JP7138892B2 - 反射防止フィルム - Google Patents
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Description
本出願は、2017年4月28日付の韓国特許出願第10-2017-0055672号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
前記Xは、水素、炭素数1~6の脂肪族炭化水素由来の1価の残基、炭素数1~6のアルコキシ基、および炭素数1~4のアルコキシカルボニル基のうちのいずれか1つであり、
前記Yは、単一結合、-CO-、または-COO-であり、
R2は、炭素数1~20の脂肪族炭化水素由来の2価の残基であるか、あるいは前記2価の残基の1つ以上の水素が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、またはエポキシ基で置換された2価の残基であるか、あるいは前記2価の残基の1つ以上の-CH2-が、酸素原子が直接連結されないように、-O-、-CO-O-、-O-CO-、または-O-CO-O-に代替された2価の残基であり、
Aは、水素および炭素数1~6の脂肪族炭化水素由来の1価の残基のうちのいずれか1つであり、Bは、炭素数1~6の脂肪族炭化水素由来の1価の残基のうちのいずれか1つであり、nは、0~2の整数である。
<製造例:ハードコートフィルムの製造>
KYOEISHA社の塩タイプの帯電防止ハードコート液(固形分50重量%、製品名:LJD-1000)をトリアセチルセルロースフィルムに#10mayer barでコーティングし、90℃で1分乾燥した後、150mJ/cm2の紫外線を照射して、約5~6μmの厚さを有するハードコートフィルムを製造した。
実施例1
(1)低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)100重量部に対して、中空状シリカナノ粒子(直径範囲:約44nm~61nm、JSC catalyst and chemicals社製品)281重量部、ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約12.7nm~17nm)63重量部、第1含フッ素化合物(X-71-1203M、ShinEtsu社)131重量部、第2含フッ素化合物(RS-537、DIC社)19重量部、開始剤(Irgacure127、Ciba社)31重量部を、MIBK(methyl isobutyl ketone)溶媒に固形分濃度3重量%となるように希釈した。
前記製造例のハードコートフィルム上に、前記得られた光硬化性コーティング組成物を#4mayer barで厚さが約110~120nmとなるようにコーティングし、下記表1の温度および時間で乾燥および硬化して低屈折層を形成し、反射防止フィルムを製造した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に252mJ/cm2の紫外線を照射した。
(1)低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)100重量部に対して、中空状シリカナノ粒子(直径範囲:約42nm~66nm、JSC catalyst and chemicals社製品)283重量部、ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約12nm~19nm)59重量部、第1含フッ素化合物(X-71-1203M、ShinEtsu社)115重量部、第2含フッ素化合物(RS-537、DIC社)15.5重量部、開始剤(Irgacure127、Ciba社)10重量部を、MIBK(methyl isobutyl ketone)溶媒に固形分濃度3重量%となるように希釈した。
前記製造例のハードコートフィルム上に、前記得られた光硬化性コーティング組成物を#4mayer barで厚さが約110~120nmとなるようにコーティングし、下記表1の温度および時間で乾燥および硬化して低屈折層を形成し、反射防止フィルムを製造した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に252mJ/cm2の紫外線を照射した。
(1)低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)100重量部に対して、中空状シリカナノ粒子(直径範囲:約43nm~71nm、JSC catalyst and chemicals社製品)281重量部、ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約18nm~23nm)63重量部、第1含フッ素化合物(X-71-1203M、ShinEtsu社)111重量部、第2含フッ素化合物(RS-537、DIC社)30重量部、開始剤(Irgacure127、Ciba社)23重量部を、MIBK(methyl isobutyl ketone)溶媒に固形分濃度3重量%となるように希釈した。
前記製造例1のハードコートフィルム上に、前記得られた光硬化性コーティング組成物を#4mayer barで厚さが約110~120nmとなるようにコーティングし、下記表1の温度および時間で乾燥および硬化して低屈折層を形成し、反射防止フィルムを製造した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に252mJ/cm2の紫外線を照射した。
(1)低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)100重量部に対して、中空状シリカナノ粒子(直径範囲:約38nm~82nm、JSC catalyst and chemicals社製品)264重量部、ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約15nm~19nm)60重量部、第1含フッ素化合物(X-71-1203M、ShinEtsu社)100重量部、第2含フッ素化合物(RS-537、DIC社)50重量部、開始剤(Irgacure127、Ciba社)30重量部を、MIBK(methyl isobutyl ketone)溶媒に固形分濃度3重量%となるように希釈した。
前記製造例のハードコートフィルム上に、前記得られた光硬化性コーティング組成物を#4mayer barで厚さが約110~120nmとなるようにコーティングし、下記表1の温度および時間で乾燥および硬化して低屈折層を形成し、反射防止フィルムを製造した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に252mJ/cm2の紫外線を照射した。
(1)ハードコート層(HD2)の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート30g、高分子量共重合体(BEAMSET371、Arakawa社、Epoxy Acrylate、分子量40,000)2.5g、メチルエチルケトン20g、およびレベリング剤(Tego wet270)0.5gを均一に混合した後に、屈折率が1.525の微粒子としてアクリル-スチレン共重合体(体積平均粒径:2μm、製造会社:Sekisui Plastic)2gを添加して、ハードコート組成物を製造した。
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)100重量部に対して、中空状シリカナノ粒子(直径範囲:約40nm~68nm、JSC catalyst and chemicals社製品)283重量部、ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約14nm~17nm)59重量部、第1含フッ素化合物(X-71-1203M、ShinEtsu社)115重量部、第2含フッ素化合物(RS-537、DIC社)15.5重量部、開始剤(Irgacure127、Ciba社)10重量部を、MIBK(methyl isobutyl ketone)溶媒に固形分濃度3重量%となるように希釈して、低屈折層製造用光硬化性コーティング組成物を製造した。
