TW202023827A - 抗反射膜、偏光板、及顯示設備 - Google Patents

抗反射膜、偏光板、及顯示設備 Download PDF

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Abstract

本發明關於抗反射膜，其具有低的反射度偏差和透光度偏差，可以同時實現高的抗刮性和耐髒性質，並且可以增加顯示設備的螢幕銳利度；且關於包括此抗反射膜的偏光板和顯示設備。

Description

抗反射膜、偏光板、及顯示設備
本發明關於抗反射膜、偏光板、顯示設備。 [相關申請案之交叉參照] 本案主張對韓國智慧財產局於2018年10月17日申請的韓國專利申請案第10-2018-0123703號、2018年10月17日申請的韓國專利申請案第10-2018-0123704號、2019年10月17日申請的韓國專利申請案第10-2019-0128927號、2019年10月17日申請的韓國專利申請案第10-2019-0128928號的優先權，其揭示係以引用方式全部併入本文中。
一般而言，於例如電漿顯示面板(PDP)、液晶顯示器(LCD)等的平面顯示裝置，抗反射膜安裝成致使來自外面之入射光的反射最小化。使光反射最小化的方法包括以下方法：將例如無機細微顆粒等的填料分散於樹脂中、將它塗覆在基底膜上、形成不平整性(抗眩光：anti-glare (AG)塗覆)；使用光干涉，其係在基底膜上形成具有不同折射率的複數層(抗反射；anti-reflective (AR)塗覆)；或者一起使用彼等方法等。
其中於AG塗覆的情形，雖反射光的絕對量等同於通常的硬塗覆，但可以經由不平整而使用光散射來減少進入眼睛的光量以獲得低反射效應。然而，AG塗覆由於表面不平整的緣故而已降低螢幕銳利度，故近來許多研究正進行於AR塗覆。
以使用AR塗覆的膜來說，現正商業化者具有多層結構，其中硬塗層(高折射率層)、低反射率塗層等堆疊在透光基底膜上。然而，使用AR塗覆之既有的抗反射膜具有的問題在於：根據膜的部位，反射度偏差和透光度偏差為大。而且，由於形成複數層的方法分開進行形成每層的過程，故具有的缺點是抗刮性由於層間黏著(界面附著)弱的緣故而降低。
而且，先前為了改善抗反射膜中所包括之低折射率層的抗刮性，主要嘗試了添加多樣之奈米尺寸顆粒(舉例而言為矽石、氧化鋁、沸石等)的方法。然而，在使用奈米尺寸顆粒的情形，難以同時增加低折射層的抗刮性而又降低反射度，並且由於奈米尺寸顆粒的緣故，低折射率層之表面的耐髒性質顯著惡化。
據此，為了減少來自外面之入射光的絕對反射量、減少根據膜部位的反射度偏差和透光度偏差、改善表面的耐髒性質以及抗刮性，正在進行許多研究，但所得的性質改善程度不令人滿意。
＜技術問題＞
本發明的目的是提供一種抗反射膜，其具有低的反射度偏差和透光度偏差，可以同時實現高的抗刮性和耐髒性質，並且可以增加顯示設備的螢幕銳利度。
本發明的另一目的是提供偏光板，其包括上面的抗反射膜。
本發明的另一目的是提供顯示設備，其包括上面的抗反射膜並且提供高螢幕銳利度。 ＜技術解決方案＞
在此提供一種抗反射膜，其包括低可透溼性聚合物膜(low moisture permeable polymer film)、硬塗層、低折射率層，其中於反射模式X光繞射(X-ray diffraction，XRD)圖案，第一尖峰出現在22到24°的2θ值，並且第二尖峰出現在24到27°的2θ值。
而且，在此也提供一種偏光板，其包括上面解釋的抗反射膜。
而且，在此也提供一種顯示設備，其包括上面解釋的抗反射膜。
下文將更詳細解釋根據本發明之特定實施態樣的抗反射膜、偏光板、顯示設備。
如在此所用，使用「第一」和「第二」等詞以解釋多樣的建構元件，並且該等詞僅用於分辨一建構元件與另一建構元件。
而且，低折射率層可以意謂該層具有低折射率，舉例而言，該層在550奈米波長具有約1.2到1.8的折射率。
而且，對於特定的測量量x和y，當x值改變並且根據x值而記錄y值時，若出現y的最大值(或極值)，則尖峰意謂該部位。其中，最大值意謂周邊部分中的最大值，並且極值意謂瞬變率為0的值。
而且，中空無機顆粒所意謂的顆粒是無機顆粒的表面和/或裡面存在了空的空間。
而且，(甲基)丙烯基同時包括丙烯基和甲基丙烯基。
而且，(共)聚合物同時包括共聚物和同元聚合物。
而且，含氟化合物所意謂的化合物在化合物中包括至少一個氟原子。
如在此所用，光可聚合的化合物通常是指藉由照射光所聚合的聚合化合物，舉例而言是照射可見光或紫外線。
根據本發明的一實施態樣，提供的是一種抗反射膜，其包括低可透溼性聚合物膜、硬塗層、低折射率層，其中於反射模式X光繞射(XRD)圖案，第一尖峰出現在22到24°的2θ值，並且第二尖峰出現在24到27°的2θ值。
本發明人在抗反射膜的研究有所進展，透過實驗確認了一種抗反射膜，其中於反射模式X光繞射(XRD)圖案，第一尖峰出現在22到24°2θ值，並且第二尖峰出現在24到27°2θ值，則透過整個抗反射膜而展現類似的反射度和透光度，因此具有小的反射度偏差和透光度偏差、可以同時實現高的抗刮性和耐髒性質、具有顯示設備的螢幕銳利度，並且完成了本發明。
抗反射膜具有透過整個膜之小的反射度偏差和透光度偏差，因此可以增加顯示設備的螢幕銳利度，並且具有優異的抗刮性和高耐髒性質，因此可以輕易適用於顯示設備或偏光板和類似者的製程，而無特定限制。
特定而言，在X光照射模式中，可以使用反射模式來計算X光繞射圖案。
從根據一實施態樣之抗反射膜所獲得的反射模式X光繞射(XRD)圖案，可以出現二或更多尖峰。特定而言，二尖峰可以出現在22到27°的2θ。於出現在2θ為22到27°的二尖峰，出現在相對為小2θ的尖峰定義成第一尖峰，並且出現在相對為大2θ的尖峰定義成第二尖峰。更特定而言，第一尖峰和第二尖峰可以基於24°而分辨。
對於特定範例，出現在2θ為22到24°的尖峰是第一尖峰，並且出現在2θ為24到27°的尖峰是第二尖峰。
於抗反射膜，每個尖峰出現在22到24°的2θ和24到27°的2θ，並且第一尖峰(P1)之強度對第二尖峰(P2)之強度的比例可以為0.4或更大、0.45到2.5、或0.5到2。藉此，類似的反射度和透光度可以透過整個抗反射膜來展現，因此實現的抗反射膜具有低的反射度偏差和透光度偏差，並且具有改善的抗刮性或耐髒性質。
