JP2008070459A - 反射防止膜及び光学部材並びに表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現するとともに、膜厚が変化した場合であっても反射光の斑状の欠陥が生じ難く、しかも、膜構造が簡単な反射防止膜及び光学部材並びに表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の光学部材１は、金属微粒子集積層２と低屈折率層３とを積層してなる反射防止膜４が、透明基材５の一主面５ａ上に形成された構成であり、金属微粒子集積層２を構成する金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径は３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下であり、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）は、９９：１〜８５：１５である。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の光学部材１は、金属微粒子集積層２と低屈折率層３とを積層してなる反射防止膜４が、透明基材５の一主面５ａ上に形成された構成であり、金属微粒子集積層２を構成する金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径は３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下であり、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）は、９９：１〜８５：１５である。
【選択図】図１
Description
本発明は、反射防止膜及び光学部材並びに表示装置に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の各種画像表示装置あるいは光学レンズ等の光学部品における反射防止機能を向上させることが可能な反射防止膜及び光学部材、並びにこの反射防止膜あるいは光学部材を備えた表示装置に関するものである。
多層膜の干渉作用を原理とする反射防止膜は、屈折率の異なる薄層を積層した多層構造からなるもので、外部から入射した光をそれぞれの層の界面により反射し、各界面から反射される光の強度および位相を調節することにより、反射光の強度を減衰させるものである。
理想的な反射防止膜は、例えば、４００ｎｍから８００ｎｍの広い波長範囲に亘って反射率を低減するものである。ところで、この反射防止膜の反射率に波長依存性があった場合、十分な反射防止効果が得られない、反射光が着色する、あるいは膜厚の僅かな変化により反射光の斑状の欠陥が生じ易くなる等の問題が発生する虞がある。そこで、例えば、メタクリレート（ＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の透明プラスチックの場合、反射率を肉眼で検知されない水準にまで低減するために、少なくとも５層以上の積層構造の反射防止膜を用いている。
理想的な反射防止膜は、例えば、４００ｎｍから８００ｎｍの広い波長範囲に亘って反射率を低減するものである。ところで、この反射防止膜の反射率に波長依存性があった場合、十分な反射防止効果が得られない、反射光が着色する、あるいは膜厚の僅かな変化により反射光の斑状の欠陥が生じ易くなる等の問題が発生する虞がある。そこで、例えば、メタクリレート（ＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の透明プラスチックの場合、反射率を肉眼で検知されない水準にまで低減するために、少なくとも５層以上の積層構造の反射防止膜を用いている。
この反射防止膜を形成する方法としては、蒸着法やスパッタリング法等の薄膜技術が用いられているが、この薄膜技術は真空チャンバや真空ポンプ等の真空機器を必要とするために、量産性に劣るという欠点がある。そこで、この欠点を解決する方法として、塗布方式により反射防止膜を作製する方法が提案されている。例えば、金属酸化物微粒子を分散した塗布液を用いて透明プラスチックの表面に反射防止膜を形成する方法が提案されている（特許文献１）。また、金属酸化物微粒子の代わりに金属微粒子を分散した塗布液を用いて反射防止膜を形成する方法も提案されている（特許文献２）。この金属微粒子を用いた方法の特徴は、主に高導電性の金属微粒子を用いることにより、反射防止性及び電磁波遮蔽性を併せ持つ非常に高導電性の機能性膜を、量産性に富む塗布方式にて作製することが可能な点である。
さらに、反射防止膜に一定の波長の光に対して吸収性を有する特殊な色素を添加することにより、反射率を低減した反射防止膜も提案されている（特許文献３）。
特許第３３２３５６３号公報
特開２００２−２９８６６５号公報
特許第３２６２２４８号公報
ところで、上記の金属酸化物微粒子を用いた反射防止膜の場合、透明プラスチックの反射率を肉眼で反射光を感知しない十分な水準にまで低減するためには、数層以上の複雑な膜構造にする必要があるという問題点があった。複雑な膜構造は、製造コストが上昇する要因ともなっている。
また、金属微粒子を用いた反射防止膜の場合、高導電性を有する膜は得られるものの、反射率が比較的高く、肉眼で反射光を感知しない十分な水準にまで反射率を低減することは非常に難しいという問題点があった。
また、金属微粒子を用いた反射防止膜の場合、高導電性を有する膜は得られるものの、反射率が比較的高く、肉眼で反射光を感知しない十分な水準にまで反射率を低減することは非常に難しいという問題点があった。
さらに、色素を添加した反射防止膜の場合、紫外線や可視光腺を照射した際、あるいは高い温度にさらされた際に色素が変質し、その結果、膜特性が変化するという問題点があった。また、反射率を肉眼で反射光を感知しない十分な水準にまで低減するためには、透過率を著しく低下させなければならず、反射防止性と光透過性を両立させることが極めて難しいという問題点があった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現するとともに、膜厚が変化した場合であっても反射光の斑状の欠陥が生じ難く、しかも、膜構造が簡単な反射防止膜及び光学部材並びに表示装置を提供することを目的とする。
本発明者等は、広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現し、膜厚が変化した場合であっても反射光の斑状の欠陥が生じ難く、膜構造が簡単な反射防止膜について鋭意検討した結果、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる金属微粒子集積層を備えた構成とし、この金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径を３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）を９９：１〜８５：１５とすれば、４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現することができ、膜厚が変化した場合であっても反射光の斑状の欠陥が生じ難いことを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の反射防止膜は、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる金属微粒子集積層を備え、前記金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径は３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下であり、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）は、９９：１〜８５：１５であることを特徴とする。
前記金属微粒子集積層の膜厚は、１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
前記金属微粒子集積層は、前記金含有微粒子及び銀含有微粒子を含有する塗布液により形成してなることが好ましい。
前記金属微粒子集積層の表面に、この金属微粒子集積層より屈折率の低い低屈折率層を設けてなることが好ましい。
前記金属微粒子集積層は、前記金含有微粒子及び銀含有微粒子を含有する塗布液により形成してなることが好ましい。
前記金属微粒子集積層の表面に、この金属微粒子集積層より屈折率の低い低屈折率層を設けてなることが好ましい。
前記低屈折率層は、酸化ケイ素を含み、平均粒子径が１０ｎｍ以上かつ６０ｎｍ以下、屈折率が１．３０以上かつ１．４０以下であり、かつ空隙を有する粒子を含有してなることが好ましい。
前記低屈折率層の膜厚は、５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下であることが好ましい。
前記低屈折率層の波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は、１．３０以上かつ１．５０以下であることが好ましい。
前記低屈折率層は、フッ素、ケイ素、炭素の群から選択される１種または２種以上を含有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーを含む組成物により形成してなることが好ましい。
前記低屈折率層の膜厚は、５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下であることが好ましい。
前記低屈折率層の波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は、１．３０以上かつ１．５０以下であることが好ましい。
前記低屈折率層は、フッ素、ケイ素、炭素の群から選択される１種または２種以上を含有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーを含む組成物により形成してなることが好ましい。
本発明の光学部材は、透明基材上に、本発明の反射防止膜を備えてなることを特徴とする。
前記基材の少なくとも一軸方向の屈折率は、波長が５５０ｎｍの光に対して１．４８以上かつ１．７５以下であることが好ましい。
