JP7233365B2 - 光モジュール - Google Patents

Description

本開示は、光モジュールに関する。

ＳＯＩ（Silicon On Insulator）基板によって構成されたＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）デバイスとして、干渉光学系を構成する各部がＳＯＩ基板に形成された光モジュールが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特表２０１２－５２４２９５号公報

上述したような光モジュールは、高精度なＦＴＩＲ（フーリエ変換型赤外分光分析器）を提供し得るため、注目されている。

本開示は、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる光モジュールを提供することを目的とする。

本開示の一側面の光モジュールは、第１表面を有するベース、第１表面と交差する第１方向に沿って移動可能となるようにベースにおいて支持された可動ミラー、及び、ベースに対する位置が固定された固定ミラーを含むミラーユニットと、第１方向におけるミラーユニットの一方の側に配置され、可動ミラー及び固定ミラーと共に干渉光学系を構成するビームスプリッタユニットと、第１光源から測定対象を介して入射した測定光又は測定対象から発せられた測定光をビームスプリッタユニットに入射させる光入射部と、第１方向におけるビームスプリッタユニットの一方の側に配置され、ビームスプリッタユニットから出射された測定光の干渉光を検出する第１光検出器と、ミラーユニットが取り付けられた支持体と、ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造と、支持体に取り付けられ、第１光検出器を支持する第２支持構造と、を備える。

この光モジュールでは、可動ミラー及び固定ミラーを含むミラーユニット、並びに、第１光検出器を支持する第２支持構造が、同一の支持体に取り付けられている。これにより、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光検出器の相互の位置関係が、支持体を基準として設定される。そのため、例えば「可動ミラー及び固定ミラーを含むミラーユニットが支持体に取り付けられ、第１光検出器を支持する第２支持構造がミラーユニット又は第１支持構造に取り付けられた構成」に比べ、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光検出器の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、この光モジュールによれば、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

本開示の一側面の光モジュールでは、第１支持構造は、支持体に取り付けられていてもよい。この場合、可動ミラー及び固定ミラーを含むミラーユニット、ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造、並びに、第１光検出器を支持する第２支持構造が、同一の支持体に取り付けられている。これにより、ビームスプリッタユニット、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光検出器の相互の位置関係が、支持体を基準として設定される。そのため、例えば「可動ミラー及び固定ミラーを含むミラーユニットが支持体に取り付けられ、ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造がミラーユニットに取り付けられ、第１光検出器を支持する第２支持構造が第１支持構造に取り付けられた構成」に比べ、ビームスプリッタユニット、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光検出器の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、この光モジュールによれば、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

本開示の一側面の光モジュールでは、第１支持構造の少なくとも一部は、ミラーユニットによって構成されていてもよい。これにより、構成の簡易化を図ることができる。

本開示の一側面の光モジュールでは、ビームスプリッタユニットは、第１方向に対して傾斜したミラー面であって且つ第１方向において固定ミラーと対向する第１ミラー面、及び、第１ミラー面に平行なミラー面であって且つ第１方向において可動ミラーと対向する第２ミラー面を有し、第１ミラー面は、入射光の一部を反射し且つ入射光の残部を透過させる機能を有し、第２ミラー面は、入射光を反射する機能を有してもよい。これにより、第１ミラー面及び第２ミラー面の傾斜角度が所定角度から若干ずれたとしても、ビームスプリッタユニットに入射する測定光の入射角度が一定であれば、ビームスプリッタユニットから出射される測定光の干渉光の出射角度が一定になる。したがって、ビームスプリッタユニットから第１方向における一方の側に測定光の干渉光を出射させることができる。

本開示の一側面の光モジュールでは、第１光検出器は、第１方向においてビームスプリッタユニットの第１ミラー面と対向するように、第１方向におけるビームスプリッタユニットの一方の側に配置されていてもよい。これにより、ビームスプリッタユニットから出射する測定光の干渉光の出射方向が第１方向から若干ずれたとしても、第１光検出器に測定光の干渉光を十分に入射させることができる。

本開示の一側面の光モジュールは、ビームスプリッタユニットと第１光検出器との間に配置されたアパーチャを更に備え、アパーチャは、第２支持構造によって支持されていてもよい。これにより、アパーチャ、ビームスプリッタユニット、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光検出器の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。また、測定光の干渉光においてノイズとなり得る外縁部分をカットして、より高精度な分光分析を実現することができる。更に、第１光検出器によって検出される測定光の干渉光についてビーム面内における位相差のばらつきを低減することができる。

本開示の一側面の光モジュールでは、光入射部は、第１方向と交差する第２方向におけるビームスプリッタユニットの一方の側に配置されており、光入射部は、第２支持構造によって支持されていてもよい。これにより、光入射部、ビームスプリッタユニット、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光検出器の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。更に、第１方向を鉛直方向として光モジュールを使用し、測定光を導光するための光ファイバを光入射部に側方から接続する場合に、当該光ファイバと光入射部との安定した接続を実現することができる。

本開示の一側面の光モジュールは、ビームスプリッタユニットに入射させるレーザ光を出射する第２光源と、ビームスプリッタユニットから出射されたレーザ光の干渉光を検出する第２光検出器と、を更に備え、第２光源及び第２光検出器は、第２支持構造によって支持されていてもよい。これにより、第２光源、ビームスプリッタユニット、可動ミラー、固定ミラー、及び第２光検出器の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。したがって、レーザ光の干渉光の検出結果に基づいて第１方向における可動ミラーの位置を精度良く取得することができる。

本開示の一側面の光モジュールは、第２支持構造によって支持された第１ミラー、第２ミラー及び第３ミラーを更に備え、第２支持構造は、第１光検出器である第１光デバイス、第２光源及び第２光検出器の一方である第２光デバイス、並びに、第２光源及び第２光検出器の他方である第３光デバイスが第１方向における他方の側を向くように、且つ、第１光デバイス、第２光デバイス、第３光デバイスの順序で並ぶように、第１光デバイス、第２光デバイス及び第３光デバイスを支持しており、第１ミラーは、測定光を透過させ且つレーザ光を反射する機能を有し、且つ第１光デバイスの光軸に対して傾斜したダイクロイックミラーであって、ビームスプリッタユニット及び第１光デバイスと対向するように配置されており、第２ミラーは、レーザ光の一部を反射し且つレーザ光の残部を透過させる機能を有し、且つ第１ミラーに平行なミラーであって、第１ミラー及び第２光デバイスと対向するように配置されており、第３ミラーは、レーザ光を反射する機能を有し、且つ第２ミラーに平行なミラーであって、第２ミラー及び第３光デバイスと対向するように配置されていてもよい。これにより、測定光についての干渉光学系、及びレーザ光についての干渉光学系を簡易なレイアウトで構成することができる。更に、測定光の干渉光が、ダイクロイックミラーである第１ミラーを透過して、第１光検出器に入射する構成であるため、ダイクロイックミラーの取付角度が所定角度から若干ずれたとしても、第１光検出器に測定光の干渉光を十分に入射させることができる。

本開示の一側面の光モジュールは、光入射部とビームスプリッタユニットとの間に配置されたフィルタを更に備え、フィルタは、レーザ光をカットする機能を有し、光入射部の光軸に対して傾斜した状態で第２支持構造によって支持されていてもよい。これにより、レーザ光と同一の波長帯の光が測定光に含まれていたとしても、当該光がビームスプリッタユニットに入射することが防止されるため、レーザ光の干渉光の検出結果に基づいて第１方向における可動ミラーの位置を精度良く取得することができる。更に、フィルタが、光入射部の光軸に対して傾斜しているため、レーザ光と同一の波長帯の光を干渉光学系外に反射させて、当該光が迷光となるのを確実に防止することができる。

本開示の一側面の光モジュールは、第１表面を有するベース、第１表面と交差する第１方向に沿って移動可能となるようにベースにおいて支持された可動ミラー、及び、ベースに対する位置が固定された固定ミラーを含むミラーユニットと、第１方向におけるミラーユニットの一方の側に配置され、可動ミラー及び固定ミラーと共に干渉光学系を構成するビームスプリッタユニットと、第１方向におけるビームスプリッタユニットの一方の側に配置され、ビームスプリッタユニットに入射させる測定光を出射する第１光源と、ビームスプリッタユニットから出射されて測定対象を介して入射した測定光の干渉光を検出する第１光検出器と、ミラーユニットが取り付けられた支持体と、ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造と、支持体に取り付けられ、第１光源を支持する第２支持構造と、を備える。

この光モジュールでは、可動ミラー及び固定ミラーを含むミラーユニット、並びに、第１光源を支持する第２支持構造が、同一の支持体に取り付けられている。これにより、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光源の相互の位置関係が、支持体を基準として設定される。そのため、例えば「可動ミラー及び固定ミラーを含むミラーユニットが支持体に取り付けられ、第１光源を支持する第２支持構造がミラーユニット又は第１支持構造に取り付けられた構成」に比べ、可動ミラー、固定ミラー、及び第１光源の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、この光モジュールによれば、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

本開示によれば、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる光モジュールを提供することが可能となる。

図１は、一実施形態の光モジュールの断面図である。 図２は、図１に示されるミラーユニットの平面図である。 図３は、図２に示されるIII－III線に沿ってのミラーユニットの断面図である。 図４は、図２に示されるIV－IV線に沿ってのミラーユニットの断面図である。 図５は、図２に示されるV－V線に沿ってのミラーデバイスの模式的な断面図である。 図６は、図２に示されるミラーデバイスの部分拡大図である。 図７は、図２に示される光学機能部材の平面図である。 図８は、図１に示されるVIII－VIII線に沿っての光モジュールの断面図である。 図９は、図１に示されるIX－IX線に沿っての光モジュールの断面図である。 図１０は、図１に示されるミラーユニット及びビームスプリッタユニットの模式的な断面図である。 図１１は、変形例のビームスプリッタユニットの断面図である。 図１２は、変形例のミラーユニットの模式的な断面図である。 図１３は、変形例のミラーユニットの断面図である。 図１４は、変形例のミラーユニットの断面図である。 図１５は、変形例のミラーユニットの平面図である。 図１６は、変形例のミラーデバイスの平面図である。 図１７は、変形例の光学機能部材の平面図である。 図１８は、変形例のミラーユニットの平面図である。 図１９は、変形例の光モジュールの模式的な断面図である。

以下、本開示の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する部分を省略する。
［光モジュールの構成］

図１に示されるように、光モジュール１は、ミラーユニット２と、ビームスプリッタユニット３と、光入射部４と、第１光検出器６と、第２光源７と、第２光検出器８と、支持体９と、第１支持構造１１と、第２支持構造１２と、を備えている。ミラーユニット２は、Ｚ軸方向（第１方向）における支持体９の一方の側に配置されており、例えば接着剤によって、支持体９に取り付けられている。支持体９は、例えば銅タングステンによって形成されており、例えば矩形板状を呈している。ミラーユニット２は、Ｚ軸方向に沿って移動する可動ミラー２２と、位置が固定された固定ミラー１６と、を含んでいる（詳細については後述する）。なお、Ｚ軸方向は、例えば鉛直方向であり、Ｚ軸方向における一方の側は、例えば上側である。

ビームスプリッタユニット３は、Ｚ軸方向におけるミラーユニット２の一方の側に配置されており、第１支持構造１１によって支持されている。第１支持構造１１は、例えば接着剤によって、支持体９に取り付けられている。光入射部４は、Ｘ軸方向（第１方向と交差する第２方向）におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第１光検出器６、第２光源７及び第２光検出器８は、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第２支持構造１２は、例えばボルトによって、支持体９に取り付けられている。

光モジュール１では、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２及び固定ミラー１６によって、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０のそれぞれについて干渉光学系が構成される。測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０のそれぞれについて構成される干渉光学系は、例えばマイケルソン干渉光学系である。

測定光Ｌ０については、次のように、測定光の干渉光Ｌ１が検出される。すなわち、第１光源（図示省略）から測定対象（図示省略）を介して入射した測定光Ｌ０又は測定対象から発せられた測定光Ｌ０（例えば、測定対象自体の発光等）が、光入射部４からビームスプリッタユニット３に入射すると、当該測定光Ｌ０は、ビームスプリッタユニット３において一部及び残部に分割される。そして、測定光Ｌ０の一部は、Ｚ軸方向に沿って往復移動する可動ミラー２２で反射されてビームスプリッタユニット３に戻る。一方、測定光Ｌ０の残部は、固定ミラー１６で反射されてビームスプリッタユニット３に戻る。ビームスプリッタユニット３に戻った測定光Ｌ０の一部及び残部は、干渉光Ｌ１としてビームスプリッタユニット３から出射され、当該測定光の干渉光Ｌ１が第１光検出器６によって検出される。

レーザ光Ｌ１０については、次のように、レーザ光の干渉光Ｌ１１が検出される。すなわち、第２光源７から出射されたレーザ光Ｌ１０がビームスプリッタユニット３に入射すると、当該レーザ光Ｌ１０は、ビームスプリッタユニット３において一部及び残部に分割される。そして、レーザ光Ｌ１０の一部は、Ｚ軸方向に沿って往復移動する可動ミラー２２で反射されてビームスプリッタユニット３に戻る。一方、レーザ光Ｌ１０の残部は、固定ミラー１６で反射されてビームスプリッタユニット３に戻る。ビームスプリッタユニット３に戻ったレーザ光Ｌ１０の一部及び残部は、干渉光Ｌ１１としてビームスプリッタユニット３から出射され、当該レーザ光の干渉光Ｌ１１が第２光検出器８によって検出される。

