JP2021524941A - 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、低い反射率および透光率偏差を有し且つ高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現でき、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高められる反射防止フィルム、これを含む偏光板およびディスプレイ装置に関する。

Description

関連出願との相互参照
本出願は、２０１８年１０月１７日付の韓国特許出願第１０−２０１８−０１２３７０３号、２０１８年１０月１７日付の韓国特許出願第１０−２０１８−０１２３７０４号、２０１９年１０月１７日付の韓国特許出願第１０−２０１９−０１２８９２７号および２０１９年１０月１７日付の韓国特許出願第１０−２０１９−０１２８９２８号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。

本発明は、反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置に関する。

一般に、ＰＤＰ、ＬＣＤなどの平板ディスプレイ装置には、外部から入射する光の反射を最小化するための反射防止フィルムが装着される。光の反射を最小化するための方法には、樹脂に無機微粒子などのフィラーを分散させて基材フィルム上にコーティングし凹凸を付与する方法（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ：ＡＧコーティング）；基材フィルム上に屈折率の異なる複数の層を形成させて光の干渉を利用する方法（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲコーティング）またはこれらを混用する方法などがある。

そのうち、前記ＡＧコーティングの場合、反射する光の絶対量は一般的なハードコーティングと同等の水準であるが、凹凸を通した光の散乱を利用して目に入る光の量を減らすことによって低反射効果を得ることができる。しかし、前記ＡＧコーティングは表面の凹凸によって画面の鮮明度が低下するため、最近はＡＲコーティングに関する多くの研究が行われている。

前記ＡＲコーティングを利用したフィルムとしては、光透過性基材フィルム上にハードコート層（高屈折率層）、低反射コーティング層などが積層された多層構造のものが商用化されている。しかし、既存のＡＲコーティングを利用した反射防止フィルムは、フィルムの部位ごとの反射率および透光率偏差が大きいという問題点がある。また、前記のような複数の層を形成させる方法は、各層を形成する工程を別に行うことによって、層間密着力（界面接着力）が弱くて耐スクラッチ性が低下するという欠点がある。

また、以前は反射防止フィルムに含まれる低屈折層の耐スクラッチ性を向上させるためには、ナノメートルサイズの多様な粒子（例えば、シリカ、アルミナ、ゼオライトなどの粒子）を添加する方法が主に試みられていた。しかし、前記のようなナノメートルサイズの粒子を用いる場合、低屈折層の反射率を低くしながら耐スクラッチ性を同時に高めにくい限界があり、ナノメートルサイズの粒子によって低屈折層の表面が有する防汚性が大きく低下していた。

これにより、外部から入射する光の絶対反射量を低減しながらフィルムの部位ごとの反射率および透光率偏差を低減し、表面の耐スクラッチ性と共に防汚性を向上させるための多くの研究が行われているが、これによる物性改善の程度が不十分であるのが現状である。

本発明は、低い反射率および透光率偏差を有し且つ高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現でき、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高められる反射防止フィルムを提供するものである。

また、本発明は、前記反射防止フィルムを含む偏光板を提供するものである。

さらに、本発明は、前記反射防止フィルムを含み、高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置を提供するものである。

本明細書では、低透湿性高分子フィルム；ハードコート層；および低屈折層を含み、反射（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）モードのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンにおいて、２２〜２４°の２θ値に第１ピークが現れ、２４〜２７°の２θ値に第２ピークが現れる反射防止フィルムが提供される。

また、本明細書では、前記反射防止フィルムを含む偏光板が提供される。

さらに、本明細書では、前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。

以下、発明の具体的な実施形態による反射防止フィルム、これを含む偏光板およびディスプレイ装置に関してより詳しく説明する。

本明細書において、第１および第２の用語は多様な構成要素を説明するのに用いられ、前記用語は１つの構成要素を他の構成要素から区別する目的でのみ用いられる。

また、低屈折層は、低い屈折率を有する層を意味することができ、例えば、５５０ｎｍの波長で約１．２〜１．８の屈折率を示す層を意味することができる。

さらに、ピークは、特定の測定量ｘとｙに対して、ｘの値を変化させてそれに対してｙ値を記録した時、ｙの値が最大値（または極値）になる場合のその部分を意味する。この時、最大値は周辺部で最も大きい値を意味し、極値は瞬間変化率（ｉｎｓｔａｎｔａｎｅｏｕｓ ｒａｔｅ ｏｆ ｃｈａｎｇｅ）が０の値を意味する。

また、中空状無機粒子とは、無機粒子の表面および／または内部に空き空間が存在する形態の粒子を意味する。

また、（メタ）アクリレート［（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ］は、アクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）およびメタクリレート（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）の両方ともを含む意味である。

さらに、（共）重合体は、共重合体（ｃｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）の両方ともを含む意味である。

また、含フッ素化合物は、化合物中に少なくとも１つ以上のフッ素元素が含まれている化合物を意味する。

尚、光重合性化合物は、光の照射によって、例えば、可視光線または紫外線の照射によって重合された高分子化合物を通称する。

発明の一実施形態によれば、低透湿性高分子フィルム；ハードコート層；および低屈折層を含み、反射（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）モードのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンにおいて、２２〜２４°の２θ値に第１ピークが現れ、２４〜２７°の２θ値に第２ピークが現れる反射防止フィルムが提供される。

そこで、本発明者らは反射防止フィルムに関する研究を進めて、反射モードのＸ線回折パターンにおいて、２２〜２４°の２θ値に第１ピークが現れ、２４〜２７°の２θ値に第２ピークが現れる反射防止フィルムは、反射防止フィルム全体において類似の反射率および透光率が現れて反射率および透光率の偏差が少ないだけでなく、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現でき、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を有することを実験を通して確認して、発明を完成した。

前記反射防止フィルムは、フィルム全般において反射率および透光率の偏差が少なくて、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高められながらも優れた耐スクラッチ性および高い防汚性を有し、ディスプレイ装置または偏光板の製造工程などに大きな制限なく容易に適用可能である。

具体的には、前記Ｘ線回折パターンは、Ｘ線照射モードのうち反射モードを用いて算出できる。

前記一実施形態による反射防止フィルムから得られた前記反射（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）モードのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンでは、２つ以上のピークが現れる。具体的には、２２〜２７°の２θ値に２つのピークが現れる。前記２２〜２７°の２θ値において、２つのピークのうち相対的に小さい２θ値に現れるピークは第１ピークと定義し、相対的に大きい２θ値に現れるピークは第２ピークと定義する。より具体的には、第１ピークおよび第２ピークは２４°を基準として区分される。