本発明の光学部材では、視感反射率が０．５％未満、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光の最大反射率が２．０以下、最小反射率と最大反射率との差が１．８％以内であることが好ましい。
波長が５６０ｎｍ以上かつ７５０ｎｍ以下の範囲の垂直入射光に対する全光線透過率が７５％以上かつ９０％以下であることが好ましい。
前記基材の少なくとも一軸方向の屈折率は、波長が５５０ｎｍの光に対して１．４８以上かつ１．７５以下であることが好ましい。
本発明の光学部材では、視感反射率が０．５％未満、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光の最大反射率が２．０以下、最小反射率と最大反射率との差が１．８％以内であることが好ましい。
波長が５６０ｎｍ以上かつ７５０ｎｍ以下の範囲の垂直入射光に対する全光線透過率が７５％以上かつ９０％以下であることが好ましい。
本発明の表示装置は、表示面に、本発明の反射防止膜または光学部材を備えてなることを特徴とする。
本発明の反射防止膜によれば、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる金属微粒子集積層を備えたものとし、前記金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径を３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）を９９：１〜８５：１５としたので、広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現することができる。また、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積し金属微粒子集積層としたので、膜厚が変化した場合であっても反射光の斑状の欠陥が生じる虞がなく、反射防止膜としての品質を長期に亘って保持し続けることができる。
また、金属微粒子集積層の一層でよいので、反射防止膜の層数を少なくすることができ、膜構造を簡単化することができる。
また、金属微粒子集積層の一層でよいので、反射防止膜の層数を少なくすることができ、膜構造を簡単化することができる。
本発明の光学部材によれば、透明基材上に、本発明の反射防止膜を備えたので、広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現することができる。また、金属微粒子集積層を備えたので、光による膜特性の変化を防止することができ、反射防止膜としての信頼性を向上させることができる。
本発明の表示装置によれば、表示面に、本発明の反射防止膜または光学部材を備えたので、表示面における反射防止効果を広い波長範囲に亘って発現することができ、表示面における表示品質を長期に亘って保持し続けることができる。
本発明の反射防止膜及び光学部材並びに表示装置を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
図１は、本実施形態の光学部材を示す断面図であり、この光学部材１は、金属微粒子集積層２と低屈折率層３とを積層してなる反射防止膜４が透明基材５の一主面５ａ上に形成された構成である。
金属微粒子集積層２は、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる層であり、金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径は３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下である。
金属微粒子集積層２は、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる層であり、金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径は３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下である。
ここで、金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径を上記の範囲とした理由は、平均粒径３ｎｍ未満では、粒子内部の分子同士の結合が不安定になるために、マイグレーション、粒子融解等が発生し易くなり、膜の安定性が損なわれるからであり、一方、平均粒径が３０ｎｍを越えると、光の散乱が生じるために、この金属微粒子集積層２自体の透明性が損なわれるからである。
例えば、これらの微粒子が金属微粒子集積層２内にて二次凝集して凝集塊の大きさが１００ｎｍを超えてしまった場合には、金属微粒子集積層２がレイリー散乱により光を著しく散乱させることとなり、その結果、光学部材１自体の透明性を低下させることとなる。
例えば、これらの微粒子が金属微粒子集積層２内にて二次凝集して凝集塊の大きさが１００ｎｍを超えてしまった場合には、金属微粒子集積層２がレイリー散乱により光を著しく散乱させることとなり、その結果、光学部材１自体の透明性を低下させることとなる。
また、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）は、９９：１〜８５：１５が好ましく、より好ましくは、９９：１〜９３：７である。
その理由は、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比が上記範囲を外れると、金属微粒子集積層２の反射防止特性が低下し、その結果、光学部材１自体の反射防止特性が低下し、反射防止膜としての機能を示さなくなるからである。
その理由は、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比が上記範囲を外れると、金属微粒子集積層２の反射防止特性が低下し、その結果、光学部材１自体の反射防止特性が低下し、反射防止膜としての機能を示さなくなるからである。
例えば、金含有微粒子の重量比が９９を超える（銀含有微粒子の重量比が１未満）と、金含有微粒子が金属微粒子集積層２中で極めて安定的であるために、微粒子同士の接触が少なくなり、凝集体または粒子間ネットワークの形成に由来する反射率の低減効果が低下するからである。
また、金含有微粒子の重量比が８５未満である（銀含有微粒子の重量比が１５を越える）と、形成される凝集体または粒子間ネットワークの構造が反射率の低減に有効に寄与しないからであり、さらに、この金含有微粒子と銀含有微粒子のヘテロ凝集速度が速く、金属微粒子集積層２中に塊状の凝集体を発生させてしまうからである。この塊状の凝集体は、肉眼で検知可能な凝集異物の発生を招き、膜欠陥を引き起こす要因となる。
また、金含有微粒子の重量比が８５未満である（銀含有微粒子の重量比が１５を越える）と、形成される凝集体または粒子間ネットワークの構造が反射率の低減に有効に寄与しないからであり、さらに、この金含有微粒子と銀含有微粒子のヘテロ凝集速度が速く、金属微粒子集積層２中に塊状の凝集体を発生させてしまうからである。この塊状の凝集体は、肉眼で検知可能な凝集異物の発生を招き、膜欠陥を引き起こす要因となる。
この金属微粒子集積層２の膜厚は、１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以上かつ８０ｎｍ以下である。
その理由は、膜厚が１０ｎｍより薄くなると、反射率が十分に低減しないからであり、一方、膜厚が１００ｎｍより厚くなると、金属微粒子集積層２と透明基材５との界面から反射される光の強度および位相にずれが生じ、十分な反射低減効果が得られないばかりか、着色粒子の厚みが増すことにより、許容範囲以上の透過率の低下を招く虞があるからである。
その理由は、膜厚が１０ｎｍより薄くなると、反射率が十分に低減しないからであり、一方、膜厚が１００ｎｍより厚くなると、金属微粒子集積層２と透明基材５との界面から反射される光の強度および位相にずれが生じ、十分な反射低減効果が得られないばかりか、着色粒子の厚みが増すことにより、許容範囲以上の透過率の低下を招く虞があるからである。
低屈折率層３は、金属微粒子集積層２より屈折率の低い層であり、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は、１．３０以上かつ１．５０以下が好ましく、より好ましくは１．３０以上かつ１．４０以下、さらに好ましくは１．３２以上かつ１．３８以下である。
低屈折率層３の波長５５０ｎｍの光に対する屈折率を上記範囲（１．３０以上かつ１．５０以下）とした理由は、屈折率が上記範囲を外れると、充分な反射防止効果が得られなくなるからである。
低屈折率層３の波長５５０ｎｍの光に対する屈折率を上記範囲（１．３０以上かつ１．５０以下）とした理由は、屈折率が上記範囲を外れると、充分な反射防止効果が得られなくなるからである。
この低屈折率層３の膜厚は、５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは７０ｎｍ以上かつ１４０ｎｍ以下、さらに好ましくは９０ｎｍ以上かつ１３０ｎｍ以下である。
ここで、膜厚を上記範囲（５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下）に限定した理由は、膜厚が上記範囲を外れると、層界面の反射光の位相が最適化されず、充分な反射防止効果が得られなくなるからである。
ここで、膜厚を上記範囲（５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下）に限定した理由は、膜厚が上記範囲を外れると、層界面の反射光の位相が最適化されず、充分な反射防止効果が得られなくなるからである。
この低屈折率層３を構成する材料としては、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．２０以上かつ１．６０以下、より好ましくは１．３０以上かつ１．５５以下の範囲であり、かつ屈折率の波長依存性が小さな低屈折率材料が好ましく、この様な低屈折率材料としては、シラン化合物、フッ素化合物、これらシラン化合物及びフッ素化合物とこれらより屈折率が低い低屈折率微粒子とを組み合わせた複合材料等が用いられる。
シラン化合物としては、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン、これらの加水分解物、のいずれかからなるアルコキシシラン化合物が好適に用いられる。
