CN115702368A - 防反射基材 - Google Patents

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Abstract

根据本发明能够提供一种防反射基材，其为将下述(A)、(B)、(C)和(D)层依次叠层而成的防反射基材，其中，(A)基材层、(B)硬涂层、(C)光吸收层、和(D)低折射率层，其为将含有活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物的低折射率树脂组合物通过活化能量射线固化而成的层，上述(C)光吸收层的膜厚为1～20nm。

Description

防反射基材
技术领域
本发明涉及防反射基材，特别是涉及一种视感反射率低、防污性优异的防反射基材。
背景技术
在智能手机、车载导航、游戏机等的显示器用途中，为了防止外光映入而使用具有防反射功能的材料。
防反射材料通常使用光学干涉技术。光学干涉通常使用膜厚比可视光的波长更薄的光学薄膜。特别是为了实现视感反射率为1.0％以下的超低反射，需要涂布多层光学薄膜，例如已知在密合层上具有Nb2O5－SiO2－Nb2O5－SiO2这样的4层结构的防反射膜(专利文献1、2)。然而，为了形成这样的多层膜需要多个成膜装置，因此存在高成本的问题。此外，为了用于显示器，还需要防污功能，因此需要在最外表层设置防污层。
另一方面，作为减少膜数并且降低视感反射率的方法，已知有使用光吸收层的方法(专利文献3、4)。作为光吸收层，能够使用氮化钛、氮化锆、金、银、铜等，优选使用折射率n为负的波长分散、且消光系数k具有正的波长分散的物质。通过在这些光吸收层上形成SiO2这样的低折射率的膜，即使是2层涂布也能够实现低视感反射率。然而，即使是该方法，在用于显示器时仍需要防污功能，因此需要在最外表层设置防污层。
作为在光吸收层上设置防污层的方法，已知有在光吸收层上涂布有机硅烷和氟的方法(专利文献5)。但该方法是热固化，存在生产率低、为了实现稳定的物性不得不进行长时间加热的问题。
为了提高防反射性能，低折射率层优选为低折射率。然而，通常能够使用的材料SiO2的折射率高达1.46，难以实现充分的防反射性能。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2019－35969
专利文献2：日本特开2018－8431
专利文献3：日本特开平10－96801
专利文献4：日本特开平9－73001
专利文献5：日本特开2002－341107
发明内容
发明要解决的技术问题
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种通过少的工序和层数来实现低视感反射率和防污性的防反射基材。
用于解决技术问题的技术方案
本发明的发明人为了解决上述技术问题进行深入研究，结果发现，通过以下的本发明能够解决上述技术问题。即，本发明如下。
＜1＞一种防反射基材，其为将下述(A)、(B)、(C)和(D)层依次叠层而成的防反射基材，其中，
(A)基材层、
(B)硬涂层、
(C)光吸收层、和
(D)低折射率层，其为将含有活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物的低折射率树脂组合物通过活化能量射线固化而成的层，
上述(C)光吸收层的膜厚为1～20nm。
＜2＞如上述＜1＞所述的防反射基材，其中，上述(C)光吸收层为由选自氮化钛、钛酸氮化物、氮化锆、金、银和铜中的至少一种形成的层。
＜3＞如上述＜1＞或＜2＞所述的防反射基材，其中，上述(C)光吸收层的膜厚为2～15nm。
＜4＞如上述＜1＞～＜3＞中任一项所述的防反射基材，其中，上述(D)低折射率层中的活化能量射线固化型树脂含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯成分。
＜5＞如上述＜1＞～＜4＞中任一项所述的防反射基材，其中，上述(D)低折射率层中的氟系化合物含有全氟聚醚键。
＜6＞如上述＜1＞～＜5＞中任一项所述的防反射基材，其中，上述(D)低折射率层的波长550nm时的折射率为1.45以下。
＜7＞如上述＜1＞～＜6＞中任一项所述的防反射基材，其中，视感反射率为1.0％以下。
＜8＞如上述＜1＞～＜7＞中任一项所述的防反射基材，其中，不含防污层。
发明的效果
通过采用本发明的方案，不需要另外进行防污涂敷，能够制造赋予了防污性的防反射基材。本发明的防反射基材具有视感反射率低的优点。
具体实施方式
以下，例示制造例和实施例等对本发明进行详细说明，但本发明不限于所例示的制造例和实施例等，只要在不显著脱离本发明内容的范围内，能够变更为任意方法进行。
[基材层]