比較例1
ソリッド状シリカナノ粒子を用いない点を除けば、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約38nm~67nm)を用いた点を除けば、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
ソリッド状シリカナノ粒子(直径範囲:約90nm~127nm)を用いた点を除けば、実施例3と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、次の項目の実験を行った。
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムが可視光線領域(380~780nm)で現れる平均反射率を、Solidspec3700(SHIMADZU)装備を用いて測定した。
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面に黒ネームペンで5cmの長さの直線を描き、無塵布を用いて擦った時の消される回数を確認して、防汚性を測定した。
O:消された時点が10回以下
△:消された時点が11回~20回
X:消された時点が20回超過であるか、消されていない
前記スチールウールに荷重をかけて27rpmの速度で10回往復し、実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される1cm以下のスクラッチ1個以下が観察される最大荷重を測定した。
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面にTACフィルムを載せて400gの荷重を加えた状態で、18cm/minの試験速度で計10cmの試験距離に対して摩擦力を測定して、これに関するグラフを得た。具体的には、摩擦力測定グラフはFriction Tester(FP-2260、Thwing-Albert Instrument Company社製造)を用いて、前記反射防止フィルムの表面にTACフィルムを接触させた状態で、400gの荷重を有するsledを載せた後、前記sledを18cm/minの試験速度で計10cm試験距離だけ引きながら測定されたものである。この後、得られた摩擦力測定グラフで動的試験距離区間での平均摩擦力、最大摩擦力および最小摩擦力を求めた後、前記平均摩擦力と前記最大摩擦力または最小摩擦力との差の絶対値のうち最大値を最大振幅(A)と定義した。この時、静的試験距離は試験距離3cmまでの区間であり、動的試験距離は試験距離3cmから10cmまでの区間に相当する。
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの低屈折層内にハードコート層との界面に近く位置し、ソリッド状無機ナノ粒子が主に分布する第1層と、前記ハードコート層との界面の反対側に位置し、中空状無機ナノ粒子が主に分布する第2層とが存在することを透過電子顕微鏡で確認した後、前記第1層および第2層それぞれに対して、楕円偏光法(ellipsometry)で測定した偏極の楕円率をコーシーモデル(Cauchy model)で最適化(fitting)してコーシーパラメータA、BおよびCを測定し、これに基づき、上述した一般式1により550nm波長での屈折率を計算した。
Claims (22)
- ハードコート層;およびバインダー樹脂と該バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層;を含み、
前記バインダー樹脂は、(メタ)アクリレートを含む単量体またはオリゴマーを含む光重合性化合物の(共)重合体を含み、
前記光重合性化合物の(共)重合体100重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子を264~400重量部および前記ソリッド状無機ナノ粒子を10~400重量部で含み、
前記中空状無機ナノ粒子の平均粒径に対する前記ソリッド状無機ナノ粒子の平均粒径の比率が0.15~0.55であり、
前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の70体積%以上が含まれている第1層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の70体積%以上が含まれている第2層とを含み、
前記第1層が第2層に比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面により近く位置し、
表面に400gの荷重を付加して測定したTACフィルムとの摩擦力測定グラフで、最大振幅(A)が平均摩擦力(N)(Average friction force)基準0.1N以下であり、
前記最大振幅(A)は、前記摩擦力測定グラフの動的試験距離(Kinetic test distance)区間での平均摩擦力、最大摩擦力、および最小摩擦力を求めた後、前記平均摩擦力と前記最大摩擦力との間の差、および前記平均摩擦力と前記最小摩擦力との間の差の絶対値のうち最大値であり、
ただし、前記低屈折層が、導電性高屈折率粒子を含む場合を除く、反射防止フィルム。 - 前記反射防止フィルムは、380nm~780nmの可視光線波長帯領域で0.7%以下の平均反射率を示す、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記中空状無機ナノ粒子の平均粒径に対する前記ソリッド状無機ナノ粒子の平均粒径の比率が0.26~0.55である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記中空状無機ナノ粒子の平均粒径に対する前記ソリッド状無機ナノ粒子の平均粒径の比率が0.26~0.40である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記中空状無機ナノ粒子の平均粒径が40nm~100nmの範囲以内である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記中空状無機ナノ粒子の粒径が10nm~200nmの範囲以内である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ソリッド状無機ナノ粒子の平均粒径が1nm~30nmの範囲以内である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ソリッド状無機ナノ粒子の粒径が0.1nm~100nmの範囲以内である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの50%以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の70体積%以上が存在する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記中空状無機ナノ粒子全体中の30体積%以上が前記ソリッド状無機ナノ粒子全体より前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層の厚さ方向により遠い距離に存在する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの50%を超える地点から前記界面と対向する低屈折層の他の一