JP5786297B2 - 光学積層体、透明導電性フィルム及び静電容量タッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体、透明導電性フィルム及び静電容量タッチパネルに関する。

現在、液晶表示パネル等の表示パネルを有する表示装置を備えた種々の装置、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等における入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。

タッチパネルは、透明なプラスチックのパネル基材上に、ケイ素酸化物等からなる絶縁膜とＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等からなる透明導電性膜とを順に有する透明導電性フィルムを備えたものである。上記タッチパネルは、通常、表示パネルとは別個に製造され、上記表示パネルの前面に配置される。

上記タッチパネルとしては、近年、指等で触れることで、静電容量変化をとらえてタッチ位置を検出する静電容量方式タッチパネルが普及しつつある。
このようなタッチパネルは、指先等の接触体により繰返し押圧されたときに損傷しない程度の機械的強度が必要とされる。上記タッチパネルに機械的強度を付与するために、上記パネル基材として、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体が従来より用いられている（例えば、特許文献１及び２を参照）。

ところが、従来のパネル基材は、該パネル基材同士が互いに貼り付き易く、製造工程において、シート状のパネル基材をロールで巻き取った際、剥れにくくなったり、貼り付いた跡が残ったりして、生産性が低下するといった問題があった。
また、従来のパネル基材は、表面にケイ素酸化物からなる絶縁膜を形成した場合に、上記パネル基材と上記絶縁膜との密着性が低いという問題もあった。更に、上記パネル基材は、光透過性等の光学特性にも優れる必要がある。

特開２００３−３２０６０９号公報 特開２００５−７１９０１号公報

本発明は、上記現状に鑑み、互いに貼り付くことを好適に防止し、かつ、表面にケイ素酸化物からなる絶縁膜を形成する場合、該絶縁膜との密着性に優れた光学積層体を提供することを目的とする。

本発明は、光透過性基材と、上記光透過性基材の両面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、静電容量タッチパネルに用いられるものであり、上記ハードコート層は、バインダー樹脂、レベリング剤及び易滑剤を含有するハードコート層用組成物を用いて形成された層であり、上記易滑剤は、平均粒径が２５０〜８００ｎｍであり、上記ハードコート層上にＳｉＯｘ膜を有することを特徴とする光学積層体である。
上記レベリング剤は、シリコーン系レベリング剤であることが好ましい。
上記易滑剤は、シリカ粒子及びシリコーン粒子からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記易滑剤は、ハードコート層中のハードコート層表面付近に存在することが好ましい。
上記バインダー樹脂は、ポリメチル（メタ）アクリレートと、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとを含有することが好ましい。
本発明はまた、光透過性基材と、上記光透過性基材の両面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、静電容量タッチパネルに用いられるものであり、上記ハードコート層は、バインダー樹脂、レベリング剤及び易滑剤を含有するハードコート層用組成物を用いて形成された層であり、上記ハードコート層上に絶縁膜を有し、上記絶縁膜は、ＳｉＯｘ膜であることを特徴とする光学積層体でもある。
本発明はまた、上述の光学積層体を備えたことを特徴とする透明導電性フィルムでもある。
本発明はまた、上述の透明導電性フィルムを備えたことを特徴とする静電容量タッチパネルでもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明は、光透過性基材と、上記光透過性基材の両面上に、特定の成分からなるハードコート層とを有することを特徴とする光学積層体である。このため、本発明の光学積層体は、優れた易滑性を有し、光学積層体同士が互いに貼り付くのを防止することができる。また、光学積層体上にケイ素酸化物からなる絶縁膜を形成する場合、該絶縁膜との密着性にも優れる。
なお、図１に、本発明の光学積層体の断面概略図の一例を示す。本発明の光学積層体は、光透過性基材２の両面上に、ハードコート層１及び３を有する。

本発明の光学積層体は、光透過性基材を有する。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくは、耐熱性が高い点で、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が挙げられる。

上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト社製スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ社製アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学社製アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成社製オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

上記光透過性基材は、これらの熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。

上記光透過性基材の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは下限が３０μｍであり、上限が２００μｍである。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さであってもよい。
上記光透過性基材には、その表面上にハードコート層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

本発明の光学積層体は、上記光透過性基材の両面上にハードコート層を有する。
上記ハードコート層は、バインダー樹脂、レベリング剤及び易滑剤を含有するハードコート層用組成物を用いて形成された層である。

上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、及び、これらの多官能化合物と（メタ）アクリレート等との反応生成物（例えば、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性に優れるという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