光モジュール１によれば、レーザ光の干渉光Ｌ１１の検出結果に基づいて、Ｚ軸方向における可動ミラー２２の位置の計測が可能となり、その位置の計測結果、及び測定光の干渉光Ｌ１の検出結果に基づいて、測定対象についての分光分析が可能となる。
［ミラーユニットの構成］

図２、図３及び図４に示されるように、ミラーユニット２は、ミラーデバイス２０と、光学機能部材１３と、固定ミラー１６と、応力緩和基板１７と、を有している。ミラーデバイス２０は、ベース２１と、可動ミラー２２と、駆動部２３と、を含んでいる。

ベース２１は、第１表面２１ａ（Ｚ軸方向における一方の側の表面）、及び第１表面２１ａとは反対側の第２表面２１ｂを有している。第１表面２１ａ及び第２表面２１ｂの各々は、ベース２１の主面である。ベース２１は、例えば矩形板状を呈しており、例えば１０ｍｍ×１５ｍｍ×０．３５ｍｍ（厚さ）程度のサイズを有している。可動ミラー２２は、ミラー面２２ａと、ミラー面２２ａが配置された可動部２２ｂと、を有している。可動ミラー２２は、第１表面２１ａに垂直なＺ軸方向（第１表面と交差する第１方向）に沿って移動可能となるようにベース２１において支持されている。駆動部２３は、Ｚ軸方向に沿って可動ミラー２２を移動させる。

ミラーデバイス２０には、一対の光通過部２４，２５が設けられている。一対の光通過部２４，２５は、Ｘ軸方向における可動ミラー２２の両側に配置されている。光通過部２４は、ビームスプリッタユニット３と固定ミラー１６との間の光路の第１部分を構成している。なお、本実施形態では、光通過部２５は、光通過部として機能していない。

ここで、ミラーデバイス２０の構成について、図２、図５及び図６を参照して詳細に説明する。なお、図５は、図３に示されるミラーデバイス２０の模式的な断面図であり、図５には、例えば、Ｚ軸方向における寸法が実際よりも拡大された状態でミラーデバイス２０が模式的に示されている。

ベース２１、可動ミラー２２の可動部２２ｂ、及び駆動部２３は、ＳＯＩ（Silicon On Insulator）基板（半導体基板）１００によって構成されている。つまり、ミラーデバイス２０は、ＳＯＩ基板１００によって構成されている。ミラーデバイス２０は、例えば、矩形板状に形成されている。ＳＯＩ基板１００は、支持層１０１、デバイス層１０２及び中間層１０３を有している。支持層１０１は、第１シリコン層（第１半導体層）である。デバイス層１０２は、第２シリコン層（第２半導体層）である。中間層１０３は、支持層１０１とデバイス層１０２との間に配置された絶縁層である。ＳＯＩ基板１００は、支持層１０１、中間層１０３及びデバイス層１０２を、Ｚ軸方向における一方の側からこの順に有している。

ベース２１は、支持層１０１、デバイス層１０２及び中間層１０３の一部によって構成されている。ベース２１の第１表面２１ａは、支持層１０１における中間層１０３とは反対側の表面である。ベース２１の第２表面２１ｂは、デバイス層１０２における中間層１０３とは反対側の表面である。ベース２１を構成する支持層１０１は、ベース２１を構成するデバイス層１０２よりも厚い。ベース２１を構成する支持層１０１の厚さは、例えば、ベース２１を構成するデバイス層１０２の厚さの４倍程度である。ミラーユニット２では、後述するように、ベース２１の第２表面２１ｂと光学機能部材１３の第３表面１３ａとが互いに接合されている（図３及び図４参照）。

可動ミラー２２は、軸線Ｒ１と軸線Ｒ２との交点を中心位置（重心位置）として配置されている。軸線Ｒ１は、Ｘ軸方向に延在する直線である。軸線Ｒ２は、Ｙ軸方向に延在する直線である。Ｚ軸方向から見た場合に、ミラーデバイス２０のうち、後述するベース２１の第６表面２１ｄと重なる部分以外の部分は、軸線Ｒ１及び軸線Ｒ２の各々に関して線対称な形状を呈している。

可動ミラー２２（可動部２２ｂ）は、配置部２２１、枠部２２２、一対の連結部２２３、及び梁部２２４を有している。配置部２２１、枠部２２２及び一対の連結部２２３は、デバイス層１０２の一部によって構成されている。配置部２２１は、Ｚ軸方向から見た場合に円形状を呈している。配置部２２１は、中央部２２１ａ及び外縁部２２１ｂを有している。中央部２２１ａにおけるＺ軸方向の一方の側の表面２２１ａｓ上には、例えば、金属膜（金属層）が形成されることで、ミラー面２２ａが設けられている。ミラー面２２ａは、Ｚ軸方向に垂直に延在し、円形状を呈している。中央部２２１ａの表面２２１ａｓは、デバイス層１０２における中間層１０３側の表面である。ミラー面２２ａは、ベース２１の第１表面２１ａよりもＺ軸方向における他方の側に位置している。換言すれば、第１表面２１ａは、ミラー面２２ａよりもＺ軸方向における一方の側に位置している。外縁部２２１ｂは、Ｚ軸方向から見た場合に中央部２２１ａを囲んでいる。

枠部２２２は、Ｚ軸方向から見た場合に、配置部２２１から所定の間隔を空けて配置部２２１を囲むように、環状に延在している。枠部２２２は、例えば、Ｚ軸方向から見た場合に円環状を呈している。一対の連結部２２３の各々は、配置部２２１と枠部２２２とを互いに連結している。一対の連結部２２３は、Ｙ軸方向における配置部２２１の両側に配置されている。

梁部２２４は、デバイス層１０２上に配置された支持層１０１及び中間層１０３によって構成されている。梁部２２４は、内側梁部２２４ａ、外側梁部２２４ｂ及び一対の連結梁部２２４ｃを有している。内側梁部２２４ａは、外縁部２２１ｂにおけるＺ軸方向の一方の側の表面上に配置されている。内側梁部２２４ａは、Ｚ軸方向から見た場合にミラー面２２ａを囲んでいる。例えば、内側梁部２２４ａの外縁は、Ｚ軸方向から見た場合に、配置部２２１の外縁から所定の間隔を空けて、配置部２２１の外縁に沿って延在している。内側梁部２２４ａの内縁は、Ｚ軸方向から見た場合に、ミラー面２２ａの外縁から所定の間隔を空けて、ミラー面２２ａの外縁に沿って延在している。内側梁部２２４ａにおけるＺ軸方向の一方の側の端面２２４ａｓは、ミラー面２２ａよりもＺ軸方向における一方の側に位置している。

外側梁部２２４ｂは、枠部２２２におけるＺ軸方向の一方の側の表面上に配置されている。外側梁部２２４ｂは、Ｚ軸方向から見た場合に内側梁部２２４ａを囲んでおり、ひいてはミラー面２２ａを囲んでいる。例えば、外側梁部２２４ｂの外縁は、Ｚ軸方向から見た場合に、枠部２２２の外縁から所定の間隔を空けて、枠部２２２の外縁に沿って延在している。外側梁部２２４ｂの内縁は、Ｚ軸方向から見た場合に、枠部２２２の内縁から所定の間隔を空けて、枠部２２２の内縁に沿って延在している。外側梁部２２４ｂにおけるＺ軸方向の一方の側の端面２２４ｂｓは、ミラー面２２ａよりもＺ軸方向における一方の側に位置している。

一対の連結梁部２２４ｃは、一対の連結部２２３におけるＺ軸方向の一方の側の表面上にそれぞれ配置されている。各連結梁部２２４ｃは、内側梁部２２４ａと外側梁部２２４ｂとを互いに連結している。連結梁部２２４ｃにおけるＺ軸方向における一方の側の端面２２４ｃｓは、ミラー面２２ａよりもＺ軸方向における一方の側に位置している。

Ｚ軸方向における内側梁部２２４ａ、外側梁部２２４ｂ及び各連結梁部２２４ｃの厚さは、互いに等しい。つまり、内側梁部２２４ａ、外側梁部２２４ｂ及び各連結梁部２２４ｃを構成する支持層１０１の厚さは、互いに等しい。内側梁部２２４ａの端面２２４ａｓ、外側梁部２２４ｂの端面２２４ｂｓ、及び各連結梁部２２４ｃの端面２２４ｃｓは、Ｚ軸方向に垂直な同一の平面上に位置している。内側梁部２２４ａ、外側梁部２２４ｂ及び各連結梁部２２４ｃを構成する支持層１０１は、ベース２１を構成する支持層１０１よりも薄い。これにより、端面２２４ａｓ，２２４ｂｓ，２２４ｃｓは、ベース２１の第１表面２１ａよりもＺ軸方向における一方の側に位置している。換言すれば、第１表面２１ａは、端面２２４ａｓ，２２４ｂｓ，２２４ｃｓよりもＺ軸方向の他方の側に位置している。

Ｚ軸方向から見た場合に、外側梁部２２４ｂの幅は、内側梁部２２４ａの幅よりも広い。Ｚ軸方向から見た場合における内側梁部２２４ａの幅とは、内側梁部２２４ａの延在方向に垂直な方向における内側梁部２２４ａの長さであり、本実施形態では、内側梁部２２４ａの半径方向における内側梁部２２４ａの長さである。この点は、Ｚ軸方向から見た場合における外側梁部２２４ｂの幅についても同様である。各連結梁部２２４ｃの幅は、内側梁部２２４ａ及び外側梁部２２４ｂのそれぞれの幅よりも広い。各連結梁部２２４ｃの幅とは、内側梁部２２４ａの延在方向に沿っての各連結梁部２２４ｃの長さである。

駆動部２３は、第１弾性支持部２６、第２弾性支持部２７及びアクチュエータ部２８を有している。第１弾性支持部２６、第２弾性支持部２７及びアクチュエータ部２８は、デバイス層１０２の一部によって構成されている。

第１弾性支持部２６及び第２弾性支持部２７の各々は、ベース２１と可動ミラー２２との間に接続されている。第１弾性支持部２６及び第２弾性支持部２７は、可動ミラー２２（可動部２２ｂ）がＺ軸方向に沿って移動可能となるように可動ミラー２２を支持している。

第１弾性支持部２６は、一対のレバー２６１、第１リンク部材２６２、第２リンク部材２６３、一対の梁部材２６４、中間部材２６５、一対の第１トーションバー（第１捩り支持部）２６６、一対の第２トーションバー（第２捩り支持部）２６７、一対の非線形性緩和バネ２６８、及び複数の電極支持部２６９を有している。

一対のレバー２６１は、Ｙ軸方向における光通過部２４の両側に配置され、Ｙ軸方向において互いに向かい合っている。各レバー２６１は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈している。各レバー２６１は、第１部分２６１ａと、第１部分２６１ａに対して可動ミラー２２とは反対側に配置された第２部分２６１ｂと、第１部分２６１ａ及び第２部分２６１ｂに接続された第３部分２６１ｃと、を有している。第１部分２６１ａ及び第２部分２６１ｂは、Ｘ軸方向に沿って延在している。Ｘ軸方向における第１部分２６１ａの長さは、Ｘ軸方向における第２部分２６１ｂの長さよりも短い。一対のレバー２６１の第３部分２６１ｃは、可動ミラー２２から遠ざかるほど互いに離れるように傾斜して延在している。

第１リンク部材２６２は、一対のレバー２６１における可動ミラー２２とは反対側の第１端部２６１ｄ間に掛け渡されている。第１リンク部材２６２は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。第２リンク部材２６３は、一対のレバー２６１における可動ミラー２２側の第２端部２６１ｅ間に掛け渡されている。第２リンク部材２６３は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。Ｘ軸方向における第２リンク部材２６３の幅は、Ｘ軸方向における第１リンク部材２６２の幅よりも狭い。Ｙ軸方向における第２リンク部材２６３の長さは、Ｙ軸方向における第１リンク部材２６２の長さよりも短い。

一対の梁部材２６４は、一対のレバー２６１の第２部分２６１ｂと、第１リンク部材２６２との間にそれぞれ掛け渡されている。各梁部材２６４は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈している。一対の梁部材２６４は、可動ミラー２２から遠ざかるほど互いに近付くように傾斜して延在している。一対のレバー２６１、第１リンク部材２６２、第２リンク部材２６３及び一対の梁部材２６４は、光通過部２４を画定している。光通過部２４は、Ｚ軸方向から見た場合に多角形状を呈している。光通過部２４は、例えば空洞（孔）である。或いは、光通過部２４内には、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０に対して光透過性を有する材料が配置されてもよい。

中間部材２６５は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。中間部材２６５は、可動ミラー２２と第２リンク部材２６３との間（換言すれば、可動ミラー２２と光通過部２４との間）に配置されている。中間部材２６５は、後述するように、非線形性緩和バネ２６８を介して可動ミラー２２に接続されている。

一対の第１トーションバー２６６は、それぞれ、一方のレバー２６１の第１端部２６１ｄとベース２１との間、及び、他方のレバー２６１の第１端部２６１ｄとベース２１との間に掛け渡されている。つまり、一対の第１トーションバー２６６は、一対のレバー２６１とベース２１との間にそれぞれ接続されている。各第１トーションバー２６６は、Ｙ軸方向に沿って延在している。一対の第１トーションバー２６６は、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。本実施形態では、各第１トーションバー２６６の中心線と第１リンク部材２６２の中心線とは、同一の直線上に位置している。各レバー２６１の第１端部２６１ｄには、Ｙ軸方向における外側に突出した突出部２６１ｆが設けられており、各第１トーションバー２６６は、突出部２６１ｆに接続されている。