具体例として、２２〜２４°の２θ値に現れるピークは第１ピークであり、２４〜２７°の２θ値に現れるピークは第２ピークである。

前記反射防止フィルムが２２〜２４°の２θ値および２４〜２７°の２θ値にそれぞれピークが現れ、前記第２ピークの強度（Ｐ２）に対する前記第１ピークの強度（Ｐ１）の比率は０．４以上、０．４５〜２．５、０．５〜２であってもよい。これにより、反射防止フィルム全般に類似の反射率および透光率が現れて低い反射率および透光率偏差を有する反射防止フィルムを実現でき、スクラッチまたは防汚性の向上も共に実現できる。

一方、前記入射角（θ）とは、Ｘ線が特定の結晶面に照射される時、結晶面とＸ線とのなす角度を意味し、前記回折ピークとは、ｘ−ｙ平面での横軸（ｘ軸）が入射するＸ線の入射角の２倍（２θ）値であり、ｘ−ｙ平面での縦軸（ｙ軸）が回折強度であるグラフ上で、横軸（ｘ軸）である入射するＸ線の入射角の２倍（２θ）値が正の方向に増加するにつれ、縦軸（ｙ軸）である回折強度に対する、横軸（ｘ軸）であるＸ線の入射角の２倍（２θ）値の１次微分値（接線の傾き、ｄｙ／ｄｘ）が正の値から負の値に変化する、１次微分値（接線の傾き、ｄｙ／ｄｘ）が０である地点を意味する。

前記第１ピークおよび第２ピークの２θ値は、前記低透湿性高分子フィルム内の高分子の結晶状態に起因するものであってもよく、前記第２ピークの強度（Ｐ２）に対する前記第１ピークの強度（Ｐ１）の比率は、前記低透湿性高分子フィルム内の高分子結晶の整列程度に起因するものであってもよい。

具体的には、低透湿性高分子フィルム内の高分子結晶状態は、反射（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）モードのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンにおいてピークが発生するか否かで現れる。より具体的には、前記低透湿性高分子フィルム内における（１００）結晶面は、２４〜２７°の２θ値に第２ピークとして現れ、前記低透湿性高分子フィルム内における（−１１０）結晶面は、２２〜２４°の２θ値に第１ピークとして現れる。

また、前記低透湿性高分子フィルム内の高分子結晶の整列程度は、前記第２ピークの強度（Ｐ２）に対する第１ピークの強度（Ｐ１）の比率で現れ、前記比率の値が大きいほど前記高分子結晶の整列程度は高く、高分子結晶が前記低透湿性高分子フィルム内に並んで配列できる。

前記低屈折層は、バインダー樹脂と、前記バインダー樹脂に分散した無機ナノ粒子とを含むことができる。

一方、前記バインダー樹脂は、光重合性化合物の（共）重合体を含むことができる。前記バインダー樹脂を形成する光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。具体的には、前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を１以上、または２以上、または３以上含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。

前記（メタ）アクリレートを含む単量体またはオリゴマーの具体例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレートまたはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、テンドリティックアクリレートオリゴマー、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。この時、前記オリゴマーの分子量は１，０００〜１０，０００である。

前記ビニル基を含む単量体またはオリゴマーの具体例としては、ジビニルベンゼン、スチレンまたはパラメチルスチレンが挙げられる。

前記バインダー樹脂中の、前記光重合性化合物に由来する部分の含有量が大きく限定されるものではないが、最終的に製造される低屈折層や反射防止フィルムの機械的物性などを考慮して、前記光重合性化合物の含有量は１０重量％〜８０重量％、１５〜７０重量％、２０〜６０重量％、または３０〜５０重量％であってもよい。前記光重合性化合物の含有量が１０重量％未満であれば、低屈折層の耐スクラッチ性および防汚性が大きく低下し、８０重量％超過であれば、反射率が増加する問題点が発生することがある。

一方、前記バインダー樹脂は、光重合性化合物、光反応性官能基を含む含フッ素化合物および反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）間の架橋重合体をさらに含むことができる。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物に含まれるフッ素元素の特性によって、前記反射防止フィルムは、液体や有機物質に対して相互作用エネルギーが低くなることがあり、これにより、前記反射防止フィルムに転写される汚染物質の量を大きく減らせるだけでなく、転写された汚染物質が表面に残留する現象を防止し、前記汚染物質自体を簡単に除去することができる特性を有する。

また、前記低屈折層および反射防止フィルムの形成過程で前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物に含まれている反応性官能基が架橋作用をし、これにより、前記低屈折層および反射防止フィルムが有する物理的耐久性、耐スクラッチ性および熱的安定性を高めることができる。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物には１以上の光反応性官能基が含まれるかまたは置換されていてもよいし、前記光反応性官能基は、光の照射によって、例えば、可視光線または紫外線の照射によって重合反応に参加可能な官能基を意味する。前記光反応性官能基は、光の照射によって重合反応に参加可能と知られた多様な官能基を含むことができ、その具体例としては、（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）またはチオール基（Ｔｈｉｏｌ）が挙げられる。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は２，０００〜２００，０００、好ましくは５，０００〜１００，０００の重量平均分子量（ＧＰＣ法によって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量）を有することができる。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の重量平均分子量が小さすぎると、前記含フッ素化合物が前記低屈折層の表面に均一で効果的に配列できずに内部に位置するが、これにより、前記低屈折層および反射防止フィルムの表面が有する防汚性が低下し、前記低屈折層および反射防止フィルムの内部の架橋密度が低くなって、全体的な強度や耐スクラッチ性などの機械的物性が低下することがある。また、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の重量平均分子量が高すぎると、前記低屈折層および反射防止フィルムのヘイズが高くなるか、光透過度が低くなり、前記低屈折層および反射防止フィルムの強度も低下することがある。

具体的には、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ｉ）１つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも１つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換され、１つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）１つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも１つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子（例えば、ポリジメチルシロキサン系高分子）；ｉｖ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物からなる群より選ばれた１種以上を含むことができる。

