述[1]所述的防反射构件，并且，按照上述透光性基材侧的面朝向上述偏振元件侧的方式配置上述防反射构件。
[3]一种图像显示装置，其中，在显示元件上，配置为上述[1]所述的防反射构件的上述低折射率层侧的面朝向与上述显示元件相反的一侧，并且将上述防反射构件配置于最表面。
[4]一种防反射性物品，其中，在构件上，配置为上述[1]所述的防反射构件的上述低折射率层侧的面朝向与上述构件相反的一侧，并且将上述防反射构件配置于最表面。
[5]一种防反射构件的选定方法，该防反射构件的选定方法对在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层的防反射构件实施下述条件1的评价，选定满足下述条件1的防反射构件。
<条件1>
以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
发明的效果
本发明的防反射构件、以及使用该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品能够改善耐擦伤性。本发明的防反射构件的选定方法不实施耐擦伤性的试验而能够选定耐擦伤性优异的防反射构件。
附图说明
图1是示出本发明的防反射构件的一个实施方式的示意性截面图。
图2是示出现有的防反射构件的一个实施方式的示意性截面图。
图3是用原子力显微镜拍摄实施例1的防反射构件的低折射率层侧的表面的图。
图4是用原子力显微镜拍摄比较例1的防反射构件的低折射率层侧的表面的图。
图5是用于说明低折射率层侧的表面的各波长的标高的功率谱强度的计算方法的图。
图6是用于说明低折射率层侧的表面的各波长的标高的功率谱强度的计算方法的图。
图7是示出本发明的图像显示装置的一个实施方式的截面图。
图8是对于实施例1的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图9是对于实施例2的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图10是对于实施例3的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图11是对于实施例4的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图12是对于比较例1的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图13是对于比较例2的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图14是对于比较例3的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
图15是对于比较例4的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比的图(其中，总和标准化为1)。
具体实施方式
下面说明本发明的实施方式。
[防反射构件]
本发明的防反射构件为在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层的防反射构件，其满足下述条件1。
<条件1>
以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
图1是本发明的防反射构件100的截面形状的示意性截面图。
图1的防反射构件100在透光性基材10上具有包含粘结剂树脂41和中空颗粒42的低折射率层40。图1的防反射构件100在透光性基材10与低折射率层40之间具有硬涂层20和高折射率层30。
图1为示意性截面图。即，构成防反射构件100的各层的比例尺和各材料的比例尺等为了易于图示进行了模式化，与实际的比例尺等不同。图2、图5和图7也相同。
在图1的防反射构件100中，图1的上侧的表面相当于“以透光性基材为基准具有低折射率层的一侧的防反射构件的表面”。
本说明书中，有时将“以透光性基材为基准具有低折射率层的一侧的防反射构件的表面”称为“低折射率层侧的表面”。
本发明的防反射构件只要在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层并满足条件1即可，不限定于图1的层积构成。例如，防反射构件也可以为从图1的层积构成除去硬涂层和高折射率层中的至少任一者的层积构成。防反射构件的层积构成的优选实施方式是在透光性基材上依次具有硬涂层、高折射率层和低折射率层的图1的层积构成。
<透光性基材>
透光性基材优选具备透光性、平滑性、耐热性，且机械强度优异。作为这样的透光性基材，可以举出聚酯、三乙酰纤维素(TAC)、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚氨酯和非晶态烯烃(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)等塑料膜。透光性基材可以为将2片以上的塑料膜贴合而成的基材。
上述之中，从机械强度和尺寸稳定性的方面出发，优选经拉伸加工、特别是双向拉伸加工的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯。从透光性、光学各向同性的方面出发，优选TAC、丙烯酸。从耐候性优异的方面出发，优选COP、聚酯。
透光性基材的厚度优选为5μm以上300μm以下、更优选为20μm以上200μm以下、进一步优选为30μm以上120μm以下。
在希望使防反射构件薄膜化的情况下，透光性基材的厚度的优选的上限为60μm，更优选的上限为50μm。透光性基材为聚酯、COP、丙烯酸等低透湿性基材的情况下，用于薄膜化的透光性基材的厚度的优选的上限为40μm，更优选的上限为20μm。即便在大屏幕的情况下，只要透光性基材的厚度的上限为上述范围，就能够使其难以产生应变，从这方面出发也是优选的。
透光性基材的厚度可以利用数显标准外径千分尺(Mitutoyo公司、件号“MDC-25SX”)等进行测定。透光性基材的厚度只要测定任意10点的平均值为上述数值即可。
透光性基材的厚度的优选范围的实施方式可以举出5μm以上300μm以下、5μm以上200μm以下、5μm以上120μm以下、5μm以上60μm以下、5μm以上50μm以下、5μm以上40μm以下、5μm以上20μm以下、20μm以上300μm以下、20μm以上200μm以下、20μm以上120μm以下、20μm以上60μm以下、20μm以上50μm以下、20μm以上40μm以下、30μm以上300μm以下、30μm以上200μm以下、30μm以上120μm以下、30μm以上60μm以下、30μm以上50μm以下、30μm以上40μm以下。
为了提高粘接性，在透光性基材的表面可以实施电晕放电处理等物理处理或化学处理，或者形成易粘接层。
本发明的防反射构件需要满足条件1。
<条件1>
以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
本说明书中，5μm×5μm的测定区域中的每一行一列的数据取得点数(＝像素数)设为512pt×512pt。因此，本说明书中，获得标高的功率谱强度的波长(μm)为“5/1、5/2、5/3、5/4、·····、5/255、5/256”这256点。
在防反射构件的低折射率层上不具有其他层的情况下，在低折射率层的表面实施标高的空间频率分析即可。在低折射率层上具有防污层和抗静电层等其他层的情况下，在其他层的表面实施标高的空间频率分析即可。
本说明书中，“标高”是指“低折射率层侧的表面的标高”。本说明书中，“低折射率层侧的表面的标高”是指，以透光性基材为基准具有低折射率层的一侧的防反射构件的表面上的任意点P与具有上述表面的平均高度的假想平面M的、在防反射构件的法线V的方向上的直线距离(参照图5)。假想平面M的标高以0μm为基准。上述法线V的方向为上述假想平面M的法线方向。在任意点P的标高高于平均高度的情况下，标高为正，在任意点P的标高低于平均高度的情况下，标高为负。
波长和标高的功率谱强度可以通过对低折射率层侧的表面的三维坐标数据进行傅利叶变换而得到。由低折射率层侧的表面的三维坐标数据计算波长和标高的功率谱强度的方法如后所述。
本说明书中，只要不特别声明，则包含“标高”的语句是指以上述平均高度为基准的标高。
在条件1中，在5μm×5μm的区域中，实施低折射率层侧的表面的标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。另外，在条件1中，在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。如上所述，5μm×5μm的测定区域中的每一行一列的数据取得点数(＝像素数)为512pt×512pt。因此，测定波长(μm)为“5/1、5/2、5/3、5/4、·····、5/255、5/256”这256点。此外，在条件1中，必要条件在于，将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
“波长”与“凸部与凸部的间隔(凸部的周期)”大致相关。“标高的功率谱强度”与“具备规定间隔的凸部的标高的变化量”大致相关。在条件1中，测定区域为5μm×5μm，因此波长为超过0μm且为5μm以下的范围。
即，条件1的“计算出各波长的标高的功率谱强度”大体可以说是“按照各个凸部的周期计算出低折射率层侧的表面的凸部的标高的变化量”。并且，条件1的表示“将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度”的“P1”可以说大体表示“相对于各种周期的凸部的标高的变化量的总和的、周期为1.25μm的凸部的标高的变化量的比例”。
因此，条件1的“P1为0.015以上”可以说表示“在低折射率层侧的表面，周期为1.25μm的凸部的存在比例为规定值以上”。