一対の第２トーションバー２６７は、それぞれ、一方のレバー２６１の第２端部２６１ｅと中間部材２６５の一端との間、及び、他方のレバー２６１の第２端部２６１ｅと中間部材２６５の他端との間に掛け渡されている。つまり、一対の第２トーションバー２６７は、一対のレバー２６１と可動ミラー２２との間にそれぞれ接続されている。各第２トーションバー２６７は、Ｙ軸方向に沿って延在している。一対の第２トーションバー２６７は、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。

一対の非線形性緩和バネ２６８は、可動ミラー２２と中間部材２６５との間に接続されている。つまり、一対の非線形性緩和バネ２６８は、可動ミラー２２と第２トーションバー２６７との間に接続されている。各非線形性緩和バネ２６８は、Ｚ軸方向から見た場合に蛇行して延在する蛇行部２６８ａを有している。蛇行部２６８ａは、Ｙ軸方向に延在し、Ｘ軸方向に並ぶ複数の直線状部分２６８ｂと、複数の直線状部分２６８ｂの両端を交互に連結する複数の折り返し部分２６８ｃと、を含んでいる。蛇行部２６８ａの一端は中間部材２６５に接続され、蛇行部２６８ａの他端は枠部２２２に接続されている。蛇行部２６８ａにおける枠部２２２側の部分は、枠部２２２の外縁に沿った形状を呈している。

非線形性緩和バネ２６８は、可動ミラー２２がＺ軸方向に移動した状態において、Ｙ軸方向周りにおける非線形性緩和バネ２６８の変形量がＹ軸方向周りにおける第１トーションバー２６６及び第２トーションバー２６７の各々の変形量よりも小さくなり、且つ、Ｘ軸方向における非線形性緩和バネ２６８の変形量がＸ軸方向における第１トーションバー２６６及び第２トーションバー２６７の各々の変形量よりも大きくなるように、構成されている。これにより、第１トーションバー２６６及び第２トーションバー２６７の捩れ変形に非線形性が生じるのを抑制することができ、当該非線形性に起因する可動ミラー２２の制御特性の低下を抑制することができる。なお、Ｙ軸方向周りにおける第１トーションバー２６６、第２トーションバー２６７及び非線形性緩和バネ２６８の変形量とは、例えば、捩れ量（捩れ角度）の絶対値を意味する。Ｘ軸方向における第１トーションバー２６６、第２トーションバー２６７及び非線形性緩和バネ２６８の変形量とは、例えば、撓み量の絶対値を意味する。Ｙ軸方向周りにおける或る部材の変形量とは、当該部材の中心を通り且つＹ軸に平行な軸線を中心とする円の周方向における当該部材の変形量を意味する。これらの点は、後述する第１トーションバー２７６、第２トーションバー２７７及び非線形性緩和バネ２７８についても同様である。

複数の電極支持部２６９は、一対の第１電極支持部２６９ａ、一対の第２電極支持部２６９ｂ、及び一対の第３電極支持部２６９ｃを含んでいる。各電極支持部２６９ａ，２６９ｂ，２６９ｃは、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。各電極支持部２６９ａ，２６９ｂ，２６９ｃは、レバー２６１の第２部分２６１ｂから、光通過部２４とは反対側に向かって延びている。一対の第１電極支持部２６９ａは、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。一対の第２電極支持部２６９ｂは、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。一対の第３電極支持部２６９ｃは、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。Ｘ軸方向において、第１電極支持部２６９ａ、第２電極支持部２６９ｂ及び第３電極支持部２６９ｃは、可動ミラー２２側からこの順に並んで配置されている。

第２弾性支持部２７は、一対のレバー２７１、第１リンク部材２７２、第２リンク部材２７３、一対の梁部材２７４、中間部材２７５、一対の第１トーションバー（第１捩り支持部）２７６、一対の第２トーションバー（第２捩り支持部）２７７、一対の非線形性緩和バネ２７８、及び複数の電極支持部２７９を有している。

一対のレバー２７１は、Ｙ軸方向における光通過部２５の両側に配置され、Ｙ軸方向において互いに向かい合っている。各レバー２７１は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈している。各レバー２７１は、第１部分２７１ａと、第１部分２７１ａに対して可動ミラー２２とは反対側に配置された第２部分２７１ｂと、第１部分２７１ａ及び第２部分２６１ｂに接続された第３部分２７１ｃと、を有している。第１部分２７１ａ及び第２部分２７１ｂは、Ｘ軸方向に沿って延在している。Ｘ軸方向における第１部分２７１ａの長さは、Ｘ軸方向における第２部分２７１ｂの長さよりも短い。一対のレバー２７１の第３部分２７１ｃは、可動ミラー２２から遠ざかるほど互いに離れるように傾斜して延在している。

第１リンク部材２７２は、一対のレバー２７１における可動ミラー２２とは反対側の第１端部２７１ｄ間に掛け渡されている。第１リンク部材２７２は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。第２リンク部材２７３は、一対のレバー２７１における可動ミラー２２側の第２端部２７１ｅ間に掛け渡されている。第２リンク部材２７３は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。Ｘ軸方向における第２リンク部材２７３の幅は、Ｘ軸方向における第１リンク部材２７２の幅よりも狭い。Ｙ軸方向における第２リンク部材２７３の長さは、Ｙ軸方向における第１リンク部材２７２の長さよりも短い。

一対の梁部材２７４は、一対のレバー２７１の第２部分２７１ｂと、第１リンク部材２７２との間にそれぞれ掛け渡されている。各梁部材２７４は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈している。一対の梁部材２７４は、可動ミラー２２から遠ざかるほど互いに近付くように傾斜して延在している。一対のレバー２７１、第１リンク部材２７２、第２リンク部材２７３及び一対の梁部材２７４は、光通過部２５を画定している。光通過部２５は、Ｚ軸方向から見た場合に多角形状を呈している。光通過部２５は、例えば空洞（孔）である。或いは、光通過部２５内には、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０に対して光透過性を有する材料が配置されてもよい。

中間部材２７５は、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。中間部材２７５は、可動ミラー２２と第２リンク部材２７３との間（換言すれば、可動ミラー２２と光通過部２５との間）に配置されている。中間部材２７５は、後述するように、非線形性緩和バネ２７８を介して可動ミラー２２に接続されている。

一対の第１トーションバー２７６は、それぞれ、一方のレバー２７１の第１端部２７１ｄとベース２１との間、及び、他方のレバー２７１の第１端部２７１ｄとベース２１との間に掛け渡されている。つまり、一対の第１トーションバー２７６は、一対のレバー２７１とベース２１との間にそれぞれ接続されている。各第１トーションバー２７６は、Ｙ軸方向に沿って延在している。一対の第１トーションバー２７６は、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。本実施形態では、各第１トーションバー２７６の中心線と第１リンク部材２７２の中心線とは、同一の直線上に位置している。各レバー２７１の第１端部２７１ｄには、Ｙ軸方向における外側に突出した突出部２７１ｆが設けられており、各第１トーションバー２７６は、突出部２７１ｆに接続されている。

一対の第２トーションバー２７７は、それぞれ、一方のレバー２７１の第２端部２７１ｅと中間部材２７５の一端との間、及び、他方のレバー２７１の第２端部２７１ｅと中間部材２７５の他端との間に掛け渡されている。つまり、一対の第２トーションバー２７７は、一対のレバー２７１と可動ミラー２２との間にそれぞれ接続されている。各第２トーションバー２７７は、Ｙ軸方向に沿って延在している。一対の第２トーションバー２７７は、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。

一対の非線形性緩和バネ２７８は、可動ミラー２２と中間部材２７５との間に接続されている。つまり、一対の非線形性緩和バネ２７８は、可動ミラー２２と第２トーションバー２７７との間に接続されている。各非線形性緩和バネ２７８は、Ｚ軸方向から見た場合に蛇行して延在する蛇行部２７８ａを有している。蛇行部２７８ａは、Ｙ軸方向に延在し、Ｘ軸方向に並ぶ複数の直線状部分２７８ｂと、複数の直線状部分２７８ｂの両端を交互に連結する複数の折り返し部分２７８ｃと、を含んでいる。蛇行部２７８ａの一端は中間部材２７５に接続され、蛇行部２７８ａの他端は枠部２２２に接続されている。蛇行部２７８ａにおける枠部２２２側の部分は、枠部２２２の外縁に沿った形状を呈している。

非線形性緩和バネ２７８は、可動ミラー２２がＺ軸方向に移動した状態において、Ｙ軸方向周りにおける非線形性緩和バネ２７８の変形量がＹ軸方向周りにおける第１トーションバー２７６及び第２トーションバー２７７の各々の変形量よりも小さくなり、且つ、Ｘ軸方向における非線形性緩和バネ２７８の変形量がＸ軸方向における第１トーションバー２７６及び第２トーションバー２７７の各々の変形量よりも大きくなるように、構成されている。これにより、第１トーションバー２７６及び第２トーションバー２７７の捩れ変形に非線形性が生じるのを抑制することができ、当該非線形性に起因する可動ミラー２２の制御特性の低下を抑制することができる。

複数の電極支持部２７９は、一対の第１電極支持部２７９ａ、一対の第２電極支持部２７９ｂ、及び一対の第３電極支持部２７９ｃを含んでいる。各電極支持部２７９ａ，２７９ｂ，２７９ｃは、Ｚ軸方向に垂直な平面に沿って延在する板状を呈し、Ｙ軸方向に沿って延在している。各電極支持部２７９ａ，２７９ｂ，２７９ｃは、レバー２７１の第２部分２７１ｂから、光通過部２５とは反対側に向かって延びている。一対の第１電極支持部２７９ａは、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。一対の第２電極支持部２７９ｂは、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。一対の第３電極支持部２７９ｃは、Ｙ軸方向に平行な同一の中心線上に配置されている。Ｘ軸方向において、第１電極支持部２７９ａ、第２電極支持部２７９ｂ及び第３電極支持部２７９ｃは、可動ミラー２２側からこの順に並んで配置されている。

アクチュエータ部２８は、Ｚ軸方向に沿って可動ミラー２２を移動させる。アクチュエータ部２８は、固定櫛歯電極２８１、可動櫛歯電極２８２、固定櫛歯電極２８３及び可動櫛歯電極２８４を有している。固定櫛歯電極２８１，２８３の位置は、固定されている。可動櫛歯電極２８２，２８４は、可動ミラー２２の移動に伴って移動する。

固定櫛歯電極２８１は、ベース２１のデバイス層１０２における電極支持部２６９と向かい合う表面の一部に設けられている。固定櫛歯電極２８１は、Ｙ軸方向に垂直な平面に沿って延在する複数の固定櫛歯２８１ａを有している。これらの固定櫛歯２８１ａは、Ｙ軸方向に所定の間隔を空けて並んで配置されている。

可動櫛歯電極２８２は、各第１電極支持部２６９ａにおける可動ミラー２２側の表面、各第２電極支持部２６９ｂにおけるＸ軸方向の両側の表面、及び、各第３電極支持部２６９ｃにおける可動ミラー２２側の表面に設けられている。可動櫛歯電極２８２は、Ｙ軸方向に垂直な平面に沿って延在する複数の可動櫛歯２８２ａを有している。これらの可動櫛歯２８２ａは、Ｙ軸方向に所定の間隔を空けて並んで配置されている。

固定櫛歯電極２８１及び可動櫛歯電極２８２においては、複数の固定櫛歯２８１ａと複数の可動櫛歯２８２ａとが互い違いに配置されている。つまり、固定櫛歯電極２８１の各固定櫛歯２８１ａが可動櫛歯電極２８２の可動櫛歯２８２ａ間に位置している。隣り合う固定櫛歯２８１ａと可動櫛歯２８２ａとは、Ｙ軸方向において互いに向かい合っている。隣り合う固定櫛歯２８１ａと可動櫛歯２８２ａとの間の距離は、例えば数μｍ程度である。

固定櫛歯電極２８３は、ベース２１のデバイス層１０２における電極支持部２７９と向かい合う表面の一部に設けられている。固定櫛歯電極２８３は、Ｙ軸方向に垂直な平面に沿って延在する複数の固定櫛歯２８３ａを有している。これらの固定櫛歯２８３ａは、Ｙ軸方向に所定の間隔を空けて並んで配置されている。

可動櫛歯電極２８４は、各第１電極支持部２７９ａにおける可動ミラー２２側の表面、各第２電極支持部２７９ｂにおけるＸ軸方向の両側の表面、及び、各第３電極支持部２７９ｃにおける可動ミラー２２側の表面に設けられている。可動櫛歯電極２８４は、Ｙ軸方向に垂直な平面に沿って延在する複数の可動櫛歯２８４ａを有している。これらの可動櫛歯２８４ａは、Ｙ軸方向に所定の間隔を空けて並んで配置されている。

固定櫛歯電極２８３及び可動櫛歯電極２８４においては、複数の固定櫛歯２８３ａと複数の可動櫛歯２８４ａとが互い違いに配置されている。つまり、固定櫛歯電極２８３の各固定櫛歯２８３ａが可動櫛歯電極２８４の可動櫛歯２８４ａ間に位置している。隣り合う固定櫛歯２８３ａと可動櫛歯２８４ａとは、Ｙ軸方向において互いに向かい合っている。隣り合う固定櫛歯２８３ａと可動櫛歯２８４ａとの間の距離は、例えば数μｍ程度である。