上記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

なかでも、上記バインダー樹脂としては、光学積層体に好適な柔軟性と硬度を付与することができる点や、後にハードコート層上に形成されるケイ素酸化物からなる絶縁膜との密着性を向上させることができる点で、ポリメチル（メタ）アクリレートと、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとを含有することが好ましい。

本発明において、上記ハードコート層を形成するためのハードコート層用組成物は、レベリング剤を含有する。
レベリング剤は、乾燥過程の塗膜表面に配向して、塗膜の表面張力を均一化し、浮きまだらやハジキを防止し、被塗物への濡れを改良し得るものである。
上記レベリング剤を含有することにより、ハードコート層上にケイ素酸化物からなる絶縁膜を形成する場合、該絶縁膜との密着性を高めることができる。また、本発明の光学積層体に指紋付着防止や防汚性を付与することもできる。

上記レベリング剤としては、フッ素系、シリコーン系のものが挙げられるが、シリコーン系レベリング剤が好ましい。上記シリコーン系レベリング剤としては、ジメチルシロキサン、フェニルメチルシロキサン等を挙げることができる。
本発明において使用し得る上記レベリング剤の市販品としては、大日精化工業社製のセイカビーム１０−２８、セイカビーム１０−３０１等を挙げることができる。

上記レベリング剤は、上記ハードコート層用組成物における含有量がバインダー樹脂固形分１００質量部に対して０．０１〜５質量部であることが好ましい。０．０１質量部未満であると、平滑な膜面が得られなく、また期待するケイ素酸化物からなる絶縁膜との密着性が得られないおそれがある。５質量部を超えると、上記組成物の泡立ち、相分離、白化又は裏移り等が生じるおそれがある。
上記レベリング剤の含有量は、より好ましい下限が０．０５質量部であり、より好ましい上限が２質量部である。

上記ハードコート層用組成物は、易滑剤を含有する。
易滑剤を含有することにより、光学積層体が互いに貼り付くのを防止することができる。
上記易滑剤としては、シリカ粒子及びシリコーン粒子からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
なかでも、ケイ素酸化物からなる絶縁膜との密着性を高めることができる点でシリカ粒子がより好ましい。
上記シリカ粒子としては、コロイダルシリカ等が挙げられる。
上記シリカ粒子の市販品としては、例えば、ＣＩＫナノテック社製ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ０３、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６８等が挙げられる。

上記易滑剤は、平均粒径が８０〜８００ｎｍであることが好ましい。８０ｎｍ未満であると、易滑性が発現しないおそれがある。８００ｎｍを超えると、光学特性が悪化するおそれがある。
上記易滑剤の平均粒径は、より好ましい下限が１００ｎｍ、より好ましい上限が５００ｎｍである。
なお、上記平均粒径は、レーザー回析散乱式の方法により測定して得られた値である。
また、本発明の光学積層体に、更に、ニュートンリング発生防止効果を付与する場合は、上記易滑剤の平均粒径は２〜１０μｍであることが好ましい。

上記易滑剤は、ハードコート層用組成物中の含有量が、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して１〜１０質量部であることが好ましい。
１質量部未満であると、易滑性が発現しないおそれがある。１０質量部を超えると、光学特性が悪化したり、製造コストが増大するおそれがある。
上記易滑剤の含有量は、より好ましい下限が１質量部であり、より好ましい上限が５質量部である。

上記ハードコート層用組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて、他の成分を含んでいてもよい。上記他の成分としては、反応性微粒子、光重合開始剤、金属ナノ粒子等の帯電防止剤、防眩剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤等を挙げることができる。

上記ハードコート層用組成物は、上述したバインダー樹脂、レベリング剤、易滑剤及び任意のその他の成分を溶剤と混合して分散させることにより調製することができる。
上記溶剤としては、例えば、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。
上記混合分散の方法としては、特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー又はビーズミル等の公知の方法を使用することができる。

上記ハードコート層は、上記ハードコート層用組成物を用いて形成された層である。
すなわち、上記光透過性基材の表面に上記ハードコート層用組成物を塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記塗膜を硬化させることによりハードコート層を形成することができる。
上記ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
上記乾燥は、特に限定されないが、通常４０〜１００℃で２０秒間〜５分間行うとよい。上記塗膜を硬化させる方法は、特に限定されず、公知の方法であればよく、例えば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させる方法が挙げられる。