同時，當X光照射到特定晶面時，入射角(θ)意謂晶面和X光的夾角；並且在x-y平面的x軸是進入X光之入射角的2倍(2θ)而x-y平面的y軸是繞射強度的圖形中，繞射尖峰意謂第一導數(切線的斜率，dy/dx)為0的點，其中隨著進入X光之入射角的2倍(2θ) x軸在正方向上增加，繞射強度y軸對2θ值x軸的第一導數(切線的斜率，dy/dx)從正改變到負。
第一尖峰和第二尖峰的2θ值可以源自低可透溼性聚合物膜中之聚合物的晶態，並且第一尖峰(P1)之強度對第二尖峰(P2)之強度的比例可以源自低溼氣聚合物膜中之聚合物晶體的排列程度。
特定而言，低可透溼性聚合物膜中之聚合物的晶態可以由反射模式X光繞射(XRD)圖案中的尖峰產生所顯示。更特定而言，低可透溼性聚合物膜中的(100)晶面可以顯示成在24到27°之2θ的第二尖峰，並且低可透溼性聚合物膜中的(-110)晶面可以顯示成在22到24°之2θ的第一尖峰。
而且，低可透溼性聚合物膜中之聚合物晶體的排列程度可以顯示成第一尖峰(P1)之強度對第二尖峰(P2)之強度的比例，並且比例愈高，則聚合物晶體的排列程度愈高，因此聚合物晶體可以均勻排列於低可透溼性聚合物膜中。
低折射率層可以包括黏結劑樹脂和分散於黏結劑樹脂中的無機奈米粒子。
同時，黏結劑樹脂可以包括光可聚合的化合物之(共)聚合物。形成黏結劑樹脂之光可聚合的化合物可以包括單體或寡聚物，其包括乙烯基或(甲基)丙烯酸酯。特定而言，光可聚合的化合物可以包括單體或寡聚物，其包括1或更多、2或更多、或3或更多個乙烯基或(甲基)丙烯酸酯。
以包括(甲基)丙烯酸酯的單體或寡聚物來說，可以提及三(甲基)丙烯酸新戊四酯、四(甲基)丙烯酸新戊四酯、五(甲基)丙烯酸二新戊四酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四酯、七(甲基)丙烯酸三新戊四酯、三氯乙烯二異氰酸酯、二異氰酸二甲苯、二異氰酸六亞甲酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷聚單乙醚三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三甲基丙烯酸酯、二甘醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸六乙酯、甲基丙烯酸丁酯、或其二或更多者的混合物；或胺甲酸乙酯修飾的丙烯酸酯寡聚物、環氧化丙烯酸酯寡聚物、醚丙烯酸酯寡聚物、樹枝狀丙烯酸酯寡聚物、或其二或更多者的混合物。其中，寡聚物的分子量可以為1,000到10,000。
以包括乙烯基的單體或寡聚物來說，可以提及二乙烯苯、苯乙烯或對甲基苯乙烯。
雖衍生自黏結劑樹脂中之光可聚合的化合物的成分含量無顯著限制，但考慮最終製備之低折射率層或抗反射膜的機械性質，光可聚合的化合物之含量可以為10重量%到80重量%、15到70重量%、20到60重量%、或30到50重量%。若光可聚合的化合物之含量小於10重量%，則低折射率層的抗刮性或耐髒性質可以顯著惡化；若它超過80重量%，則反射度可以增加。
同時，黏結劑樹脂可以進一步包括光可聚合的化合物之經交聯的聚合物、包括光反應性官能基的含氟化合物、經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷。
由於包括光反應性官能基的含氟化合物中所包括之氟原子的性質，故抗反射膜與液體或有機物質的交互作用能量可以降低，因此轉移到抗反射膜之汙染物的量可以減少、可以避免轉移的汙染物留在表面上、汙染物本身可以輕易移除。
而且，於形成低折射率層和抗反射膜的過程，包括光反應性官能基之含氟化合物中所包括的反應性官能基可以作為交聯，藉此增加低折射率層和抗反射膜的物理耐用性、抗刮性、熱穩定性。
於包括光反應性官能基的含氟化合物，一或多個光反應性官能基可以被包括或替代，並且光反應性官能基意謂藉由照射光(舉例而言照射可見光或紫外線)而能夠參與聚合反應的官能基。光反應性官能基可以包括藉由照射光而能夠參與聚合反應的多樣官能基，其特定範例可以包括(甲基)丙烯酸酯基、環氧基、乙烯基或巰基。
含氟化合物包括光反應性官能基可以具有2,000到200,000的重量平均分子量(就聚苯乙烯而言所轉換的重量平均分子量，膠體滲透層析儀[GPC]所測量)，較佳而言為5,000到100,000。
若包括光反應性官能基之含氟化合物的重量平均分子量太小，則含氟化合物可以不均勻且有效排列在低折射率層的表面上而是定位在裡面，因此低折射率層和抗反射膜之表面的耐髒性質可以惡化，並且低折射率層和抗反射膜裡的交聯密度可以降低，因此例如整體強度或抗刮性和類似者的機械性質可以惡化。而且，若包括光反應性官能基之含氟化合物的重量平均分子量太高，則低折射率層和抗反射膜的模糊度可以增加，或透光度可以減少，並且低折射率層和抗反射膜的強度也可以惡化。
特定而言，包括光反應性官能基的含氟化合物可以選自由下列所組成之群組中的一或多者：(i)經一或多個光反應性官能基所取代的脂族化合物或脂環化合物，其中至少一個碳經一或多個氟原子所取代；(ii)經一或多個光反應性官能基所取代的雜脂族化合物或雜脂環化合物，其中至少一個氫經氟所替代，並且至少一個碳經矽所替代；(iii)經一或多個光反應性官能基所取代的聚二烷基矽氧烷系聚合物，其中至少一個矽經一或多個氟原子所取代(舉例而言為基於聚二甲矽氧烷的聚合物)；(iv)經一或多個光反應性官能基所取代的聚醚化合物，其中至少一個氫經氟所替代。
包括於低折射率層中的黏結劑樹脂可以包括光可聚合的化合物之經交聯的聚合物和包括光反應性官能基的含氟化合物。
基於100重量份的衍生自光可聚合的化合物之成分，經交聯的聚合物可以包括1到300重量份、2到250重量份、3到200重量份、5到190重量份、或10到180重量份的衍生自包括光反應性官能基的含氟化合物之成分。包括光反應性官能基之含氟化合物對光可聚合的化合物之含量是基於包括光反應性官能基之含氟化合物的總含量。若包括光反應性官能基的含氟化合物相較於光可聚合的化合物而過度添加，則低折射率層可以沒有足夠的耐用性或抗刮性。而且，若包括光反應性官能基之含氟化合物相較於光可聚合的化合物之含量太小，則低折射率層可以沒有足夠的機械性質，例如耐髒性質或抗刮性和類似者。