前記低屈折層に含まれるバインダー樹脂は、光重合性化合物および光反応性官能基を含む含フッ素化合物間の架橋重合体を含むことができる。

前記架橋重合体は、前記光重合性化合物に由来する部分１００重量部に対して、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物に由来する部分１〜３００重量部、２〜２５０重量部、３〜２００重量部、５〜１９０重量部または１０〜１８０重量部を含むことができる。前記光重合性化合物対比の、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の含有量は、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の全体含有量を基準とする。前記光重合性化合物対比の、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物が過剰添加される場合、前記低屈折層が十分な耐久性や耐スクラッチ性を有し得ないことがある。また、前記光重合性化合物対比の、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物の量が小さすぎると、前記低屈折層が十分な防汚性や耐スクラッチ性などの機械的物性を有し得ないことがある。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ケイ素またはケイ素化合物をさらに含むことができる。つまり、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、選択的に内部にケイ素またはケイ素化合物を含有することができ、具体的には、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物中のケイ素の含有量は０．１重量％〜２０重量％であってもよい。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物それぞれに含まれるケイ素またはケイ素化合物の含有量も、通常知られた分析方法、例えば、ＩＣＰ［Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ］分析方法により確認できる。

前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物に含まれるケイ素は、前記実施形態の低屈折層に含まれる他の成分との相溶性を高めることができ、これにより、最終的に製造される低屈折層にヘイズ（ｈａｚｅ）が発生するのを防止して透明度を高める役割を果たすことができ、同時に最終的に製造される低屈折層や反射防止フィルムの表面のスリップ性を向上させて耐スクラッチ性を高めることができる。

一方、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物中のケイ素の含有量が大きすぎると、前記低屈折層や反射防止フィルムが十分な透光度や反射防止性能を有することができず、表面の防汚性も低下することがある。

一方、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、表面に反応性官能基が存在して前記低屈折層の機械的物性、例えば、耐スクラッチ性を高めることができ、以前に知られたシリカ、アルミナ、ゼオライトなどの微細粒子を用いる場合とは異なり、前記低屈折層の耐アルカリ性を向上させることができ、且つ、平均反射率や色などの外観特性を向上させることができる。

前記ポリシルセスキオキサンは（ＲＳｉＯ_１．５）_ｎで表記され（この時、ｎは４〜３０または８〜２０）、ランダム、ラダー型、ケージ（ｃａｇｅ）および部分的なケージなどの多様な構造を有することができる。好ましくは、前記低屈折層および反射防止フィルムの物性および品質を高めるために、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンで反応性官能基が１以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）を用いることができる。

また、より好ましくは、前記官能基が１以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、分子中にシリコン８〜２０個を含むことができる。

さらに、前記ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコンの少なくとも１つ以上には反応性官能基が置換されていてもよいし、反応性官能基が置換されていないシリコンには上述した非反応性官能基が置換されていてもよい。

前記ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコンの少なくとも１つに反応性官能基が置換されることによって前記低屈折層および前記バインダー樹脂の機械的物性を向上させることができ、同時に残りのシリコンに非反応性官能基が置換されることによって分子構造的に立体的な障害（Ｓｔｅｒｉｃ ｈｉｎｄｒａｎｃｅ）が現れてシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が外部に露出する頻度や確率を大きく低下させ、前記低屈折層および前記バインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させることができる。

前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性官能基は、アルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メタ）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン［アリル（ａｌｌｙ）、シクロアルケニル（ｃｙｃｌｏａｌｋｅｎｙｌ）またはビニルジメチルシリルなど］、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選ばれた１種以上の官能基を含むことができ、好ましくは、エポキシドまたは（メタ）アクリレートであってもよい。

前記反応性官能基のより具体的な例としては、（メタ）アクリレート、炭素数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数３〜２０のシクロアルキル（ｃｙｃｌｏａｌｋｙｌ）エポキシド、炭素数１〜１０のアルキルシクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドが挙げられる。前記アルキル（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリレートと結合しない「アルキル」の他の一部分が結合位置であるという意味であり、前記シクロアルキルエポキシドは、エポキシドと結合しない「シクロアルキル」の他の部分が結合位置であるという意味であり、アルキルシクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドは、シクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドと結合しない「アルキル」の他の部分が結合位置であるという意味である。

一方、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、上述した反応性官能基の他に、炭素数１〜２０の直鎖または分枝鎖のアルキル基、炭素数６〜２０のシクロヘキシル基および炭素数６〜２０のアリール基からなる群より選ばれた１種以上の未反応性官能基を１以上さらに含むことができる。このように前記ポリシルセスキオキサンに反応性官能基と未反応性官能基が表面に置換されることによって、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンでシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が分子内部に位置し且つ外部に露出しなくなって、前記低屈折層および反射防止フィルムの耐アルカリ性および耐スクラッチ性をより高めることができる。

このような反応性官能基が１以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ、ＰＯＳＳ）の例としては、ＴＭＰ ジオールイソブチル（ＤｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、シクロヘキサンジオールイソブチル（Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｄｉｏｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、１，２−プロパンジオールイソブチル（１，２−ＰｒｏｐａｎｅｄｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、オクタ（３−ヒドロキシ−３メチルブチルジメチルシロキシ）（Ｏｃｔａ（３−ｈｙｄｒｏｘｙ−３ｍｅｔｈｙｌｂｕｔｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘｙ））ＰＯＳＳなどの、アルコールが１以上置換されたＰＯＳＳ；アミノプロピルイソブチル（ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、アミノプロピルイソオクチル（ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ） ＰＯＳＳ、アミノエチルアミノプロピルイソブチル（Ａｍｉｎｏｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、Ｎ−フェニルアミノプロピル（Ｎ−Ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ） ＰＯＳＳ、Ｎ−メチルアミノプロピルイソブチル（Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、オクタアンモニウム（ＯｃｔａＡｍｍｏｎｉｕｍ） ＰＯＳＳ、アミノフェニルシクロヘキシル（ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌ） ＰＯＳＳ、アミノフェニルイソブチル（ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳなどの、アミンが１以上置換されたＰＯＳＳ；マレアミック酸−シクロヘキシル（Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ−Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ） ＰＯＳＳ、マレアミック酸−イソブチル（Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ−Ｉｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、オクタマレアミック酸（Ｏｃｔａ Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ） ＰＯＳＳなどの、カルボン酸が１以上置換されたＰＯＳＳ；エポキシシクロヘキシルイソブチル（ＥｐｏｘｙＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、エポキシシクロヘキシル（Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ） ＰＯＳＳ、グリシジル（Ｇｌｙｃｉｄｙｌ） ＰＯＳＳ、グリシジルエチル（ＧｌｙｃｉｄｙｌＥｔｈｙｌ） ＰＯＳＳ、グリシジルイソブチル（ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、グリシジルイソオクチル（ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ） ＰＯＳＳなどの、エポキシドが１以上置換されたＰＯＳＳ；ＰＯＳＳ マレイミドシクロヘキシル（Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）、ＰＯＳＳ マレイミドイソブチル（Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ）などの、イミドが１以上置換されたＰＯＳＳ；アクリロイソブチル（ＡｃｒｙｌｏＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリルイソブチル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリレートシクロヘキシル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリレートイソブチル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリレートエチル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｅｔｈｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリレートイソオクチル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｏｃｔｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリルフェニル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＰｈｅｎｙｌ） ＰＯＳＳ、（メタ）アクリル（（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ） ＰＯＳＳ、アクリロ（Ａｃｒｙｌｏ） ＰＯＳＳなどの、（メタ）アクリレートが１以上置換されたＰＯＳＳ；シアノプロピルイソブチル（ＣｙａｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳなどの、ニトリル基が１以上置換されたＰＯＳＳ；ノルボルネニルエチル（ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＥｔｈｙｌ） ＰＯＳＳ、ノルボルネニルエチルイソブチル（ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、ノルボルネニルエチルジシラノイソブチル（Ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌ ＤｉＳｉｌａｎｏＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、トリスノルボルネニルイソブチル（Ｔｒｉｓｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳなどの、ノルボルネン基が１以上置換されたＰＯＳＳ；アリルイソブチル（ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、モノビニルイソブチル（ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳ、オクタシクロへキセニルジメチルシリル（ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ） ＰＯＳＳ、オクタビニルジメチルシリル（ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ） ＰＯＳＳ、オクタビニル（ＯｃｔａＶｉｎｙｌ） ＰＯＳＳなどの、オレフィンまたはビニル基が１以上置換されたＰＯＳＳ；炭素数５〜３０のＰＥＧが置換されたＰＯＳＳ；またはメルカプトプロピルイソブチル（ＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ） ＰＯＳＳまたはメルカプトプロピルイソオクチル（ＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ） ＰＯＳＳなどの、チオール基が１以上置換されたＰＯＳＳ；などが挙げられる。