このアルコキシシラン化合物としては，テトラメトキシシランやテトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシランやエチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等を挙げることができる。
このアルコキシシラン化合物としては，テトラメトキシシランやテトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシランやエチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等を挙げることができる。
フッ素化合物としては、フッ素含有シラン化合物、フッ素化合物、これらの加水分解物、のいずれかが好適に用いられる。
例えば、フッ素を含有するアルコキシシラン化合物としては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等が挙げられ、これらのなかでも炭素数（Ｃｎ）が２〜６のフッ素含有アルコキシシラン化合物が好ましい。
また、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物、トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフルオロアルキルエーテル基含有シラン化合物等を用いてもよい。
フッ素含有シラン化合物を用いることにより、膜に防汚性を付与することができる。
例えば、フッ素を含有するアルコキシシラン化合物としては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等が挙げられ、これらのなかでも炭素数（Ｃｎ）が２〜６のフッ素含有アルコキシシラン化合物が好ましい。
また、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物、トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフルオロアルキルエーテル基含有シラン化合物等を用いてもよい。
フッ素含有シラン化合物を用いることにより、膜に防汚性を付与することができる。
フッ素化合物としては、フッ素含有ポリマー、フッ素含有オリゴマー、フッ素含有モノマーを用いることができる。
例えば、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、３，３，３−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類、アルキルパーフロロビニルエーテル類、アルコキシアルキルパーフロロビニルエーテル類、パーフロロ（メチルビニルエーテル）、パーフロロ（エチルビニルエーテル）、パーフロロ（プロピルビニルエーテル）、パーフロロ（ブチルビニルエーテル）、パーフロロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルキルビニルエーテル）類、パーフロロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類等を含むポリマー、オリゴマーまたはモノマーを挙げることができる。
例えば、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、３，３，３−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類、アルキルパーフロロビニルエーテル類、アルコキシアルキルパーフロロビニルエーテル類、パーフロロ（メチルビニルエーテル）、パーフロロ（エチルビニルエーテル）、パーフロロ（プロピルビニルエーテル）、パーフロロ（ブチルビニルエーテル）、パーフロロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルキルビニルエーテル）類、パーフロロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類等を含むポリマー、オリゴマーまたはモノマーを挙げることができる。
この低屈折率材料が微粒子を含む場合、この微粒子の屈折率は、１．４０以下、好ましくは１．３０以下、より好ましくは１．２６以下、さらに好ましくは１．２３以下である。
その理由は、微粒子の屈折率が１．４０より高いと、目的とする屈折率低減の効果が乏くなるからである。微粒子の屈折率の下限に特に制限はないが、例えば、微粒子の材料としてシリカを用いた場合には，機械的強度を保つ上で，屈折率の下限を１．２０とすることが好ましい。
その理由は、微粒子の屈折率が１．４０より高いと、目的とする屈折率低減の効果が乏くなるからである。微粒子の屈折率の下限に特に制限はないが、例えば、微粒子の材料としてシリカを用いた場合には，機械的強度を保つ上で，屈折率の下限を１．２０とすることが好ましい。
この様な微粒子を構成する材料としては、有機材料、無機材料、有機材料と無機材料との複合材料、のいずれかを用いることが好ましい。
有機材料としては、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）等の高分子材料及びその誘導体、カップリング剤、界面活性剤等を例示することができる。
無機材料としては、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウム等を例示することができる。
また、有機材料と無機材料との複合材料は、微粒子全体を同一組成の複合材料で占める構成としてもよく、微粒子をコアとなる部分と表層部分との二層構造、あるいは複数層の表層部分との多層構造としてもよい。
有機材料としては、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）等の高分子材料及びその誘導体、カップリング剤、界面活性剤等を例示することができる。
無機材料としては、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウム等を例示することができる。
また、有機材料と無機材料との複合材料は、微粒子全体を同一組成の複合材料で占める構成としてもよく、微粒子をコアとなる部分と表層部分との二層構造、あるいは複数層の表層部分との多層構造としてもよい。
この微粒子は、内部、表層部分あるいは表面に空隙を有するもので、粒子径が１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１５ｎｍ以上かつ６０ｎｍ以下である。
ここで、空隙を有することが好ましい理由は、空隙を有する微粒子には屈折率を低減する効果があるからである。
粒子径を上記範囲とした理由は、粒子径が１０ｎｍ未満では、低屈折率層３内に屈折率を低減するのに十分な大きさの空隙を形成することができず、その結果、低屈折率層３の屈折率が高くなってしまうからであり、一方、粒子径が１００ｎｍを超えると、レイリー散乱により光が著しく散乱されるために、光学部材１の透明性を損なうからであり、また、機械的強度も低下するからである。
ここで、空隙を有することが好ましい理由は、空隙を有する微粒子には屈折率を低減する効果があるからである。
粒子径を上記範囲とした理由は、粒子径が１０ｎｍ未満では、低屈折率層３内に屈折率を低減するのに十分な大きさの空隙を形成することができず、その結果、低屈折率層３の屈折率が高くなってしまうからであり、一方、粒子径が１００ｎｍを超えると、レイリー散乱により光が著しく散乱されるために、光学部材１の透明性を損なうからであり、また、機械的強度も低下するからである。
このような微粒子の例としては、平均粒子径が１０ｎｍ以上かつ６０ｎｍ以下、屈折率が１．３０以上かつ１．４０以下であり、かつ内部に１つまたは複数の空隙を有する酸化ケイ素微粒子が挙げられる。
この反射防止膜４は、３層以上の多層構造としてもよい。この場合、屈折率の異なる薄層を積層することが好ましい。
また、耐擦傷性、強度等の特性を向上させる目的で、反射防止膜４と透明基材５との間にハードーコート層を設けてもよい。
このハードコート層は、日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４「塗布液一般試験法」にて規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
また、耐擦傷性、強度等の特性を向上させる目的で、反射防止膜４と透明基材５との間にハードーコート層を設けてもよい。
このハードコート層は、日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４「塗布液一般試験法」にて規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
このハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を含有する組成物を使用して形成することが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、（メタ）アクリレート系の官能基を有するモノマー、オリゴマー、またはポリマーを例示することができる。より具体的には、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の多官能化合物としてのモノマー類、エポキシアクリレートまたはウレタンアクリレート等のオリゴマーを例示することができる。
また，熱硬化型樹脂としては、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂を例示することができる。
また，熱硬化型樹脂としては、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂を例示することができる。
この反射防止膜４は、上記のように透明基材５上に形成された光学部材１の状態で用いることが好ましい。
この透明基材５の厚みは特に限定はされないが、通常、２５μｍ〜２００μｍ程度の厚みから適宜選択される。
厚みが上記範囲内の透明基材５を用いれば、反射防止膜４にしわ等の不具合が発生し難くなる。また、光学部材１は、画像表示装置の画像表示部に貼着される際に必要以上に伸びなくなるので、反射防止膜４に破断等の不具合が生じること無く、貼着させることができる。