包括光反應性官能基的含氟化合物可以進一步包括矽或矽化合物。亦即包括光反應性官能基的含氟化合物可以有選擇地在裡面包含矽或矽化合物，並且特定而言，包括光反應性官能基的含氟化合物中之矽的含量可以為0.1到20重量%。
包括光反應性官能基的含氟化合物中之矽或矽化合物的含量可以由通常已知的分析方法來確認，舉例而言為感應耦合電漿(inductively coupled plasma，ICP)分析。
包括光反應性官能基的含氟化合物中所包括的矽可以增加與低折射率層中所包括之其他成分的相容性，藉此避免在最終製備的低折射率層中產生模糊度並且增加透明度，並且可以改善最終製備的低折射率層或抗反射膜之表面的滑動性質以增加抗刮性。
同時，若包括光反應性官能基的含氟化合物中之矽的含量變得太大，則低折射率層或抗反射膜可以沒有足夠的透光度或抗反射效能，並且表面的耐髒性質也可以惡化。
同時，經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷由於表面上存在的反應性官能基而可以增加低折射率層的機械性質(舉例而言為抗刮性)，並且相對於使用先前已知之細微顆粒(例如矽石、氧化鋁、沸石和類似者)的情形，它可以改善低折射率層的抗鹼性，並且改善平均反射度或外觀性質(例如色彩和類似者)。
聚矽倍半氧烷可以寫成(RSiO1.5 )n ，其中n是4到30或8到20，並且它可以具有多樣的結構，例如隨機結構、梯形、籠、部分籠和類似者。較佳而言，為了增加低折射率層和抗反射膜的性質和品質，以經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷來說，可以使用具有籠結構而經一或多個反應性官能基所取代的多面體型寡聚矽倍半氧烷。
而且，更佳而言，經一或多個反應性官能基所取代而具有籠結構的多面體型寡聚矽倍半氧烷可以於分子中包括8到20個矽原子。
而且，籠結構之多面體型寡聚矽倍半氧烷的至少一個矽可以經反應性官能基所取代，並且未經反應性官能基所取代的矽可以經以上解釋的非反應性官能基所取代。
由於籠結構之多面體型寡聚矽倍半氧烷的至少一個矽原子經反應性官能基所取代，故可以改善低折射率層和黏結劑樹脂的機械性質；並且由於剩餘矽原子經非反應性官能基所取代，故立體障礙顯得顯著減少矽氧烷鍵(-Si-O-)暴露在外的頻率或機率，藉此改善低折射率層和黏結劑樹脂的抗鹼性。
取代聚矽倍半氧烷的反應性官能基可以包括選自由下列所組成的群組中之一或多個官能基：醇基、胺基、羧酸基、環氧基、醯亞胺基、(甲基)丙烯酸酯基、腈基、降莰烯基、烯烴基(烯丙基、環烯基或乙烯二甲矽基和類似者)、聚乙二醇基、巰基、及乙烯基；較佳而言為環氧基或(甲基)丙烯酸酯基。
以反應性官能基的特定範例來說，可以提及(甲基)丙烯酸酯基、C1-20烷基(甲基)丙烯酸酯基、C3-20環烷基環氧基、C1-10烷基環烷環氧基。烷基(甲基)丙烯酸酯基意謂未鍵結於(甲基)丙烯酸酯的另一部分「烷基」(alkyl)是鍵結位置，環烷基環氧基意謂未鍵結於環氧基的另一部分「環烷基」(cycloalkyl)是鍵結位置，並且烷基環烷環氧基意謂未鍵結於環烷環氧基的另一部分「烷基」(alkyl)是鍵結位置。
同時，除了上面解釋的反應性官能基以外，經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷可以進一步包括選自由下列所組成的群組中之一或多個非反應性官能基：C1-20線性或分支的烷基、C6-20環戊基、C6-20芳基。由於反應性官能基和非反應性官能基取代於聚矽倍半氧烷的表面上，故在經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷中，矽烷鍵(-Si-O)可以定位在分子裡面而不暴露在外，藉此進一步增加低折射率層和抗反射膜的抗鹼性和抗刮性。
以經一或多個反應性官能基所取代而具有籠結構之多面體型寡聚矽倍半氧烷(polyhedral oligomeric silsesquioxane，POSS)的範例來說，可以提及經一或多個醇所取代的POSS，例如TMP二醇異丁基POSS、環己二醇異丁基POSS、1,2-丙二醇異丁基POSS、八(3-羥基-3-甲丁二甲矽氧基)POSS和類似者；經一或多個胺所取代的POSS，例如胺丙基異丁基POSS、胺丙基異辛基POSS、胺乙基胺丙基異丁基POSS、N-苯基胺丙基POSS、N-甲基胺丙基異丁基POSS、八銨POSS、胺苯基環戊基POSS、胺苯基異丁基POSS和類似者；經一或多個羧酸所取代的POSS，例如順丁烯醯胺酸-環戊基POSS、順丁烯醯胺酸-異丁基POSS、八順丁烯醯胺酸POSS和類似者；經一或多個環氧基所取代的POSS，例如環氧環戊基異丁基POSS、環氧環戊基POSS、環氧丙基POSS、環氧丙基乙基POSS、環氧丙基異丁基POSS、環氧丙基異辛基POSS和類似者；經一或多個醯亞胺所取代的POSS，例如順丁烯二醯亞胺環戊基POSS、順丁烯二醯亞胺異丁基POSS和類似者；經一或多個(甲基)丙烯酸酯所取代的POSS，例如丙烯醯異丁基POSS、(甲基)丙烯異丁基POSS、(甲基)丙烯酸環戊酯POSS、(甲基)丙烯酸異丁酯POSS、(甲基)丙烯酸乙酯POSS、(甲基)丙烯乙基POSS、(甲基)丙烯異辛酯POSS、(甲基)丙烯異辛基POSS、(甲基)丙烯苯基POSS、(甲基)丙烯POSS、丙烯醯POSS和類似者；經一或多個腈基所取代的POSS，例如氰丙基異丁基POSS和類似者；經一或多個降莰烯基所取代的POSS，例如降
Figure 108137544-A0304-12-01
烯基乙基乙基POSS、降
Figure 108137544-A0304-12-01
烯基乙基異丁基POSS、降
Figure 108137544-A0304-12-01
烯基乙基二矽氧異丁基POSS、參降
Figure 108137544-A0304-12-01