面までの領域に、前記中空状無機ナノ粒子全体中の30体積%以上が存在する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの30%以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の70体積%以上が存在する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの30%を超える地点から前記界面と対向する低屈折層の他の一面までの領域に、前記中空状無機ナノ粒子全体中の70体積%以上が存在する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面にヒドロキシ基、(メタ)アクリレート基、エポキシド基、ビニル基(Vinyl)、およびチオール基(Thiol)からなる群より選択された1種以上の反応性官能基を含有する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記低屈折層に含まれるバインダー樹脂は、光重合性化合物の(共)重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋(共)重合体を含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記低屈折層は、ビニル基および(メタ)アクリレート基からなる群より選択された1種以上の反応性官能基を1以上含むシラン系化合物をさらに含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ビニル基および(メタ)アクリレート基からなる群より選択された1種以上の反応性官能基を1以上含むシラン系化合物は、下記化学式11~14の化合物のうちのいずれか1つである、請求項17に記載の反射防止フィルム:
前記Xは、水素、炭素数1~6の脂肪族炭化水素由来の1価の残基、炭素数1~6のアルコキシ基、および炭素数1~4のアルコキシカルボニル基のうちのいずれか1つであり、
前記Yは、単一結合、-CO-、または-COO-であり、
R2は、炭素数1~20の脂肪族炭化水素由来の2価の残基であるか、あるいは前記2価の残基の1つ以上の水素が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、またはエポキシ基で置換された2価の残基であるか、あるいは前記2価の残基の1つ以上の-CH2-が、酸素原子が直接連結されないように、-O-、-CO-O-、-O-CO-、または-O-CO-O-に代替された2価の残基であり、
Aは、水素および炭素数1~6の脂肪族炭化水素由来の1価の残基のうちのいずれか1つであり、Bは、炭素数1~6の脂肪族炭化水素由来の1価の残基のうちのいずれか1つであり、nは、0~2の整数である。 - 前記ビニル基および(メタ)アクリレート基からなる群より選択された1種以上の反応性官能基を1以上含むシラン系化合物は、前記反応性官能基を100~1,000g/molの当量で含有する、請求項17に記載の反射防止フィルム。
- 前記ビニル基および(メタ)アクリレート基からなる群より選択された1種以上の反応性官能基を1以上含むシラン系化合物は、100~5,000の重量平均分子量を有する、請求項17に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層は、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子;を含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記有機微粒子は、1~10μmの粒径を有し、
前記無機微粒子は、1nm~500nmの粒径を有する、請求項21に記載の反射防止フィルム。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012147527A1 (ja) | 2011-04-26 | 2012-11-01 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JP2015232614A (ja) | 2014-06-09 | 2015-12-24 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム及びディスプレイ |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6447712B1 (en) * | 1998-12-28 | 2002-09-10 | University Of Washington | Method for sintering ceramic tapes |
JP4046921B2 (ja) | 2000-02-24 | 2008-02-13 | 触媒化成工業株式会社 | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 |
KR100906596B1 (ko) * | 2001-04-10 | 2009-07-09 | 후지필름 가부시키가이샤 | 반사방지 필름, 편광판, 및 이미지 디스플레이용 장치 |
JP2003054996A (ja) | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 反射抑制膜およびこれを備えた透明基体 |
US7138185B2 (en) * | 2002-07-05 | 2006-11-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film, polarizing plate and display device |
JP2004043214A (ja) | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 押出成形組成物用バインダー、押出成形組成物及び押出成形物硬化体 |
CN1806158A (zh) | 2003-06-13 | 2006-07-19 | 株式会社荏原制作所 | 测量设备 |
JP2005082762A (ja) | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Konica Minolta Opto Inc | セルロースエステルフィルム及びその製造方法 |
TWI388876B (zh) | 2003-12-26 | 2013-03-11 | Fujifilm Corp | 抗反射膜、偏光板,其製造方法,液晶顯示元件,液晶顯示裝置,及影像顯示裝置 |
US7419707B2 (en) * | 2005-02-21 | 2008-09-02 | Fujifilm Corporation | Coating composition for the formation of low refractive index layer, antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2006251665A (ja) | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学フイルム、偏光板、及びそれらを用いた画像表示装置 |
JP5167812B2 (ja) | 2005-07-15 | 2013-03-21 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | 光学フィルムの処理方法、光学フィルムの処理装置及び光学フィルムの製造方法 |