ベース２１には、複数の電極パッド２１１が設けられている。各電極パッド２１１は、デバイス層１０２に至るようにベース２１の第１表面２１ａに形成された開口２１３内において、デバイス層１０２の表面上に配置されている。複数の電極パッド２１１のうちの幾つかは、デバイス層１０２を介して、固定櫛歯電極２８１又は固定櫛歯電極２８３と電気的に接続されている。複数の電極パッド２１１のうちの他の幾つかは、第１弾性支持部２６又は第２弾性支持部２７を介して、可動櫛歯電極２８２又は可動櫛歯電極２８４と電気的に接続されている。また、ベース２１には、グランド電極として用いられる一対の電極パッド２１２が設けられている。一対の電極パッド２１２は、Ｙ軸方向における可動ミラー２２の両側に位置するように、第１表面２１ａ上に配置されている。

以上のように構成されたミラーデバイス２０では、後述するリードピン１１３及びワイヤ（図示省略）を介して、Ｚ軸方向に沿って可動ミラー２２を移動させるための電気信号が駆動部２３に入力される。これにより、例えば、Ｚ軸方向における一方の側に可動ミラー２２が移動するように、互いに向かい合う固定櫛歯電極２８１と可動櫛歯電極２８２との間、及び、互いに向かい合う固定櫛歯電極２８３と可動櫛歯電極２８４との間に静電気力が生じる。このとき、第１弾性支持部２６及び第２弾性支持部２７において第１トーションバー２６６，２７６、第２トーションバー２６７，２７７が捩れて、第１弾性支持部２６及び第２弾性支持部２７に弾性力が生じる。ミラーデバイス２０では、駆動部２３に周期的な電気信号を付与することで、Ｚ軸方向に沿って可動ミラー２２をその共振周波数レベルで往復動させることができる。このように、駆動部２３は、静電アクチュエータとして機能する。

図２、図３、図４及び図７に示されるように、光学機能部材１３は、ベース２１の第２表面２１ｂと対向する第３表面１３ａ（Ｚ軸方向における一方の側の表面）、及び第３表面１３ａとは反対側の第４表面１３ｂを有している。Ｚ軸方向から見た場合に、光学機能部材１３の外縁１３ｃは、ベース２１の外縁２１ｃの外側に位置している。つまり、Ｚ軸方向から見た場合に、光学機能部材１３の外縁１３ｃは、ベース２１の外縁２１ｃを包囲している。光学機能部材１３は、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０に対して透過性を有する材料によって一体的に形成されている。光学機能部材１３は、例えばガラスによって矩形板状に形成されており、例えば１５ｍｍ×２０ｍｍ×４ｍｍ（厚さ）程度のサイズを有している。なお、光学機能部材１３の材料は、例えば、光モジュール１の感度波長が近赤外領域である場合にはガラス、光モジュール１の感度波長が中赤外領域である場合にはシリコンというように、光モジュール１の感度波長によって選択される。

光学機能部材１３には、一対の光透過部１４，１５が設けられている。光透過部１４は、光学機能部材１３のうち、Ｚ軸方向においてミラーデバイス２０の光通過部２４と対向する部分である。光透過部１５は、光学機能部材１３のうち、Ｚ軸方向においてミラーデバイス２０の光通過部２５と対向する部分である。光透過部１４におけるミラーデバイス２０側の表面１４ａ、及び光透過部１５におけるミラーデバイス２０側の表面１５ａは、第３表面１３ａと同一平面上に位置している。光透過部１４は、ビームスプリッタユニット３と固定ミラー１６との間の光路の第２部分を構成している。光透過部１４は、ビームスプリッタユニット３と可動ミラー２２との間の光路と、ビームスプリッタユニット３と固定ミラー１６との間の光路と、の間に生じる光路差を補正する部分である。なお、本実施形態では、光透過部１５は、光透過部として機能していない。

光学機能部材１３は、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３と対向する第５表面１３ｄを有している。第５表面１３ｄは、第３表面１３ａよりも第４表面１３ｂ側に位置している。第５表面１３ｄは、Ｚ軸方向から見た場合に光学機能部材１３の外縁１３ｃまで延在している。本実施形態では、第５表面１３ｄは、各光透過部１４，１５におけるミラーデバイス２０側の端部を包囲しつつ、光学機能部材１３の外縁１３ｃのうち、Ｙ軸方向（第１方向及び第２方向と交差する方向）に延在する一対の対辺のそれぞれまで、延在している。

光学機能部材１３の第３表面１３ａは、ダイレクトボンディング（例えば、プラズマ活性化接合（Plasma Activation Bonding）、表面活性化接合（ＳＡＢ：Surface-activated Room-temperature Bonding）、原子拡散接合（ＡＤＢ：Atomic Diffusion Bonding）、陽極接合（Anodic Bonding）、フュージョンボンディング（Fusion Bonding）、親水化接合（Hydrophilic Bonding）等）によってベース２１の第２表面２１ｂと接合されている。本実施形態では、第３表面１３ａは、Ｙ軸方向における第５表面１３ｄの両側において、ベース２１に設けられた複数の電極パッド２１１，２１２と対向するように延在している。ここで、第５表面１３ｄは、第３表面１３ａよりも第４表面１３ｂ側に位置しているため、第５表面１３ｄは、可動ミラー２２及び駆動部２３と対向する領域においてミラーデバイス２０から離れることになる。また、光透過部１４の表面１４ａ、及び光透過部１５の表面１５ａは、それぞれ、ミラーデバイス２０の光通過部２４，２５と対向している。これにより、ミラーユニット２では、可動ミラー２２がＺ軸方向に沿って往復移動した際に、可動ミラー２２及び駆動部２３が光学機能部材１３に接触することが防止されている。

なお、ミラーデバイス２０のベース２１には、光学機能部材１３の第３表面１３ａとベース２１の第２表面２１ｂとが互いに接合された状態で光学機能部材１３から離れた第６表面２１ｄが設けられている。第６表面２１ｄは、Ｚ軸方向から見た場合におけるベース２１の外縁の少なくとも一部を含む領域において光学機能部材１３から離れている。本実施形態では、第６表面２１ｄは、ベース２１の外縁のうちＹ軸方向に延在する一辺に沿ってデバイス層１０２及び中間層１０３がエッチングによって除去されることで、形成されている。また、光学機能部材１３の第３表面１３ａには、複数の基準孔１３ｅが形成されている。本実施形態では、複数の基準孔１３ｅは、ベース２１が有する複数の角部にそれぞれ対応するように、第３表面１３ａに形成されている。光学機能部材１３の第３表面１３ａとベース２１の第２表面２１ｂとが互いに接合される際には、ベース２１のうち第６表面２１ｄに対応する部分が把持されることでミラーデバイス２０のハンドリングが実施され、第３表面１３ａに形成された複数の基準孔１３ｅを基準として、Ｘ軸方向及びＹ軸方向におけるミラーデバイス２０の位置、及びＺ軸方向に垂直な平面内でのミラーデバイス２０の角度が調整される。

図３及び図４に示されるように、固定ミラー１６は、光学機能部材１３に対してミラーデバイス２０とは反対側に配置されており、ミラーデバイス２０のベース２１に対する位置が固定されている。固定ミラー１６は、例えば蒸着によって、光学機能部材１３の第４表面１３ｂに形成されている。固定ミラー１６は、Ｚ軸方向に垂直なミラー面１６ａを有している。本実施形態では、可動ミラー２２のミラー面２２ａ及び固定ミラー１６のミラー面１６ａが、Ｚ軸方向における一方の側（ビームスプリッタユニット３側）に向いている。なお、固定ミラー１６は、光学機能部材１３の各光透過部１４，１５を透過する光を反射するように、光学機能部材１３の第４表面１３ｂに連続的に形成されているが、光透過部１４を透過する光を反射する固定ミラーと、光透過部１５を透過する光を反射する固定ミラーとが別々に設けられていてもよい。

応力緩和基板１７は、固定ミラー１６を介して光学機能部材１３の第４表面１３ｂに取り付けられている。応力緩和基板１７は、例えば接着剤によって、固定ミラー１６に取り付けられている。Ｚ軸方向から見た場合に、応力緩和基板１７の外縁は、光学機能部材１３の外縁１３ｃの外側に位置している。つまり、Ｚ軸方向から見た場合に、応力緩和基板１７の外縁は、光学機能部材１３の外縁１３ｃを包囲している。応力緩和基板１７の熱膨張係数は、光学機能部材１３の熱膨張係数よりもミラーデバイス２０のベース２１の熱膨張係数（より具体的には、支持層１０１の熱膨張係数）に近い。また、応力緩和基板１７の厚さは、光学機能部材１３の厚さよりもミラーデバイス２０のベース２１の厚さに近い。応力緩和基板１７は、例えばシリコンによって矩形板状に形成されており、例えば１６ｍｍ×２１ｍｍ×０．６５ｍｍ（厚さ）程度のサイズを有している。

以上のように構成されたミラーユニット２は、図１に示されるように、応力緩和基板１７における光学機能部材１３とは反対側の表面が例えば接着剤によって支持体９の表面９ａ（Ｚ軸方向における一方の側の表面）に固定されることで、支持体９に取り付けられている。ミラーユニット２が支持体９に取り付けられる際には、図８に示されるように、支持体９に形成された基準孔９ｂを基準として、Ｘ軸方向及びＹ軸方向におけるミラーデバイス２０の位置、及びＺ軸方向に垂直な平面内でのミラーデバイス２０の角度が調整される。なお、図８では、第２支持構造１２の図示が省略されている。
［第１支持構造及びビームスプリッタユニットの構成］

図１及び図８に示されるように、第１支持構造１１は、枠体１１１と、光透過部材１１２と、複数のリードピン１１３と、を有している。枠体１１１は、Ｚ軸方向から見た場合にミラーユニット２を包囲するように形成されており、例えば銀ロウ等の接着剤によって、支持体９の表面９ａに取り付けられている。枠体１１１は、例えばセラミックによって形成されており、例えば矩形枠状を呈している。枠体１１１における支持体９とは反対側の端面１１１ａは、ミラーデバイス２０のベース２１の第１表面２１ａよりも支持体９とは反対側に位置している。

光透過部材１１２は、枠体１１１の開口を塞ぐように形成されており、例えば接着剤によって、枠体１１１の端面１１１ａに取り付けられている。光透過部材１１２は、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０に対して透過性を有する材料によって形成されており、例えば矩形板状を呈している。ここで、枠体１１１の端面１１１ａは、ミラーデバイス２０のベース２１の第１表面２１ａよりも支持体９とは反対側に位置しているため、光透過部材１１２は、ミラーデバイス２０から離れることになる。これにより、光モジュール１では、可動ミラー２２がＺ軸方向に沿って往復移動した際に、可動ミラー２２及び駆動部２３が光透過部材１１２に接触することが防止されている。なお、光モジュール１では、支持体９、枠体１１１及び光透過部材１１２によって、ミラーユニット２を収容するパッケージが構成されている。

各リードピン１１３は、一端部１１３ａが枠体１１１の内側に位置し且つ他端部（図示省略）が枠体１１１の外側に位置するように、枠体１１１に設けられている。リードピン１１３の一端部１１３ａは、ミラーデバイス２０において当該リードピン１１３に対応する電極パッド２１１，２１２とワイヤ（図示省略）によって電気的に接続されている。光モジュール１では、Ｚ軸方向に沿って可動ミラー２２を移動させるための電気信号が、複数のリードピン１１３を介して駆動部２３に入力される。本実施形態では、Ｙ軸方向における光学機能部材１３の両側においてＸ軸方向に延在する段差面１１１ｂが枠体１１１に形成されており、各リードピン１１３の一端部１１３ａは、段差面１１１ｂに配置されている。各リードピン１１３は、Ｙ軸方向における支持体９の両側においてＺ軸方向に延在しており、各リードピン１１３の他端部は、支持体９よりもＺ軸方向における他方の側に位置している。

図１０に示されるように、ビームスプリッタユニット３は、例えば屈折率整合剤を兼ねた光学接着剤によって、光透過部材１１２におけるミラーデバイス２０とは反対側の表面１１２ａに取り付けられている。ビームスプリッタユニット３は、第１ミラー面３１、第２ミラー面３２及び複数の光学面３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを有している。ビームスプリッタユニット３は、複数の光学ブロック３４，３５が接合されることで構成されている。各光学ブロック３４，３５は、光学機能部材１３と屈折率が同一又は類似の材料によって形成されている。なお、図１０は、図１に示されるミラーユニット２及びビームスプリッタユニット３の模式的な断面図であり、図１０には、例えば、Ｚ軸方向における寸法が実際よりも拡大された状態でミラーデバイス２０が模式的に示されている。

第１ミラー面３１は、Ｚ軸方向に対して傾斜したミラー面（例えば、ハーフミラー面）であり、光学ブロック３４と光学ブロック３５との間に形成されている。本実施形態では、第１ミラー面３１は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面であって、ミラーデバイス２０に近付くほど光入射部４から離れるように傾斜した面である。第１ミラー面３１は、測定光Ｌ０の一部を反射し且つ測定光Ｌ０の残部を透過させる機能（入射光の一部を反射し且つ入射光の残部を透過させる機能）及びレーザ光Ｌ１０の一部を反射し且つレーザ光Ｌ１０の残部を透過させる機能（入射光の一部を反射し且つ入射光の残部を透過させる機能）を有している。第１ミラー面３１は、例えば誘電体多層膜によって形成されている。第１ミラー面３１は、Ｚ軸方向から見た場合に、ミラーデバイス２０の光通過部２４、光学機能部材１３の光透過部１４、及び固定ミラー１６のミラー面１６ａと重なっており、且つＸ軸方向から見た場合に光入射部４と重なっている（図１参照）。つまり、第１ミラー面３１は、Ｚ軸方向において固定ミラー１６と対向しており、且つＸ軸方向において光入射部４と対向している。