烯基異丁基POSS和類似者；經一或多個乙烯基所取代的POSS，例如烯丙基異丁基POSS、單乙烯異丁基POSS、八環己基二甲矽基POSS、八乙烯二甲矽基POSS、八乙烯POSS和類似者；經一或多個烯烴所取代的POSS，例如烯丙基異丁基POSS、單乙烯異丁基POSS、八環己基二甲矽基POSS、八乙烯二甲矽基POSS、八乙烯POSS和類似者；經C5-30聚乙二醇(PEG)所取代的POSS；經一或多個巰基所取代的POSS，例如巰丙基異丁基POSS或巰丙基異辛基POSS和類似者。
基於100重量份的光可聚合的化合物，光可聚合的化合物之經交聯的聚合物、包括光反應性官能基的含氟化合物、經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷可以包括0.5到60重量份、1.5到45重量份、3到40重量份、或5到30重量份的經一或多個反應性官能基所取代之聚矽倍半氧烷。
若衍生自一或多個反應性官能基所取代之聚矽倍半氧烷的成分含量相較於衍生自黏結劑樹脂中之光可聚合的化合物的成分太小，則可難以充分確保低折射率層的抗刮性。而且，若衍生自一或多個反應性官能基所取代之聚矽倍半氧烷的成分含量相較於衍生自黏結劑樹脂中之光可聚合的化合物的成分太大，則低折射率層或抗反射膜的透明度可以惡化，並且抗刮性可以相反地惡化。
同時，無機細微顆粒意謂具有奈米或微米尺寸直徑的無機顆粒。
特定而言，無機細微顆粒可以包括實心無機奈米粒子和/或中空無機奈米粒子。
實心無機奈米粒子意謂具有100奈米或更小之平均直徑的顆粒，其裡面不存在空的空間。
而且，中空無機奈米粒子意謂具有200奈米或更小之平均直徑的顆粒，其表面和/或裡面存在空的空間。
實心無機奈米粒子可以具有0.5到100奈米、1到80奈米、2到70奈米、或5到60奈米的平均直徑。
中空無機奈米粒子可以具有1到200奈米、10到150奈米、20到130奈米、30到110奈米、或40到100奈米的平均直徑。
同時，實心無機奈米粒子和中空無機奈米粒子都可以在表面上包括選自由(甲基)丙烯酸酯基、環氧基、乙烯基、巰基所組成之群組中的一或多個反應性官能基。由於實心無機奈米粒子和中空無機奈米粒子在表面上都包括上面解釋的反應性官能基，故低折射率層可以具有較高的交聯密度，藉此確保進一步改善抗刮性和耐髒性質。
以中空無機奈米粒子來說，可以單獨使用表面上塗覆了含氟化合物的奈米粒子，或與表面上未塗覆含氟化合物的中空無機奈米粒子組合使用。若中空無機奈米粒子的表面塗覆了含氟化合物，則表面能可以進一步降低，藉此進一步增加低折射率層的耐用性或抗刮性。
以在中空無機奈米粒子之表面上塗覆含氟化合物的方法來說，可以使用通常已知的顆粒塗覆方法或聚合方法而無特定限制；舉例而言，中空無機奈米粒子和含氟化合物可以於存在了水和催化劑下受到溶膠–凝膠反應，以透過水解和縮合反應而將含氟化合物黏結在中空無機奈米粒子的表面上。
中空無機奈米粒子的特定範例可以包括中空矽石顆粒。中空矽石可以包括替代於表面上的官能基，如此則它可以更易分散於有機溶劑中。可以取代於中空矽石顆粒表面上之有機官能基的範例無顯著限制，並且舉例而言，(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基、羥基、胺基、烯丙基、環氧基、異氰酸酯基、胺基、或氟和類似者可以替代於中空矽石的表面上。
基於100重量份的光可聚合的化合物，低折射率層的黏結劑樹脂可以包括10到600重量份、20到550重量份、50到500重量份、100到400重量份、或150到350重量份的無機細微顆粒。若無機細微顆粒過度添加，則由於黏結劑含量減少的緣故，塗覆膜的抗刮性或耐磨性可以惡化。
同時，低折射率層可以如下而獲得：在低可透溼性聚合物膜上塗覆包括光可聚合的化合物之光可固化的塗覆組成物、包括反應性官能基的含氟化合物、經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷、無機細微顆粒，並且將塗覆產品光固化。
而且，光可固化的塗覆組成物可以進一步包括光起始劑。因此，在從上面解釋之光可固化的塗覆組成物所製備的低折射率層中，可以保有光聚合起始劑。
以光聚合起始劑來說，可以使用已知可用於光可固化之樹脂組成物的化合物而無特定限制，並且特定而言，可以使用基於二苯基酮的化合物、基於苯乙酮的化合物、基於雙咪唑的化合物、基於三
Figure 108137544-A0304-12-02
的化合物、基於肟的化合物或其二或更多者的混合物。
基於100重量份的光聚合化合物，光聚合起始劑所可使用的含量為1到100重量份、5到90重量份、10到80重量份、20到70重量份、或30到60重量份。若光聚合起始劑的量太小，則可以產生未於光固化步驟中固化而殘留的材料。若光聚合起始劑的量太大，則未反應的起始劑可以留存成雜質或者可以減少交聯密度，因此所製備之膜的機械性質可以惡化或反射度可以顯著增加。
而且，光可固化的塗覆組成物可以進一步包括有機溶劑。有機溶劑的非限制性範例可以包括酮、醇、乙酸、醚、或其二或更多者的混合物。
以有機溶劑的特定範例來說，可以提及：酮，例如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙醯丙酮、或異丁基酮和類似者；醇，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、或三級丁醇和類似者；乙酸，例如乙酸乙酯、乙酸異丙酯、或聚乙二醇單甲基醚乙酸酯和類似者；醚，例如四氫呋喃或丙二醇單甲基醚和類似者；其二或更多者的混合物。
當混合光可固化之塗覆組成物中所包括的每個成分時，可以添加有機溶劑；或在每個成分分散或混合於有機溶劑中並且添加之時，有機溶劑可以包括於光可固化的塗覆組成物中。若光可固化的塗覆組成物中之有機溶劑的含量太小，則光可固化的塗覆組成物之流動性可以惡化而產生缺陷，例如最終製備的膜中有條紋。而且，若過度添加有機溶劑，則固態含量可以減少，因此可以不充分達成塗覆和膜形成，並且膜的性質或表面性質可以惡化，而可以在乾燥和固化過程期間產生缺陷。因此，光可固化的塗覆組成物可以包括有機溶劑，使得所包括之成分的總固體含量濃度可以變成1重量%到50重量%、或2到20重量%。
同時，為了施加光可固化的塗覆組成物，可以使用通常所用的方法和設備而無特定限制，並且舉例而言，可以使用例如麥爾(Meyer)棒等的棒塗覆、凹版塗覆、2輥逆轉塗覆、真空槽縫模塗覆、2輥塗覆等。