本発明の光学積層体は、上記光透過性基材の両面に上記ハードコート層を形成したものである。ハードコート層は、光透過性基材の一方面上に形成された後、他方の面上において形成されてもよいし、同時に両面に形成されてもよい。
また、光透過性基材の両面にそれぞれ形成されるハードコート層は、上述した範囲の成分を含むものであれば異なる組成のハードコート層用組成物により形成されたものであってもよいが、同じハードコート層用組成物を用いて形成されたものが好ましい。同一組成のハードコート層を光透過性基材の両面に形成することにより、熱収縮等により光学積層体がカールするのを防ぐことができる。また、後の加工において、両ハードコート層上に、同じ絶縁膜等を形成する場合があることや、ハードコート層用組成物作成の手間やコストの観点からも、両ハードコート層の組成は同じものであることが好ましい。

上記ハードコート層の層厚みは、１〜２０μｍであることが好ましい。１μｍ未満であると、硬度が不充分となるおそれがある。２０μｍを超えると、光学積層体自身にクラックが入ったり、巻き取りも困難なだけでなく、コスト的にも高くなってしまうおそれがある。また光学特性が低下するおそれがある。
上記層厚みは、３〜８μｍであることがより好ましい。
上記層厚みは、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定して得られる値である。

本発明の光学積層体において、上記易滑剤は、ハードコート層中のハードコート層表面付近に存在することが好ましい。上記ハードコート層表面とは、ハードコート層の光透過性基材側面と反対側の表面をいう。
上記易滑剤が特定の状態で存在することにより、ハードコート層表面がわずかに平坦でなくなるため、貼り付きを防止することができる。また、ケイ素酸化物からなる絶縁膜との密着性にも優れたものとすることができる。
上記ハードコート層中の易滑剤が、上記ハードコート層表面付近に存在する様子については、ハードコート層の断面のＳＥＭ写真等により確認することができる。

本発明の光学積層体は、上述したように、特定の成分を含むハードコート層を、上記光透過性基材の両面上に有するものである。このため、光学積層体が互いに貼り付くのを防止することができる。また、上記ハードコート層上に形成されるケイ素酸化物からなる絶縁膜との密着性に優れたものとすることができる。
更に、本発明の光学積層体は、そのようなハードコート層を上記光透過性基材の両面に有するものであるため、熱収縮等による光学積層体のカール等の変形を防ぐこともできる。また、製造加工時に光透過性基材から溶出するオリゴマーを封止し、光学積層体のヘイズが高くなるのを防ぐことができる。

本発明の光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、本発明の光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。

本発明の光学積層体は、ヘイズが２．０％以下であることが好ましい。２．０％を超えると、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記ヘイズは、０．３〜１．５％であることがより好ましい。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。

本発明の光学積層体は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることが更に好ましい。

本発明の光学積層体は、透過色相ｂ^＊が３以下であることが好ましい。３を超えると、フィルムが黄色味をおび、視認性や色再現性を損なうおそれがある。上記透過色相ｂ^＊は、２以下であることがより好ましい。
上記透過色相ｂ^＊は、分光光度計（島津製作所社製、製品番号ＵＶＰＣ−２４５０）を用いて測定して得られる値である。

このような本発明の光学積層体は、例えば、透明導電性フィルムの基材として好適に用いることができる。本発明の光学積層体を備えた透明導電性フィルムもまた本発明の一つである。
本発明の透明導電性フィルムは、本発明の光学積層体の光透過性基材の両面上に形成されたハードコート層の少なくとも一方の面に、ケイ素酸化物からなる絶縁膜と金属酸化物からなる透明導電性膜とが形成されていることが好ましい。
このような本発明の透明導電性フィルムは、上記ハードコート層と上記絶縁膜との密着性に優れる。上記絶縁膜との密着性は、上記ハードコート層が易滑剤としてシリカ粒子又はシリコーン粒子を含有する場合に特に優れたものとすることができる。

上記ケイ素酸化物からなる絶縁膜としては、ＳｉＯｘからなる膜を挙げることができる。上記絶縁膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の公知の方法により形成することができる。
上記絶縁膜の膜厚は、１００〜５００Åであることが好ましい。

上記金属酸化物からなる透明導電性膜としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化タングステン（ＷＯ_３）等からなる膜を挙げることができる。
製膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の公知の方法を挙げることができる。
上記透明導電性膜の膜厚は、１００〜４００Åであることが好ましい。
本発明の透明導電性フィルムは、光学特性調整のために、五酸化ニオブからなる膜を更に有していてもよい。