本发明中，对于构成基材层的材料没有特别限制，能够使用玻璃基材、金属基材或塑料基材。特别是关于塑料基材，构成其的化合物的种类多种多样，能够用于各种区域。
作为塑料基材，优选包含热塑性树脂。关于热塑性树脂的种类没有特别限定，可以列举聚碳酸酯(PC)树脂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三乙酰纤维素(TAC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亚胺(PI)、环烯烃共聚物(COC)、含降冰片烯树脂、聚醚砜、赛璐玢、芳香族聚酰胺等。
作为基材层所含的聚碳酸酯树脂，只要是在分子主链中包含碳酸酯键的含－[O－R－OCO]－单元(R为脂肪族基、芳香族基、或包括脂肪族基和芳香族基双方的基团，而且具有直链结构或支链结构)的树脂就没有特别限定，优选具有双酚骨架的聚碳酸酯等，特别优选具有双酚A骨架或双酚C骨架的聚碳酸酯。作为聚碳酸酯树脂，可以使用双酚A和双酚C的混合物或共聚物。通过使用双酚C系的聚碳酸酯树脂例如仅双酚C的聚碳酸酯树脂、双酚C与双酚A的混合物或共聚物的聚碳酸酯树脂，能够提高基材层的硬度。
此外，聚碳酸酯树脂的粘均分子量优选为15,000～40,000，更优选为20,000～35,000，更加优选为22,500～25,000。
另外，作为基材层所含的丙烯酸树脂，没有特别限定，例如可以列举以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)为代表的各种(甲基)丙烯酸酯的均聚物、或者PMMA或MMA与其他1种以上单体的共聚物、以及这些树脂的多种混合得到的树脂。这些之中，优选低双折射性、低吸湿性、耐热性优异的含环状烷基结构的(甲基)丙烯酸酯。作为如上述的(甲基)丙烯酸树脂的制品例，有ACRYPET(三菱丽阳株式会社制)、DELPET(旭化成化学株式会社制)、PARAPET(KURARAY株式会社制)等，但不限定于这些。
也可以使用包含聚碳酸酯树脂和上述丙烯酸树脂的两层品。通过使用包含聚碳酸酯树脂和上述丙烯酸树脂的两层品，能够提高表面硬度，并且维持基材层的热成形性。
此外，基材层中作为热塑性树脂以外的成分也可以包含添加剂。例如为选自热稳定剂、抗氧化剂、阻燃剂、阻燃助剂、紫外线吸收剂、脱模剂和着色剂中的至少1种添加剂等。此外，也可以在基材层中添加抗静电剂、荧光增白剂、防雾剂、流动性改良剂、增塑剂、分散剂、抗菌剂等。
[硬涂层]
本发明中，在基材层上设置硬涂层。例如，能够使用在构成基材层的热塑性树脂上实施硬涂得到的材料。作为硬涂层的形成方法，能够采用将含有活化能量射线固化型树脂的硬涂组合物进行涂布、干燥后，利用活化能量射线使其固化的方法；将含有热固化性化合物的热固化性组合物进行涂布、干燥后，通过加热使其固化的方法。这些之中，优选将含有活化能量射线固化型树脂的硬涂组合物进行涂布、干燥后，利用活化能量射线使其固化的方法。
活化能量射线固化型树脂只要是含有具备活化能量射线固化性的官能团的化合物，就均能够使用，优选为含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯成分的树脂。聚氨酯(甲基)丙烯酸酯含有包含来自多元醇、异氰酸酯和(甲基)丙烯酸酯的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、和(甲基)丙烯酸酯的树脂材料的聚合物。即，优选为多元醇、异氰酸酯和(甲基)丙烯酸酯这三成分发生脱水缩合反应得到的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯与(甲基)丙烯酸酯的混合物。
硬涂组合物中能够添加用于改善物性的添加剂。例如，能够使用能够赋予防污性、滑动性的氟系添加物、有机硅系添加物，用于改善耐擦伤性的无机颗粒成分等。
[光吸收层]
本发明中，在硬涂层上设置光吸收层。作为构成光吸收层的材料，能够使用金、银、铜、镍、铬、锡、钯这样的金属和它们的合金、氮化钛、氮化锆、氮化铪、氮化硅、氮化铝、钛酸氮化物这样的金属氮化物、氧化铁、氧化铬、氧化镍这样的金属氧化物。这些之中，优选使用选自氮化钛、钛酸氮化物、氮化锆、金、银和铜中的至少一种。通过使用它们，能够在宽的波长范围内实现低视感反射率。
光吸收层的成膜优选通过Dry制膜来实施。作为Dry制膜的方法，能够使用CVD、PVD，但通常使用PVD。作为PVD的方法，广泛使用蒸镀、溅射。蒸镀、溅射的装置由ULVAC公司、SHINCRON公司、OPTORUN公司等多个装置制造商销售。
作为光吸收层的膜厚，优选1～40nm，更优选1～20nm，更加优选2～20nm，进一步优选2～15nm，特别优选3～10nm。膜厚过薄时反射率降低效果差，而过厚时有时会成为透射率显著降低的原因。在本发明中，作为光吸收层的膜厚测定方法，能够采用后述实施例所记载的方法。