前記光重合性化合物、光反応性官能基を含む含フッ素化合物および反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）間の架橋重合体は、前記光重合性化合物１００重量部対比、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５〜６０重量部、１．５〜４５重量部、３〜４０重量部、または５〜３０重量部を含むことができる。

前記バインダー樹脂中、光重合性化合物に由来する部分対比の、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）に由来する部分の含有量が小さすぎる場合、前記低屈折層の耐スクラッチ性を十分に確保しにくいことがある。また、前記バインダー樹脂中、光重合性化合物に由来する部分対比の、前記反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）に由来する部分の含有量が大きすぎる場合にも、前記低屈折層や反射防止フィルムの透明度が低下し、スクラッチ性がむしろ低下することがある。

一方、前記無機微粒子は、ナノメートルまたはマイクロメートル単位の直径を有する無機粒子を意味する。

具体的には、前記無機微粒子は、ソリッド状無機ナノ粒子および／または中空状無機ナノ粒子を含むことができる。

前記ソリッド状無機ナノ粒子は、１００ｎｍ以下の平均直径を有し、その内部に空き空間が存在しない形態の粒子を意味する。

また、前記中空状無機ナノ粒子は、２００ｎｍ以下の平均直径を有し、その表面および／または内部に空き空間が存在する形態の粒子を意味する。

前記ソリッド状無機ナノ粒子は０．５〜１００ｎｍ、１〜８０ｎｍ、２〜７０ｎｍまたは５〜６０ｎｍの平均直径を有することができる。

前記中空状無機ナノ粒子は１〜２００ｎｍ、１０〜１５０ｎｍ、２０〜１３０ｎｍ、３０〜１１０ｎｍまたは４０〜１００ｎｍの平均直径を有することができる。

一方、前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選ばれた１種以上の反応性官能基を含有することができる。前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれが表面に上述した反応性官能基を含有することによって、前記低屈折層はより高い架橋度を有することができ、これによってより向上した耐スクラッチ性および防汚性を確保できる。

前記中空状無機ナノ粒子としては、その表面がフッ素系化合物でコーティングされたものを単独で用いるか、フッ素系化合物で表面がコーティングされていない中空状無機ナノ粒子と混合して用いることができる。前記中空状無機ナノ粒子の表面をフッ素系化合物でコーティングすれば表面エネルギーをより低くすることができ、これによって前記低屈折層の耐久性や耐スクラッチ性をより高めることができる。

前記中空状無機ナノ粒子の表面にフッ素系化合物をコーティングする方法として、通常知られた粒子コーティング方法や重合方法などを大きな制限なく使用可能であり、例えば、前記中空状無機ナノ粒子およびフッ素系化合物を水と触媒の存在下でゾル−ゲル反応させて、加水分解および縮合反応により前記中空状無機ナノ粒子の表面にフッ素系化合物を結合させることができる。

前記中空状無機ナノ粒子の具体例としては、中空シリカ粒子が挙げられる。前記中空シリカは、有機溶媒により容易に分散するために、表面に置換された所定の官能基を含むことができる。前記中空シリカ粒子の表面に置換可能な有機官能基の例が大きく限定されるものではなく、例えば、（メタ）アクリレート基、ビニル基、ヒドロキシ基、アミン基、アリル基（ａｌｌｙｌ）、エポキシ基、イソシアネート基、アミン基またはフッ素などが前記中空シリカの表面に置換されていてもよい。

前記低屈折層のバインダー樹脂は、前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記無機微粒子１０〜６００重量部、２０〜５５０重量部、５０〜５００重量部、１００〜４００重量部または１５０〜３５０重量部を含むことができる。前記無機微粒子が過剰添加される場合、バインダーの含有量の低下によってコーティング膜の耐スクラッチ性や耐摩耗性が低下することがある。

一方、前記低屈折層は、光重合性化合物、反応性官能基を含む含フッ素化合物、反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンおよび前記無機微粒子を含む光硬化性コーティング組成物を前記低透湿性高分子フィルム上に塗布し、塗布された結果物を光硬化することによって得られる。

また、前記光硬化性コーティング組成物は、光開始剤をさらに含むことができる。これにより、上述した光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層には前記光重合開始剤が残留し得る。

前記光重合開始剤としては、光硬化性樹脂組成物に使用可能と知られた化合物であれば大きな制限なく使用可能であり、具体的には、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物またはこれらの２種以上の混合物を使用することができる。

前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記光重合開始剤は１〜１００重量部、５〜９０重量部、１０〜８０重量部、２０〜７０重量部または３０〜６０重量部の含有量で使用可能である。前記光重合開始剤の量が小さすぎると、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化段階で未硬化残留する物質が発生することがある。前記光重合開始剤の量が多すぎると、未反応開始剤が不純物として残留したり、架橋密度が低くなって、製造されるフィルムの機械的物性が低下するか、反射率が非常に高くなることがある。