於光可固化的塗覆組成物的光固化步驟，可以照射200~400奈米波長的紫外光(UV)或可見光，其中曝光量較佳而言可以為每平方公分100到4,000毫焦耳。曝光時間無特定限制，並且可以根據所用的曝光設備、照射光線的波長或曝光量而適當改變。
而且，於光可固化的塗覆組成物的光固化步驟，可以進行氮沖洗等如此以施加氮氣氛條件。
同時，以硬塗層來說，可以使用通常已知的硬塗層而無特定限制。
硬塗層的一範例可以包括一種硬塗層，其包括：黏結劑樹脂，其包括光可固化的樹脂；以及有機或無機細微顆粒，其分散於黏結劑樹脂中。
硬塗層中所包括之光可固化的樹脂可以是光可固化的化合物之聚合物，其若照射例如UV等光則能誘發聚合反應，其為此技術通常所知。特定而言，光可固化的樹脂可以包括選自由下列所組成之群組中的一或多者：反應性丙烯酸酯寡聚物，例如丙烯酸胺甲酸乙酯寡聚物、環氧化丙烯酸酯寡聚物、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯；以及多官能性丙烯酸酯單體，例如二新戊四醇六丙烯酸酯、二新戊四醇羥五丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、三亞甲丙基三丙烯酸酯、丙氧化甘油三丙烯酸酯、三甲基丙烷乙氧三丙烯酸酯、1,5-己二醇丙烯酸酯、丙氧化甘油三丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯。
雖有機或無機細微顆粒的顆粒直徑無特定限制，但舉例而言，有機細微顆粒可以具有1到10微米的顆粒直徑，並且無機細微顆粒可以具有1奈米到500奈米、或1奈米到300奈米的顆粒直徑。有機或無機細微顆粒的顆粒直徑可以定義成體積平均顆粒直徑。
而且，雖包括於硬塗膜中之有機或無機細微顆粒的特定範例無限制，但舉例而言，有機或無機細微顆粒可以是選自由基於丙烯基的樹脂、基於苯乙烯的樹脂、環氧樹脂、尼龍樹脂所組成之群組的有機細微顆粒，或是選自由氧化矽、二氧化鈦、氧化銦、氧化錫、氧化鋯、氧化鋅所組成之群組的無機細微顆粒。
硬塗層的黏結劑樹脂可以進一步包括高分子量(共)聚合物，其具有10,000或更大、13,000或更大、15,000到100,000、或20,000到80,000的數量平均分子量。高分子量(共)聚合物可以是選自由下列所組成之群組中的一或多者：基於纖維素的聚合物、基於丙烯基的聚合物、基於苯乙烯的聚合物、基於環氧化物的聚合物、基於尼龍的聚合物、基於胺甲酸乙酯的聚合物、基於聚烯的聚合物。
同時，硬塗層的另一範例可以包括一種硬塗層，其包括：光可固化的樹脂之有機聚合物樹脂；以及抗靜電劑，其分散於黏結劑樹脂中。
抗靜電劑可以是：四級銨鹽化合物；吡啶鹽；具有1到3個胺基的陽離子化合物；陰離子化合物，例如磺酸鹼、硫酯鹼、磷酯鹼、膦酸鹼和類似者；兩性化合物，例如基於胺基酸的或基於胺硫酯的化合物和類似者；非離子化合物，例如基於亞胺醇的化合物、基於甘油的化合物、基於聚乙二醇的化合物和類似者；有機金屬化合物，例如包括錫或鈦的烷氧化金屬化合物和類似者；金屬螯合化合物，例如有機金屬化合物的乙醯丙酮鹽；其二或更多者的反應產物或聚合產物；其二或更多者的混合物。在此，四級銨鹽化合物可以是分子中具有一或多個四級銨鹽基的化合物，並且可以使用低分子型或高分子型而無限制。
而且，以抗靜電劑來說，也可以使用導電聚合物和金屬氧化物細微顆粒。以導電聚合物來說，可以提及芳族共軛聚(對苯)、雜環共軛聚吡咯、聚噻吩、脂族共軛聚乙炔、包含雜原子的共軛聚苯胺、混合型共軛聚(伸苯乙烯)、分子中具有多個共軛鏈的雙鏈型共軛化合物、當中共軛聚合物鏈接枝或嵌段聚合到飽和聚合物的導電複合物和類似者。而且、以金屬氧化物細微顆粒來說，可以提及氧化鋅、氧化銻、氧化錫、氧化鈰、氧化銦錫、氧化銦、氧化鋁、摻雜銻的氧化錫、摻雜鋁的氧化鋅和類似者。
包括光可聚合的樹脂之有機聚合物樹脂以及分散於有機聚合物樹脂中之抗靜電劑的硬塗層可以進一步包括選自由下列所組成之群組的一或多個化合物：基於烷氧基矽烷的寡聚物和基於烷氧化金屬的寡聚物。
雖基於烷氧基矽烷的化合物可以是本技術領域中通常所用者，但舉例而言，它可以是選自由下列所組成之群組的一或多個化合物：四甲氧矽烷、四乙氧矽烷、四異丙氧矽烷、甲基三甲氧矽烷、甲基三乙氧矽烷、甲基丙烯醯丙基三甲氧矽烷、環氧丙基三甲氧矽烷、環氧丙基三乙氧矽烷。
而且，基於烷氧化金屬的寡聚物之製備可以是使包括基於烷氧化金屬的化合物和水的組成物作溶膠–凝膠反應。溶膠–凝膠反應可以類似於上面解釋基於烷氧基矽烷的寡聚物之製備方法的方法來進行。然而，由於基於烷氧化金屬的化合物可以與水快速反應，故溶膠–凝膠反應可以將基於烷氧化金屬的化合物稀釋於有機溶劑中然後緩緩滴水來進行。此時，考慮反應效率，較佳的是基於烷氧化金屬的化合物對水的莫耳比例(基於金屬離子)控制在3到170的範圍裡。
在此，基於烷氧化金屬的化合物可以是選自由下列所組成的群組之一或多個化合物：四異丙氧化鈦、異丙氧化鋯、異丙氧化鋁。
同時，低可透溼性膜可以是透明膜，其具有90%或更大的透光度和1%或更小的模糊度。
低可透溼性膜可以是具有低可透溼性的聚合物膜，其中幾乎不發生穿過膜的溼氣滲透，亦即溼氣從具有高蒸氣壓之處移動到具有低蒸氣壓之處；舉例而言，在30到40℃的溫度和90到100%的相對溼度下，低可透溼性聚合物膜可以具有每平方公尺•天50公克或更小、每平方公尺•天30公克或更小、每平方公尺•天20公克或更小、或每平方公尺•天15公克或更小的透溼性。若低可透溼性聚合物膜的透溼性大於每平方公尺•天10公克，則溼氣可以滲透到抗反射膜中，因此可以在高溫環境下產生施加抗反射膜之顯示器的惡化。
如上所釋，第一尖峰和第二尖峰的2θ值可以源自低可透溼性聚合物膜中之聚合物的晶態，並且第一尖峰(P1)之強度對第二尖峰(P2)之強度的比例可以源自低可透溼性聚合物膜中之聚合物晶體的排列程度。
而且，低可透溼性聚合物膜中之聚合物晶體的排列程度可以關聯於低可透溼性聚合物膜製程中的抽拉比例、抽拉溫度、抽拉後的冷卻速度，並且它也可以關聯於低可透溼性聚合物膜在一方向和垂直於該一方向之方向的拉伸強度比例。