この透明基材５の厚みは特に限定はされないが、通常、２５μｍ〜２００μｍ程度の厚みから適宜選択される。
厚みが上記範囲内の透明基材５を用いれば、反射防止膜４にしわ等の不具合が発生し難くなる。また、光学部材１は、画像表示装置の画像表示部に貼着される際に必要以上に伸びなくなるので、反射防止膜４に破断等の不具合が生じること無く、貼着させることができる。
この透明基材５としては、ガラス等のセラミックス、あるいは有機高分子等が好ましく、なかでも、有機高分子からなるフィルムあるいはシートが好ましい。
この有機高分子からなるフィルムまたはシートを透明基材５とする光学部材１は、透明積層フィルムまたは透明積層シートと称される。
この有機高分子からなるフィルムまたはシートを透明基材５とする光学部材１は、透明積層フィルムまたは透明積層シートと称される。
次に、この透明積層フィルムについて説明する。
この透明積層フィルムは、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光の最大反射率が２．０以下が好ましく、より好ましくは１．５以下である。
ここで、最大反射率を２．０以下と限定した理由は、最大反射率が２．０より大きいと、写り込みが大きくなるからである。
この透明積層フィルムは、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光の最大反射率が２．０以下が好ましく、より好ましくは１．５以下である。
ここで、最大反射率を２．０以下と限定した理由は、最大反射率が２．０より大きいと、写り込みが大きくなるからである。
この透明積層フィルムは、最小反射率と最大反射率との差（Δ値）が１．８％以内であることが好ましい。
ここで、最小反射率と最大反射率との差（Δ値）が１．８％を越える場合、反射率の波長依存性により十分な反射防止効果が得られない、反射光が着色する、僅かな膜厚の変化により反射光の斑状の欠陥が生じ易くなる、等の不具合が生じる。
なお、本発明においては、可視光分光光度計を用い、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲における５°正反射率を測定したときに、最大となる反射率を最大反射率、最小となる反射率を最小反射率と称する。
ここで、最小反射率と最大反射率との差（Δ値）が１．８％を越える場合、反射率の波長依存性により十分な反射防止効果が得られない、反射光が着色する、僅かな膜厚の変化により反射光の斑状の欠陥が生じ易くなる、等の不具合が生じる。
なお、本発明においては、可視光分光光度計を用い、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲における５°正反射率を測定したときに、最大となる反射率を最大反射率、最小となる反射率を最小反射率と称する。
この透明積層フィルムは、波長が５６０ｎｍ以上かつ７５０ｎｍ以下の範囲の垂直入射光に対する全光線透過率が７５％以上かつ９０％以下であることが好ましく、より好ましくは７５％以上かつ８５％以下である。
ここで、全光線透過率が７５％未満の場合、用途によっては可視光の取り出し効率が著しく低下し、輝度の低下による視認性の低下を招いてしまったり、あるいは、別途色調を補正する機能を付与したい場合に色調補正が困難になる等の不具合が生じるからである。一方、全光線透過率が９５％を越える場合、外光の吸収が少なくなり、したがって、反射率を低減させるためには３層以上の層数が必要となり、コストアップを招くからである。
ここで、全光線透過率が７５％未満の場合、用途によっては可視光の取り出し効率が著しく低下し、輝度の低下による視認性の低下を招いてしまったり、あるいは、別途色調を補正する機能を付与したい場合に色調補正が困難になる等の不具合が生じるからである。一方、全光線透過率が９５％を越える場合、外光の吸収が少なくなり、したがって、反射率を低減させるためには３層以上の層数が必要となり、コストアップを招くからである。
この透明積層フィルムに用いられる樹脂としては、少なくとも一軸方向の屈折率が、波長が５５０ｎｍの光に対して１．４８以上かつ１．７５以下であることが好ましい。
この樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマー等が挙げられる。
また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーも挙げられる。
この樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマー等が挙げられる。
また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーも挙げられる。
さらに、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、あるいはこれらのポリマーの混合物等の透明ポリマーも挙げられる。
この樹脂に紫外線吸収剤を添加することにより、耐光性に優れた透明積層フィルムを得ることができる。
この紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、アクリロニトリル誘導体、安息香酸誘導体、有機金属錯塩を挙げることができる。
この紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、アクリロニトリル誘導体、安息香酸誘導体、有機金属錯塩を挙げることができる。
より具体的には、第１種紫外線吸収剤（ＵＶ−１）としては、サリチル酸フェニル、４−ｔ−ブチルフェニルサリチル酸等を、第２種紫外線吸収剤（ＵＶ−２）としては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、第３種紫外線吸収剤（ＵＶ−３）としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を、第４種紫外線吸収剤（ＵＶ−４）としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等を、第５種紫外線吸収剤（ＵＶ−５）としては、レゾルシノール−モノベンゾエート、２′，４′−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等を、第６種紫外線吸収剤（ＵＶ−６）としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができる。
この反射防止膜４を構成する金属微粒子集積層２は、金含有微粒子及び銀含有微粒子を含む金属微粒子集積層形成用塗布液を用いて、また、低屈折率層３は、低屈折率層を構成する材料を含む低屈折率層形成用塗布液を用いて、製膜されることが好ましい。
これらの塗布液に含まれる成分の浸透効果を利用して膜を定着させる場合には、膜形成剤を含まなくともよいが、そうでない場合には、塗布液に膜形成剤を、その濃度が０重量％を越えかつ９０重量％以下となる範囲で添加することが好ましい。この膜形成剤の濃度が９０重量％を超えると、金属微粒子、金属酸化物微粒子、低屈折率材料等を用いた効果が現れ難くなる。
これらの塗布液に含まれる膜形成剤としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｚｎ、Ｓｎ等の金属アルコキシド、またはその加水分解物を使用するのが好ましい。
また、必要に応じて、金属の酢酸塩やギ酸塩等のカルボキシレート類、金属の硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、塩化物、フッ化物等を加えてもよい。
また、低屈折率材料として膜形成機能を有するシラン化合物やフッ素化合物を用いた場合には、他の膜形成剤を用いなくともよい。
また、必要に応じて、金属の酢酸塩やギ酸塩等のカルボキシレート類、金属の硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、塩化物、フッ化物等を加えてもよい。
また、低屈折率材料として膜形成機能を有するシラン化合物やフッ素化合物を用いた場合には、他の膜形成剤を用いなくともよい。
これらの塗布液に界面活性剤等のレベリング剤を添加してもよい。レベリング剤の添加量は、膜形成剤の０．０００１重量％〜１０重量％の範囲が好ましい。１０質量％を超える量を添加してもレベリング剤としての効果に変化がなく、逆に膜強度を低下させる虞がある等の不都合が生じるので好ましくない。
レベリング剤を添加することにより、塗布液の表面張力が低下するので、塗り易くなる。
レベリング剤を添加することにより、塗布液の表面張力が低下するので、塗り易くなる。
レベリング剤の種類及び量は、塗布液の種類、基材または下地層の種類に応じて適宜設定すればよく、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンエーテル、ショ糖脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミン等の非イオン界面活性剤、脂肪酸、脂肪酸塩、ラウリル硫酸塩等のアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルベンゼンスルホン酸またはその塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリ（メタ）アクリル酸またはその塩等が好適に用いられる。
これらの塗布液が金属アルコキシドの加水分解物を含む場合、加水分解のための触媒として、酸触媒または塩基触媒を用いることが好ましい。酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸が好ましい。この触媒の添加量は、０．０１ｍｏｌ以下が好ましく、０．００１ｍｏｌ以下がより好ましい。
金属アルコキシドの加水分解物に対しては、加水分解反応に必要な水を金属アルコキシドに対して、少なくとも１倍モル量、より好ましくは３倍モル量以上かつ３０倍モル以下加えることが好ましい。
金属アルコキシドの加水分解物に対しては、加水分解反応に必要な水を金属アルコキシドに対して、少なくとも１倍モル量、より好ましくは３倍モル量以上かつ３０倍モル以下加えることが好ましい。