また、前記光硬化性コーティング組成物は、有機溶媒をさらに含むことができる。前記有機溶媒の非制限的な例としては、ケトン類、アルコール類、アセテート類およびエーテル類、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

このような有機溶媒の具体例としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンまたはイソブチルケトンなどのケトン類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノールまたはｔ−ブタノールなどのアルコール類；エチルアセテート、ｉ−プロピルアセテートまたはポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類；テトラヒドロフランまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

前記有機溶媒は、前記光硬化性コーティング組成物に含まれる各成分を混合する時期に添加されるか、各成分が有機溶媒に分散または混合された状態で添加されながら前記光硬化性コーティング組成物に含まれる。前記光硬化性コーティング組成物中の有機溶媒の含有量が小さすぎると、前記光硬化性コーティング組成物の流れ性が低下して、最終的に製造されるフィルムに縞模様が生じるなどの不良が発生することがある。また、前記有機溶媒の過剰添加時、固形分含有量が低くなって、コーティングおよび成膜が十分になされずフィルムの物性や表面特性が低下し、乾燥および硬化過程で不良が発生することがある。これにより、前記光硬化性コーティング組成物は、含まれる成分の全固形分の濃度が１重量％〜５０重量％、または２〜２０重量％となるように有機溶媒を含むことができる。

一方、前記光硬化性コーティング組成物を塗布するのに通常用いられる方法および装置を格別の制限なく使用可能であり、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティング法、グラビアコーティング法、２ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅコーティング法、ｖａｃｕｕｍ ｓｌｏｔ ｄｉｅコーティング法、２ｒｏｌｌコーティング法などを使用することができる。

前記光硬化性コーティング組成物を光硬化させる段階では、２００〜４００ｎｍの波長の紫外線または可視光線を照射でき、照射時の露光量は１００〜４，０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。露光時間も特に限定されるものではなく、用いられる露光装置、照射光線の波長または露光量に応じて適切に変化させることができる。

また、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化させる段階では、窒素大気条件を適用するために窒素パージングなどを行える。

一方、前記ハードコート層は、通常知られたハードコート層を大きな制限なく使用可能である。

前記ハードコート層の一例として、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子を含むハードコート層が挙げられる。

前記ハードコート層に含まれる光硬化性樹脂は、紫外線などの光が照射されると、重合反応を起こし得る光硬化性化合物の重合体であって、当業界における通常のものであってよい。具体的には、前記光硬化性樹脂は、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレート、およびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマーの群；およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチレンプロピルトリアクリレート、プロポキシル化グリセロールトリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシトリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、プロポキシル化グリセロトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体の群より選ばれる１種以上を含むことができる。

前記有機または無機微粒子は、粒径が具体的に限定されるものではないが、例えば、有機微粒子は１〜１０μｍの粒径を有し、前記無機粒子は１ｎｍ〜５００ｎｍまたは１ｎｍ〜３００ｎｍの粒径を有することができる。前記有機または無機微粒子の粒径は体積平均粒径で定義される。

また、前記ハードコート層に含まれる有機または無機微粒子の具体例が限定されるものではないが、例えば、前記有機または無機微粒子は、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛からなる無機微粒子であってもよい。

前記ハードコート層のバインダー樹脂は、数平均分子量１０，０００以上、１３，０００以上、１５，０００〜１００，０００または２０，０００〜８０，０００の高分子量（共）重合体をさらに含むことができる。前記高分子量（共）重合体は、セルロース系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、エポキシド系ポリマー、ナイロン系ポリマー、ウレタン系ポリマーおよびポリオレフィン系ポリマーからなる群より選ばれる１種以上であってもよい。

一方、前記ハードコート層の他の例として、光硬化性樹脂の有機高分子樹脂；および前記有機高分子樹脂に分散した帯電防止剤を含むハードコート層が挙げられる。

前記帯電防止剤は、４級アンモニウム塩化合物；ピリジニウム塩；１〜３個のアミノ基を有する陽イオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などの陰イオン性化合物；アミノ酸系またはアミノ硫酸エステル系化合物などの両性化合物；イミノアルコール系化合物、グリセリン系化合物、ポリエチレングリコール系化合物などの非イオン性化合物；スズまたはチタニウムなどを含む金属アルコキシド化合物などの有機金属化合物；前記有機金属化合物のアセチルアセトネート塩などの金属キレート化合物；これら化合物の２種以上の反応物または高分子化物；これら化合物の２種以上の混合物であってもよい。ここで、前記４級アンモニウム塩化合物は、分子内に１個以上の４級アンモニウム塩基を有する化合物であってもよいし、低分子型または高分子型を制限なく使用可能である。

また、前記帯電防止剤としては、導電性高分子と金属酸化物微粒子も使用可能である。前記導電性高分子としては、芳香族共役系ポリ（パラフェニレン）、ヘテロ環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、ヘテロ原子を含む共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を有する共役系である複鎖型共役系化合物、共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重合させた導電性複合体などがある。さらに、前記金属酸化物微粒子としては、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化セリウム、インジウムスズ酸化物、酸化インジウム、酸化アルミニウム、アンチモンドーピングされた酸化スズ、アルミニウムドーピングされた酸化亜鉛などが挙げられる。

前記光重合性樹脂の有機高分子樹脂；および前記有機高分子樹脂に分散した帯電防止剤を含むハードコート層は、アルコキシシラン系オリゴマーおよび金属アルコキシド系オリゴマーからなる群より選ばれる１種以上の化合物をさらに含むことができる。

前記アルコキシシラン系化合物は、当業界における通常のものであってよいが、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびグリシドキシプロピルトリエトキシシランからなる群より選ばれる１種以上の化合物であってもよい。

また、前記金属アルコキシド系オリゴマーは、金属アルコキシド系化合物および水を含む組成物のゾル−ゲル反応により製造できる。前記ゾル−ゲル反応は、前述したアルコキシシラン系オリゴマーの製造方法に準ずる方法で行える。ただし、前記金属アルコキシド系化合物は水と急激に反応可能なため、前記金属アルコキシド系化合物を有機溶媒に希釈した後、水をゆっくりドロッピングする方法で前記ゾル−ゲル反応を行える。この時、反応効率などを勘案して、水に対する金属アルコキシド化合物のモル比（金属イオン基準）は３〜１７０の範囲内で調節するものであれば良い。