特定而言，低可透溼性聚合物膜在一方向和在垂直於該一方向的方向展現不同的拉伸強度值；舉例而言，在一方向的拉伸強度對垂直於該一方向之方向的拉伸強度的比例可以為2或更大、2.1到20、2.2到10、或2.3到5。其中，在垂直於該一方向之方向的拉伸強度小於在該一方向的拉伸強度。若拉伸強度比例小於2，則根據抗反射膜之部位的反射度偏差和透光度偏差可以為大，並且由於UV干涉的緣故而可以產生彩虹現象。
在一方向的拉伸強度可以是低可透溼性聚合物膜在機器方向(machine direction，MD)或橫向(transverse direction，TD)的拉伸強度，並且特定而言，它可以是30Mpa到1Gpa、40Mpa到900Mpa、或50Mpa到800Mpa。
垂直於該一方向的拉伸強度可以是低可透溼性聚合物膜在DM或TD的拉伸強度，並且特定而言，它可以是30Mpa到1Gpa、40Mpa到900Mpa、或50Mpa到800Mpa。
低可透溼性聚合物膜可以具有在400奈米到800奈米波長所測量之5,000奈米或更大、7,000到50,000奈米、或8,000到40,000奈米的厚度方向遲滯(Rth)。以此種低可透溼性聚合物膜的特定範例來說，可以提及單軸抽拉的聚對酞酸乙二酯膜或雙軸抽拉的聚對酞酸乙二酯膜。
若低可透溼性聚合物膜的厚度方向遲滯(Rth)小於5,000奈米，則根據抗反射膜之部位的反射度偏差和透光度偏差可以為大，並且由於UV干涉的緣故而可以產生彩虹現象。
厚度方向遲滯可以透過通常已知的測量方法和測量設備來確認。舉例而言，以厚度方向遲滯的測量設備來說，可以提及AXOMETRICS企業所製造的產品名AxoScan。
舉例而言，厚度方向遲滯(Rth)可以計算如下：將透光基底膜的折射率數值(589奈米)輸入測量裝置，然後在25℃溫度和40%溼度下使用590奈米波長光來測量透光基底膜的厚度方向遲滯，並且基於厚度方向遲滯的測量值(測量裝置自動測量[自動計算]所獲得的數值)，而將該遲滯轉換成每10微米膜厚度的遲滯值。而且，透光基板的尺寸無特定限制，只要它大於測量裝置之臺座的側光部(直徑：約1公分)即可，但它可以具有高76公分、寬52毫米、厚13微米的尺寸。
而且，用於測量厚度方向遲滯(Rth)之「透光基板的折射率(589奈米)」的數值可以計算如下：形成非抽拉膜，其包括與形成要測量遲滯的膜之透光基板相同種類的樹脂膜，然後測量對測量樣品的面內方向(垂直於厚度方向的方向)之589奈米光的折射率，其係在23℃的溫度條件下、使用589奈米的光源、使用折射測量設備(Atagoa有限公司所製造的產品名「NAR-1T SOLID」)、使用非抽拉膜作為測量樣品(若要測量的膜是非抽拉膜，則膜本身可以使用作為測量樣品)。
而且，低可透溼性聚合物膜的材料可以是三乙醯纖維素、環烯烴聚合物、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚對酞酸乙二酯和類似者。而且，考慮生產力和類似者，基底膜的厚度可以為10到300微米，但對此無限制。
一實施態樣的抗反射膜展現低反射度，因此可以實現高透光度和優異的光學性質。特定而言，抗反射膜在380奈米到780奈米的UV波長區域可以具有2.0%或更小、1.6%或更小、1.2%或更小、0.05%到0.9%、0.10%到0.70%、或0.2%到0.5%的平均反射度。
而且，一實施態樣的抗反射膜展現低的反射度偏差和透光度偏差，因此可以實現優異的光學性質。特定而言，抗反射膜的平均反射度偏差可以為0.2%p或更小、0.01到0.15%p、或0.01到0.1%p。而且，抗反射膜的透光度偏差可以為0.2%p或更小、0.01到0.15%p、或0.01到0.1%p。
平均反射度偏差意謂在抗反射膜中所選二或更多特定點於380到780奈米的UV波長區域的每個平均反射度與平均反射度平均數之間的差異(絕對值)。特定而言，平均反射度偏差可以計算如下：(1)在抗反射膜中選擇二或更多點；(2)測量在二或更多點的每個平均反射度；(3)計算步驟(2)所測量之平均反射度的算術平均數；以及(4)計算每個點的平均反射度與步驟(3)的算術平均數之間的差異(絕對值)，因此最後計算出二或更多個平均反射度偏差。其中，於二或更多平均反射度偏差，最大平均反射度偏差可以為0.2%p或更小。
同時，透光度偏差意謂在抗反射膜中所選之二或更多特定點的每個透光度與透光度的平均數之間的差異(絕對值)，並且透光度偏差可以用相同於計算平均反射度偏差之方法的方法來計算，例外之處在於測量透光度而非平均反射度。其中，於二或更多透光度偏差，最大透光度偏差可以為0.2%p或更小。
根據本發明的另一實施態樣，提供的是一種偏光板，其包括根據上面實施態樣的抗反射膜。偏光板可以包括偏光件和形成在偏光件之至少一側上的抗反射膜。
偏光膜的材料和製備方法無特定限制，並且可以使用此技術通常已知者。舉例而言，偏光件可以是基於聚乙烯醇的偏光件。
偏光件和抗反射膜可以藉由例如水溶性黏著劑或非水溶性黏著劑和類似的黏著劑而層合。
根據本發明的又一實施態樣，提供的是一種顯示設備，其包括上面解釋的抗反射膜。雖顯示設備的特定範例無限制，但舉例而言，它可以是液晶顯示器、電漿顯示設備、有機發光二極體和類似者。
舉例而言，顯示設備可以是顯示設備，其包括：一對彼此面對的偏光板；薄膜電晶體、彩色濾光片和液晶胞格，其依序堆疊在該對偏光板之間；以及背光單元。
於顯示設備，抗反射膜可以定位在顯示面板的觀賞者側或在背光的最外表面。
於包括抗反射膜的顯示設備，抗反射膜可以定位在該對偏光板中偏光板相對遠離背光單元的那一側上。
而且，顯示設備可以包括顯示面板、定位在面板之至少一側上的偏光件、定位在相反側上的抗反射膜。 ＜有利效果＞
根據本發明，提供的抗反射膜具有低的反射度偏差和透光度偏差，可以同時實現高的抗刮性和耐髒性質，並且可以增加顯示設備的螢幕銳利度；以及提供了包括該抗反射膜的偏光板和包括該抗反射膜的顯示設備。
本發明將於以下實施例做詳細解釋。然而，這些實施例僅提出作為本發明的示例，並且本發明的範圍不受此限制。 ＜製備實施例1：用於形成硬塗層之塗覆溶液的製備＞
混合以下表1所述成分以製備用於形成硬塗層的塗覆溶液(B1、B2、B3)。 【表1】
(單位：公克) B1 B2 B3
DPHA - 6.237 -