これらの塗布液の分散媒としては、膜形成剤が可溶で、ゾル−ゲル反応に通常用いられる有機溶媒が好ましい。例えば、炭素数（ｎ）が１〜１０のアルコール類、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル等のアルコキシアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、テトラヒドロキシフラン、ジオキサン等の環状エーテル類等が好適に用いられる。
これらの塗布液は、例えば、グラビアコート法等のロールコート法、スピンコート法、デイップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の各種塗布方法により透明基材上に塗布することができる。
このようにして形成された塗布膜に乾燥処理、必要に応じて加熱処理を施すことにより、金属微粒子集積層形成用塗布液であれば金属微粒子集積層２を、また、低屈折率層形成用塗布液であれば低屈折率層３を、それぞれ製膜することができる。
このようにして形成された塗布膜に乾燥処理、必要に応じて加熱処理を施すことにより、金属微粒子集積層形成用塗布液であれば金属微粒子集積層２を、また、低屈折率層形成用塗布液であれば低屈折率層３を、それぞれ製膜することができる。
この反射防止膜４の好適な応用分野は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の画像表示装置の表示面を構成する光学フィルターである。
この光学フィルターは、反射防止膜４または透明積層フィルム等の光学部材１を、画像表示装置の表示面に装着、あるいは表示面に直接貼り付けることで形成することができる。
この光学フィルターは、反射防止膜４または透明積層フィルム等の光学部材１を、画像表示装置の表示面に装着、あるいは表示面に直接貼り付けることで形成することができる。
この反射防止膜４または光学部材１を画像表示装置用光学フィルターとして用いる場合には、可視・近赤外腺に対して吸収性を有する色素を含む色素層を光学フィルターの構成要素として加えることが好ましい。その理由は、反射防止膜４が可視・近赤外腺に対する特徴的な透過率特性を有しているために、特定波長に対して吸収性を有する色素と組み合わせることにより、画像表示装置の表示面の特性を高めることができるからである。
より具体的には、４００ｎｍ〜５８０ｎｍ、及び７８０ｎｍ〜２０００ｎｍの波長範囲から選ばれる可視・近赤外腺に対する吸収性を有する色素を用いることが好ましい。
このような吸収特性を有する色素は、反射防止膜、ハードコート層、粘着層、フィルムやシート等の透明基材、のいずれかに含有させてもよく、あるいは着色層を別途設けてもよい。
このような吸収特性を有する色素は、反射防止膜、ハードコート層、粘着層、フィルムやシート等の透明基材、のいずれかに含有させてもよく、あるいは着色層を別途設けてもよい。
また、特定波長に対する選択吸収性を有する色素と組み合わせることにより、色再現性を高めることができる。
また、この色素層をプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の光学フィルターとして用いる場合には、ネオン光（〜５９０ｎｍ）または近赤外線（８５０〜１０００ｎｍ）帯域の光を吸収する目的に用いることが好ましい。
ネオン光を吸収することにより、カラー表示画面の再現面積及びカラー温度などを改善することができる。また、近赤外線を吸収することにより、リモートコントロール等の家電機器の誤動作を防止することができる。
また、この色素層をプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の光学フィルターとして用いる場合には、ネオン光（〜５９０ｎｍ）または近赤外線（８５０〜１０００ｎｍ）帯域の光を吸収する目的に用いることが好ましい。
ネオン光を吸収することにより、カラー表示画面の再現面積及びカラー温度などを改善することができる。また、近赤外線を吸収することにより、リモートコントロール等の家電機器の誤動作を防止することができる。
ネオン光を吸収する色素としては、スクアリリウム系、シアニン系、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、ピロール系等が使用され得る。
また、近赤外線を吸収する色素としては、アミニウム系、イモニウム系、アントラキノン系、フタロシアニン系、ニッケル錯体、ポリメチン系化合物等が使用され得る。
このような色素は、１つまたはそれ以上を選択して用いることが好ましい。
また、近赤外線を吸収する色素としては、アミニウム系、イモニウム系、アントラキノン系、フタロシアニン系、ニッケル錯体、ポリメチン系化合物等が使用され得る。
このような色素は、１つまたはそれ以上を選択して用いることが好ましい。
また、画像表示装置用光学フィルターとして用いる場合には、電磁波遮蔽機能を付与することが好ましい。その理由は、本実施形態の反射防止膜４は金属微粒子に由来する電磁波遮蔽特性を有しているので、この性質を利用して反射防止膜単独、あるいは金属メッシュ膜、またはスパッタ膜等からなる電磁波遮蔽膜と組み合わせることにより、効果的な電磁波遮蔽特性を発現することができるからである。
本発明を実施例及び比較例により説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例に共通の分散液として、下記の分散液を調整した。
（金微粒子分散液）
０．１８ミリモル／リットルの塩化金酸と０．５４ミリモル／リットルのクエン酸ナトリウム二水和物を含有する水溶液１０リットルに、１．２ミリモル／リットルの水素化ホウ素ナトリウム水溶液１．４リットルを加え、コロイド状分散液を得た。次いで、このコロイド状分散液を限外ろ過法により濃縮、精製し、分散濃度が１５重量％の金微粒子分散液を得た。
この金微粒子分散液の金微粒子の粒子径を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定した結果、平均一次粒子径は約５ｎｍであった。
（金微粒子分散液）
０．１８ミリモル／リットルの塩化金酸と０．５４ミリモル／リットルのクエン酸ナトリウム二水和物を含有する水溶液１０リットルに、１．２ミリモル／リットルの水素化ホウ素ナトリウム水溶液１．４リットルを加え、コロイド状分散液を得た。次いで、このコロイド状分散液を限外ろ過法により濃縮、精製し、分散濃度が１５重量％の金微粒子分散液を得た。
この金微粒子分散液の金微粒子の粒子径を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定した結果、平均一次粒子径は約５ｎｍであった。
（銀微粒子分散液）
９．３ミリモル／リットルの硝酸銀と３．０ミリモル／リットルのクエン酸ナトリウム二水和を溶解した水溶液１０リットルに、０．９モル／リットルの硫酸第一鉄水溶液１．２リットルを加えて反応させ、赤褐色の銀ゾルを得た。この銀ゾルを遠心分離により洗浄して不純物イオンを除去したのち、純水を加えて分散濃度が１５重量％の銀微粒子分散液を得た。
この銀微粒子分散液の銀微粒子の粒子径を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定した結果、平均一次粒子径は約１０ｎｍであった。
９．３ミリモル／リットルの硝酸銀と３．０ミリモル／リットルのクエン酸ナトリウム二水和を溶解した水溶液１０リットルに、０．９モル／リットルの硫酸第一鉄水溶液１．２リットルを加えて反応させ、赤褐色の銀ゾルを得た。この銀ゾルを遠心分離により洗浄して不純物イオンを除去したのち、純水を加えて分散濃度が１５重量％の銀微粒子分散液を得た。
この銀微粒子分散液の銀微粒子の粒子径を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定した結果、平均一次粒子径は約１０ｎｍであった。
（実施例１）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．７２ｇ、銀微粒子分散液０．２８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ１を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．７２ｇ、銀微粒子分散液０．２８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ１を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
テトラメトキシシラン（ＴＳＬ８１１４：ＧＥ東芝シリコーン社製）２．６６ｇ、フルオロアルキルシラン（ＴＳＬ８２５７：ＧＥ東芝シリコーン社製）０．７０ｇ、メタクリル基含有シランカップリング剤（ＴＳＬ８３７０：ＧＥ東芝シリコーン社製）０．２０ｇ、２−プロパノールに分散させた中空シリカ微粒子（触媒化成工業社製：シリカ成分２０％）６ｇ、アルコゾールＰ−９（甘粕化学産業社製）８４．３４ｇを混合し攪拌しながら、純水６ｇに１ｍｏｌ／Ｌの硝酸０．１０ｇを溶解した希硝酸を滴下し、そのまま１２時間攪拌し、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
テトラメトキシシラン（ＴＳＬ８１１４：ＧＥ東芝シリコーン社製）２．６６ｇ、フルオロアルキルシラン（ＴＳＬ８２５７：ＧＥ東芝シリコーン社製）０．７０ｇ、メタクリル基含有シランカップリング剤（ＴＳＬ８３７０：ＧＥ東芝シリコーン社製）０．２０ｇ、２−プロパノールに分散させた中空シリカ微粒子（触媒化成工業社製：シリカ成分２０％）６ｇ、アルコゾールＰ−９（甘粕化学産業社製）８４．３４ｇを混合し攪拌しながら、純水６ｇに１ｍｏｌ／Ｌの硝酸０．１０ｇを溶解した希硝酸を滴下し、そのまま１２時間攪拌し、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に厚み１００ｎｍ、屈折率１．５８の易接着層が設けられた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の一主面（易接着層上）に、バーコート法にて金属ゾル塗布液Ａ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１３０℃にて１分乾燥させ、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、光学部材である反射防止膜付き透明基材を得た。