一般来说，中空颗粒的平均一次粒径为50nm以上100nm以下左右。因此认为，在低折射率层侧的表面，“周期为1.25μm的凸部”是基于中空颗粒凝聚而形成的凸部。在图1中，虽然正中央附近中空颗粒42未凝聚，但在左侧和右侧中空颗粒42凝聚，由凝聚的中空颗粒42形成了凸部。另一方面，在图2的现有防反射构件中，中空颗粒42未凝聚而分散，整齐地排列在低折射率层40的表面。虽然图1的防反射构件100具有周期大的凹凸，但图2的防反射构件100不具有周期大的凹凸。
图3和图4是用原子力显微镜(Atomic Force Microscope；AFM)拍摄实施例1和比较例1的防反射构件的低折射率层侧的表面的图。在图3和图4中，认为浓度浓的区域表示中空颗粒的存在部位。即，图3的实施例1的防反射构件具有中空颗粒在面内集合的区域，而图4的比较例1的防反射构件中中空颗粒在面内被均匀分散。这样，由AFM的拍摄结果也可证明，本发明的防反射构件中中空颗粒凝聚，而现有的防反射构件中中空颗粒分散。图3和图4的AFM图像为5μm×5μm的区域。
即，可以说P1为0.015以上表示在低折射率层内中空颗粒凝聚而形成凸部的比例多。
关于通过使P1为0.015以上而使耐擦伤性良好的理由，可以考虑如下。
比较图1和图2，相较于图2，图1中的中空颗粒42被粘结剂树脂41覆盖。图2的中空颗粒42有时也从低折射率层40的表面露出。在图2的防反射构件100的情况下，中空颗粒42未凝聚而聚集在低折射率层40的表面附近，在表面附近覆盖中空颗粒的粘结剂树脂不足，因此认为中空颗粒42的一部分从低折射率层40的表面露出。另一方面，在图1的防反射构件100的情况下，由于在低折射率层的厚度方向的各种部位存在中空颗粒42，从而低折射率层40的表面附近的覆盖低折射率颗粒42的粘结剂树脂不会不足，因此认为中空颗粒42被粘结剂树脂覆盖而不会从低折射率层40的表面露出。
即，通过使P1为0.015以上(通过使在低折射率层内中空颗粒凝聚而形成凸部的比例多)，中空颗粒的表面容易被粘结剂树脂覆盖，因此可以说从低折射率层的表面露出的中空颗粒变少。另外，通过使中空颗粒的表面被粘结剂树脂覆盖，从低折射率层的表面露出的中空颗粒变少，在用钢丝绒等摩擦低折射率层的表面时，钢丝绒等不会直接接触强度弱的中空颗粒，因此认为能够改善耐擦伤性。需要说明的是，在包含滑动性良好的树脂作为低折射率层的粘结剂树脂、或低折射率层包含流平剂等滑动性良好的添加剂的情况下，由于中空颗粒的表面被滑动性良好的粘结剂树脂等覆盖，因此也认为容易改善耐擦伤性。
此外，通过使P1为0.015以上(通过使在低折射率层内中空颗粒凝聚而形成凸部的比例多)，在钢丝绒等与防反射构件接触时，成为不是面接触、而是接近点接触的状态，因此也认为容易改善耐擦伤性。
以往，从表面的平滑化等方面出发，认为在低折射率层内中空颗粒不凝聚而分散是优选的。本发明人与现有的构想完全不同，发现通过使中空颗粒凝聚能够改善耐擦伤性，进而发现可通过标高的功率谱强度来表示中空颗粒的凝聚程度，由此完成了本发明。
另一方面，在P1小于0.015的情况下，如图2所示中空颗粒42的一部分从低折射率层40的表面露出，无法改善耐擦伤性。
在P1小于0.015的情况下，认为是中空颗粒沉入低折射率层的下方的构成。在中空颗粒沉入低折射率层的下方的情况下，由于无法降低低折射率层的表面附近的折射率，因此无法使反射率充分降低。
P1更优选为0.017以上、优选为0.020以上、更优选为0.025以上、更优选为0.028以上、更优选为0.030以上、更优选为0.032以上、更优选为0.035以上。
若P1过大，由于颗粒的凝聚结构，具有SCE(Specular Component Exclude，排除镜面分量)增加的倾向。因此，P1优选为0.075以下、更优选为0.070以下、更优选为0.060以下、更优选为0.055以下、更优选为0.050以下、更优选为0.045以下。
在本说明书中所示的技术特征中，数值的上限选项和下限选项分别示出多个时，可以将选自上限选项中的一个与选自下限选项中的一个进行组合，作为数值范围的实施方式。
例如，在P1的情况下，可以举出0.015以上、0.017以上、0.020以上、0.025以上、0.028以上、0.030以上、0.032以上、0.035以上、0.015以上0.075以下、0.015以上0.070以下、0.015以上0.060以下、0.015以上0.055以下、0.015以上0.050以下、0.015以上0.045以下、0.017以上0.075以下、0.017以上0.070以下、0.017以上0.060以下、0.017以上0.055以下、0.017以上0.050以下、0.017以上0.045以下、0.020以上0.075以下、0.020以上0.070以下、0.020以上0.060以下、0.020以上0.055以下、0.020以上0.050以下、0.020以上0.045以下、0.025以上0.075以下、0.025以上0.070以下、0.025以上0.060以下、0.025以上0.055以下、0.025以上0.050以下、0.025以上0.045以下、0.028以上0.075以下、0.028以上0.070以下、0.028以上0.060以下、0.028以上0.055以下、0.028以上0.050以下、0.028以上0.045以下、0.030以上0.075以下、0.030以上0.070以下、0.030以上0.060以下、0.030以上0.055以下、0.030以上0.050以下、0.030以上0.045以下、0.032以上0.075以下、0.032以上0.070以下、0.032以上0.060以下、0.032以上0.055以下、0.032以上0.050以下、0.032以上0.045以下、0.035以上0.075以下、0.035以上0.070以下、0.035以上0.060以下、0.035以上0.055以下、0.035以上0.050以下、0.035以上0.045以下等数值范围的实施方式。
本说明书中，只要不特别声明，则P1和P2等关于标高的功率谱强度的数值、以及雾度、总光线透射率和光反射率Y值等光学物性等各种参数是指16处测定值的平均值。
本说明书中，16个测定部位优选的是，将距离测定样品的外缘0.5cm的区域作为空白除去，对于剩余的区域，画出将纵向和横向5等分的线时，将16处交点作为测定的中心。例如，在测定样品为长方形的情况下，优选的是，将距离长方形的外缘0.5cm的区域作为空白除去，将剩余的区域沿纵向和横向5等分，将5等分的虚线的16处交点作为中心进行测定，以其平均值计算出参数。在测定样品为圆形、椭圆形、三角形、五边形等长方形以外的形状时，优选的是，画出与这些形状内接的长方形，对于上述长方形，通过上述方法进行16处的测定。
本说明书中，只要不特别声明，则P1和P2等关于标高的功率谱强度的数值、以及雾度、总光线透射率和光反射率Y值等光学物性等各种参数是在温度23±5℃、相对湿度40％以上65％以下测定的值。在各测定开始前，将对象样品在上述气氛中暴露30分钟以上后再进行测定。
本发明的防反射构件优选还满足下述条件2。
<条件2>
与上述条件1同样地，计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长0.075μm下的标高的功率谱强度定义为P2时，P1/P2显示出4.0以上。
如上所述，本说明书中，5μm×5μm的测定区域中的每一行一列的数据取得点数(＝像素数)设为512pt×512pt。因此，条件2的“0.075μm”准确地说是“5/67[μm](0.0746[μm])”。
一般的中空颗粒的平均一次粒径为50nm以上100nm以下，因此，条件2的“波长0.075μm下的标高的功率谱强度”大体可以说相当于“基于中空颗粒的一次颗粒的标高的功率谱强度”。另一方面，如上所述，“波长1.25μm下的标高的功率谱强度”大体可以说相当于“由凝聚的中空颗粒形成的凸部的标高的功率谱强度”。因此，可以说条件2的“P1/P2”的值越大，表示中空颗粒凝聚的比例越高。
P1/P2为4.0以上表示，中空颗粒的表面容易被粘结剂树脂覆盖，从低折射率层的表面露出的中空颗粒容易变少。由此，通过使P1/P2为4.0以上，能够更容易改善防反射构件的耐擦伤性。
P1/P2更优选为4.5以上、进一步优选为5.0以上。
P1/P2的上限没有特别限制，优选为20.0以下、更优选为15.0以下、进一步优选为12.0以下。
P1/P2的优选范围的实施方式可以举出4.0以上20.0以下、4.0以上15.0以下、4.0以上12.0以下、4.5以上20.0以下、4.5以上15.0以下、4.5以上12.0以下、5.0以上20.0以下、5.0以上15.0以下、5.0以上12.0以下。
本发明的防反射构件优选还满足下述条件3A。
<条件3A>
与上述条件1同样地，计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长5μm下的标高的功率谱强度定义为P3时，P3显示出0.050以下。
满足条件3A意味着基于过度凝聚的中空颗粒的凸部少。因此，通过满足条件3A，能够容易降低反射率。
P3更优选为0.045以下、进一步优选为0.040以下。P3的下限没有特别限制，优选为0.010以上、更优选为0.015以上。
P3的优选范围的实施方式可以举出0.010以上0.050以下、0.010以上0.045以下、0.010以上0.040以下、0.015以上0.050以下、0.015以上0.045以下、0.015以上0.040以下。
以与上述条件3A同样的主旨，防反射构件优选满足下述条件3B、条件3C。
<条件3B>
与上述条件1同样地，计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长2.5μm下的标高的功率谱强度定义为P4时，P4显示出0.050以下。
<条件3C>