PETA 16.421 10.728 13.413
UA-306T 3.079 2.069 6.114
8BR-500 6.158 6.537 6.114
IRG-184 1.026 1.023 1.026
Tego-270 0.051 0.051 0.051
BYK350 0.051 0.051 0.051
2-丁醇 25.92 32.80 36.10
IPA 45.92 38.80 35.70
XX-103BQ (2.0微米 1.515) 0.318 0.460 0.600
XX-113BQ (2.0微米 1.555) 0.708 0.563 0.300
MA-ST (溶於MeOH而成30%) 0.342 0.682 0.542
DPHA：二新戊四醇六丙烯酸酯 PETA：新戊四醇三丙烯酸酯 UA-306T：丙烯酸胺甲酸乙酯，為二異氰酸甲苯酯與新戊四醇三丙烯酸酯的反應產物(來自Kyoeisha的產品) 8BR-500：光可固化的丙烯酸胺甲酸乙酯聚合物(分子量200,000，來自Taisei精密化學的產品) IRG-184：起始劑(Irgacure 184，來自Ciba的產品) Tego-270：調平劑(來自Tego的產品) BYK350：調平劑(來自BYK的產品) IPA：異丙醇 XX-103BQ (直徑：2.0微米，折射率：1.515)：聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯的共聚物顆粒(來自Sekisui塑膠的產品) XX-113BQ (直徑：2.0微米，折射率：1.555)：聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯的共聚物顆粒(來自Sekisui塑膠的產品) MA-ST (溶於MeOH而成30%)：分散液，其中尺寸為10~15奈米的奈米矽石顆粒分散於甲醇中(來自Nissan化學的產品) ＜製備實施例2-1：用於形成低折射率層之塗覆溶液(C1)的製備＞
100公克的三羥甲丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、283公克的中空矽石奈米粒子(直徑範圍：約42奈米到66奈米，來自JSC觸媒和化學的產品)、59公克的固態矽石奈米粒子(直徑範圍：約12奈米到19奈米)、115公克的第一含氟化合物(X-71-1203M，來自ShinEtsu的產品)、15.5公克的第二含氟化合物(RS-537，來自DIC的產品)、10公克的起始劑(Irgacure 127，來自Ciba的產品)稀釋於MIBK(甲基異丁基酮)溶劑，使得固態含量濃度變成3重量%，因此製備了用於形成低折射率層的塗覆溶液(光可固化的塗覆組成物)。 ＜製備實施例2-2：用於形成低折射率層之塗覆溶液(C2)的製備＞
100公克的二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、143公克的中空矽石奈米粒子(直徑範圍：約51奈米到72奈米，來自JSC觸媒和化學的產品)、29公克的固態矽石奈米粒子(直徑範圍：約12奈米到19奈米)、56公克的含氟化合物(RS-537，來自DIC的產品)、3.1公克的起始劑(Irgacure 127，來自Ciba的產品)稀釋於MIBK(甲基異丁基酮)溶劑，使得固態含量濃度變成3.5重量%，因此製備了用於形成低折射率層的塗覆溶液(光可固化的塗覆組成物)。 ＜實施例和比較實施例：抗反射膜的製備＞
在下面表2所述的每個低可透溼性聚合物膜(厚度80微米)上，上面製備用於形成硬塗層的每個塗覆溶液(B1、B2、B3)是以12號麥爾棒來塗覆，然後在60℃乾燥2分鐘，並且UV固化以形成硬塗層(塗覆厚度5微米)。以UV燈來說，使用H燈泡，並且固化反應是在氮氣氛下進行。固化期間的UV照射量是每平方公分100毫焦耳。
在硬塗層上，用於形成低折射率層的每個塗覆溶液(C1、C2)是以4號麥爾棒塗覆成約110到120奈米的厚度，並且在40℃乾燥1分鐘及加以固化。在固化期間，在氮沖洗下，以每平方公分252毫焦耳而將UV照射到乾燥的塗覆溶液。 【表2】
   抗反射膜
拉伸強度比例* 硬塗層 低折射率層
實施例1 4.1 塗覆溶液(B1) 塗覆溶液(C1)
實施例2 3.7 塗覆溶液(B2) 塗覆溶液(C1)
實施例3 3.1 塗覆溶液(B2) 塗覆溶液(C1)
實施例4 2.7 塗覆溶液(B3) 塗覆溶液(C1)
實施例5 2.3 塗覆溶液(B1) 塗覆溶液(C2)
比較實施例1 1.9 塗覆溶液(B3) 塗覆溶液(C1)
比較實施例2 1.5 塗覆溶液(B2) 塗覆溶液(C1)
比較實施例3 1.2 塗覆溶液(B2) 塗覆溶液(C1)
比較實施例4 1.7 塗覆溶液(B1) 塗覆溶液(C2)
*拉伸強度比例：低可透溼性聚合物膜在一方向而具有較大值的拉伸強度對垂直於該一方向之方向而具有較小值的拉伸強度之比例 ＜評估＞ 1. 反射模式X光繞射(XRD)的評估
對於實施例和比較實施例所獲得的抗反射膜，製備2公分*2公分(寬度*長度)的樣品，然後照射1.54埃波長的Cu-Kα以測量反射模式X光繞射(XRD)圖案。
特定而言，在低背景Si夾具上(來自Bruker的產品)，樣品被固定而無舉升；以測量設備來說，則使用Bruker AXS D4 Endeavor XRD。
所用的電壓和電流分別為40千伏特和40毫安培，並且所用的光學器材和偵測器如下： 主要(入射束)光學器材：機動化的發散狹縫，索勒(soller)狹縫2.3° 次要(繞射束)光學器材：索勒狹縫2.3° LynxEye偵測器(一維偵測器)
測量模式為耦合的2θ/θ模式，並且使用固定發散狹縫(fixed divergence slit，FDS) 0.3°來測量2θ為6°到70°的區域，每0.04°停留175秒。
之後，於尖峰出現在22到27°的2θ的情形，2θ值描述於以下表3。而且，於二尖峰出現在2θ為22到27°的情形，計算具有相對為小2θ的尖峰之強度對具有相對為大2θ的尖峰之強度的比例，並且結果顯示於以下表3。
同時，圖1顯示實施例1之抗反射膜的X光繞射(XRD)圖案。 2. 平均反射度的評估