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に厚み１００ｎｍ、屈折率１．５８の易接着層が設けられた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の一主面（易接着層上）に、バーコート法にて金属ゾル塗布液Ａ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１３０℃にて１分乾燥させ、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、光学部材である反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例２）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９０：１０になるように、金微粒子分散液３．６０ｇ、銀微粒子分散液０．４ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ２を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９０：１０になるように、金微粒子分散液３．６０ｇ、銀微粒子分散液０．４ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ２を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ２を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ２を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例３）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が８５：１５になるように、金微粒子分散液３．４０ｇ、銀微粒子分散液０．６ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ３を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が８５：１５になるように、金微粒子分散液３．４０ｇ、銀微粒子分散液０．６ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ３を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ３を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ３を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例４）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．３％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液１．８６ｇ、銀微粒子分散液０．１４ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９７．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ４を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．３％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液１．８６ｇ、銀微粒子分散液０．１４ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９７．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ４を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ４を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ４を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例５）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．４％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液２．４８ｇ、銀微粒子分散液０．１９ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９７．２８ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ５を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．４％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液２．４８ｇ、銀微粒子分散液０．１９ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９７．２８ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ５を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ５を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ５を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例６）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．５％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．１０ｇ、銀微粒子分散液０．２３ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９６．８５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ６を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．５％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．１０ｇ、銀微粒子分散液０．２３ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９６．８５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ６を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ６を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ６を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例７）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．７％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液４．３４ｇ、銀微粒子分散液０．３３ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．２８ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ７を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．７％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液４．３４ｇ、銀微粒子分散液０．３３ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．２８ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液Ａ７を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ７を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ７を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（実施例８）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
実施例１と同様にして、金属ゾル塗布液Ａ１を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
実施例１と同様にして、金属ゾル塗布液Ａ１を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１にて中空シリカ微粒子を空隙含有ナノポーラスシリカ（シリカ含有率：２０％、溶媒：２−プロパノール（住友大阪セメント製）に変更した他は、実施例１と同様にして低屈折率塗布液Ｂ２を作製した。