在光吸收层与硬涂层之间也能够设置密合层。作为密合层，可以设置例如SiO2、SiOx、SiNx、Al2O3、AlOx、AlNx等。这些密合层通过Dry制膜实施，通常使用蒸镀、溅射。
密合层的膜厚优选1～10nm，更优选2～5nm。密合层过薄时密合效果差，过厚时有时会对光学性能带来影响。
[低折射率层]
本发明中，在光吸收层上设置低折射率层。本发明中的低折射率层是将含有活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物的低折射率树脂组合物通过活化能量射线固化而成的层。在本发明中，低折射率树脂组合物中，在活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅、氟系化合物之外，优选还含有有机硅系化合物、光聚合引发剂。
活化能量射线固化型树脂只要是含有具备活化能量射线固化能力的官能团的化合物，就均能够使用，优选为含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯成分的树脂。聚氨酯(甲基)丙烯酸酯含有包含来自多元醇、异氰酸酯和(甲基)丙烯酸酯的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、和(甲基)丙烯酸酯的树脂材料的聚合物。即，优选为多元醇、异氰酸酯和(甲基)丙烯酸酯的三成分发生脱水缩合反应得到的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯与(甲基)丙烯酸酯的混合物。
中空二氧化硅的特征在于二氧化硅的内部是空气，且折射率低。作为中空二氧化硅，例如市售有日挥触媒化成公司的THRULYA(商品名)，但不限于此。
中空二氧化硅优选以活化能量射线固化型树脂/中空二氧化硅＝90/10～10/90(质量％)的比例混合，更优选以80/20～20/80(质量％)的比例混合。中空二氧化硅的含量过多时，耐擦伤性降低，过少时，折射率变高，有时无法得到充分的防反射性能。
氟系化合物优选使用具有全氟聚醚键的化合物。这些化合物能够使用合成品，但也能够容易地获取市售品。例如，能够使用DIC公司的MEGAFACE RS系列、信越化学株式会社的KY系列、大金工业株式会社的OPTOOL系列等。
氟系化合物的含量在低折射率树脂组合物中优选为1～30质量％，更优选为5～20质量％。
有机硅系化合物优选使用具有聚烷基硅氧烷键的化合物。这些化合物能够使用合成品，但也能够容易地获取市售品。例如，能够使用信越有机硅公司的KP系列、BYK－CHEMIEJAPAN公司的BYK系列、EVONIK公司的TEGO Glide系列等。
关于氟化合物和有机硅系化合物，也能够将它们混合使用。
此外，低折射率树脂组合物具有活化能量射线固化性，更优选具有紫外线固化性。因此，低折射率树脂组合物优选包含光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，优选使用IGMResins B.V.公司制的Omnirad 184(以往是BASF公司制的IRGACURE 184)(1－羟基－环己基－苯基－酮)、Omnirad 1173(旧IRGACURE 1173)(2－羟基－2－甲基－1－苯基－丙烷－1－酮)、Omnirad TPO H(旧IRGACURE TPO)(2,4,6－三甲基苯甲酰－二苯基－氧化膦)、Omnirad 819(旧IRGACURE 819)(双(2,4,6－三甲基苯甲酰)－苯基氧化膦)、Lamberti公司制的EsacureONE(低聚(2－羟基－2－甲基－1－[4－(1－甲基乙烯基)苯基]丙酮)等。
活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物(以及优选添加的有机硅系化合物、光聚合引发剂)的混合物通常利用有机溶剂稀释后使用。作为有机溶剂，可以列举例如甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、乙基溶纤剂乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、二丙酮醇、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、己烷、庚烷、辛烷、癸烷、十二烷、丙二醇单甲醚、3－甲氧基丁醇等。
有机溶剂优选以低折射率树脂组合物中的固体成分达到0.5～10质量％的方式使用，更优选达到1～5质量％的方式使用。有机溶剂的使用量过多时，膜厚的控制变得困难，过少时，有时会成为外观变差的原因。