把實施例和比較實施例所獲得之每個抗反射膜的後側(低可透溼性聚合物膜上未形成硬塗層的一側)加以黑暗化，然後，使用Solidspec 3700 (SHIMADZU)的反射度模式來測量在380奈米到780奈米之波長區域的平均反射度，並且結果顯示於以下表3。 3. 平均反射度偏差的評估
對於實施例和比較實施例所獲得的每個抗反射膜，隨機選擇20點，並且針對每個點，以＜2. 平均反射度的評估＞的方法來測量平均反射度。之後，計算20點之測量平均反射度的算術平均數。之後，在每個點的平均反射度與算術平均數之間的差異(絕對值)定義成平均反射度偏差，並且計算在20點之每一者的每個平均反射度偏差。在20個平均反射度偏差中，最大平均反射度偏差描述於以下表3。 4. 透光度偏差的評估
對於實施例和比較實施例所獲得的每個抗反射膜，隨機選擇20點，並且針對每個點來測量透光度。
特定而言，使用Solidspec 3700 (SHIMADZU)的穿透度模式來測量於380到780奈米之波長區域的平均透光度。
之後，計算20點之測量透光度的算術平均數。之後，在每個點的透光度與算術平均數之間的差異(絕對值)定義成透光度偏差，並且計算在20點之每一者的每個透光度偏差。在20個透光度偏差中，最大透光度偏差描述於以下表3。 5. 透溼性的評估
使用MOCON測試設備(PERMATRAN-W，型號3/61)，在38℃的溫度和100%的相對溼度下測量實施例和比較實施例所獲得之每個抗反射膜的透溼性。 【表3】
   尖峰(°) 尖峰強度比例* 平均反射度(%) 平均反射度偏差(%p) 透光度偏差(%p) 透溼性(公克/平方公尺•天)
實施例1 22.9/25.6 0.66 1.1 0.05 0.03 10.75
實施例2 22.8/26.0 0.71 1.3 0.13 0.08 11.78
實施例3 22.9/25.6 0.63 1.15 0.08 0.02 11.98
實施例4 22.8/25.8 0.59 1.05 0.15 0.1 12.24
實施例5 23.1/25.7 0.91 1.6 0.03 0.15 11.81
比較 實施例1 25.7 - 1.11 0.3 0.28 10.49
比較 實施例2 - - 1.04 0.26 0.23 10.54
比較 實施例3 - - 0.99 0.28 0.3 11.38
比較 實施例4 25.8 - 1.51 0.33 0.25 12.01
*尖峰強度比例：於二尖峰出現在2θ為22到27°的情形，具有相對為小之2θ的尖峰強度對具有相對為大之2θ的尖峰強度的比例
根據表3，確認的是於實施例1到5，每個尖峰出現在22到24°的2θ和24到27°的2θ，尖峰強度比例為0.4或更大，並且相較於比較實施例1到4，平均反射度偏差和透光度偏差顯著為低。
[圖1]顯示實施例1之抗反射膜的X光繞射(XRD)圖案。

Claims (16)

  1. 一種抗反射膜，其包括： 低可透溼性聚合物膜(low moisture permeable polymer film)、硬塗層、及低折射率層， 其中於反射模式X光繞射(XRD)圖案，第一尖峰出現在22到24°的2θ值，並且第二尖峰出現在24到27°的2θ值。
  2. 根據請求項1的抗反射膜，其中該第一尖峰(P1)之強度對該第二尖峰(P2)之強度的比例為0.4或更大。
  3. 根據請求項1的抗反射膜，其中該低折射率層包括黏結劑樹脂和分散於該黏結劑樹脂中的無機細微顆粒。
  4. 根據請求項3的抗反射膜，其中該黏結劑樹脂包括光可聚合的化合物之(共)聚合物。
  5. 根據請求項4的抗反射膜，其中該黏結劑樹脂進一步包括光可聚合的化合物之經交聯的聚合物、包括光反應性官能基的含氟化合物、經一或多個反應性官能基所取代的聚矽倍半氧烷。
  6. 根據請求項5的抗反射膜，其中該包括光反應性官能基的含氟化合物包括選自由下列所組成之群組中的一或多者： (i)經一或多個光反應性官能基所取代的脂族化合物或脂環化合物，其中至少一個碳經一或多個氟原子所取代； (ii)經一或多個光反應性官能基所取代的雜脂族化合物或雜脂環化合物，其中至少一個氫經氟所替代，並且至少一個碳經矽所取代； (iii)經一或多個光反應性官能基所取代的聚二烷基矽氧烷系聚合物，其中至少一個矽經一或多個氟原子所取代；以及 (iv)經一或多個光反應性官能基所取代的聚醚化合物，其中至少一個氫經氟所替代。
  7. 根據請求項5的抗反射膜，其中取代在聚矽倍半氧烷上的該反應性官能基包含選自由下列所組成的群組中之一或多個官能基：醇基、胺基、羧酸基、環氧基、醯亞胺基、(甲基)丙烯酸酯基、腈基、降莰烯基、烯烴基、聚乙二醇基、巰基、及乙烯基。
  8. 根據請求項3的抗反射膜，其中該無機細微顆粒包含選自由下列所組成之群組中的一或多者：具有0.5到100nm之平均直徑的實心無機奈米粒子、具有1到200nm之平均直徑的中空無機奈米粒子。
  9. 根據請求項1的抗反射膜，其中該硬塗層包括： 黏結劑樹脂，其包括光可固化的樹脂；以及分散於該黏結劑樹脂中之有機或無機細微顆粒。
  10. 根據請求項9的抗反射膜，其中該硬塗層的該黏結劑樹脂進一步包括高分子量(共)聚合物，其具有10,000或更大的數量平均分子量。
  11. 根據請求項1的抗反射膜，其中該低可透溼性聚合物膜具有： 在400nm到800nm波長所測量的厚度方向遲滯(Rth)為5,000nm或更大， 在一方向的拉伸強度對垂直於該一方向之方向的拉伸強度之比例為2或更大，以及 在垂直於該一方向之方向的該拉伸強度小於在該一方向的該拉伸強度。
  12. 根據請求項1的抗反射膜，其中該低可透溼性聚合物膜是聚對酞酸乙二酯膜。
  13. 根據請求項1的抗反射膜，其中該抗反射膜在380nm到780nm的波長區域具有2.0%或更小的平均反射度。
  14. 根據請求項1的抗反射膜，其中該抗反射膜具有： 0.2%p或更小的平均反射度偏差，以及 0.2%p或更小的透光度偏差。
  15. 一種偏光板，其包括根據請求項1的抗反射膜和偏光件。
  16. 一種顯示設備，其包括根據請求項1的抗反射膜。
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