第２ミラー面３２は、第１ミラー面３１に平行なミラー面（例えば、全反射ミラー面）であり、第１ミラー面３１に対して光入射部４とは反対側に位置するように光学ブロック３５に形成されている。第２ミラー面３２は、測定光Ｌ０を反射する機能、及びレーザ光Ｌ１０を反射する機能を有している。第２ミラー面３２は、例えば金属膜によって形成されている。第２ミラー面３２は、Ｚ軸方向から見た場合にミラーデバイス２０の可動ミラー２２のミラー面２２ａと重なっており、且つＸ軸方向から見た場合に第１ミラー面３１と重なっている。つまり、第２ミラー面３２は、Ｚ軸方向において可動ミラー２２と対向しており、且つＸ軸方向において第１ミラー面３１と対向している。

光学面３３ａは、Ｚ軸方向に垂直な面であり、第１ミラー面３１に対してミラーデバイス２０とは反対側に位置するように光学ブロック３５に形成されている。光学面３３ｂは、Ｚ軸方向に垂直な面であり、第２ミラー面３２に対してミラーデバイス２０側に位置するように光学ブロック３５に形成されている。光学面３３ｃは、Ｚ軸方向に垂直な面であり、第１ミラー面３１に対してミラーデバイス２０側に位置するように光学ブロック３４に形成されている。光学面３３ｂ及び光学面３３ｃは、同一平面上に位置している。光学面３３ｄは、Ｘ軸方向に垂直な面であり、第１ミラー面３１に対して光入射部４側に位置するように光学ブロック３４に形成されている。各光学面３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄは、測定光Ｌ０を透過させる機能、及びレーザ光Ｌ１０を透過させる機能を有している。

以上のように構成されたビームスプリッタユニット３は、同一平面上に位置する光学面３３ｂ及び光学面３３ｃが例えば光学接着剤によって光透過部材１１２の表面１１２ａに固定されることで、光透過部材１１２に取り付けられている。ビームスプリッタユニット３が光透過部材１１２に取り付けられる際には、図９に示されるように、支持体９に形成された基準孔９ｂを基準として、Ｘ軸方向及びＹ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の位置、及びＺ軸方向に垂直な平面内でのビームスプリッタユニット３の角度が調整される。なお、図９では、第２支持構造１２の図示が省略されている。

ここで、ミラーユニット２及びビームスプリッタユニット３における測定光Ｌ０の光路及びレーザ光Ｌ１０の光路について、図１０を参照して詳細に説明する。

図１０に示されるように、光学面３３ｄを介してビームスプリッタユニット３にＸ軸方向に沿って測定光Ｌ０が入射すると、測定光Ｌ０の一部は、第１ミラー面３１を透過して第２ミラー面３２で反射され、光学面３３ｂ及び光透過部材１１２を介して可動ミラー２２のミラー面２２ａに至る。当該測定光Ｌ０の一部は、可動ミラー２２のミラー面２２ａで反射され、同一の光路Ｐ１上を逆方向に進行して第１ミラー面３１で反射される。測定光Ｌ０の残部は、第１ミラー面３１で反射され、光学面３３ｃ、光透過部材１１２、ミラーデバイス２０の光通過部２４、及び光学機能部材１３の光透過部１４を介して、固定ミラー１６のミラー面１６ａに至る。当該測定光Ｌ０の残部は、固定ミラー１６のミラー面１６ａで反射され、同一の光路Ｐ２上を逆方向に進行して第１ミラー面３１を透過する。第１ミラー面３１で反射された測定光Ｌ０の一部と、第１ミラー面３１を透過した測定光Ｌ０の残部とは、干渉光Ｌ１となり、当該測定光の干渉光Ｌ１は、光学面３３ａを介してビームスプリッタユニット３からＺ軸方向に沿って出射される。

一方、光学面３３ａを介してビームスプリッタユニット３にＺ軸方向に沿ってレーザ光Ｌ１０が入射すると、レーザ光Ｌ１０の一部は、第１ミラー面３１及び第２ミラー面３２で反射され、光学面３３ｂ及び光透過部材１１２を介して可動ミラー２２のミラー面２２ａに至る。当該レーザ光Ｌ１０の一部は、可動ミラー２２のミラー面２２ａで反射され、同一の光路Ｐ３上を逆方向に進行して第１ミラー面３１で反射される。レーザ光Ｌ１０の残部は、第１ミラー面３１を透過し、光学面３３ｃ、光透過部材１１２、ミラーデバイス２０の光通過部２４、及び光学機能部材１３の光透過部１４を介して、固定ミラー１６のミラー面１６ａに至る。当該レーザ光Ｌ１０の残部は、固定ミラー１６のミラー面１６ａで反射され、同一の光路Ｐ４上を逆方向に進行して第１ミラー面３１を透過する。第１ミラー面３１で反射されたレーザ光Ｌ１０の一部と、第１ミラー面３１を透過したレーザ光Ｌ１０の残部とは、干渉光Ｌ１１となり、当該レーザ光の干渉光Ｌ１１は、光学面３３ａを介してビームスプリッタユニット３からＺ軸方向に沿って出射される。

以上のように、ミラーデバイス２０の光通過部２４は、ビームスプリッタユニット３と固定ミラー１６との間の光路のうち、測定光Ｌ０の光路Ｐ２の第１部分Ｐ２ａ、及びレーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の第１部分Ｐ４ａを構成している。また、光学機能部材１３の光透過部１４は、ビームスプリッタユニット３と固定ミラー１６との間の光路のうち、測定光Ｌ０の光路Ｐ２の第２部分Ｐ２ｂ、及びレーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の第２部分Ｐ４ｂを構成している。

測定光Ｌ０の光路Ｐ２の第２部分Ｐ２ｂが光透過部１４によって構成されることで、測定光Ｌ０の光路Ｐ１の光路長（当該光路が通る各媒質の屈折率を考慮した光路長）と測定光Ｌ０の光路Ｐ２の光路長との差が小さくなるように、両光路Ｐ１，Ｐ２間の光路差が補正される。同様に、レーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の第２部分Ｐ４ｂが光透過部１４によって構成されることで、レーザ光Ｌ１０の光路Ｐ３の光路長とレーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の光路長との差が小さくなるように、両光路Ｐ３，Ｐ４間の光路差が補正される。本実施形態では、光透過部１４の屈折率が、ビームスプリッタユニット３を構成する各光学ブロックの屈折率と等しく、Ｘ軸方向に沿った第１ミラー面３１と第２ミラー面３２との距離が、Ｚ軸方向に沿った光透過部１４の厚さ（すなわち、Ｚ軸方向に沿った光透過部１４の表面１４ａと光学機能部材１３の第４表面１３ｂとの距離）に等しい。
［第２支持構造及び光入射部等の構成］

図１に示されるように、第２支持構造１２は、連結ユニット１２０を有している。連結ユニット１２０は、本体部１２１と、枠体１２２と、固定プレート１２３と、を含んでいる。本体部１２１は、一対の側壁部１２４，１２５と、天壁部１２６と、を含んでいる。一対の側壁部１２４，１２５は、Ｘ軸方向において互いに対向している。Ｘ軸方向における一方の側の側壁部１２４には、開口１２４ａが形成されている。天壁部１２６は、Ｚ軸方向において支持体９と対向している。天壁部１２６には、開口１２６ａが形成されている。本体部１２１は、例えば金属によって一体的に形成されている。本体部１２１には、複数の位置決めピン１２１ａが設けられている。本体部１２１は、支持体９に形成された基準孔９ｂ及び孔９ｃのそれぞれに位置決めピン１２１ａが嵌められることで、支持体９に対して位置決めされ、その状態で、例えばボルトによって、支持体９に取り付けられている。

枠体１２２は、側壁部１２４におけるビームスプリッタユニット３とは反対側の表面に配置されている。枠体１２２の開口は、側壁部１２４の開口１２４ａを介して、ビームスプリッタユニット３と対向している。枠体１２２には、光入射部４が配置されている。固定プレート１２３は、枠体１２２に配置された光入射部４を本体部１２１に固定するための部材である（詳細については後述する）。

第２支持構造１２は、保持ユニット１３０を更に有している。保持ユニット１３０は、本体部１３１と、枠体１３２と、固定プレート１３３と、を含んでいる。本体部１３１は、天壁部１２６における支持体９とは反対側の表面に取り付けられている。本体部１３１は、複数の位置決めピン１３１ａによって、連結ユニット１２０の本体部１２１に対して位置決めされ、その状態で、例えばボルトによって、天壁部１２６に取り付けられている。本体部１３１における支持体９とは反対側の表面には、凹部１３４が形成されている。凹部１３４の底面には、第１光通過孔１３５、第２光通過孔１３６及び第３光通過孔１３７が形成されている。第１光通過孔１３５は、Ｚ軸方向においてビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１と対向する位置に形成されている。第２光通過孔１３６は、Ｘ軸方向における第１光通過孔１３５の他方の側（すなわち、光入射部４とは反対側）に形成されている。第３光通過孔１３７は、Ｘ軸方向における第２光通過孔１３６の他方の側に形成されている。

枠体１３２は、凹部１３４の底面に配置されている。枠体１３２の開口は、第３光通過孔１３７と対向している。枠体１３２には、第２光源７が配置されている。第１光検出器６は、第１光通過孔１３５と対向した状態で、凹部１３４の底面に配置されている。第２光検出器８は、第２光通過孔１３６と対向した状態で、凹部１３４の底面に配置されている。固定プレート１３３は、凹部１３４の底面に配置された第１光検出器６及び第２光検出器８、並びに、枠体１３２に配置された第２光源７を、本体部１３１に固定するための部材である（詳細については後述する）。

光入射部４は、ホルダ４１と、コリメータレンズ４２と、を有している。ホルダ４１は、コリメータレンズ４２を保持しており、測定光Ｌ０を導光する光ファイバ（図示省略）の接続が可能となるように構成されている。コリメータレンズ４２は、光ファイバから出射された測定光Ｌ０をコリメートする。ホルダ４１に光ファイバが接続された際に、光ファイバの光軸は、コリメータレンズ４２の光軸に一致する。

ホルダ４１には、フランジ部４１ａが設けられている。フランジ部４１ａは、枠体１２２と固定プレート１２３との間に配置されている。この状態で、固定プレート１２３が例えばボルトによって側壁部１２４に取り付けられることで、枠体１２２に配置された光入射部４が本体部１２１に固定されている。このように、光入射部４は、Ｘ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。光入射部４は、第１光源から測定対象を介して入射した測定光Ｌ０又は測定対象から発せられた測定光Ｌ０（本実施形態では、光ファイバによって導光された測定光Ｌ０）をビームスプリッタユニット３に入射させる。

枠体１２２には、フィルタ５４が取り付けられている。フィルタ５４は、レーザ光Ｌ１０をカットする機能を有している。フィルタ５４は、光入射部４の光軸に対して傾斜した状態で、側壁部１２４の開口１２４ａ内に配置されている。フィルタ５４は、Ｘ軸方向から見た場合に枠体１２２の開口を塞いでいる。このように、フィルタ５４は、光入射部４とビームスプリッタユニット３との間に配置されており、光入射部４の光軸に対して傾斜した状態で第２支持構造１２によって支持されている。本実施形態では、フィルタ５４の光学面は、Ｚ軸方向に平行な面であり、且つＹ軸方向と１０°～２０°の角度を成す面である。なお、光入射部４の光軸は、Ｘ軸方向に平行である。

第１光検出器６は、ホルダ６１と、光検出素子６２と、集光レンズ６３と、を有している。ホルダ６１は、光検出素子６２及び集光レンズ６３を保持している。光検出素子６２は、測定光の干渉光Ｌ１を検出する。光検出素子６２は、例えばＩｎＧａＡｓフォトダイオードである。集光レンズ６３は、光検出素子６２に入射する測定光の干渉光Ｌ１を光検出素子６２に集光する。ホルダ６１において、光検出素子６２の光軸と集光レンズ６３の光軸とは、互いに一致している。

ホルダ６１には、フランジ部６１ａが設けられている。フランジ部６１ａは、本体部１３１の凹部１３４の底面と固定プレート１３３との間に配置されている。この状態で、固定プレート１３３が例えばボルトによって本体部１３１に取り付けられることで、凹部１３４の底面に配置された第１光検出器６が本体部１３１に固定されている。このように、第１光検出器６は、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第１光検出器６は、Ｚ軸方向においてビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１と対向している。第１光検出器６は、ビームスプリッタユニット３から出射された測定光の干渉光Ｌ１を検出する。

第２光検出器８は、ホルダ８１と、光検出素子８２と、集光レンズ８３と、を有している。ホルダ８１は、光検出素子８２及び集光レンズ８３を保持している。光検出素子８２は、レーザ光の干渉光Ｌ１１を検出する。光検出素子８２は、例えばＳｉフォトダイオードである。集光レンズ８３は、光検出素子８２に入射するレーザ光の干渉光Ｌ１１を光検出素子８２に集光する。ホルダ８１において、光検出素子８２の光軸と集光レンズ８３の光軸とは、互いに一致している。