例如，将活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅、氟系化合物和光聚合引发剂的混合物利用有机溶剂稀释，以规定方法进行涂布后，使有机溶剂干燥，然后通过活化能量射线使其固化，由此能够形成低折射率层。在将有机溶剂干燥的过程中，表面自由能量小的氟系化合物析出至表层，因此即使不特意形成防污层，也能够显现防污功能。
涂布能够通过常规方法实施。例如能够通过棒涂器、旋涂机、凹版涂布、逗号涂布、模涂器等实施。
将低折射率树脂组合物用有机溶剂稀释，涂布后干燥，利用活化能量射线使其固化，由此能够得到低折射率层。作为活化能量射线，能够使用紫外线、近紫外线、可视光线等，但这些之中，紫外线最为常规使用。
低折射率层的550nm时的折射率优选为1.45以下，更优选为1.42以下，更加优选为1.40以下。折射率越低，防反射性能越提高。此外，折射率越低，越能够使光吸收层变薄，因此透射率提高。在本发明中，折射率的测定方法能够采用后述实施例中记载的方法。
本发明的防反射基材优选视感反射率为1.0％以下，更优选0.9％以下，特别优选0.8％以下。视感反射率为1.0％以下时，提高视觉辨认性的效果良好，因而优选。在本发明中，视感反射率的测定方法能够采用后述实施例中记载的方法。
本发明的防反射基材的透射率优选为50％以上，更优选70％以上。透射率在上述范围内时外观良好，因而优选。在本发明中，透光率的测定方法能够采用后述实施例中记载的方法。
实施例
以下，示出实施例对本发明进行更具体的说明。但是，本发明不限于以下实施例，在不脱离本发明宗旨的范围内，能够进行任意变更后实施。
＜反射率(视感反射率)＞
使用日本电色工业株式会社制的SD6000，依照JIS Z 8722－2009测定。测定时，为了防止来自各实施例的膜的背面(基材层侧)的反射，对涂布面的相反面进行喷黑处理后，测定反射率。具体而言，在由国际照明委员会(CIE)定义的标准光源D65的光源下，通过将正反射光和扩散反射光一起测定的SCI方式测定反射率。利用这样测定的反射率，计算作为JIS Z8701所规定的反射刺激值Y的视感反射率。
＜透射率＞
使用日立高新技术有限公司制的分光光度计U－4100，测定对于波长550nm的光的透射率。
＜指纹擦去性试验＞
在试验片上滴下油酸2μl作为人工指纹液，用硅垫按压扩散后，盖上布，使其完全经过人工指纹液之上。重复该操作，将在5次以下就擦去的评价为〇，将需要6次以上的评价为×。
＜雾度＞
使用株式会社村上色彩技术研究所制的雾度计(制品名：HM－150)，参照JIS－K－7136测定雾度(％)。
＜光吸收层的膜厚＞
光吸收层的膜厚测定使用接触式台阶仪(Bruker公司制DektakXT)。在仪器上安装在光吸收层的成膜期间始终将一部分进行了遮掩的玻璃基材，测定被遮掩的未成膜部与成膜部的台阶差，将该值作为膜厚。另外，对于成膜为多层后的防反射基材测定光吸收层的膜厚时，能够采用对于经集束离子束加工后的膜剖面使用透射式电子显微镜进行观察并测定膜厚的方法。
作为基材，在实施例1～5和比较例1～3中，使用在聚碳酸酯(PC)与聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的2层膜的PMMA侧使用后述聚氨酯丙烯酸酯系的硬涂组合物(B－1)进行硬涂处理后的硬涂膜(制品名：MRF08U(三菱瓦斯化学株式会社制))。在实施例6中，使用在由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)构成的膜(制品名：COSMOSHINE A4100(东洋纺株式会社制)，厚度：188μm)上，以与上述同样的方式进行聚氨酯丙烯酸酯系的硬涂处理后的硬涂膜，在实施例7中，使用在由三乙酰纤维素(TAC)构成的膜(制品名：TD80UL(富士胶片株式会社制)，厚度：80μm)上，以与上述同样的方式进行聚氨酯丙烯酸酯系的硬涂处理后的硬涂膜。
低折射率树脂组合物(A－1)
为了形成低折射率层，如下述制备固化性的低折射率涂料。
首先，在具备搅拌机、温度计、冷却器、单体滴液漏斗和干燥空气导入管的5口烧瓶中预先通入干燥空气以使体系内干燥。之后，在5口烧瓶中添加2,2,3,3－四氟－1,4－丁二醇(Exfluor Research Corporation制的C4DIOL)58.9质量份、季戊四醇三丙烯酸酯279.8质量份、作为聚合催化剂的月桂酸二丁基锡0.5质量份和作为溶剂的甲乙酮500质量份，加温至60℃。之后，添加异佛尔酮二异氰酸酯161.3质量份后，在60～70℃进行反应。在通过红外线吸收光谱确认反应物中的异氰酸酯残基全部消耗后，使反应结束，得到6官能聚氨酯丙烯酸酯低聚体。
进一步，将丙烯酸2－(2－乙烯氧基乙氧基)乙基(VEEA)以相对于聚氨酯丙烯酸酯低聚体(聚氨酯丙烯酸酯液)，以聚氨酯丙烯酸酯液/VEEA＝90/10(质量％)的比例进行混合。