与上述条件1同样地，计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.67μm下的标高的功率谱强度定义为P5时，P5显示出0.050以下。
条件3B的P4的优选范围、以及条件3C的P5的优选范围的实施方式与条件3A的P3的优选范围相同。
条件3C的“1.67μm”准确地说是“5/3[μm](1.666[μm])”。
-标高的功率谱强度的计算方法-
下面说明各波长的标高的功率谱强度的计算方法。
首先，如上所述，本说明书中，“低折射率层侧的表面的标高”是指，以透光性基材为基准具有低折射率层的一侧的防反射构件的表面上的任意点P与具有上述表面的平均高度的假想平面M的、在防反射构件的法线V的方向上的直线距离(参照图5)。假想平面M的标高以0μm为基准。上述法线V的方向为上述假想平面M的法线方向。
若以(x,y)表示防反射构件的低折射率层侧的表面内的正交坐标，则防反射构件的低折射率层侧的表面的标高可以表示为坐标(x,y)的二维函数h(x,y)。
低折射率层侧的表面的标高优选使用原子力显微镜(Atomic Force Microscope；AFM)进行测定。作为AFM，可以举出Bruker公司制造的原子力显微镜“商品名：NanoScopeV”等。
测定设备所要求的分辨率在水平方向和垂直方向均优选为0.01μm以下、更优选为0.005μm以下。
标高的测定面积设为5μm×5μm。
接着，对通过二维函数h(x,y)求出标高的振幅谱的方法进行说明。首先，利用二维函数h(x,y)，通过下式(1)定义的二维傅利叶变换求出二维函数H(fx,fy)。
<式(1)>
[数1]
Figure BDA0004113350120000131
此处，fx和fy分别为x方向和y方向的频率，具有长度的倒数的维度。式(1)中的π为圆周率，i为虚数单位。将所得到的二维函数H(fx,fy)二次方，由此可以求出二维功率谱H2(fx,fy)。该二维功率谱H2(fx,fy)表示防反射构件的低折射率层侧的表面的空间频率分布。空间频率为波长的倒数。
下面，更具体地说明求出防反射构件的低折射率层侧的表面的标高的振幅谱H(f)的方法。通过上述AFM实际测定的表面形状的三维信息通常作为离散值获得。即，通过上述AFM实际测定的表面形状的三维信息作为与多个测定点对应的标高获得。
图6是示出离散地获得表示标高的函数h(x,y)的状态的示意图。如图6所示，若用(x,y)表示低折射率层侧的表面的面内的正交坐标，用虚线表示在投影面Sp上沿x轴方向每隔Δx进行分割的线和沿y轴方向每隔Δy进行分割的线，则在实际测定中，低折射率层侧的表面的标高作为投影面Sp上的各虚线的每个交点的离散标高值获得。
所得到的标高值的数量由测定范围与Δx和Δy决定。如图6所示，若将x轴方向的测定范围设为X＝(M-1)Δx、将y轴方向的测定范围设为Y＝(N-1)Δy，则所得到的标高值的数量为M×N个。
如图6所示，若将投影面Sp上的着眼点A的坐标设为(jΔx,kΔy)，则与着眼点A对应的低折射率层侧的表面上的点P的标高可以表示为h(jΔx,kΔy)。此处，j为0以上M-1以下，k为0以上N-1以下。
此处，测定间隔Δx和Δy依赖于测定设备的水平分辨率，为了高精度地评价微细凹凸表面，如上所述，Δx和Δy均优选为0.01μm以下、更优选为0.005μm以下。
测定范围X和Y如上所述，均为5μm。
这样，在实际测定中，表示低折射率层侧的表面的标高的函数作为具有M×N个值的离散函数h(x,y)获得。将由测定得到的离散函数h(x,y)进行下述式(2)定义的离散傅利叶变换，由此求出离散函数H(fx,fy)，将离散函数H(fx,fy)二次方，由此求出二维功率谱的离散函数H2(fx,fy)。本发明中，M＝N且Δx＝Δy。下述式(2)中，“l”为-M/2以上M/2以下的整数，“m”为-N/2以上N/2以下的整数。Δfx和Δfy分别为x方向和y方向的频率间隔，由下述式(3)和式(4)定义。
<式(2)>
[数2]
Figure BDA0004113350120000141
<式(3)>
[数3]
Figure BDA0004113350120000142
<式(4)>
[数4]
Figure BDA0004113350120000143
如上所述计算出的二维功率谱的离散函数H2(fx,fy)表示防反射构件的凹凸表面的空间频率分布。若取空间频率的倒数，则可以换算成波长。
图8～图15中对于实施例1～4和比较例1～4的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比(其中，总和标准化为1)。图8～图15中，横轴表示波长(单位为“μm”)，纵轴表示相对于总和的各波长的功率谱强度之比(单位为无量纲)。
<低折射率层>
低折射率层至少包含粘结剂树脂和中空颗粒。
低折射率层优选位于以透光性基材为基准具有低折射率层的一侧的防反射构件的最表面。
本发明的防反射构件虽然在低折射率层中包含强度弱的中空颗粒，但由于满足条件1，因而能够改善耐擦伤性。
作为用于容易满足条件1的手段，可以举出下述(a)～(g)。通过将这些手段适当组合，能够容易得到满足条件1的防反射构件。
(a)利用甲基丙烯酰基处理中空颗粒的表面。
(b)使实心颗粒相对于中空颗粒的含量为一定量以上。
(c)使用蒸发速度慢的溶剂作为溶剂。
(d)改善低折射率层与低折射率层的下层的润湿性。
(e)使中空颗粒相对于粘结剂树脂的含量为一定量以上。
(f)减缓初期的干燥。
(g)使粘结剂树脂中的丙烯酸酯树脂成分的比例为一定值以上。
《粘结剂树脂》
低折射率层优选包含固化性树脂组合物的固化物作为粘结剂树脂。固化性树脂组合物的固化物相对于低折射率层的全部粘结剂树脂的比例优选为50质量％以上、更优选为70质量％以上、更优选为90质量％以上、最优选为100质量％。
作为低折射率层的固化性树脂组合物，可以举出热固性树脂组合物或电离辐射固化性树脂组合物，优选电离辐射固化性树脂组合物。即，低折射率层优选包含电离辐射固化性树脂组合物的固化物作为粘结剂树脂。
热固性树脂组合物为至少包含热固性树脂的组合物，是通过加热而固化的树脂组合物。
作为热固性树脂，可以举出丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、酚醛树脂、脲三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、有机硅树脂等。在热固性树脂组合物中，根据需要在这些固化性树脂中添加固化剂。
电离辐射固化性树脂组合物是包含具有电离辐射固化性官能团的化合物(下文中，也称为“电离辐射固化性化合物”)的组合物。作为电离辐射固化性官能团，可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯键式不饱和键基团、以及环氧基、氧杂环丁基等。电离辐射固化性化合物优选具有2个以上的电离辐射固化性官能团。
作为电离辐射固化性化合物，优选具有烯键式不饱和键基团的化合物。其中，更优选具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯系化合物。
以下，将具有4个以上烯键式不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物称为“多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物”。另外，将具有2以上3以下烯键式不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物称为“低官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物”。
作为(甲基)丙烯酸酯系化合物，单体和低聚物均可使用。
从容易满足条件1的方面出发，相对于粘结剂树脂的总量，优选包含50质量％以上的(甲基)丙烯酸酯系化合物的固化物，更优选包含70质量％以上。(甲基)丙烯酸酯系化合物优选为丙烯酸酯化合物。
作为(甲基)丙烯酸酯系化合物中的2官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以举出异氰脲酸二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A四乙氧基二丙烯酸酯、双酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作为3官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以举出例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性三(甲基)丙烯酸酯等。
作为4官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以举出例如季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等。
这些(甲基)丙烯酸酯系化合物可以如后所述进行了改性。
作为(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。
氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如通过多元醇和有机二异氰酸酯与羟基(甲基)丙烯酸酯的反应得到。
优选的环氧(甲基)丙烯酸酯是使3官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯；使2官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与多元酸和(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯；以及使2官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与酚类和(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯。