US7505104B2 (en) | 2005-09-16 | 2009-03-17 | Fujifilm Corporation | Antiglare antireflective film, polarizing plate and liquid crystal display |
JP5175468B2 (ja) | 2005-11-04 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
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JP5049628B2 (ja) | 2006-03-30 | 2012-10-17 | 富士フイルム株式会社 | 塗布組成物、光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法 |
JP5032785B2 (ja) | 2006-03-31 | 2012-09-26 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止積層体及びその製造方法 |
US20080032053A1 (en) * | 2006-08-04 | 2008-02-07 | Kostantinos Kourtakis | Low refractive index composition |
WO2008023502A1 (fr) * | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | Film optique, procédé de fabrication de celui-ci et plaque polarisante utilisant le film optique |
JP2008058348A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Toray Ind Inc | 偏光子保護フィルム |
JP2008069267A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Konica Minolta Holdings Inc | セルロースエステルフィルム |
JP2008096701A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Seiko Epson Corp | 光学物品 |
JP5114438B2 (ja) * | 2008-02-13 | 2013-01-09 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置 |
JP2009244382A (ja) | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Sharp Corp | 機能性フィルム及び表示装置 |
KR20090118724A (ko) | 2008-05-14 | 2009-11-18 | 도레이새한 주식회사 | 내찰상성 및 표면 슬립성이 우수한 반사방지필름 |
JP2010152311A (ja) | 2008-07-22 | 2010-07-08 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
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CN102483469B (zh) * | 2009-09-18 | 2014-08-27 | 东丽株式会社 | 防反射部件、和防反射部件的制造方法 |
JP5522720B2 (ja) * | 2009-10-07 | 2014-06-18 | 日東電工株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置、ならびに防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
WO2011046149A1 (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-21 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム及びディスプレイパネル |
JP2011088787A (ja) | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止膜用組成物、反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜付き基材 |
KR101256552B1 (ko) * | 2010-07-08 | 2013-04-19 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 |
JP4854098B1 (ja) | 2010-08-10 | 2012-01-11 | 孝司 成澤 | 成膜方法およびそれを用いた成膜装置 |
TWI515271B (zh) * | 2011-01-14 | 2016-01-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device |
CN103765249B (zh) | 2011-05-16 | 2015-11-25 | 大日本印刷株式会社 | 防反射膜的制造方法、防反射膜、偏振板及图像显示装置 |
KR101226229B1 (ko) | 2011-08-26 | 2013-01-28 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 |
EP2749607B1 (en) | 2011-08-26 | 2019-04-17 | LG Chem, Ltd. | Composition for anti-glare coating and anti-glare film manufactured by using same |
JP5712100B2 (ja) | 2011-09-29 | 2015-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物 |
US20140308529A1 (en) | 2011-10-06 | 2014-10-16 | Solvay Sa | Coating Composition And Antireflective Coating Prepared Therefrom |
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JP5914440B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2013178534A (ja) | 2013-04-05 | 2013-09-09 | Nitto Denko Corp | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 |
JP6199605B2 (ja) * | 2013-05-27 | 2017-09-20 | 日東電工株式会社 | ハードコートフィルム及びハードコートフィルム巻回体 |
JP6354124B2 (ja) | 2013-06-24 | 2018-07-11 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルム |
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JP2015108733A (ja) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法 |
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