对于这样得到的树脂材料的液体成分，添加中空二氧化硅(日挥触媒化成株式会社制THRULYA4320)，以固体成分换算计达到树脂材料/中空二氧化硅＝50/50(质量％)的比例的方式进行混合。进一步，对于这样得到的低折射涂料原料(树脂材料+中空二氧化硅)，将作为光聚合引发剂的1－羟基－环己基－苯基－酮(BASF公司制I－184)5质量％、作为氟系化合物的MEGAFACE RS－90(DIC制：固体成分为10质量％且利用溶剂MEK稀释后的物质)10质量％、BYK－UV3575(BYK－CHEMIE公司制的改性聚二甲基硅氧烷系表面活性剂)10质量％分别添加，并使它们溶解，添加溶剂(丙二醇单甲醚)，调整浓度至固体成分达到1.5质量％。另外，关于各添加剂的配合量，记载以低折射涂料原料的固体成分量为100质量％时相对于该固体成分量100质量％的质量％。
硬涂组合物(B－1)
添加作为硬涂涂料的聚氨酯丙烯酸酯UN－954(根上工业株式会社制)、作为光引发剂的1－羟基－环己基－苯基－酮(BASF公司制I－184)5质量％、作为流平剂的BYK－3550(BYK－CHEMIE·JAPAN株式会社制)1质量％和溶剂(丙二醇单甲醚)，调节浓度至固体成分为30质量％。另外，关于各添加剂的配合量，记载以硬涂涂料的固体成分量为100质量％时相对于该固体成分量100质量％的质量％。
将低折射率树脂组合物(A－1)涂布在玻璃板上，在100℃干燥2分钟，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层。使用光谱椭偏仪(堀场制作所株式会社制AutoSE)测定低折射率层的550nm时的折射率，结果发现该折射率为1.38。另外，通过与上述同样的方法测定硬涂组合物(B－1)的折射率，结果为1.50。
(实施例1)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将铜以膜厚为3.0nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为100nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材，测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.60％，透射率为87％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(实施例2)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为6.0nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为100nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材，测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.75％，透射率为80％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(实施例3)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为3.6nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为85nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材，测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.49％，透射率为85.6％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(实施例4)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为6.4nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为85nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.50％，透射率为82.2％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(实施例5)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为11.3nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为85nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.50％，透射率为73.2％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(实施例6)