ここで、前記金属アルコキシド系化合物は、チタニウムテトラ−イソプロポキシド、ジルコニウムイソプロポキシドおよびアルミニウムイソプロポキシドからなる群より選ばれる１種以上の化合物であってもよい。

一方、前記低透湿性高分子フィルムは、光透過度が９０％以上であり、ヘイズ１％以下である透明フィルムであってもよい。

前記低透湿性高分子フィルムは、フィルムを通して水蒸気圧が高い所から低い所へ湿気が移動する透湿現象がほとんど行われない低透湿特性を有する高分子フィルムで、例えば、前記低透湿性高分子フィルムは、３０〜４０℃の温度および９０〜１００％相対湿度の条件で透湿率が５０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下、３０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下、２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下または１５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であってもよい。前記低透湿性高分子フィルムの透湿率が１０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ超過であれば、反射防止フィルム内に湿気が透湿されて高温環境で前記反射防止フィルムを適用したディスプレイの劣化現象が発生することがある。

先に述べた通り、前記第１ピークおよび第２ピークの２θ値は、前記低透湿性高分子フィルム内の高分子の結晶状態に起因するものであってもよく、前記第２ピークの強度（Ｐ２）に対する前記第１ピークの強度（Ｐ１）の比率は、前記低透湿性高分子フィルム内の高分子結晶の整列程度に起因するものであってもよい。

また、前記低透湿性高分子フィルム内の高分子結晶の整列程度は、低透湿性高分子フィルムの製造過程における延伸比、延伸温度および延伸後の冷却速度などと関連があり、且つ、前記低透湿性高分子フィルムの一方向および前記一方向と垂直な方向との間の引張強度の比率と関連があり得る。

具体的には、前記低透湿性高分子フィルムは、一方向および前記一方向と垂直な方向に異なる引張強度の値が現れ、例えば、一方向の引張強度に対する、前記一方向と垂直な方向の引張強度の比率は２以上、２．１〜２０、２．２〜１０または２．３〜５であってもよい。この時、前記一方向の引張強度は、前記一方向と垂直な方向の引張強度より小さい値を有する。前記引張強度の比率が２未満であれば、反射防止フィルムの部位ごとの反射率および透光率偏差が大きいことがあり、可視光線の干渉によるレインボー現象が発生することがある。

前記一方向の引張強度は、前記低透湿性高分子フィルムのＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）またはＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向における引張強度であってもよいし、具体的には、３０Ｍｐａ〜１Ｇｐａ、４０Ｍｐａ〜９００Ｍｐａ、または５０Ｍｐａ〜８００Ｍｐａであってもよい。

前記一方向と垂直な引張強度は、前記低透湿性高分子フィルムのＭＤまたはＴＤ方向における引張強度であってもよいし、具体的には、３０Ｍｐａ〜１Ｇｐａ、４０Ｍｐａ〜９００Ｍｐａ、または５０Ｍｐａ〜８００Ｍｐａであってもよい。

前記低透湿性高分子フィルムは、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される厚さ方向のリタデーション（Ｒｔｈ）が５，０００ｎｍ以上、７，０００〜５０，０００ｎｍ、または８，０００〜４０，０００ｎｍであってもよい。このような低透湿性高分子フィルムの具体例としては、一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。

前記低透湿性高分子フィルムの厚さ方向のリタデーション（Ｒｔｈ）が５，０００ｎｍ未満であれば、反射防止フィルムの部位ごとの反射率および透光率偏差が大きいことがあり、可視光線の干渉によるレインボー現象が発生することがある。

厚さ方向のリタデーションは、通常知られた測定方法および測定装置により確認できる。例えば、厚さ方向のリタデーションの測定装置としては、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の商品名「アクソスキャン（ＡｘｏＳｃａｎ）」などが挙げられる。

例えば、厚さ方向のリタデーションの測定条件としては、前記光透過性基材フィルムに対して、屈折率（５８９ｎｍ）値を前記測定装置に入力した後、温度：２５℃、湿度：４０％の条件下、波長５９０ｎｍの光を用いて、光透過性基材フィルムの厚さ方向のリタデーションを測定し、求められた厚さ方向のリタデーション測定値（測定装置の自動測定（自動計算）による測定値）に基づいて、フィルムの厚さ１０μｍあたりのリタデーション値に換算することによって求められる。さらに、測定試料の光透過性基材のサイズは、測定器のステージの測光部（直径：約１ｃｍ）よりも大きければ良いので、特別な制限はないが、縦：７６ｍｍ、横５２ｍｍ、厚さ１３μｍの大きさとすることができる。

また、厚さ方向のリタデーションの測定に用いる「前記光透過性基材の屈折率（５８９ｎｍ）」の値は、リタデーションの測定対象になるフィルムを形成する光透過性基材と同じ種類の樹脂フィルムを含む未延伸フィルムを形成した後、このような未延伸フィルムを測定試料として用い（また、測定対象になるフィルムが未延伸フィルムの場合には、そのフィルムをそのまま測定試料として使用できる）、測定装置として屈折率測定装置（株式会社アタゴ製の商品名「ＮＡＲ−１Ｔ ＳＯＬＩＤ」）を用い、５８９ｎｍの光源を用い、２３℃の温度条件で、測定試料の面内方向（厚さ方向とは垂直な方向）の５８９ｎｍの光に対する屈折率を測定して求められる。

また、前記低透湿性高分子基材の素材は、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン重合体、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートなどであってもよい。さらに、前記基材フィルムの厚さは、生産性などを考慮して、１０〜３００μｍであってもよいが、これに限定することはない。

前記一実施形態の反射防止フィルムは、低い反射率を示して高い透光度および優れた光学特性を実現できる。具体的には、前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域における平均反射率が２．０％以下、１．６％以下、１．２％以下、０．０５％〜０．９％、０．１０％〜０．７０％または０．２％〜０．５％の平均反射率を有することができる。

また、前記一実施形態の反射防止フィルムは、低い反射率偏差および透光率偏差を示して優れた光学特性を実現できる。具体的には、前記反射防止フィルムの平均反射率偏差は０．２％ｐ以下、０．０１〜０．１５％ｐまたは０．０１〜０．１％ｐであってもよい。さらに、前記反射防止フィルムの透光率偏差は０．２％ｐ以下、０．０１〜０．１５％ｐまたは０．０１〜０．１％ｐであってもよい。