从抑制交联导致的收缩不均的方面出发，上述(甲基)丙烯酸酯系化合物可以对分子骨架的一部分进行了改性。例如，也可以使用经环氧乙烷、环氧丙烷、己内酯、异氰脲酸、烷基、环状烷基、芳香族、双酚等改性的物质。
上述电离辐射固化性树脂可以单独使用1种，或者可以将2种以上组合使用。
在电离辐射固化性树脂为紫外线固化性树脂的情况下，低折射率层用涂布液优选包含光聚合引发剂或光聚合促进剂等添加剂。
作为光聚合引发剂，可以举出选自苯乙酮、二苯甲酮、α-羟基烷基苯酮、米希勒酮、苯偶姻、安息香双甲醚、苯甲酰苯甲酸酯、α-酰基肟酯、α-氨基烷基苯酮、噻吨酮类等中的1种以上。
光聚合促进剂能够减轻固化时的空气导致的聚合阻碍、提高固化速度，例如，可以举出选自对二甲氨基苯甲酸异戊酯、对二甲氨基苯甲酸乙酯等中的1种以上。
《中空颗粒》
中空颗粒是指下述颗粒：具有外壳层，被上述外壳层所包围的颗粒内部为空洞，在上述空洞内部包含空气。中空颗粒为下述颗粒：通过包含空气，与外壳层的折射率相比，折射率与气体的占有率成比例地降低。
中空颗粒的外壳层的材质可以为二氧化硅和氟化镁等无机化合物、有机化合物中的任一种，从低折射率化和强度的方面出发，优选二氧化硅。即，低折射率层优选包含中空二氧化硅颗粒作为中空颗粒。
若考虑光学特性和机械强度，中空颗粒的平均一次粒径的下限优选为50nm以上、更优选为65nm以上，上限优选为100nm以下、更优选为80nm以下。
中空颗粒的平均一次粒径的优选范围的实施方式可以举出50nm以上100nm以下、50nm以上80nm以下、65nm以上100nm以下、65nm以上80nm以下。
中空颗粒和后述实心颗粒、以及后述高折射颗粒的平均一次粒径可以通过下述(A1)～(A3)的操作算出。
(A1)用TEM或STEM拍摄防反射构件的截面。优选TEM或STEM的加速电压为10kv以上30kV以下、倍率为5万倍以上30万倍以下。
(A2)从观察图像提取任意10个颗粒，计算出各个颗粒的粒径。粒径如下进行测定：用任意的两条平行直线夹持颗粒的截面时，作为上述两条直线间距离达到最大的两条直线的组合中的直线间距离来测定。
(A3)在同一样品的另一画面的观察图像中进行5次同样的操作，将由合计50个粒径的数均得到的值作为颗粒的平均一次粒径。
从降低折射率的方面出发，中空颗粒的空隙率的下限优选为5％以上、更优选为10％以上、进一步优选为20％以上，从强度的方面出发，上限优选为80％以下、更优选为70％以下、进一步优选为60％以下。
中空颗粒的空隙率可以如下算出：通过中空颗粒的截面STEM观察等测定其直径和除空隙部分外的外壳部分的厚度，设中空颗粒为球体，计算出中空颗粒的空隙部分的体积、以及假设没有空隙部分时的中空颗粒的体积，由{(中空颗粒的空隙部分的体积)/(假设没有空隙部分时的中空颗粒的体积)}×100算出。
中空颗粒的空隙率的优选范围的实施方式可以举出5％以上80％以下、5％以上70％以下、5％以上60％以下、10％以上80％以下、10％以上70％以下、10％以上60％以下、20％以上80％以下、20％以上70％以下、20％以上60％以下。
中空颗粒的含量越多，则低折射率层的折射率越低。因此，中空颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份优选为100质量份以上、更优选为150质量份以上、进一步优选为175质量份以上。此外，通过增加中空颗粒的含量，中空颗粒容易凝聚，能够容易满足条件1。
另一方面，若中空颗粒相对于粘结剂树脂的含量过多，则中空颗粒容易从粘结剂树脂露出，并且结合中空颗粒间的粘结剂树脂减少，从而具有低折射率层的耐擦伤性等机械强度降低的倾向。因此，中空颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份优选为400质量份以下、更优选为300质量份以下、进一步优选为250质量份以下。
相对于粘结剂树脂100质量份的中空颗粒的含量的优选范围的实施方式可以举出100质量份以上400质量份以下、100质量份以上300质量份以下、100质量份以上250质量份以下、150质量份以上400质量份以下、150质量份以上300质量份以下、150质量份以上250质量份以下、175质量份以上400质量份以下、175质量份以上300质量份以下、175质量份以上250质量份以下。
中空颗粒优选表面被硅烷偶联剂被覆。硅烷偶联剂优选具有(甲基)丙烯酰基或环氧基，其中更优选具有甲基丙烯酰基。
通过利用硅烷偶联剂对中空颗粒实施表面处理，中空颗粒与粘结剂树脂的亲和性提高，能够容易抑制中空颗粒的过度凝聚。为了抑制过度的凝聚，后述的实心颗粒也优选表面被硅烷偶联剂被覆。
《实心颗粒》
从进一步改善耐擦伤性的方面出发，低折射率层优选包含实心颗粒。
实心颗粒的材质优选二氧化硅和氟化镁等无机化合物，其中更优选二氧化硅。
实心颗粒的平均一次粒径优选小于中空颗粒的平均一次粒径。实心颗粒的平均一次粒径的下限优选为5nm以上、更优选为10nm以上，上限优选为20nm以下、更优选为15nm以下。
实心颗粒的平均一次粒径的优选范围的实施方式可以举出5nm以上20nm以下、5nm以上15nm以下、10nm以上20nm以下、10nm以上15nm以下。
从进一步改善耐擦伤性的方面出发，实心颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份优选为10质量份以上、更优选为50质量份以上、更优选为70质量份以上、更优选为100质量份以上。
另一方面，若实心颗粒的含量过多，则实心颗粒容易凝聚，并且覆盖中空颗粒的粘结剂树脂的量减少，耐擦伤性有时降低。因此，实心颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份优选为200质量份以下、更优选为150质量份以下。
相对于粘结剂树脂100质量份的实心颗粒的含量的优选范围的实施方式可以举出10质量份以上200质量份以下、10质量份以上150质量份以下、50质量份以上200质量份以下、50质量份以上150质量份以下、70质量份以上200质量份以下、70质量份以上150质量份以下、100质量份以上200质量份以下、100质量份以上150质量份以下。
实心颗粒的含量相对于中空颗粒100质量份优选为30质量份以上、优选为40质量份以上。通过相对于中空颗粒在上述范围包含实心颗粒，中空颗粒难以流动，从而中空颗粒容易凝聚，能够容易满足条件1。
若实心颗粒相对于中空颗粒的含量过多，则具有反射率增加的倾向。因此，实心颗粒的含量相对于中空颗粒100质量份优选为80质量份以下、更优选为70质量份以下。
相对于中空颗粒100质量份的实心颗粒的含量的优选范围的实施方式可以举出30质量份以上80质量份以下、30质量份以上70质量份以下、40质量份以上80质量份以下、40质量份以上70质量份以下。
低折射率层的折射率的下限优选1.10以上、更优选1.20以上、更优选1.26以上、更优选1.28以上、更优选1.30以上，上限优选1.48以下、更优选1.45以下、更优选1.40以下、更优选1.38以下、更优选1.35以下。
本说明书中，低折射率层和高折射率层等构成防反射层的层的折射率是指波长589.3nm处的值。
低折射率层的折射率的优选范围的实施方式可以举出1.10以上1.48以下、1.10以上1.45以下、1.10以上1.40以下、1.10以上1.38以下、1.10以上1.35以下、1.20以上1.48以下、1.20以上1.45以下、1.20以上1.40以下、1.20以上1.38以下、1.20以上1.35以下、1.26以上1.48以下、1.26以上1.45以下、1.26以上1.40以下、1.26以上1.38以下、1.26以上1.35以下、1.28以上1.48以下、1.28以上1.45以下、1.28以上1.40以下、1.28以上1.38以下、1.28以上1.35以下、1.30以上1.48以下、1.30以上1.45以下、1.30以上1.40以下、1.30以上1.38以下、1.30以上1.35以下。
低折射率层的厚度的下限优选80nm以上、更优选85nm以上、更优选90nm以上，上限优选150nm以下、更优选110nm以下、更优选105nm以下。
低折射率层的厚度的优选范围的实施方式可以举出80nm以上150nm以下、80nm以上110nm以下、80nm以上105nm以下、85nm以上150nm以下、85nm以上110nm以下、85nm以上105nm以下、90nm以上150nm以下、90nm以上110nm以下、90nm以上105nm以下。
在低折射率层中可以进一步含有流平剂、抗静电剂、抗氧化剂、表面活性剂、分散剂和紫外线吸收剂等添加剂。
特别是，在低折射率层包含氟系流平剂和硅酮系流平剂等流平剂的情况下，低折射率层的表面的滑动性提高，能够容易地进一步改善耐擦伤性。流平剂的含量相对于低折射率层的粘结剂树脂100质量份优选为0.1质量份以上20质量份以下、更优选为1质量份以上15质量份以下。流平剂的含量相对于低折射率层的粘结剂树脂100质量份可以为0.1质量份以上15质量份以下、也可以为1质量份以上20质量份以下。
低折射率层可以通过涂布包含构成低折射率层的成分和溶剂的低折射率层用涂布液并进行干燥，根据需要照射电离射线进行固化而形成。
《溶剂》