在上述的PET基材(制品名：COSMOSHINE A4100)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为6.4nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为85nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.58％，透射率为82.1％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(实施例7)
在上述的TAC基材(制品名：TD80UL)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为6.4nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为85nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.40％，透射率为82.3％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(比较例1)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将铜以膜厚为4.0nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，在光吸收层上将SiO2通过溅射制膜58nm，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为0.80％，透射率为80％。指纹擦去性试验的结果为×。
(比较例2)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，以干燥、UV固化后的膜厚为100nm的方式，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为1.42％，透射率为93.6％。指纹擦去性试验的结果为〇。
(比较例3)
在上述的基材(制品名：MRF08U)的进行了硬涂处理的面上，通过溅射将氮化钛以膜厚为21.1nm的方式进行成膜，形成光吸收层。之后，以干燥、UV固化后的膜厚为85nm的方式在光吸收层上，利用棒涂器涂布低折射率树脂组合物(A－1)，在100℃干燥2分钟后，以累积光量400mJ/cm2进行UV固化，形成低折射率层，制作防反射基材。对所得到的防反射基材测定视感反射率和透射率，视感反射率为14.12％，透射率为42.1％。指纹擦去性试验的结果为〇。
将实施例1～7和比较例1～3的结果示于以下的表1。
[表1]
Figure BDA0003998484390000141

Claims (8)

1.一种防反射基材，其特征在于：
其为将下述(A)、(B)、(C)和(D)层依次叠层而成的防反射基材，
(A)基材层、
(B)硬涂层、
(C)光吸收层、和
(D)低折射率层，其为将含有活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物的低折射率树脂组合物通过活化能量射线固化而成的层，
所述(C)光吸收层的膜厚为1～20nm。
2.如权利要求1所述的防反射基材，其特征在于：
所述(C)光吸收层为由选自氮化钛、钛酸氮化物、氮化锆、金、银和铜中的至少一种形成的层。
3.如权利要求1或2所述的防反射基材，其特征在于：
所述(C)光吸收层的膜厚为2～15nm。
4.如权利要求1～3中任一项所述的防反射基材，其特征在于：
所述(D)低折射率层中的活化能量射线固化型树脂含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯成分。
5.如权利要求1～4中任一项所述的防反射基材，其特征在于：
所述(D)低折射率层中的氟系化合物含有全氟聚醚键。
6.如权利要求1～5中任一项所述的防反射基材，其特征在于：
所述(D)低折射率层的波长550nm时的折射率为1.45以下。
7.如权利要求1～6中任一项所述的防反射基材，其特征在于：视感反射率为1.0％以下。
8.如权利要求1～7中任一项所述的防反射基材，其特征在于：
不含防污层。
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