ホルダ８１には、フランジ部８１ａが設けられている。フランジ部８１ａは、本体部１３１の凹部１３４の底面と固定プレート１３３との間に配置されている。この状態で、固定プレート１３３が例えばボルトによって本体部１３１に取り付けられることで、凹部１３４の底面に配置された第２光検出器８が本体部１３１に固定されている。このように、第２光検出器８は、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第２光検出器８は、ビームスプリッタユニット３から出射されたレーザ光の干渉光Ｌ１１を検出する。

第２光源７は、ホルダ７１と、発光素子７２と、コリメータレンズ７３と、を有している。ホルダ７１は、発光素子７２及びコリメータレンズ７３を保持している。発光素子７２は、レーザ光Ｌ１０を出射する。発光素子７２は、例えばＶＣＳＥＬ等の半導体レーザである。コリメータレンズ７３は、発光素子７２から出射されたレーザ光Ｌ１０をコリメートする。ホルダ７１において、発光素子７２の光軸とコリメータレンズ７３の光軸とは、互いに一致している。

ホルダ７１には、フランジ部７１ａが設けられている。フランジ部７１ａは、枠体１３２と固定プレート１３３との間に配置されている。この状態で、固定プレート１３３が例えばボルトによって本体部１３１に取り付けられることで、枠体１３２に配置された第２光源７が本体部１３１に固定されている。このように、第２光源７は、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第２光源７は、ビームスプリッタユニット３に入射させるレーザ光Ｌ１０を出射する。

以上のように、保持ユニット１３０は、第１光検出器（第１光デバイス）６、第２光検出器（第２光デバイス）８及び第２光源（第３光デバイス）７が同一の側を向くように、且つ、第１光検出器６、第２光検出器８、第２光源７の順序で並ぶように、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７を保持している。本実施形態では、保持ユニット１３０は、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側において、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７がＺ軸方向における他方の側（すなわち、ビームスプリッタユニット３側）を向くように、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７を保持している。また、保持ユニット１３０は、Ｘ軸方向における一方の側（すなわち、光入射部４側）から第１光検出器６、第２光検出器８、第２光源７の順序で並ぶように、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７を保持している。

なお、第１光検出器６が或る側を向くとは、光検出素子６２の受光面がその或る側に向いていること（すなわち、その或る側から入射した光を検出するように第１光検出器６が配置されていること）を意味する。その場合、光検出素子６２のリードピンは、例えば、或る側とは反対側に延在することになる。同様に、第２光検出器８が或る側を向くとは、光検出素子８２の受光面がその或る側に向いていること（すなわち、その或る側から入射した光を検出するように第２光検出器８が配置されていること）を意味する。その場合、光検出素子８２のリードピンは、例えば、或る側とは反対側に延在することになる。また、第２光源７が或る側を向くとは、発光素子７２の光出射面がその或る側に向いていること（すなわち、その或る側に光を出射するように第２光源７が配置されていること）を意味する。その場合、発光素子７２のリードピンは、例えば、或る側とは反対側に延在することになる。また、保持ユニット１３０は、第２支持構造１２の一部であるから、保持ユニット１３０が或る構成を保持しているとは、その或る構成が第２支持構造１２によって支持されていることを意味する。

保持ユニット１３０の本体部１３１には、第１ミラー５１、第２ミラー５２及び第３ミラー５３が取り付けられている。第１ミラー５１は、第１光通過孔１３５に対して第１光検出器６とは反対側に位置するように、保持ユニット１３０によって保持されている。第２ミラー５２は、第２光通過孔１３６に対して第２光検出器８とは反対側に位置するように、保持ユニット１３０によって保持されている。第３ミラー５３は、第３光通過孔１３７に対して第２光源７とは反対側に位置するように、保持ユニット１３０によって保持されている。

第１ミラー５１は、測定光Ｌ０を透過させ且つレーザ光Ｌ１０を反射する機能を有し、且つ第１光検出器６の光軸に対して傾斜したダイクロイックミラーである。第１ミラー５１は、ビームスプリッタユニット３と第１光検出器６との間に配置されている。つまり、第１ミラー５１は、ビームスプリッタユニット３及び第１光検出器６と対向するように配置されている。本実施形態では、第１ミラー５１の光学面は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面である。なお、第１光検出器６の光軸は、Ｚ軸方向に平行である。

第２ミラー５２は、レーザ光Ｌ１０の一部を反射し且つレーザ光Ｌ１０の残部を透過させる機能を有し、且つ第１ミラー５１に平行なミラー（例えば、ハーフミラー）である。第２ミラー５２は、Ｘ軸方向から見た場合に第１ミラー５１と重なるように、且つＺ軸方向から見た場合に第２光検出器８と重なるように、配置されている。つまり、第２ミラー５２は、第１ミラー５１及び第２光検出器８と対向するように配置されている。本実施形態では、第２ミラー５２の光学面は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面である。

第３ミラー５３は、レーザ光Ｌ１０を反射する機能を有し、且つ第２ミラー５２に平行なミラー（例えば、全反射ミラー）である。第３ミラー５３は、Ｘ軸方向から見た場合に第２ミラー５２と重なるように、且つＺ軸方向から見た場合に第２光源７と重なるように、配置されている。つまり、第３ミラー５３は、第２ミラー５２及び第２光源７と対向するように配置されている。本実施形態では、第３ミラー５３の光学面は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面である。

保持ユニット１３０の本体部１３１には、アパーチャ５５が取り付けられている。アパーチャ５５は、第１ミラー５１と第１光検出器６との間に位置するように、保持ユニット１３０によって保持されている。アパーチャ５５は、Ｚ軸方向から見た場合に円形状を呈する開口が形成された部材であり、第１光通過孔１３５内に配置されている。

ここで、ビームスプリッタユニット３と第１光検出器６との間の光路等について説明する。ビームスプリッタユニット３からＺ軸方向に沿って出射された測定光の干渉光Ｌ１は、第１ミラー５１を透過して、アパーチャ５５を介して第１光検出器６に入射し、第１光検出器６によって検出される。一方、第２光源７から出射されたレーザ光Ｌ１０は、第３ミラー５３で反射されて第２ミラー５２を透過し、第１ミラー５１で反射されてＺ軸方向に沿ってビームスプリッタユニット３に入射する。ビームスプリッタユニット３からＺ軸方向に沿って出射されたレーザ光の干渉光Ｌ１１は、第１ミラー５１及び第２ミラー５２で反射されて第２光検出器８に入射し、第２光検出器８によって検出される。

光モジュール１では、ビームスプリッタユニット３と第１光検出器６との間の光路の長さは、ビームスプリッタユニット３と第２光検出器８との間の光路の長さよりも短く、且つビームスプリッタユニット３と第２光源７との間の光路の長さよりも短い。なお、光路の長さとは、その光路に沿っての物理的な距離を意味する。

具体的には、光路とビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１との交点から第１光検出器６の光入射面までの距離は、光路とビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１との交点から第２光検出器８の光入射面までの距離よりも短く、且つ光路とビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１との交点から第２光源７の光出射面までの距離よりも短い。光路とビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１との交点から第１光検出器６の集光レンズ６３の光入射面までの距離は、光路とビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１との交点から第２光検出器８の集光レンズ８３の光入射面までの距離よりも短く、且つ光路とビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１との交点から第２光源７のコリメータレンズ７３の光出射面までの距離よりも短い。ビームスプリッタユニット３の光学面３３ａから第１光検出器６の光入射面までの距離は、ビームスプリッタユニット３の光学面３３ａから第２光検出器８の光入射面までの距離よりも短く、且つビームスプリッタユニット３の光学面３３ａから第２光源７の光出射面までの距離よりも短い。ビームスプリッタユニット３の光学面３３ａから第１光検出器６の集光レンズ６３の光入射面までの距離は、ビームスプリッタユニット３の光学面３３ａから第２光検出器８の集光レンズ８３の光入射面までの距離よりも短く、且つビームスプリッタユニット３の光学面３３ａから第２光源７のコリメータレンズ７３の光出射面までの距離よりも短い。

本実施形態では、光入射部４は、枠体１２２に対するホルダ４１の角度調整が可能となるように構成されている。それに対し、第１光検出器６は、ホルダ６１が本体部１３１の凹部１３４の底面に配置された際に、本体部１３１によって位置決めされる。そのため、第１光検出器６が位置決めされた状態で、測定光Ｌ０をビームスプリッタユニット３に入射させながら、第１光検出器６における検出強度が最大となるようにホルダ４１の角度調整を実施することができる。そして、角度調整が実施された状態で、光入射部４を枠体１２２に固定することができる。

同様に、第２光源７は、枠体１３２に対するホルダ７１の角度調整が可能となるように構成されている。それに対し、第２光検出器８は、ホルダ８１が本体部１３１の凹部１３４の底面に配置された際に、本体部１３１によって位置決めされる。そのため、第２光検出器８が位置決めされた状態で、レーザ光Ｌ１０を出射させながら、第２光検出器８における検出強度が最大となるようにホルダ７１の角度調整を実施することができる。そして、角度調整が実施された状態で、第２光源７を枠体１３２に固定することができる。

なお、光入射部４だけでなく、第１光検出器６も、本体部１３１の凹部１３４の底面に配置された枠体に対するホルダ６１の角度調整が可能となるように構成されていてもよい。同様に、第２光源７だけでなく、第２光検出器８も、本体部１３１の凹部１３４の底面に配置された枠体に対するホルダ８１の角度調整が可能となるように構成されていてもよい。
［作用及び効果］

光モジュール１では、可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２、ビームスプリッタユニット３を支持する第１支持構造１１、並びに、第１光検出器６を支持する第２支持構造１２が、同一の支持体９に取り付けられている。これにより、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光検出器６の相互の位置関係が、支持体９を基準として設定される。そのため、例えば「可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２が支持体９に取り付けられ、ビームスプリッタユニット３を支持する第１支持構造１１がミラーユニット２に取り付けられ、第１光検出器６を支持する第２支持構造１２が第１支持構造１１に取り付けられた構成」に比べ、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光検出器６の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、光モジュール１によれば、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

また、光モジュール１では、ビームスプリッタユニット３が、Ｚ軸方向に対して傾斜したミラー面であって且つＺ軸方向において固定ミラー１６と対向する第１ミラー面３１、及び、第１ミラー面３１に平行なミラー面であって且つＺ軸方向において可動ミラー２２と対向する第２ミラー面３２を有し、第１ミラー面３１は、入射光の一部を反射し且つ入射光の残部を透過させる機能を有し、第２ミラー面３２は、入射光を反射する機能を有している。これにより、第１ミラー面３１及び第２ミラー面３２の傾斜角度が所定角度から若干ずれたとしても、ビームスプリッタユニット３に入射する測定光Ｌ０の入射角度が一定であれば、ビームスプリッタユニット３から出射される測定光の干渉光Ｌ１の出射角度が一定になる。したがって、ビームスプリッタユニット３からＺ軸方向における一方の側に測定光の干渉光Ｌ１を出射させることができる。

また、光モジュール１では、可動ミラー２２のミラー面２２ａがベース２１の第１表面２１ａに沿うように構成されているため、可動ミラー２２のミラー面２２ａを大型化することができる。したがって、可動ミラー２２のミラー面２２ａを大型化することで、ビームスプリッタユニット３から可動ミラー２２側に出射される測定光Ｌ０の出射位置にずれが生じたとしても、当該ずれを実質的に無視することができる。よって、ビームスプリッタユニット３のアライメント精度を緩和することができる。

また、光モジュール１では、第１光検出器６が、Ｚ軸方向においてビームスプリッタユニット３の第１ミラー面３１と対向するように、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されている。これにより、ビームスプリッタユニット３から出射する測定光の干渉光Ｌ１の出射方向がＺ軸方向から若干ずれたとしても、第１光検出器６に測定光の干渉光Ｌ１を十分に入射させることができる。

また、光モジュール１では、アパーチャ５５が、ビームスプリッタユニット３と第１光検出器６との間に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。これにより、アパーチャ５５、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光検出器６の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。また、測定光の干渉光Ｌ１においてノイズとなり得る外縁部分をカットして、より高精度な分光分析を実現することができる。更に、第１光検出器６によって検出される測定光の干渉光Ｌ１についてビーム面内における位相差のばらつきを低減することができる。

また、光モジュール１では、光入射部４が、Ｘ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。これにより、光入射部４、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光検出器６の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。更に、Ｚ軸方向を鉛直方向として光モジュール１を使用し、測定光Ｌ０を導光するための光ファイバを光入射部４に側方から容易に接続する場合に、当該光ファイバと光入射部４との安定した接続を実現することができる。

また、光モジュール１では、第２光源７及び第２光検出器８が第２支持構造１２によって支持されている。これにより、第２光源７、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第２光検出器８の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。したがって、レーザ光の干渉光Ｌ１１の検出結果に基づいてＺ軸方向における可動ミラー２２の位置を精度良く取得することができる。

また、光モジュール１では、第２支持構造１２が、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７がＺ軸方向における他方の側を向くように、且つ、第１光検出器６、第２光検出器８、第２光源７の順序で並ぶように、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７を支持している。更に、第２支持構造１２が、ビームスプリッタユニット３及び第１光検出器６と対向するように配置された第１ミラー５１、第１ミラー５１及び第２光検出器８と対向するように配置された第２ミラー５２、及び第２ミラー５２及び第２光源７と対向するように配置された第３ミラー５３を支持している。これにより、測定光Ｌ０についての干渉光学系、及びレーザ光Ｌ１０についての干渉光学系を簡易なレイアウトで構成することができる。しかも、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７のそれぞれからリードピンを同一の側（本実施形態では、Ｚ軸方向における一方の側）に延在させることが可能となるため、第１光検出器６、第２光検出器８及び第２光源７に対する信号入出力用の回路基板の集約化を図ることができる。更に、測定光の干渉光Ｌ１が、ダイクロイックミラーである第１ミラー５１を透過して、第１光検出器６に入射する構成であるため、ダイクロイックミラーの取付角度が所定角度から若干ずれたとしても、第１光検出器６に測定光の干渉光Ｌ１を十分に入射させることができる。