前記平均反射率偏差は、前記反射防止フィルムで選定された２つ以上の特定部分（ポイント）の３８０〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域における平均反射率と、前記平均反射率の平均値間の差（絶対値）を意味する。前記平均反射率偏差を算出する方法としては、具体的には、１）反射防止フィルム内に２つ以上のポイントを選定し、２）前記２つ以上のポイントにおける平均反射率をそれぞれ測定し、３）２）段階で測定された平均反射率の算術平均を計算し、および４）各ポイントの平均反射率と３）段階の算術平均の差（絶対値）を計算して、最終的に２つ以上の平均反射率の偏差を算出できる。この時、２つ以上の前記平均反射率の偏差のうち最も大きい値を有する平均反射率偏差は０．２％ｐ以下である。

一方、前記透光率偏差は、前記反射防止フィルムで選定された２つ以上の特定部分（ポイント）の透光率と、前記透光率の平均値間の差（絶対値）を意味するもので、平均反射率を測定する代わりに透光率を測定するという点を除いて、前記平均反射率偏差を算出する方法と同様の方法で透光率偏差を算出できる。この時、２つ以上の前記透光率偏差のうち最も大きい値を有する透光率偏差は０．２％ｐ以下である。

発明の他の実施形態によれば、前記反射防止フィルムを含む偏光板が提供される。前記偏光板は、偏光子と、前記偏光子の少なくとも一面に形成された反射防止フィルムとを含むことができる。

前記偏光子の材料および製造方法は特に限定せず、当技術分野で知られている通常の材料および製造方法を用いることができる。例えば、前記偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光子であってもよい。

前記偏光子と前記反射防止フィルムは、水系接着剤または非水系接着剤などの接着剤によって貼り合わされる。

発明のさらに他の実施形態によれば、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。前記ディスプレイ装置の具体例が限定されるものではなく、例えば、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイ装置、有機発光ダイオード装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などの装置であってもよい。

一つの例として、前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスタ、カラーフィルタおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置であってもよい。

前記ディスプレイ装置において、前記反射防止フィルムは、ディスプレイパネルの観測者側またはバックライト側の最外角表面に備えられる。

前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置は、一対の偏光板のうち相対的にバックライトユニットと距離が遠い偏光板の一面に反射防止フィルムが位置し得る。

また、前記ディスプレイ装置は、ディスプレイパネルと、前記パネルの少なくとも一面に備えられた偏光子と、前記偏光子のパネルと接する反対側面に備えられた反射防止フィルムとを含むことができる。

本発明によれば、低い反射率および透光率偏差を有し且つ高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現でき、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高められる反射防止フィルム、前記反射防止フィルムを含む偏光板、および前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置を提供できる。

実施例１の反射防止フィルムに対するＸ線回折（ＸＲＤ）パターンである。

発明を下記の実施例でより詳しく説明する。ただし、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定されるものではない。

製造例１：ハードコート層形成用コーティング液の製造
下記表１に記載の成分を混合してハードコート層形成用コーティング液（Ｂ１、Ｂ２およびＢ３）を製造した。

ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
ＵＡ−３０６Ｔ：ウレタンアクリレートとしてトルエンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの反応物（Ｋｙｏｅｉｓｈａ製品）
８ＢＲ−５００：光硬化型ウレタンアクリレートポリマー（Ｍｗ２００，０００、Ｔａｉｓｅｉ Ｆｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製品）
ＩＲＧ−１８４：開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｃｉｂａ社）
Ｔｅｇｏ−２７０：Ｔｅｇｏ社のレベリング剤
ＢＹＫ３５０：ＢＹＫ社のレベリング剤
ＩＰＡ：イソプロピルアルコール
ＸＸ−１０３ＢＱ（２．０μｍ 屈折率１．５１５）：ポリスチレンとポリメチルメタクリレートとの共重合粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ製品）
ＸＸ−１１３ＢＱ（２．０μｍ 屈折率１．５５５）：ポリスチレンとポリメチルメタクリレートとの共重合粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ製品）
ＭＡ−ＳＴ（３０％ ｉｎ ＭｅＯＨ）：大きさ１０〜１５ｎｍのナノシリカ粒子がメチルアルコールに分散した分散液（Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製品）

製造例２−１：低屈折層形成用コーティング液（Ｃ１）の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００ｇ、中空状シリカナノ粒子（直径範囲：約４２ｎｍ〜６６ｎｍ、ＪＳＣ ｃａｔａｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）２８３ｇ、ソリッド状シリカナノ粒子（直径範囲：約１２ｎｍ〜１９ｎｍ）５９ｇ、第１含フッ素化合物（Ｘ−７１−１２０３Ｍ、ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）１１５ｇ、第２含フッ素化合物（ＲＳ−５３７、ＤＩＣ社）１５．５ｇおよび開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）１０ｇを、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３重量％となるように希釈して低屈折層形成用コーティング液（光硬化性コーティング組成物）を製造した。

製造例２−２：低屈折層形成用コーティング液（Ｃ２）の製造
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１００ｇ、中空状シリカナノ粒子（直径範囲：約５１ｎｍ〜７２ｎｍ、ＪＳＣ ｃａｔａｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）１４３ｇ、ソリッド状シリカナノ粒子（直径範囲：約１２ｎｍ〜１９ｎｍ）２９ｇ、含フッ素化合物（ＲＳ−５３７、ＤＩＣ社）５６ｇおよび開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）３．１ｇを、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３．５重量％となるように希釈して低屈折層形成用コーティング液（光硬化性コーティング組成物）を製造した。

＜実施例および比較例：反射防止フィルムの製造＞
下記表２に記載のそれぞれの低透湿性高分子フィルム（厚さ８０μｍ）上に前記製造されたハードコート層形成用コーティング液（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３）それぞれを＃１２のｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングした後、６０℃の温度で２分乾燥し、ＵＶ硬化してハードコート層（コーティング厚さは５μｍ）を形成した。ＵＶランプはＨ ｂｕｌｂを用い、窒素雰囲気下で硬化反応を進行させた。硬化時に照射されたＵＶ光量は１００ｍＪ／ｃｍ^２である。

前記ハードコート層上に、前記低屈折層形成用コーティング液（Ｃ１、Ｃ２）を＃４のｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０〜１２０ｎｍとなるようにコーティングし、４０℃の温度で１分間乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パージング下で前記乾燥したコーティング液に２５２ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。

評価
１．反射モードのＸ線回折（ＸＲＤ）評価
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して２ｃｍ×２ｃｍ（横×縦）の大きさにサンプルを準備した後、１．５４Åの波長のＣｕ−Ｋα線を照射して反射モードのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンを測定した。