溶剂可示例出例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮(MIBK)、环己酮等酮类；二氧六环、四氢呋喃等醚类；己烷等脂肪族烃类；环己烷等脂环式烃类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二氯甲烷、二氯乙烷等卤化碳类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；异丙醇、丁醇、环己醇等醇类；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等溶纤剂类；丙二醇单甲醚乙酸酯等二醇醚类；乙酸溶纤剂类；二甲基亚砜等亚砜类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺类；等，也可以为它们的混合物。
低折射率层的溶剂优选包含蒸发速度慢的溶剂。通过包含蒸发速度慢的溶剂，可以使中空颗粒凝聚，容易满足条件1。
本说明书中，蒸发速度慢的溶剂是指，将乙酸丁酯的蒸发速度设为100时，蒸发速度小于100的溶剂。蒸发速度慢的溶剂的蒸发速度优选为20以上60以下、更优选为40以上50以下。
作为蒸发速度慢的溶剂，可以举出例如蒸发速度32的环己酮、蒸发速度44的1-甲氧基-2-丙基乙酸酯。
蒸发速度慢的溶剂的含量相对于低折射率层的溶剂的总量优选为20质量％以上、更优选为25质量％以上。
另一方面，若蒸发速度慢的溶剂的含量过多，则中空颗粒过度凝聚，具有反射率增加的倾向。因此，低折射率层的溶剂优选合用蒸发速度慢的溶剂和蒸发速度快的溶剂。
本说明书中，蒸发速度快的溶剂是指，将乙酸丁酯的蒸发速度设为100时，蒸发速度为100以上的溶剂。蒸发速度快的溶剂的蒸发速度优选为120以上300以下、更优选为130以上180以下。
作为蒸发速度快的溶剂，可以举出例如蒸发速度160的甲基异丁基酮、蒸发速度200的甲苯、蒸发速度370的甲基乙基酮。
蒸发速度快的溶剂与蒸发速度慢的溶剂的质量比优选为50：50～80：20、更优选为60：40～75：25。
《干燥条件》
低折射率层用涂布液的干燥温度优选为45℃以上60℃以下、更优选为47℃以上53℃以下。通过如此在比较低的温度下进行干燥，中空颗粒容易凝聚，能够容易满足条件1。
低折射率层用涂布液的干燥风的风速优选0.1m/s以上10m/s以下、更优选0.3m/s以上7m/s以下。
低折射率层用涂布液可以以两阶段进行干燥。作为两阶段的干燥，可以举出下述(1)和(2)以及它们的组合。通过以两阶段进行干燥，低折射率层的初期干燥变慢，由此中空颗粒容易凝聚，能够容易满足条件1。下述(1)和(2)中的干燥温度优选为上述温度范围内。
(1)在第一阶段的干燥和第二阶段的干燥中改变干燥风的风速。优选为“第一阶段的风速<第二阶段的风速”。
(2)在第一阶段的干燥和第二阶段的干燥中改变干燥温度。优选为“第一阶段的干燥温度<第二阶段的干燥温度”。
<其他层>
防反射构件优选在透光性基材与低折射率层之间具有选自硬涂层和高折射率层中的1个以上的层，更优选具有硬涂层和高折射率层这两个层。通过具有硬涂层，能够容易地进一步改善防反射构件的耐擦伤性。通过具有高折射率层，能够容易地进一步降低防反射构件的反射率。
在透光性基材与低折射率层之间具有硬涂层和高折射率层这两个层的情况下，防反射构件优选依次具有透光性基材、硬涂层、高折射率层和低折射率层。
《硬涂层》
硬涂层优选包含热固性树脂组合物或电离辐射固化性树脂组合物等固化性树脂组合物的固化物作为主要成分。主要成分是指为构成硬涂层的树脂成分的50质量％以上，优选为70质量％以上、更优选为90质量％以上。
热固性树脂组合物或电离辐射固化性树脂组合物等固化性树脂组合物可以举出与在低折射率层中例示的固化性树脂组合物同样的物质。
硬涂层的厚度的下限优选为0.5μm以上、更优选为1μm以上，上限优选为30μm以下、更优选为10μm以下。通过使硬涂层的厚度为上述范围，能够改善耐擦伤性，并且能够容易抑制剪裁等加工时的裂纹产生。
硬涂层的厚度的优选范围的实施方式可以举出0.5μm以上30μm以下、0.5μm以上10μm以下、1μm以上30μm以下、1μm以上10μm以下。
硬涂层中也可以进一步含有流平剂、抗静电剂、抗氧化剂、表面活性剂、分散剂和紫外线吸收剂等添加剂。
《高折射率层》
高折射率层例如可以由包含粘结剂树脂组合物和高折射率颗粒的高折射率层形成用涂布液形成。即，高折射率层优选包含粘结剂树脂和高折射率颗粒。
高折射率层的粘结剂树脂优选包含固化性树脂组合物的固化物。固化性树脂组合物的固化物相对于高折射率层的全部粘结剂树脂的比例优选为50质量％以上、更优选为70质量％以上、更优选为90质量％以上、最优选为100质量％。
作为高折射率层的固化性树脂组合物，可以举出热固性树脂组合物或电离辐射固化性树脂组合物。热固性树脂组合物或电离辐射固化性树脂组合物等固化性树脂组合物可以举出与在低折射率层中例示的固化性树脂组合物同样的物质。
作为高折射率颗粒，可以举出五氧化锑(1.79)、氧化锌(1.90)、氧化钛(2.3以上2.7以下)、氧化铈(1.95)、锡掺杂氧化铟(1.95以上2.00以下)、锑掺杂氧化锡(1.75以上1.85以下)、氧化钇(1.87)和氧化锆(2.10)等。括号内的数值为各高折射率颗粒的折射率。
高折射率颗粒的平均一次粒径优选2nm以上、更优选5nm以上、更优选10nm以上。从抑制白化和透明性的方面出发，高折射率颗粒的平均一次粒径优选200nm以下、更优选100nm以下、更优选80nm以下、更优选60nm以下、更优选30nm以下。
高折射率颗粒的平均一次粒径的优选范围的实施方式可以举出2nm以上200nm以下、2nm以上100nm以下、2nm以上80nm以下、2nm以上60nm以下、2nm以上30nm以下、5nm以上200nm以下、5nm以上100nm以下、5nm以上80nm以下、5nm以上60nm以下、5nm以上30nm以下、10nm以上200nm以下、10nm以上100nm以下、10nm以上80nm以下、10nm以上60nm以下、10nm以上30nm以下。
高折射率颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份下限优选为100质量份以上、更优选为150质量份以上、进一步优选为250质量份以上，上限优选为500质量份以下、更优选为400质量份以下、进一步优选为350质量份以下。
相对于粘结剂树脂100质量份的高折射率颗粒的含量的优选范围的实施方式可以举出100质量份以上500质量份以下、100质量份以上400质量份以下、100质量份以上350质量份以下、150质量份以上500质量份以下、150质量份以上400质量份以下、150质量份以上350质量份以下、250质量份以上500质量份以下、250质量份以上400质量份以下、250质量份以上350质量份以下。
高折射率层的折射率的下限优选1.53以上、更优选1.54以上、更优选1.55以上、更优选1.56以上，上限优选1.85以下、更优选1.80以下、更优选1.75以下、更优选1.70以下。
高折射率层的折射率的优选范围的实施方式可以举出1.53以上1.85以下、1.53以上1.80以下、1.53以上1.75以下、1.53以上1.70以下、1.54以上1.85以下、1.54以上1.80以下、1.54以上1.75以下、1.54以上1.70以下、1.55以上1.85以下、1.55以上1.80以下、1.55以上1.75以下、1.55以上1.70以下、1.56以上1.85以下、1.56以上1.80以下、1.56以上1.75以下、1.56以上1.70以下。
高折射率层的厚度的上限优选200nm以下、更优选180nm以下、进一步优选150nm以下，下限优选50nm以上、更优选70nm以上。
高折射率层的厚度的优选范围的实施方式可以举出50nm以上200nm以下、50nm以上180nm以下、50nm以上150nm以下、70nm以上200nm以下、70nm以上180nm以下、70nm以上150nm以下。
高折射率层中可以进一步含有流平剂、抗静电剂、抗氧化剂、表面活性剂、分散剂和紫外线吸收剂等添加剂。
从改善低折射率层的润湿性的方面出发，高折射率层中的流平剂的含量相对于粘结剂树脂100质量份优选为3质量份以下、更优选为1质量份以下。
防反射构件可以进一步具有防污层、抗静电层等上述层以外的层。
<光学特性>
防反射构件的JIS K7361-1：1997的总光线透射率优选为70％以上、更优选为80％以上、进一步优选为85％以上。
总光线透射率以及测定后述雾度时的光入射面为低折射率层侧的表面的相反侧。
防反射构件的JIS K7136：2000的雾度优选为1.0％以下、更优选为0.7％以下、进一步优选为0.5％以下。通过使雾度为1.0％以下，能够容易地改善屏幕图像的分辨率。雾度的下限值没有特别限制，通常为0.1％以上。
防反射构件的雾度的优选范围的实施方式可以举出0.1％以上1.0％以下、0.1％以上0.7％以下、0.1％以上0.5％以下。
对于防反射构件来说，以透光性基材为基准从具有低折射率层的一侧以5度的光入射角测定的光反射率Y值优选为1.0％以下、更优选为0.7％以下、进一步优选为0.5％以下。光反射率Y值的下限值没有特别限制，通常为0.1％以上。
防反射构件的光反射率Y值的优选范围的实施方式可以举出0.1％以上1.0％以下、0.1％以上0.7％以下、0.1％以上0.5％以下。
测定光反射率Y值时，制作在防反射构件的透光性基材侧的面隔着透明粘合剂层贴合有黑色板的样品，从上述样品的低折射率层侧以5°的入射角入射光，从而进行测定。计算反射率时的光源的条件优选为C光源。
与样品的透明粘合剂层相接的构件(例如透光性基材)与透明粘合剂层的折射率差优选为0.15以内、更优选为0.10以内、进一步优选为0.05以内。黑色板优选JIS K7361-1：1997的总光线透射率为1％以下、更优选为0％。构成黑色板的树脂的折射率与透明粘合剂层的折射率差优选为0.15以内、更优选为0.10以内、进一步优选为0.05以内。
<耐钢丝绒性>
对于防反射构件来说，低折射率层侧的表面的耐钢丝绒性在荧光灯的照明下优选为750g以上、更优选为900g以上、进一步优选为1000g以上、更进一步优选为1200g以上。耐钢丝绒性的上限没有特别限制，为2000g以下左右。