また、光モジュール１では、レーザ光Ｌ１０をカットする機能を有するフィルタ５４が、光入射部４とビームスプリッタユニット３との間に配置されており、光入射部４の光軸に対して傾斜した状態で第２支持構造１２によって支持されている。これにより、レーザ光Ｌ１０と同一の波長帯の光が測定光Ｌ０に含まれていたとしても、当該光がビームスプリッタユニット３に入射することが防止されるため、レーザ光の干渉光Ｌ１１の検出結果に基づいてＺ軸方向における可動ミラー２２の位置を精度良く取得することができる。更に、フィルタ５４が、光入射部４の光軸に対して傾斜しているため、レーザ光Ｌ１０と同一の波長帯の光を干渉光学系外に反射させて、当該光が迷光となるのを確実に防止することができる。本実施形態では、Ｘ軸方向に沿ってビームスプリッタユニット３から出射されたレーザ光Ｌ１０と同一の波長帯の光は、フィルタ５４で反射されて、第２支持構造１２の本体部１２１における一対の側壁部１２４，１２５間から干渉光学系外に出される。これにより、当該光が迷光となるのを確実に防止することができる。
［変形例］

ミラーユニット２は、ベース２１、可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むものであれば、上述した形態に限定されない。例えば、固定ミラー１６は、ミラーデバイス２０に設けられていてもよい。また、固定ミラー１６のミラー面１６ａは、可動ミラー２２のミラー面２２ａと同一の側を向いていなくてもよい。また、ミラーユニット２は、複数の固定ミラー１６を含むものであってもよい。その場合、測定光Ｌ０についての干渉光学系とレーザ光Ｌ１０についての干渉光学系とが別々の固定ミラー１６によって構成されてもよい。また、光モジュール１では、第２光源７の位置と第２光検出器８の位置とが入れ替わってもよい。また、光モジュール１は、第２光源７及び第２光検出器８を備えていなくてもよい。

また、ビームスプリッタユニット３は、図１１の（ａ）に示されるように、第１ミラー面３１、第２ミラー面３２及び複数の光学面３３ａ，３３ｂが形成された光学ブロック３５であってもよい。また、ビームスプリッタユニット３は、図１１の（ｂ）に示されるように、第１ミラー面３１が形成された光学プレート３６と、第２ミラー面３２が形成された部材３７との組合せであってもよい。図１１の（ｂ）に示されるビームスプリッタユニット３では、光学プレート３６と部材３７とが互いに離れている。

また、ミラーユニット２では、図１２に示されるように、ミラーデバイス２０において、ベース２１の第２表面２１ｂ（光学機能部材１３との接合面）が支持層１０１における中間層１０３とは反対側の表面であり、可動ミラー２２のミラー面２２ａがデバイス層１０２における中間層１０３とは反対側の表面に設けられていてもよい。この場合、ミラー面２２ａと同様に、複数の電極パッド２１１をデバイス層１０２における中間層１０３とは反対側の表面に設けることが可能となるため、ミラーデバイス２０の製造プロセスの簡易化、及びミラーユニット２の組立プロセスの簡易化を図ることができる。また、第３表面１３ａよりも第４表面１３ｂ側に位置する第５表面１３ｄを光学機能部材１３に設けなくても、可動ミラー２２及び駆動部２３に対応する部分において支持層１０１を薄くすることで、可動ミラー２２をＺ軸方向に沿って往復移動させた際に、可動ミラー２２及び駆動部２３が光学機能部材１３に接触するのを防止することができる。

また、ミラーユニット２では、図１３、図１４及び図１５に示されるように、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３が気密空間（例えば、高い真空度が維持された気密空間、或いは窒素等の不活性ガスが充填された気密空間）に配置されていてもよい。図１３、図１４及び図１５に示されるミラーユニット２は、ミラーデバイス２０と、光学機能部材１３と、固定ミラー１６と、枠体１８と、光透過部材１９と、を有している。光学機能部材１３において、第３表面１３ａは、Ｚ軸方向から見た場合に第５表面１３ｄを包囲するように、枠状に延在している。枠状に延在する第３表面１３ａは、ミラーデバイス２０のベース２１の第２表面２１ｂに接合されている。光学機能部材１３とベース２１とは、ダイレクトボンディングによって互いに接合されている。固定ミラー１６は、光学機能部材１３の第４表面１３ｂに形成されている。

枠体１８は、Ｚ軸方向から見た場合にミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３を包囲するように形成されており、ミラーデバイス２０のベース２１の第１表面２１ａに接合されている。枠体１８は、例えばガラスによって形成されており、例えば矩形枠状を呈している。ベース２１と枠体１８とは、ダイレクトボンディングによって互いに接合されている。光透過部材１９は、枠体１８の開口を塞ぐように形成されており、枠体１８におけるミラーデバイス２０とは反対側の端面に接合されている。光透過部材１９は、例えばガラスによって形成されており、例えば矩形板状を呈している。枠体１８と光透過部材１９とは、ダイレクトボンディングによって互いに接合されている。なお、光透過部材１９におけるミラーデバイス２０側の表面のうち、枠体１８と接合されない領域（すなわち、Ｚ軸方向から見た場合における枠体１８の内側の領域）には、光モジュール１の感度波長の光に対するＡＲコート（Anti Reflection Coating）が施されている。

本実施形態では、ベース２１の外縁のうち、Ｘ軸方向に延在する一方の部分及び他方の部分のそれぞれに沿って、複数の電極パッド２１１及び１つの電極パッド２１２が１列に配置されている。各列において、１つの電極パッド２１２は、中央に位置している。枠体１８には、各列の複数の電極パッド２１１及び１つの電極パッド２１２に対応するように、一対の溝１８ａが形成されている。光透過部材１９には、各列の複数の電極パッド２１１及び１つの電極パッド２１２に対応するように、一対の溝１９ａが形成されている。これにより、溝１８ａ及び溝１９ａを介して各電極パッド２１１，２１２にワイヤを接続することができる。

図１３、図１４及び図１５に示されるミラーユニット２では、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３が気密空間に配置されているため、可動ミラー２２及び駆動部２３を信頼性が高い状態に維持することができる。更に、当該気密空間を減圧された状態にすることで、可動ミラー２２及び駆動部２３をスムーズに動作させることができる。

図１３、図１４及び図１５に示されるミラーユニット２は、次のように効率良く製造することが可能である。すなわち、それぞれが光学機能部材１３となる複数の部分を含むウェハ（固定ミラー１６となる層が形成されたもの）、それぞれがミラーデバイス２０となる複数の部分を含むウェハ、それぞれが枠体１８となる複数の部分を含むウェハ、及びそれぞれが光透過部材１９となる部分を複数含むウェハを準備し、それらの接合をウェハレベルで実施した後に、それぞれがミラーユニット２となる複数の部分を含むウェハを複数のミラーユニット２に切断する。この切断を、水を用いたブレードダイシングによって実施しても、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３が気密空間に配置されているため、水によって可動ミラー２２及び駆動部２３が破損するのを防止することができる。

なお、光学機能部材１３、枠体１８及び光透過部材１９の材料は、ガラスに限定されず、例えばシリコンであってもよい。特に、光学機能部材１３及び光透過部材１９の材料は、例えば、光モジュール１の感度波長が近赤外領域である場合にはガラス、光モジュール１の感度波長が中赤外領域である場合にはシリコンというように、光モジュール１の感度波長によって選択される。光学機能部材１３、枠体１８及び光透過部材１９の材料がガラスの場合、それらの形状は、例えば、ブラスト加工、エッチング等によって、形成される。光学機能部材１３、枠体１８及び光透過部材１９の材料がシリコンの場合、それらの形状は、例えばエッチングによって、形成される。

また、光モジュール１では、可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２、並びに、第１光検出器６を支持する第２支持構造１２が、同一の支持体９に取り付けられていれば、ビームスプリッタユニット３を支持する第１支持構造１１は、支持体９に取り付けられていなくてもよい。そのような構成は、例えば、図１３、図１４及び図１５に示されるミラーユニット２の光透過部材１９上にビームスプリッタユニット３を取り付けることで、実現される。その場合、第１支持構造１１の少なくとも一部がミラーユニット２によって構成されるため、構成の簡易化を図ることができる。可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２、並びに、第１光検出器６を支持する第２支持構造１２が、同一の支持体９に取り付けられていれば、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光検出器６の相互の位置関係が、支持体９を基準として設定される。そのため、例えば「可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２が支持体９に取り付けられ、第１光検出器６を支持する第２支持構造１２がミラーユニット２又は第１支持構造１１に取り付けられた構成」に比べ、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光検出器６の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、そのような光モジュール１によっても、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

また、ミラーデバイス２０の光通過部２４は、図１６に示されるように、ベース２１に形成された切欠きであってもよい。図１６に示されるミラーデバイス２０では、光通過部２４だけでなく、光通過部２５も、ベース２１に形成された切欠きである。光通過部２４は、ベース２１における一対のレバー２６１間の領域からベース２１の外縁２１ｃまで延在する切欠きである。光通過部２５は、ベース２１における一対のレバー２７１間の領域からベース２１の外縁２１ｃまで延在する切欠きである。なお、図１６に示されるミラーデバイス２０では、第１弾性支持部２６が第１リンク部材２６２を有しおらず、第２弾性支持部２７が第１リンク部材２７２を有していない。

また、光学機能部材１３は、図１７の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、光透過部１４に代わりに、光通過部（第２光通過部）１３ｆが設けられたものであってもよい。図１７の（ａ）に示される光学機能部材１３では、光通過部１３ｆが、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３と対向する部分を含む孔として形成されている。図１７の（ｂ）に示される光学機能部材１３では、光通過部１３ｆが、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３と対向する部分を含む切欠きとして形成されている。

また、ミラーデバイス２０には、図１８に示されるように、光通過部２４が設けられていなくてもよい。図１８に示されるミラーユニット２では、Ｚ軸方向から見た場合に光学機能部材１３においてミラーデバイス２０と重ならない部分に光透過部１４が設けられている。

また、ミラーデバイス２０の駆動部２３は、可動ミラー２２を弾性的に支持する３つ以上の弾性支持部を有していてもよい。更に、駆動部２３は、静電アクチュエータとして構成されたものに限定されず、例えば、圧電式アクチュエータ、電磁式アクチュエータ等として構成されたものであってもよい。

また、ベース２１の第２表面２１ｂと光学機能部材１３の第３表面１３ａとは、ダイレクトボンディング以外の手段（例えば、ＵＶ硬化樹脂等の接着剤等）によって互いに接合されていてもよい。また、固定ミラー１６は、光学機能部材１３に対してミラーデバイス２０とは反対側に配置されていれば、光学機能部材１３の第４表面１３ｂから離れていてもよい。

また、図１９に示されるように、光モジュール１は、ビームスプリッタユニット３に入射させる測定光Ｌ０を出射する第１光源５を備えるものであってもよい。図１９に示される光モジュール１は、以下のように構成されている。

第１光源５は、発光素子５ａと、コリメータレンズ５ｃと、を有している。発光素子５ａは、例えばフィラメント等の熱型光源である。コリメータレンズ５ｃは、測定光Ｌ０をコリメートする。

保持ユニット１３０は、Ｚ軸方向におけるビームスプリッタユニット３の一方の側において、第１光源５、第２光源７及び第２光検出器８がＺ軸方向における他方の側（すなわち、ビームスプリッタユニット３側）を向くように、且つＸ軸方向における一方の側から第１光源５、第２光源７、第２光検出器８の順序で並ぶように、第１光源５、第２光源７及び第２光検出器８を保持している。

保持ユニット１３０は、第１光源５、第２光源７及び第２光検出器８に加え、第１ミラー５１、第２ミラー５２及び第３ミラー５３を保持している。第１ミラー５１、第２ミラー５２及び第３ミラー５３は、互いに離れた複数の光学プレートによって構成されている。

第１ミラー５１は、測定光Ｌ０を透過させ且つレーザ光Ｌ１０を反射する機能を有し、且つ第１光源５の光軸に対して傾斜したダイクロイックミラーである。第１ミラー５１は、ビームスプリッタユニット３と第１光源５との間に配置されている。つまり、第１ミラー５１は、ビームスプリッタユニット３及び第１光源５と対向するように配置されている。第１ミラー５１と第１光源５との間には、保持ユニット１３０によって保持されたアパーチャ５５が配置されている。本実施形態では、第１ミラー５１の光学面は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面である。なお、第１光源５の光軸は、Ｚ軸方向に平行である。

第２ミラー５２は、レーザ光Ｌ１０の一部を反射し且つレーザ光Ｌ１０の残部を透過させる機能を有し、且つ第１ミラー５１に平行なミラーである。第２ミラー５２は、Ｘ軸方向から見た場合に第１ミラー５１と重なるように、且つＺ軸方向から見た場合に第２光源７と重なるように、配置されている。つまり、第２ミラー５２は、第１ミラー５１及び第２光源７と対向するように配置されている。本実施形態では、第２ミラー５２の光学面は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面である。