実施例１にて中空シリカ微粒子を空隙含有ナノポーラスシリカ（シリカ含有率：２０％、溶媒：２−プロパノール（住友大阪セメント製）に変更した他は、実施例１と同様にして低屈折率塗布液Ｂ２を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ１を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ２を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液Ａ１を塗工し、透明な金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ２を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例１）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が１００：０になるように、金微粒子分散液４．００ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ１を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が１００：０になるように、金微粒子分散液４．００ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ１を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ１を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ１を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例２）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が８０：２０になるように、金微粒子分散液３．２０ｇ、銀微粒子分散液０．８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ２を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が８０：２０になるように、金微粒子分散液３．２０ｇ、銀微粒子分散液０．８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ２を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ２を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ２を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例３）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が７５：２５になるように、金微粒子分散液３．００ｇ、銀微粒子分散液１．００ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ３を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が７５：２５になるように、金微粒子分散液３．００ｇ、銀微粒子分散液１．００ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ３を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ３を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ３を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例４）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．１％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液０．６２ｇ、銀微粒子分散液０．０４７ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９９．２８ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ４を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．１％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液０．６２ｇ、銀微粒子分散液０．０４７ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９９．２８ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ４を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ４を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ４を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例５）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．８％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液４．９６ｇ、銀微粒子分散液０．３７ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９４．６２ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ５を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．８％、Ａｕ：Ａｇ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液４．９６ｇ、銀微粒子分散液０．３７ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９４．６２ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ５を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ５を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ５を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例６）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ｒｕ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．７２ｇ、ルテニウム微粒子分散液０．２８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ６を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ｒｕ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．７２ｇ、ルテニウム微粒子分散液０．２８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ６を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ６を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ６を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例７）
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ｐｄ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．７２ｇ、パラジウム微粒子分散液０．２８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ７を作製した。
Ａ．金属ゾル塗布液の調製
固形分０．６％、Ａｕ：Ｐｄ（重量比）が９３：７になるように、金微粒子分散液３．７２ｇ、パラジウム微粒子分散液０．２８ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ７を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ７を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ７を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
（比較例８）
固形分０．６％、Ａｕ：アンチモン添加酸化スズ（ＡＴＯ）（重量比）が０：１００になるように、ＡＴＯ分散液４．００ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ８を作製した。
固形分０．６％、Ａｕ：アンチモン添加酸化スズ（ＡＴＯ）（重量比）が０：１００になるように、ＡＴＯ分散液４．００ｇ、ｂｙｋ３４８（ビックケミー社製）０．０５ｇ、変性エタノール９５．９５ｇを混合し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散することにより、金属ゾル塗布液ＡＲ８を作製した。
Ｂ．低屈折率層形成用塗布液の調製
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
実施例１と同様にして、低屈折率塗布液Ｂ１を作製した。
Ｃ．反射防止膜の形成
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ８を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
実施例１と同様にして金属ゾル塗布液ＡＲ８を塗工し、金属ゾル層を形成した。
次いで、この金属ゾル層上に、バーコート法により低屈折率塗布液Ｂ１を塗工し、オーブン（乾燥機）により１６０℃にて１分間乾燥して硬化させ、厚み０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、反射防止膜付き透明基材を得た。
「評価」
以上により得られた実施例１〜７および比較例１〜８それぞれの反射防止膜付き透明基材の全光線透過率、最小反射率、最大反射率、Δ値、視感度反射率の各評価項目について、次の方法を用いて評価した。
以上により得られた実施例１〜７および比較例１〜８それぞれの反射防止膜付き透明基材の全光線透過率、最小反射率、最大反射率、Δ値、視感度反射率の各評価項目について、次の方法を用いて評価した。
（１）全光線透過率
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、反射防止膜付き透明基材の全光線透過率を測定した。