防反射构件的耐钢丝绒性的优选范围的实施方式可以举出750g以上2000g以下、900g以上2000g以下、1000g以上2000g以下、1200g以上2000g以下。
本说明书中，关于耐钢丝绒性，一边在下述条件下施加载荷一边用钢丝绒摩擦防反射构件的低折射率层侧的表面，之后一边改变荧光灯与防反射构件的角度一边进行观察，为肉眼观察不到划痕、划痕为0个时的最大载荷。观察在照度为200Lx以上2000Lx以下的荧光灯的照明下进行，从荧光灯的发光部到防反射构件的距离为10cm以上300cm以下。作为用于观察的荧光灯，可以举出例如Panasonic公司制造的3波长荧光灯(型号：FHF32EX-N-H)。
钢丝绒与防反射构件的低折射率层侧的表面相接的面积为0.5cm2以上5.0cm2以下的范围内。钢丝绒与防反射构件的低折射率层相接的面的形状可以为圆形、三角形、多边形等，优选为圆形。试验中，在同一部位使钢丝绒往返移动单程移动距离30mm以上(往返一次的移动距离为60mm以上)。单程移动距离根据适用防反射构件的器件的尺寸适当设定。
<试验条件>
钢丝绒：Nippon Steel Wool Co.,Ltd.制造、品名：BON STAR、件号：#0000
移动速度：100mm/秒
往返次数：10次
<表面形状>
关于防反射构件的低折射率层侧的表面，取样长度值0.8mm下的JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra优选为0.05μm以下、更优选为0.03μm以下。Ra的下限没有特别限制，优选为0.005μm以上。
上述Ra的优选范围的实施方式可以举出0.005μm以上0.05μm以下、0.005μm以上0.03μm以下。
<尺寸、形状等>
防反射构件可以是切割成规定尺寸的单叶状的形态，也可以是将长片卷取成卷状的卷状形态。单叶的尺寸没有特别限定，最大径为2英寸以上500英寸以下左右。“最大径”是指连结防反射构件的任意2点时的最大长度。例如，在防反射构件为长方形的情况下，长方形的对角线为最大径。在防反射构件为圆形的情况下，圆的直径为最大径。
卷状的宽度和长度没有特别限定，通常，宽度为500mm以上3000mm以下、长度为500m以上5000m以下左右。卷状形态的防反射构件可以根据图像显示装置等的尺寸切割成单叶状使用。在切割时，物性不稳定的卷端部除外。
单叶的形状也没有特别限定，例如，可以为三角形、长方形和五边形等多边形，也可以为圆形，还可以为随机的无定形。更具体而言，在防反射构件为长方形的情况下，纵横比只要是作为显示屏幕没有问题就没有特别限定。可以举出例如横：纵＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1等，在富于设计性的车载用途及数字标牌中，不限定于这样的纵横比。
对防反射构件的凹凸表面的相反侧的表面形状没有特别限定，优选为大致平滑。大致平滑是指取样长度值0.8mm下的JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra小于0.03μm，优选为0.02μm以下。
[偏振片]
本发明的偏振片具有：偏振元件；配置于上述偏振元件的一侧的第一透明保护板；和配置于上述偏振元件的另一侧的第二透明保护板，其中，上述第一透明保护板和上述第二透明保护板中的任一者为上述本发明的防反射构件，并且，按照上述透光性基材侧的面朝向上述偏振元件侧的方式配置上述防反射构件。
偏振片例如用于通过与λ/4相位差板的组合而赋予防反射性。该情况下，在图像显示装置的显示元件上配置λ/4相位差板，在相较于λ/4相位差板靠近观察者侧配置偏振片。
在将偏振片用于液晶显示装置用的情况下，偏振片用于赋予液晶光阀的功能。该情况下，液晶显示装置按照下侧偏振片、液晶显示元件、上侧偏振片的顺序进行配置，下侧偏振片的偏振元件的吸收轴与上侧偏振片的偏振元件的吸收轴正交地进行配置。上述构成中，优选使用本发明的偏振片作为上侧偏振片。
<透明保护板>
本发明的偏振片包含上述本发明的防反射构件作为第一透明保护板和第二透明保护板中的至少一者。优选实施方式中，第一透明保护板和第二透明保护板双方包含上述本发明的防反射构件。
第一透明保护板和第二透明保护板中的一者包含上述本发明的防反射构件的情况下，另一透明保护板没有特别限定，优选光学各向同性的透明保护板。
本说明书中，光学各向同性是指面内相位差为20nm以下，优选为10nm以下、更优选为5nm以下。丙烯酸膜、三乙酰纤维素(TAC)膜容易赋予光学各向同性。
第一透明保护板和第二透明保护板中的一者包含上述本发明的防反射构件的情况下，优选光出射侧的透明保护板包含上述本发明的防反射构件。
<偏振元件>
作为偏振元件，可以举出例如用碘等染色并拉伸后的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇缩甲醛膜、聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等片型偏振元件；由平行排列的大量金属线构成的线栅型偏振元件；涂布有溶致液晶或二色性主-客体材料的涂布型偏振元件；多层薄膜型偏振元件等。这些偏振元件可以是具备反射不透射的偏振成分的功能的反射型偏振元件。
偏振元件优选配置成其吸收轴的方向与光学用的塑料膜的慢轴的方向的平均大致平行或大致垂直。大致平行是指为0度±5度以内，优选为0度±3度以内、更优选为0度±1度以内。大致垂直是指为90度±5度以内，优选为90度±3度以内、更优选为90度±1度以内。
[图像显示装置]
本发明的图像显示装置在显示元件上配置为上述本发明的防反射构件的上述低折射率层侧的面朝向与上述显示元件相反的一侧，并且将上述防反射构件配置于最表面(参照图7)。
作为显示元件，可以举出液晶显示元件、有机EL显示元件和无机EL显示元件等EL显示元件、等离子体显示元件等，进而可以举出微型LED显示元件等LED显示元件。这些显示元件可以在显示元件的内部具有触控面板功能。
作为液晶显示元件的液晶的显示方式，可以举出IPS方式、VA方式、多畴方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。在显示元件为液晶显示元件的情况下，需要背光源。背光源配置于液晶显示元件的与配置有防反射构件的一侧相反的一侧。
本发明的图像显示装置可以为在显示元件与防反射构件之间具有触控面板的带触控面板的图像显示装置。这种情况下，在带触控面板的图像显示装置的最表面配置防反射构件，并且配置为防反射构件的低折射率层侧的面朝向与显示元件相反的一侧即可。
图像显示装置的尺寸没有特别限定，有效显示区域的最大径为2英寸以上500英寸以下左右。
图像显示装置的有效显示区域是指能够显示图像的区域。例如，在图像显示装置具有包围显示元件的壳体的情况下，壳体的内侧的区域成为有效显示区域。
有效显示区域的最大径是指将有效显示区域内的任意2点连结时的最大长度。例如，在有效显示区域为长方形的情况下，长方形的对角线为最大径。在有效显示区域为圆形的情况下，圆的直径为最大径。
[防反射性物品]
本发明的防反射性物品在构件上配置为上述本发明的防反射构件的低折射率层侧的面朝向与上述构件相反的一侧，并且将上述防反射构件配置于最表面。
构件和防反射构件优选隔着粘接剂层进行层积。
作为构件，可以举出仪表板、钟表、展示柜、橱窗和窗。构件可以是透明的，也可以是不透明的，色调也没有特别限定。
[防反射构件的选定方法]
本发明的防反射构件的选定方法对在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层的防反射构件实施下述条件1的评价，选定满足下述条件1的防反射构件。
<条件1>
以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
本发明的防反射构件的选定方法通过选定满足条件1的防反射构件，能够高效地选定耐擦伤性良好的防反射构件。
条件1的优选实施方式依据上述本发明的防反射构件的优选实施方式。
例如，条件1中，P1优选为0.017以上、更优选为0.020以上、更优选为0.025以上、更优选为0.028以上、更优选为0.030以上、更优选为0.032以上、更优选为0.035以上。此外，例如，P1优选为0.075以下、更优选为0.070以下、更优选为0.060以下、更优选为0.055以下、更优选为0.050以下、更优选为0.045以下。
本发明的防反射构件的选定方法优选还具有附加判定条件。作为附加判定条件，可以举出在上述本发明的防反射构件中作为优选实施方式例示的实施方式。
作为附加判定条件的具体例，可以举出例如下述示例。即，本发明的防反射构件的选定方法优选具有选自下述附加判定条件中的1个以上。
<附加判定条件1>
与上述条件1同样地，计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1。将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长0.075μm下的标高的功率谱强度定义为P2时，P1/P2显示出4.0以上。
<附加判定条件2>
防反射构件的JIS K7361-1：1997的总光线透射率为70％以上。
<附加判定条件3>
以透光性基材为基准从具有低折射率层的一侧以5度的光入射角测定的光反射率Y值为1.0％以下。
<附加判定条件4>
低折射率层侧的表面的耐钢丝绒性在荧光灯的照明下为750g以上。
<附加判定条件4>
低折射率层侧的表面在取样长度值0.8mm下的JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以下。
实施例
接着，通过实施例更详细地说明本发明，但本发明不受这些示例的任何限定。只要不特别声明，则“份”和“％”为质量基准。
1.测定和评价