具体的には、ローバックグラウンドケイ素ホルダー（ｌｏｗ ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ Ｓｉ ｈｏｌｄｅｒ、Ｂｒｕｋｅｒ社）上に浮かないようにサンプルを固定して準備し、測定装置はＢｒｕｋｅｒ ＡＸＳ Ｄ４ Ｅｎｄｅａｖｏｒ ＸＲＤを用いた。使用電圧および電流はそれぞれ４０ｋＶおよび４０ｍＡであり、使用したオプティクス（ｏｐｔｉｃｓ）および検出器（ｄｅｔｅｃｔｏｒ）は次の通りである。
−Ｐｒｉｍａｒｙ（ｉｎｃｉｄｅｎｔ ｂｅａｍ）ｏｐｔｉｃｓ：ｍｏｔｏｒｉｚｅｄ ｄｉｖｅｒｇｅｎｃｅ ｓｌｉｔ、ｓｏｌｌｅｒ ｓｌｉｔ２．３°
−Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ（ｄｉｆｆｒａｃｔｅｄ ｂｅａｍ）ｏｐｔｉｃｓ：ｓｏｌｌｅｒ ｓｌｉｔ２．３°
−ＬｙｎｘＥｙｅ ｄｅｔｅｃｔｏｒ（１Ｄ ｄｅｔｅｃｔｏｒ）
測定モードはｃｏｕｐｌｅｄ ２θ／θモードであり、ＦＤＳ（Ｆｉｘｅｄ Ｄｉｖｅｒｇｅｎｃｅ Ｓｌｉｔ）０．３°を用いて、２θ値が６°から７０°までの領域を、毎０．０４°ごとに１７５秒ずつ測定した。

この後、２２〜２７°の２θ値の間にピークが現れる場合、２θ値を下記表３に記載した。また、２２〜２７°の２θ値の間に２つのピークが現れる場合、相対的に２θ値が大きいピークの強度に対する、相対的に２θ値が小さいピークの強度の比率を計算し、その結果を下記表３に記載した。

一方、図１は、実施例１の反射防止フィルムに対するＸ線回折（ＸＲＤ）パターンである。

２．平均反射率評価
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの裏面（ハードコート層が形成されていない低透湿性高分子フィルムの一面）を暗色処理した後に、Ｓｏｌｉｄｓｐｅｃ３７００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ）装置の反射率（Ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）モードを用いて３８０〜７８０ｎｍの波長領域における平均反射率を測定し、その結果を下記表３に記載した。

３．平均反射率偏差評価
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して任意のポイントを２０個選定し、それぞれのポイントに対して、前記２．平均反射率評価方法で平均反射率を測定した。その後、測定された２０個のポイントの平均反射率の算術平均値を求めた。その後、各ポイントにおける平均反射率と前記算術平均値間の差（絶対値）を平均反射率偏差として定義し、各２０個のポイントにおけるそれぞれの平均反射率偏差を計算した。２０個の平均反射率偏差のうち最も大きい値を有する平均反射率偏差を下記表３に記載した。

４．透光率偏差評価
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して任意のポイントを２０個選定し、それぞれのポイントに対して透光率を測定した。

具体的には、前記反射防止フィルムをＳｏｌｉｄｓｐｅｃ３７００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ）装置の透過率（Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）モードを用いて３８０〜７８０ｎｍの波長領域における平均透光率を測定した。

その後、測定された２０個のポイントの透光率の算術平均値を求めた。その後、各ポイントにおける透光率と前記算術平均値間の差（絶対値）を透光率偏差として定義し、各２０個のポイントにおける透光率偏差を計算した。２０個の透光率偏差のうち最も大きい値を有する透光率偏差を下記表３に記載した。

５．透湿度評価
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの透湿度は、３８℃の温度および１００％相対湿度下でＭＯＣＯＮ ｔｅｓｔ装置（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ、ＭＯＤＥＬ３／６１）を用いて測定した。

前記表３によれば、実施例１〜５は、２２〜２４°の２θ値および２４〜２７°の２θ値にそれぞれピークが現れ、ピーク強度比率が０．４以上となり、また、比較例１〜４に比べて平均反射率偏差および透光率偏差が顕著に低いことを確認した。

Claims (16)

1. 低透湿性高分子フィルム；ハードコート層；および低屈折層を含み、
   反射（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）モードのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンにおいて、２２〜２４°の２θ値に第１ピークが現れ、２４〜２７°の２θ値に第２ピークが現れる、反射防止フィルム。
2. 前記第２ピークの強度（Ｐ２）に対する前記第１ピークの強度（Ｐ１）の比率は０．４以上である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記低屈折層は、バインダー樹脂と、前記バインダー樹脂に分散した無機微粒子とを含む、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
4. 前記バインダー樹脂は、光重合性化合物の（共）重合体を含む、請求項３に記載の反射防止フィルム。
5. 前記バインダー樹脂は、光重合性化合物、光反応性官能基を含む含フッ素化合物および反応性官能基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）間の架橋重合体をさらに含む、請求項４に記載の反射防止フィルム。
6. 前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ｉ）１つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも１つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換され、１つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）１つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも１つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選ばれた１種以上を含む、請求項５に記載の反射防止フィルム。
7. 前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性官能基は、アルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メタ）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選ばれた１種以上の官能基を含む、請求項５または６に記載の反射防止フィルム。
8. 前記無機微粒子は、０．５〜１００ｎｍの平均直径を有するソリッド状無機ナノ粒子、および１〜２００ｎｍの平均直径を有する中空状無機ナノ粒子からなる群より選ばれた１種以上を含む、請求項３〜７のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
9. 前記ハードコート層は、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂、および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子；を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
10. 前記ハードコート層のバインダー樹脂は、数平均分子量１０，０００以上の高分子量（共）重合体をさらに含む、請求項９に記載の反射防止フィルム。
11. 前記低透湿性高分子フィルムは、
    波長４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される厚さ方向のリタデーション（Ｒｔｈ）が５，０００ｎｍ以上であり、
    一方向の引張強度に対する、前記一方向と垂直な方向の引張強度の比率は２以上であり、
    前記一方向の引張強度は、前記一方向と垂直な方向の引張強度より小さい値を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
12. 前記低透湿性高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
13. 前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長帯領域における平均反射率が２．０％以下である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
14. 前記反射防止フィルムは、
    平均反射率偏差が０．２％ｐ以下であり、
    透光率偏差が０．２％ｐ以下である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の反射防止フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
16. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを含むディスプレイ装置。

Images