第３ミラー５３は、レーザ光Ｌ１０を反射する機能を有し、且つ第２ミラー５２に平行なミラーである。第３ミラー５３は、Ｘ軸方向から見た場合に第２ミラー５２と重なるように、且つＺ軸方向から見た場合に第２光検出器８と重なるように、配置されている。つまり、第３ミラー５３は、第２ミラー５２及び第２光検出器８と対向するように配置されている。本実施形態では、第３ミラー５３の光学面は、Ｙ軸方向に平行な面であり、且つＺ軸方向と４５°の角度を成す面である。

図１９に示される光モジュール１では、第１光源５からＺ軸方向に沿って出射された測定光Ｌ０は、アパーチャ５５を介して第１ミラー５１に入射し、第１ミラー５１を透過して、Ｚ軸方向に沿ってビームスプリッタユニット３の光学面３３ａに入射する。Ｘ軸方向に沿ってビームスプリッタユニット３の光学面３３ｄから出射された測定光の干渉光Ｌ１は、集光レンズ５７によって集光されつつ、筐体１０に設けられた窓部１０ａを介して筐体１０外に出射され、測定対象（図示省略）に照射される。当該測定対応で反射された測定光の干渉光Ｌ１は、窓部１０ａを介して筐体１０内に入射し、集光レンズ５８によって集光される。集光された測定光の干渉光Ｌ１は、Ｚ軸方向に沿って第１光検出器６に入射し、第１光検出器６によって検出される。

一方、第２光源７から出射されたレーザ光Ｌ１０は、第２ミラー５２及び第１ミラー５１で反射され、Ｚ軸方向に沿ってビームスプリッタユニット３の光学面３３ａに入射する。ビームスプリッタユニット３の光学面３３ａからＺ軸方向に沿って出射されたレーザ光の干渉光Ｌ１１は、第１ミラー５１で反射されて第２ミラー５２を透過し、第３ミラー５３で反射されて第２光検出器８に入射し、第２光検出器８によって検出される。

図１９に示される光モジュール１では、可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２、並びに、第１光源５を保持する保持ユニット１３０（すなわち、第１光源５を支持する第２支持構造１２）が、同一の支持体（筐体１０）に取り付けられている。これにより、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光源５の相互の位置関係が、支持体を基準として設定される。そのため、例えば「可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２が支持体に取り付けられ、第１光源５を支持する第２支持構造１２がミラーユニット２又は第１支持構造１１に取り付けられた構成」に比べ、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光源５の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、図１９に示される光モジュール１によれば、高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

なお、図１９に示される光モジュール１において、可動ミラー２２及び固定ミラー１６を含むミラーユニット２、ビームスプリッタユニット３を支持する第１支持構造１１、並びに、第１光源５を支持する第２支持構造１２を、同一の支持体９に取り付ければ、ビームスプリッタユニット３、可動ミラー２２、固定ミラー１６、及び第１光源５の相互の位置関係にずれが生じ難くなる。よって、そのような光モジュール１によれば、より高精度な分光分析を簡易な構成で実現することができる。

また、ミラーユニット２が有する各構成には、上述した材料及び形状に限定されず、様々な材料及び形状を適用することができる。また、上述した一の実施形態又は変形例における各構成は、他の実施形態又は変形例における各構成に任意に適用することができる。

１…光モジュール、２…ミラーユニット、３…ビームスプリッタユニット、４…光入射部、６…第１光検出器（第１光デバイス）、５…第１光源、７…第２光源（第３光デバイス）、８…第２光検出器（第２光デバイス）、９…支持体、１１…第１支持構造、１２…第２支持構造、１６…固定ミラー、２１…ベース、２１ａ…第１表面、２２…可動ミラー、３１…第１ミラー面、３２…第２ミラー面、５１…第１ミラー、５２…第２ミラー、５３…第３ミラー、５４…フィルタ、５５…アパーチャ、Ｌ０…測定光、Ｌ１…測定光の干渉光、Ｌ１０…レーザ光、Ｌ１１…レーザ光の干渉光。

Claims (13)

1. 第１表面を有するベース、前記第１表面と交差する第１方向に沿って移動可能となるように前記ベースにおいて支持された可動ミラー、及び、前記ベースに対する位置が固定された固定ミラーを含むミラーユニットと、
   前記第１方向における前記ミラーユニットの一方の側に配置され、前記可動ミラー及び前記固定ミラーと共に干渉光学系を構成するビームスプリッタユニットと、
   第１光源から測定対象を介して入射した測定光又は測定対象から発せられた測定光を前記ビームスプリッタユニットに入射させる光入射部と、
   前記第１方向における前記ビームスプリッタユニットの前記一方の側に配置され、前記ビームスプリッタユニットから出射された前記測定光の干渉光を検出する第１光検出器と、
   前記ミラーユニットが取り付けられた支持体と、
   前記ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造と、
   前記支持体に取り付けられ、前記第１光検出器を支持する第２支持構造と、を備え、
   前記支持体、前記ミラーユニット、前記ビームスプリッタユニット及び前記第１光検出器は、前記第１方向において、前記支持体、前記ミラーユニット、前記ビームスプリッタユニット、前記第１光検出器の順序で配置されている、光モジュール。
2. 前記第１支持構造は、前記支持体に取り付けられている、請求項１に記載の光モジュール。
3. 前記第１支持構造の少なくとも一部は、前記ミラーユニットによって構成されている、請求項１に記載の光モジュール。
4. 前記ビームスプリッタユニットは、前記第１方向に対して傾斜したミラー面であって且つ前記第１方向において前記固定ミラーと対向する第１ミラー面、及び、前記第１ミラー面に平行なミラー面であって且つ前記第１方向において前記可動ミラーと対向する第２ミラー面を有し、
   前記第１ミラー面は、入射光の一部を反射し且つ前記入射光の残部を透過させる機能を有し、
   前記第２ミラー面は、入射光を反射する機能を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の光モジュール。
5. 前記第１光検出器は、前記第１方向において前記ビームスプリッタユニットの前記第１ミラー面と対向するように、前記第１方向における前記ビームスプリッタユニットの前記一方の側に配置されている、請求項４に記載の光モジュール。
6. 前記ビームスプリッタユニットと前記第１光検出器との間に配置されたアパーチャを更に備え、
   前記アパーチャは、前記第２支持構造によって支持されている、請求項１～５のいずれか一項に記載の光モジュール。
7. 前記光入射部は、前記第１方向と交差する第２方向における前記ビームスプリッタユニットの一方の側に配置されており、
   前記光入射部は、前記第２支持構造によって支持されている、請求項１～６のいずれか一項に記載の光モジュール。
8. 前記ビームスプリッタユニットに入射させるレーザ光を出射する第２光源と、
   前記ビームスプリッタユニットから出射された前記レーザ光の干渉光を検出する第２光検出器と、を更に備え、
   前記第２光源及び前記第２光検出器は、前記第２支持構造によって支持されている、請求項１～７のいずれか一項に記載の光モジュール。
9. 前記第２支持構造によって支持された第１ミラー、第２ミラー及び第３ミラーを更に備え、
   前記第２支持構造は、前記第１光検出器である第１光デバイス、前記第２光源及び前記第２光検出器の一方である第２光デバイス、並びに、前記第２光源及び前記第２光検出器の他方である第３光デバイスが前記第１方向における他方の側を向くように、且つ、前記第１光デバイス、前記第２光デバイス、前記第３光デバイスの順序で並ぶように、前記第１光デバイス、前記第２光デバイス及び前記第３光デバイスを支持しており、
   前記第１ミラーは、前記測定光を透過させ且つ前記レーザ光を反射する機能を有し、且つ前記第１光デバイスの光軸に対して傾斜したダイクロイックミラーであって、前記ビームスプリッタユニット及び前記第１光デバイスと対向するように配置されており、
   前記第２ミラーは、前記レーザ光の一部を反射し且つ前記レーザ光の残部を透過させる機能を有し、且つ前記第１ミラーに平行なミラーであって、前記第１ミラー及び前記第２光デバイスと対向するように配置されており、
   前記第３ミラーは、前記レーザ光を反射する機能を有し、且つ前記第２ミラーに平行なミラーであって、前記第２ミラー及び前記第３光デバイスと対向するように配置されている、請求項８に記載の光モジュール。
10. 前記光入射部と前記ビームスプリッタユニットとの間に配置されたフィルタを更に備え、
    前記フィルタは、前記レーザ光をカットする機能を有し、前記光入射部の光軸に対して傾斜した状態で前記第２支持構造によって支持されている、請求項８又は９に記載の光モジュール。
11. 第１表面を有するベース、前記第１表面と交差する第１方向に沿って移動可能となるように前記ベースにおいて支持された可動ミラー、及び、前記ベースに対する位置が固定された固定ミラーを含むミラーユニットと、
    前記第１方向における前記ミラーユニットの一方の側に配置され、前記可動ミラー及び前記固定ミラーと共に干渉光学系を構成するビームスプリッタユニットと、
    前記第１方向における前記ビームスプリッタユニットの前記一方の側に配置され、前記ビームスプリッタユニットに入射させる測定光を出射する第１光源と、
    前記ビームスプリッタユニットから出射されて測定対象を介して入射した前記測定光の干渉光を検出する第１光検出器と、
    前記ミラーユニットが取り付けられた支持体と、
    前記ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造と、
    前記支持体に取り付けられ、前記第１光源を支持する第２支持構造と、を備え、
    前記支持体、前記ミラーユニット、前記ビームスプリッタユニット及び前記第１光検出器は、前記第１方向において、前記支持体、前記ミラーユニット、前記ビームスプリッタユニット、前記第１光検出器の順序で配置されている、光モジュール。
12. 第１表面を有するベース、前記第１表面と交差する第１方向に沿って移動可能となるように前記ベースにおいて支持された可動ミラー、及び、前記ベースに対する位置が固定された固定ミラーを含むミラーユニットと、
    前記第１方向における前記ミラーユニットの一方の側に配置され、前記可動ミラー及び前記固定ミラーと共に干渉光学系を構成するビームスプリッタユニットと、
    第１光源から測定対象を介して入射した測定光又は測定対象から発せられた測定光を前記ビームスプリッタユニットに入射させる光入射部と、
    前記第１方向における前記ビームスプリッタユニットの前記一方の側に配置され、前記ビームスプリッタユニットから出射された前記測定光の干渉光を検出する第１光検出器と、
    前記ミラーユニットが取り付けられた支持体と、
    前記ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造と、
    前記支持体に取り付けられ、前記第１光検出器を支持する第２支持構造と、
    前記ビームスプリッタユニットに入射させるレーザ光を出射する第２光源と、
    前記ビームスプリッタユニットから出射された前記レーザ光の干渉光を検出する第２光検出器と、
    前記第２支持構造によって支持された第１ミラー、第２ミラー及び第３ミラーと、備え、
    前記第２光源及び前記第２光検出器は、前記第２支持構造によって支持されており、
    前記第２支持構造は、前記第１光検出器である第１光デバイス、前記第２光源及び前記第２光検出器の一方である第２光デバイス、並びに、前記第２光源及び前記第２光検出器の他方である第３光デバイスが前記第１方向における他方の側を向くように、且つ、前記第１光デバイス、前記第２光デバイス、前記第３光デバイスの順序で並ぶように、前記第１光デバイス、前記第２光デバイス及び前記第３光デバイスを支持しており、
    前記第１ミラーは、前記測定光を透過させ且つ前記レーザ光を反射する機能を有し、且つ前記第１光デバイスの光軸に対して傾斜したダイクロイックミラーであって、前記ビームスプリッタユニット及び前記第１光デバイスと対向するように配置されており、
    前記第２ミラーは、前記レーザ光の一部を反射し且つ前記レーザ光の残部を透過させる機能を有し、且つ前記第１ミラーに平行なミラーであって、前記第１ミラー及び前記第２光デバイスと対向するように配置されており、
    前記第３ミラーは、前記レーザ光を反射する機能を有し、且つ前記第２ミラーに平行なミラーであって、前記第２ミラー及び前記第３光デバイスと対向するように配置されている、光モジュール。
13. 第１表面を有するベース、前記第１表面と交差する第１方向に沿って移動可能となるように前記ベースにおいて支持された可動ミラー、及び、前記ベースに対する位置が固定された固定ミラーを含むミラーユニットと、
    前記第１方向における前記ミラーユニットの一方の側に配置され、前記可動ミラー及び前記固定ミラーと共に干渉光学系を構成するビームスプリッタユニットと、
    第１光源から測定対象を介して入射した測定光又は測定対象から発せられた測定光を前記ビームスプリッタユニットに入射させる光入射部と、
    前記第１方向における前記ビームスプリッタユニットの前記一方の側に配置され、前記ビームスプリッタユニットから出射された前記測定光の干渉光を検出する第１光検出器と、
    前記ミラーユニットが取り付けられた支持体と、
    前記ビームスプリッタユニットを支持する第１支持構造と、
    前記支持体に取り付けられ、前記第１光検出器を支持する第２支持構造と、
    前記ビームスプリッタユニットに入射させるレーザ光を出射する第２光源と、
    前記ビームスプリッタユニットから出射された前記レーザ光の干渉光を検出する第２光検出器と、
    前記光入射部と前記ビームスプリッタユニットとの間に配置されたフィルタと、を備え、
    前記第２光源及び前記第２光検出器は、前記第２支持構造によって支持されており、
    前記フィルタは、前記レーザ光をカットする機能を有し、前記光入射部の光軸に対して傾斜した状態で前記第２支持構造によって支持されている、光モジュール。
    

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