如下进行实施例和比较例的防反射构件的测定和评价。各测定和评价时的气氛设为温度23±5℃、相对湿度40％以上65％以下。在各测定和评价开始前，将对象样品在上述气氛中暴露30分钟以上后进行测定和评价。
1-1.标高的功率谱强度
将实施例和比较例的防反射构件切断成5mm×5mm。关于切断部位，目视确认没有灰尘或划痕等异常点后，从随机的部位选择。借由双面胶带将切断后的防反射构件的透光性基材侧贴合至AFM测定用金属圆板上，制作出样品A。
使用原子力显微镜(Bruker公司制造、AFM主体的商品名“MultiMode8”、AFM控制器的商品名“NanoScopeV”)，测定样品A的低折射层侧的表面的形状。以下示出测定条件。之后，使用上述原子力显微镜附带的分析软件(NanoScope Analysis)，实施斜率校正处理和功率谱转换处理。
<AFM测定条件>
AFM主体：Bruker公司制造的商品名“MultiMode8”
AFM控制器：Bruker公司制造的商品名“NanoScopeV”
模式：轻敲模式
探针：Bruker公司制造的“件号：RTESP300”(共振频率：300kHz，弹簧常数：40N/m)
像素数：512×512
扫描速度：0.6Hz以上1Hz以下
扫描范围：5μm×5μm
<AFM分析条件>
斜率校正：面拟合
在表1中示出条件1的P1、条件2的P1/P2。
图8～图15中对于实施例1～4和比较例1～4的防反射构件示出相对于全部测定波长的标高的功率谱强度的总和的、各波长的标高的功率谱强度之比(其中，总和标准化为1)。图8～图15中，横轴表示波长(单位为“μm”)，纵轴表示相对于总和的各波长的功率谱强度之比(单位为无量纲)。
1-2.光反射率Y值
将实施例和比较例的防反射构件切断成5mm×5mm。关于切断部位，目视确认没有灰尘或划痕等异常点后，从随机的部位选择。借由Panac公司的光学透明粘合片(商品名：Panaclean PD-S1)将切断后的防反射构件的透光性基材侧贴合至长5cm×宽5cm尺寸的黑色板(KURARAY公司制造、商品名：COMOGLAS DFA2CG 502K(黑)系、厚度2mm)上，制作出样品B。
将与样品B的低折射率层侧的表面垂直的方向设为0度时，从5度的方向对样品B入射光，基于入射光的正反射光测定样品的反射率(光反射率Y值)。
反射率使用分光反射率测定器(岛津制作所公司制造、商品名：UV-2450)，在波长范围380nm以上780nm以下进行测定，之后求出由换算成人眼感知的亮度的软件(装置内置UVPC彩色测定版本3.12。计算反射率的条件：C光源、可视角2度)算出的表示光反射率的值作为反射率。结果示于表1。
1-3.总光线透射率(Tt)和雾度(Hz)
将实施例和比较例的防反射构件切断成10cm见方。关于切断部位，目视确认没有灰尘或划痕等异常点后，从随机的部位选择。使用雾度计(HM-150、村上色彩技术研究所制造)，在下述条件下测定各样品的JIS K7361-1：1997的总光线透射率以及JIS K7136：2000的雾度。结果示于表1。
为了使光源稳定，事先打开装置的电源开关后经过15分钟以上，之后在入口开口(设置测定样品的部位)不进行任何设置来进行校正。之后在入口开口设置测定样品，测定总光线透射率和雾度。测定时的光入射面为透光性基材侧。
1-4.耐擦伤性
利用夹具将PET膜(东洋纺株式会社制造、商品名“Cosmoshine A4300”)的两端固定于学振磨耗试验机(SAM JEE TECH公司制造、商品名“SJTR-053”)的基座。设置钢丝绒#0000(Nippon Steel Wool Co.,Ltd.制造、商品名“BON STAR B-204”)并使其接触PET膜的表面，以移动速度100mm/秒、往返1次的移动距离200mm(单程移动距离100mm)一边施加500g载荷一边使钢丝绒往返200次。上述操作通常是为了抑制每个试验的偏差而进行的。钢丝绒与PET膜的接触面积为4cm2。
之后，取下PET膜，使低折射率层侧的表面为上表面，将实施例和比较例的防反射构件同样地固定于学振磨耗试验机的基座上，以移动速度100mm/秒、往返1次的移动距离200mm(单程移动距离100mm)一边施加载荷一边使钢丝绒往返10次。只要不特别记载，则试验环境设为温度23±1℃、相对湿度50±5％。上述BON STAR B-204为宽度：约390mm、长度：约75mm、厚度：约110mm的商业用尺寸。
之后，对于各防反射构件，在荧光灯的照明下肉眼进行观察，评价划痕数。荧光灯使用Panasonic公司的3波长荧光灯(型号：FHF32EX-N-H)。样品上的照度为800Lx以上1200Lx以下。观察距离为30cm。耐钢丝绒性以试验后未观察到划痕、划痕为0个时的单位面积的最大载荷(g)来表示。对于实施例和比较例，分别以n＝3进行试验，将其平均值作为各实施例和比较例的耐钢丝绒性。
2.防反射构件的制作
[实施例1]
在厚度80μm的三乙酰纤维素膜上涂布下述配方的硬涂层用涂布液1后，以70℃×1分钟的条件进行干燥，使溶剂挥发。接着，以累积光量100mJ/cm2进行紫外线照射，由此形成干燥厚度10μm的硬涂层。
接着，在硬涂层上涂布下述配方的高折射率层用涂布液1后，以70℃×1分钟的条件进行干燥，使溶剂挥发。接着，以累积光量100mJ/cm2进行紫外线照射，由此形成干燥厚度150nm的高折射率层。
接着，在高折射率层上涂布下述配方的低折射率层用涂布液1后，以50℃×30秒(干燥风速0.5m/s)的条件使其干燥，之后进一步以50℃×30秒(干燥风速5m/s)的条件进行干燥，由此使溶剂挥发。接着，以累积光量200mJ/cm2进行紫外线照射，由此形成干燥厚度100nm的低折射率层，得到实施例1的防反射构件。
<硬涂层用涂布液1>
·含紫外线固化型丙烯酸酯的组合物22质量份
(东亚合成株式会社制造、商品名“Aronix M-450”、固体成分100％)
·含紫外线固化型丙烯酸酯的组合物17质量份
(第一工业制药公司、商品名“New Frontier R-1403MB”、固体成分80％)
·氟系流平剂1质量份
(DIC公司、商品名“MEGAFACE F-568”)
·光聚合引发剂1质量份
(IGM Resins公司、商品名“Omnirad184”)
·甲基异丁基酮 15质量份
·甲基乙基酮44质量份
<高折射率层形成用涂布液1>
·PETA 1.5质量份
(东亚合成株式会社制造、商品名“Aronix M-305”、固体成分100％)
·高折射率颗粒4.5质量份
(日本触媒公司、商品名“ZIRCOSTAR”、固体成分70％)
·氟系流平剂0.01质量份
(DIC公司、商品名“MEGAFACE F251”)
·光聚合引发剂0.14质量份
(IGM Resins公司制造商品名“Omnirad127”)
·甲基异丁基酮 47.6质量份
·丙二醇单甲醚 47.6质量份
<低折射率层形成用涂布液1>
·多官能丙烯酸酯组合物100质量份
(第一工业制药株式会社制造、商品名“New Frontier MF-001”)
·中空二氧化硅颗粒200质量份
(平均一次粒径75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·实心二氧化硅颗粒110质量份
(平均一次粒径12.5nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·硅酮系流平剂13质量份
(信越化学公司、商品名“X-22-164E”)
·光聚合引发剂4.3质量份
(IGM Resins公司、商品名“Omnirad127”)
·溶剂14,867质量份
(甲基异丁基酮与1-甲氧基-2-丙基乙酸酯的混合溶剂。质量比＝68/32)
[实施例2]
将低折射率层用涂布液1变更为下述低折射率层用涂布液2，除此以外与实施例1同样地得到实施例2的防反射构件。
<低折射率层形成用涂布液2>
·多官能丙烯酸酯组合物100质量份
(第一工业制药株式会社制造、商品名“New Frontier MF-001”)
·中空二氧化硅颗粒200质量份
(平均一次粒径75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·实心二氧化硅颗粒85质量份
(平均一次粒径12.5nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·硅酮系流平剂13质量份
(信越化学公司、商品名“X-22-164E”)
·光聚合引发剂4.3质量份
(IGM Resins公司、商品名“Omnirad127”)
·溶剂14,867质量份
(甲基异丁基酮与1-甲氧基-2-丙基乙酸酯的混合溶剂。质量比＝68/32)
[实施例3]
将低折射率层用涂布液1的中空二氧化硅颗粒变更为平均一次粒径为60nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的中空二氧化硅颗粒，除此以外与实施例1同样地得到实施例3的防反射构件。
[实施例4]
将低折射率层用涂布液1的硅酮系流平剂变更为氟硅酮系流平剂(信越化学工业株式会社制造、商品名“X-71-1203M”、固体成分20质量％、溶剂：甲基异丁基酮)，除此以外与实施例1同样地得到实施例4的防反射构件。
[比较例1]
将低折射率层用涂布液1变更为下述的低折射率层用涂布液4，除此以外与实施例1同样地得到比较例1的防反射构件。
<低折射率层形成用涂布液4>
·PETA 10质量份
(日本化药株式会社制造、商品名“KAYARAD PET-30”、固体成分100％)
·拥有具有(甲基)丙烯酰基、反应性的硅烷单元以及具有全氟聚醚基的硅烷单元的含氟化合物90质量份
(信越化学工业株式会社制造、商品名“X-71-1203M”)、固体成分20质量％、溶剂：甲基异丁基酮)
·中空二氧化硅颗粒140质量份
(平均一次粒径75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·实心二氧化硅颗粒25质量份