本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネル静電容量用電極シート基材として好適に用いることができる。
このような本発明の透明導電性フィルムを備えた静電容量タッチパネルもまた、本発明の一つである。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、光学積層体同士の貼り付きを防止することができ、かつ、光学積層体表面にケイ素酸化物からなる絶縁膜を形成する場合に、該絶縁膜との密着性に優れるものである。このため、本発明の光学積層体は、タッチパネル静電容量用電極の基材として好適に使用することができる。

本発明の光学積層体の断面概略図の一例を示す。 実施例１の光学積層体のハードコート層の表面付近の断面のＳＥＭ写真である。

以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。

（実施例１）
ＰＥＴ基材（東洋紡績製コスモシャインＡ４３００、１８８μｍ厚）の一方の面側に、下記組成のハードコート層用組成物（１）を塗布し、温度５０度の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を作製した。
次いで、上記ＰＥＴ基材の上記ハードコート層を形成した面とは反対側の面に、同様にハードコート層用組成物（１）を塗布し、温度５０度の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を作製し、ハードコート層／ＰＥＴ基材／ハードコート層からなる光学積層体を得た。
＜ハードコート層用組成物（１）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリコーン系レベリング剤（製品名セイカビーム１０−２８、固形分１０質量％、大日精化工業社製）：１質量部
シリカ系易滑剤（平均粒径２５０ｎｍ、製品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、固形分１５質量％、ＣＩＫナノテック社製）：６質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（参考例２及び実施例３）
実施例１において、表１に示すように、使用する易滑剤の平均粒径を代えた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。

（実施例４）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（２）を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。
＜ハードコート層用組成物（２）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリコーン系レベリング剤（製品名セイカビーム１０−２８、固形分１０質量％、大日精化工業社製）：１質量部
シリカ系易滑剤（平均粒径２５０ｎｍ、製品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、固形分１５質量％、ＣＩＫナノテック社製）：６質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（実施例５）
実施例１において、光透過性基材として、ＰＥＴ基材の代わりにＣＯＰを使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。

（実施例６）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（３）を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。
＜ハードコート層用組成物（３）＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：３０質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリコーン系レベリング剤（製品名セイカビーム１０−２８、固形分１０質量％、大日精化工業社製）：１質量部
シリカ系易滑剤（平均粒径２５０ｎｍ、製品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、固形分１５質量％、ＣＩＫナノテック社製）：６質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（実施例７）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（４）を使用した以外は、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製した。
＜ハードコート層用組成物（４）＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：３０質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリコーン系レベリング剤（製品名セイカビーム１０−２８、固形分１０質量％、大日精化工業社製）：１質量部
シリカ系易滑剤（平均粒径２５０ｎｍ、製品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、固形分１５質量％、ＣＩＫナノテック社製）：６質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（実施例８、参考例９）
実施例１において、表１に示すように、使用する易滑剤の平均粒径を代えた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。

（参考例１０）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（５）を使用した以外は、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製した。
＜ハードコート層用組成物（５）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリコーン系レベリング剤（製品名セイカビーム１０−２８、固形分１０質量％、大日精化工業社製）：１質量部
スチレン‐アクリル系易滑剤（平均粒径１００ｎｍ、製品名Ｚ−７３２ 固形分５０質量％、アイカ工業社製）：２質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（実施例１１）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（６）を使用した以外は、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製した。
＜ハードコート層用組成物（６）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
フッ素系レベリング剤（製品名ＭＣＦ３５０−５、固形分５質量％、ＤＩＣ社製）：２質量部
シリカ系易滑剤（平均粒径２５０ｎｍ、製品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、固形分１５質量％、ＣＩＫナノテック社製）：６質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（参考例１２）
ＰＥＴ基材（東洋紡績製コスモシャインＡ４３００、１８８μｍ厚）の一方の面側に、ハードコート層用組成物（１）を塗布し、温度５０度の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を作製した。
次いで、上記ＰＥＴ基材の上記ハードコート層を形成した面とは反対側の面に、同様にハードコート層組成物（５）を塗布し、温度５０度の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を作製し、ハードコート層／ＰＥＴ基材／ハードコート層からなる光学積層体を得た。

（比較例１）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（７）を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作成した。
＜ハードコート層用組成物（７）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリコーン系レベリング剤（製品名セイカビーム１０−２８、固形分１０質量％、大日精化工業社製）：１質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（比較例２）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（８）を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作成した。
＜ハードコート層用組成物（８）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
シリカ系易滑剤（平均粒径２５０ｎｍ、製品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、固形分１５質量％、ＣＩＫナノテック社製）：６質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