（２）最小反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定することにより、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光における最小反射率を測定した。
（３）最大反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定することにより、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光における最大反射率を測定した。
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、反射防止膜付き透明基材の全光線透過率を測定した。
（２）最小反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定することにより、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光における最小反射率を測定した。
（３）最大反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定することにより、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光における最大反射率を測定した。
（４）Δ値
上記の最小反射率と最大反射率の測定値から、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光における最大反射率と最小反射率との差を求め、Δ値とした。
（５）視感度反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定し、この測定値に比視感度値を乗じて反射防止膜付き透明基材の視感度反射率を算出した。
上記の最小反射率と最大反射率の測定値から、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光における最大反射率と最小反射率との差を求め、Δ値とした。
（５）視感度反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定し、この測定値に比視感度値を乗じて反射防止膜付き透明基材の視感度反射率を算出した。
実施例１〜３および比較例１〜３の反射防止膜付き透明基材の評価結果を表１に、実施例１、４〜８および比較例４、５の反射防止膜付き透明基材の評価結果を表２に、比較例６〜８の反射防止膜付き透明基材の評価結果を表３に、それぞれ示す。
表１によれば、実施例１〜３では、金微粒子と銀微粒子の重量比（Ａｕ：Ａｇ）を９３：７から８５：１５の範囲としたことにより、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０％以下、Δ値が１．８％以内、視感度反射率も０．５％以下となることが確認された。
一方、比較例１〜３では、金微粒子と銀微粒子の重量比（Ａｕ：Ａｇ）を９３：７から８５：１５の範囲外としたことにより、視感度反射率は０．５％以下であるものの、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２％以上、Δ値が１．８％以上となり、反射光の着色が濃い反射防止膜となっていた。
一方、比較例１〜３では、金微粒子と銀微粒子の重量比（Ａｕ：Ａｇ）を９３：７から８５：１５の範囲外としたことにより、視感度反射率は０．５％以下であるものの、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２％以上、Δ値が１．８％以上となり、反射光の着色が濃い反射防止膜となっていた。
表２によれば、実施例１、４〜８では、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０以下、Δ値が１．８％以内であり、視感反射率も０．５％以下であることが確認された。
一方、比較例４では、全光線透過率が９４％と高いものの、視感度反射率が０．５％以上となり、十分な反射防止特性が得られないことが分かった。
また、比較例５では、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０以下、Δ値が１．８％以内、視感反射率も０．５％以下であるから、反射特性を十分満たすが、全光線透過率が７４％と低く、視認性の悪い反射防止膜であった。
一方、比較例４では、全光線透過率が９４％と高いものの、視感度反射率が０．５％以上となり、十分な反射防止特性が得られないことが分かった。
また、比較例５では、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０以下、Δ値が１．８％以内、視感反射率も０．５％以下であるから、反射特性を十分満たすが、全光線透過率が７４％と低く、視認性の悪い反射防止膜であった。
表３によれば、比較例６では、金−ルテニウム合金膜を用いたために、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０以下、Δ値も１．８％以内となるが、視感反射率が０．５％以上と高くなっている。
また、比較例７では、金−パラジウム合金膜を用いたために、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０以下であるが、Δ値が３．０４％、視感反射率が０．５７％と高くなっている。
さらに、比較例８では、ＡＴＯ膜を用いたために、Δ値は０．７８％と低いが、視感反射率が高くなっている。
これら比較例６〜８は、実施例１〜８に比べて反射防止特性が悪いものであった。
また、比較例７では、金−パラジウム合金膜を用いたために、４５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における最大反射率が２．０以下であるが、Δ値が３．０４％、視感反射率が０．５７％と高くなっている。
さらに、比較例８では、ＡＴＯ膜を用いたために、Δ値は０．７８％と低いが、視感反射率が高くなっている。
これら比較例６〜８は、実施例１〜８に比べて反射防止特性が悪いものであった。
本発明の反射防止膜４は、金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる金属微粒子集積層２を備え、金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径を３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）を９９：１〜８５：１５としたことにより、広い波長範囲に亘って反射防止効果を発現することができるものであるから、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）はもちろんのこと、その他の表示装置等へも適用可能であり、その工業的価値は極めて大きなものである。
１ 光学部材
２ 金属微粒子集積層
３ 低屈折率層
４ 反射防止膜
５ 透明基材
５ａ 一主面
２ 金属微粒子集積層
３ 低屈折率層
４ 反射防止膜
５ 透明基材
５ａ 一主面
Claims (13)
- 金含有微粒子及び銀含有微粒子を集積してなる金属微粒子集積層を備え、
前記金含有微粒子及び銀含有微粒子各々の一次粒子径は３ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下であり、これら金含有微粒子及び銀含有微粒子の重量比（ＷＡｕ：ＷＡｇ）は、９９：１〜８５：１５であることを特徴とする反射防止膜。 - 前記金属微粒子集積層の膜厚は、１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。
- 前記金属微粒子集積層は、前記金含有微粒子及び銀含有微粒子を含有する塗布液により形成してなることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止膜。
- 前記金属微粒子集積層の表面に、この金属微粒子集積層より屈折率の低い低屈折率層を設けてなることを特徴とする請求項１、２または３記載の反射防止膜。
- 前記低屈折率層は、酸化ケイ素を含み、平均粒子径が１０ｎｍ以上かつ６０ｎｍ以下、屈折率が１．３０以上かつ１．４０以下であり、かつ空隙を有する粒子を含有してなることを特徴とする請求項４記載の反射防止膜。
- 前記低屈折率層の膜厚は、５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項４または５記載の反射防止膜。
- 前記低屈折率層の波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は、１．３０以上かつ１．５０以下であることを特徴とする請求項４、５または６記載の反射防止膜。
- 前記低屈折率層は、フッ素、ケイ素、炭素の群から選択される１種または２種以上を含有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーを含む組成物により形成してなることを特徴とする請求項４ないし７のいずれか１項記載の反射防止膜。
- 透明基材上に、請求項１ないし８のいずれか１項記載の反射防止膜を備えてなることを特徴とする光学部材。
- 前記基材の少なくとも一軸方向の屈折率は、波長が５５０ｎｍの光に対して１．４８以上かつ１．７５以下であることを特徴とする請求項９記載の光学部材。
- 視感反射率が０．５％未満、波長が４５０ｎｍ以上かつ８００ｎｍ以下の範囲の光の最大反射率が２．０以下、最小反射率と最大反射率との差が１．８％以内であることを特徴とする請求項９または１０記載の光学部材。
- 波長が５６０ｎｍ以上かつ７５０ｎｍ以下の範囲の垂直入射光に対する全光線透過率が７５％以上かつ９０％以下であることを特徴とする請求項９または１０記載の光学部材。
- 表示面に、請求項１ないし８のいずれか１項記載の反射防止膜または請求項９ないし１２のいずれか１項記載の光学部材を備えてなることを特徴とする表示装置。
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2006
- 2006-09-12 JP JP2006246893A patent/JP2008070459A/ja active Pending
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