(平均一次粒径12.5nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·光聚合引发剂4.3质量份
(IGM Resins公司、商品名“Omnirad127”)
·溶剂10,684质量份
(甲基异丁基酮与丙二醇单甲醚的混合溶剂。质量比＝68/32)
[比较例2]
将高折射率层用涂布液1变更为下述的高折射率层用涂布液2。进而，将低折射率层用涂布液1变更为下述的低折射率层用涂布液5，使涂布低折射率层时的干燥条件为50℃×1分钟(干燥风速5m/s)，除此以外与实施例1同样地得到比较例2的防反射构件。
<高折射率层形成用涂布液2>
·PETA 0.68质量份
(日本化药株式会社制造、商品名“KAYARAD PET-30”、固体成分100％)
·高折射率颗粒6.71质量份
(日挥触媒化成株式会社制造、商品名“ELCOM V-4564”(含有五氧化锑颗粒)、固体成分40.5％)
·氟系流平剂2.03质量份
(DIC株式会社制造、商品名“MEGAFACE F251”)
·光聚合引发剂0.05质量份
(IGM Resins公司制造、商品名“Omnirad127”)
·甲基异丁基酮 46.3质量份
·丙二醇单甲醚 44.23质量份
<低折射率层形成用涂布液5>
·PETA 50质量份
(日本化药株式会社制造、商品名“KAYARAD PET-30”、固体成分100％)
·拥有具有(甲基)丙烯酰基、反应性的硅烷单元以及具有全氟聚醚基的硅烷单元的含氟化合物50质量份
(信越化学工业株式会社制造、商品名“X-71-1203M”)、固体成分20质量％、溶剂：甲基异丁基酮)
·中空二氧化硅颗粒200质量份
(平均一次粒径65nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·实心二氧化硅颗粒30质量份
(平均一次粒径12.5nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·光聚合引发剂4.3质量份
(IGM Resins公司、商品名“Omnirad127”)
·溶剂12,870质量份
(甲基异丁基酮与1-甲氧基-2-丙基乙酸酯的混合溶剂。质量比＝89/11)
[比较例3]
将高折射率层用涂布液1变更为上述的高折射率层用涂布液2。进而，将低折射率层用涂布液1变更为下述的低折射率层用涂布液6，将涂布低折射率层时的干燥条件设为50℃×1分钟(干燥风速5m/s)，除此以外与实施例1同样地得到比较例3的防反射构件。
<低折射率层形成用涂布液6>
·PETA 70质量份
(日本化药株式会社制造、商品名“KAYARAD PET-30”、固体成分100％)
·拥有具有(甲基)丙烯酰基、反应性的硅烷单元以及具有全氟聚醚基的硅烷单元的含氟化合物30质量份
(信越化学工业株式会社制造、商品名“X-71-1203M”)、固体成分20质量％、溶剂：甲基异丁基酮)
·中空二氧化硅颗粒135质量份
(平均一次粒径75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·实心二氧化硅颗粒10质量份
(平均一次粒径12.5nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行了表面处理的颗粒)
·光聚合引发剂4.3质量份
(IGM Resins公司、商品名“Omnirad127”)
·溶剂9,746质量份
(甲基异丁基酮与1-甲氧基-2-丙基乙酸酯的混合溶剂。质量比＝89/11)
[比较例4]
将低折射率层用涂布液4的中空二氧化硅颗粒的含量变更为200质量份，除此以外与比较例1同样地得到比较例4的防反射构件。
[表1]
表1
Figure BDA0004113350120000371
由表1的结果可以确认，满足条件1的实施例的防反射构件尽管包含强度弱的中空颗粒，但耐擦伤性良好。
实施例1～4的防反射构件中，实心二氧化硅相对于中空二氧化硅的含量多，低折射率层的初期干燥慢，因此认为容易满足条件1。
另一方面，比较例1和比较例4的防反射构件中，作为低折射率层的粘结剂树脂，丙烯酸酯树脂少，实心二氧化硅的含量少，因此认为难以满足条件1。比较例2和比较例3的防反射构件由于实心二氧化硅的含量少，低折射率层的初期干燥快，因此认为难以满足条件1。
符号说明
10：透光性基材
20：硬涂层
30：高折射率层
40：低折射率层
41：粘结剂树脂
42：中空颗粒
100：防反射构件
110：显示元件
120：图像显示装置

Claims (12)

1.一种防反射构件，其为在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层的防反射构件，其满足下述条件1，
<条件1>
以所述透光性基材为基准在具有所述低折射率层的一侧的所述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度，在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将所述总和标准化为1，将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
2.如权利要求1所述的防反射构件，其中，在所述条件1下，P1显示出0.025以上。
3.如权利要求1或2所述的防反射构件，其进一步满足下述条件2，
<条件2>
与所述条件1同样地，计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将所述总和标准化为1，将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长0.075μm下的标高的功率谱强度定义为P2时，P1/P2显示出4.0以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的防反射构件，其中，所述中空颗粒的平均一次粒径为50nm以上100nm以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的防反射构件，其中，在所述透光性基材与所述低折射率层之间具有选自硬涂层和高折射率层中的1种以上的层。
6.如权利要求1～5中任一项所述的防反射构件，其中，JIS K7136：2000的雾度为1.0％以下。
7.如权利要求1～6中任一项所述的防反射构件，其中，以所述透光性基材为基准从具有所述低折射率层的一侧以5度的光入射角测定的光反射率Y值为1.0％以下。
8.一种偏振片，该偏振片具有：偏振元件；配置于所述偏振元件的一侧的第一透明保护板；和配置于所述偏振元件的另一侧的第二透明保护板，其中，所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的任一者为权利要求1～7中任一项所述的防反射构件，并且，按照所述透光性基材侧的面朝向所述偏振元件侧的方式配置所述防反射构件。
9.一种图像显示装置，其中，在显示元件上，配置为权利要求1～7中任一项所述的防反射构件的所述低折射率层侧的面朝向与所述显示元件相反的一侧，并且将所述防反射构件配置于最表面。
10.一种防反射性物品，其中，在构件上，配置为权利要求1～7中任一项所述的防反射构件的所述低折射率层侧的面朝向与所述构件相反的一侧，并且将所述防反射构件配置于最表面。
11.一种防反射构件的选定方法，该防反射构件的选定方法对在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层的防反射构件实施下述条件1的评价，选定满足下述条件1的防反射构件，
<条件1>
以所述透光性基材为基准在具有所述低折射率层的一侧的所述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度，在计算出全部测定波长的标高的功率谱强度的总和后，将所述总和标准化为1，将相对于标准化为1的标高的功率谱强度的总和的、波长1.25μm下的标高的功率谱强度定义为P1时，P1显示出0.015以上。
12.如权利要求11所述的防反射构件的选定方法，其中，在所述条件1中，P1显示出0.025以上。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6011527B2 (ja) 1977-08-05 1985-03-26 三菱電機株式会社 相分離母線接続箱
JP2007078711A (ja) 2005-09-09 2007-03-29 Asahi Kasei Corp 反射防止膜
JP2008268357A (ja) * 2007-04-17 2008-11-06 Fujifilm Corp 反射防止フィルム
KR101725585B1 (ko) * 2011-05-16 2017-04-10 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP6167480B2 (ja) * 2012-07-09 2017-07-26 大日本印刷株式会社 光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置
CN109298470B (zh) 2016-03-09 2021-02-02 株式会社Lg化学 抗反射膜
JP7128571B2 (ja) * 2017-02-07 2022-08-31 大日本印刷株式会社 低屈折率層用組成物
KR20200103803A (ko) * 2018-01-12 2020-09-02 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체, 편광판, 디스플레이 패널 및 화상 표시 장치

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