（比較例３）
実施例１において、ハードコート層用組成物（１）の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物（９）を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作成した。
＜ハードコート層用組成物（９）＞
ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）：５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：２５質量部
光重合開始剤（製品名イルガキュアー（Ｉｒｇ）１８４、チバ・ジャパン社製）：２質量部
トルエン：４０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：２１質量部

得られた光学積層体について、下記の項目において評価した。評価結果を表１に示す。
（貼り付き防止性）
各光学積層体について、最初に塗工した面と次に塗工した面を面−面で擦り合わせて滑り性をみることにより、下記の基準にて、貼り付き防止性を評価した。
◎：滑り性が良好で、貼り付き防止性良好
○：若干貼り付きが発生したが、滑らせると滑り、貼り付き性に問題なし
△：一部貼り付きが発生し、滑らせても滑り性が不充分で、貼り付き性がやや劣る
×：全面に貼り付きが発生し、滑らない

（ＳｉＯｘ膜との密着）
各光学積層体について、ハードコートの表面にＳｉＯｘ膜層を形成し、ＪＩＳ Ｋ５４００の碁盤目試験の方法に準じて、ＳｉＯｘ最表面に１ｍｍ間隔で縦及び横、それぞれ１１本の切れ目を入れて１００個の碁盤目を作り、ニチバン社製セロテープ（登録商標）を碁盤目上に貼り付けた後、これを速やかに９０°の方向に引張って剥離させ、下記の基準にて、密着性を評価した。
◎：碁盤目１００個中、剥がれなかった碁盤目の数が９５個以上
○：碁盤目１００個中、剥がれなかった碁盤目の数が８０〜９４個
△：碁盤目１００個中、剥がれなかった碁盤目の数が５０〜７９個
×：碁盤目１００個中、剥がれなかった碁盤目の数が４９個以下

（ヘイズ）
各光学積層体のヘイズについて、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定した。

（透過色相ｂ^＊）
各光学積層体の上記透過色相ｂ^＊について、分光光度計（島津製作所社製、製品番号ＵＶＰＣ−２４５０）を用いて測定した。

表１より、本発明の実施例の光学積層体は、貼り付き防止性、ＳｉＯｘ膜との密着性、ヘイズ及び透過色相ｂ^＊のすべての項目において満足するものであった。一方、比較例の光学積層体では、すべての項目において満足するものはなかった。
また、実施例の光学積層体のハードコート層中の易滑剤が、ハードコート層表面付近に存在しているのが、ハードコート層の断面ＳＥＭ写真により確認できた。なお、図２に、実施例１の光学積層体のハードコート層の表面付近の断面のＳＥＭ写真を示した。

本発明の光学積層体は、タッチパネル静電容量用電極の基材として好適に使用することができる。

１、３、６ ハードコート層
２ 光透過性基材
４ 空気層
５ 易滑剤

Claims (8)

1. 光透過性基材と、前記光透過性基材の両面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、
   静電容量タッチパネルに用いられるものであり、
   前記ハードコート層は、バインダー樹脂、レベリング剤及び易滑剤を含有するハードコート層用組成物を用いて形成された層であり、
   前記易滑剤は、平均粒径が２５０〜８００ｎｍであり、
   前記ハードコート層上にＳｉＯｘ膜を有する
   ことを特徴とする光学積層体。
2. レベリング剤は、シリコーン系レベリング剤である請求項１記載の光学積層体。
3. 易滑剤は、シリカ粒子及びシリコーン粒子からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の光学積層体。
4. 易滑剤は、ハードコート層中のハードコート層表面付近に存在する請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. バインダー樹脂は、ポリメチル（メタ）アクリレートと、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとを含有する請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
6. 光透過性基材と、前記光透過性基材の両面上にハードコート層とを有する光学積層体であって、
   静電容量タッチパネルに用いられるものであり、
   前記ハードコート層は、バインダー樹脂、レベリング剤及び易滑剤を含有するハードコート層用組成物を用いて形成された層であり、
   前記ハードコート層上に絶縁膜を有し、
   前記絶縁膜は、ＳｉＯｘ膜である
   ことを特徴とする光学積層体。
7. 請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体を備えたことを特徴とする透明導電性フィルム。
8. 請求項７記載の透明導電性フィルムを備えたことを特徴とする静電容量タッチパネル。