JP2011080854A - フーリエ変換分光器 - Google Patents
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Abstract
【課題】干渉性の高い基準光源を用いずに移動鏡15の位置を求めることができ、これによって、小型で高分解能のフーリエ変換型の分光器1を実現する。
【解決手段】駆動機構21は、共振によって移動鏡15を移動させ、時間経過とともに移動鏡15の位置を周期的に変化させる。この構成において、移動鏡位置算出機構23は、移動鏡15の基準位置X0と変位が最大の位置Xmとの間の位置Xpを検出し、位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを外挿法によって算出し、算出した位置Xeを干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置とする。外挿法によって干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを算出するので、移動鏡15の変位量を大きくして、高分解能の分光器1を実現する場合でも、干渉性の高い基準光源(例えば大型のHe−Neレーザ)を用いることなく、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを求めることができる。
【選択図】図1
【解決手段】駆動機構21は、共振によって移動鏡15を移動させ、時間経過とともに移動鏡15の位置を周期的に変化させる。この構成において、移動鏡位置算出機構23は、移動鏡15の基準位置X0と変位が最大の位置Xmとの間の位置Xpを検出し、位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを外挿法によって算出し、算出した位置Xeを干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置とする。外挿法によって干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを算出するので、移動鏡15の変位量を大きくして、高分解能の分光器1を実現する場合でも、干渉性の高い基準光源(例えば大型のHe−Neレーザ)を用いることなく、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを求めることができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、マイケルソン干渉計を備えたフーリエ変換分光器に関するものである。
従来から、試料に光を照射して、そこを透過または反射した光を集めて分光し、スペクトルを得る装置が分光器として知られている。分光器は、分光プリズムや回折格子を用いた分散型の分光器と、マイケルソン干渉計などの干渉光学系を用いた時間的フーリエ変換分光器(以下、FT分光器とも称する)とに大別される。FT分光器では、光源からの光(例えば赤外光)をBS(ビームスプリッタ)で分離して移動鏡および固定鏡に導き、移動鏡および固定鏡での各反射光をBSで合成して干渉させることにより、時間的インターフェログラム(干渉パターン)を形成する。この時間的インターフェログラムをフーリエ変換することにより、干渉光のスペクトル分布を求めることができ、このスペクトル分布から、波数(1/波長)ごとの干渉光の強度を求めることができる。
上記のインターフェログラムは、移動鏡と固定鏡との位相差、すなわち、移動鏡での反射光と固定鏡での反射光との光路差の関数で示されることから、上記干渉光の強度を求めるにあたっては、移動鏡の位置を常に監視する必要がある。また、FT分光器の分光精度(分解能)は、移動鏡の変位量(移動量)に応じて決まり、変位量が大きいほど高分解能となる。
そこで、従来では、例えば非特許文献1に開示されているように、赤外光を出射する光源とは別に、干渉性(コヒーレンシー)の高いHe−Neレーザなどの基準光源を用いて移動鏡の位置を監視することにより、高分解能のFT分光器を実現している。具体的には、基準光源から出射されるレーザ光をBSで分離して移動鏡および固定鏡に導き、移動鏡および固定鏡で反射される各レーザ光をBSで合成し、干渉光として位置検出用の検出器に導く。干渉性の高い基準光源を用いた場合、移動鏡の変位量が大きくても、移動鏡および固定鏡での各反射光は干渉する。したがって、移動鏡の変位量が大きくても、干渉したレーザ光の強度に基づいて移動鏡の位置を求めることが可能となる。
南光智昭、外2名、「近赤外分光分析計 InfraSpec NR800」、横河技報、横河電機株式会社、2001年7月31日、Vol.45、No.3、p.179-182
ところが、干渉性の高いHe−Neレーザは一般的に大型であるため、He−Neレーザを基準光源として用いて移動鏡の位置を監視する構成では、FT分光器が大型化するという問題が生ずる。
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、干渉性の高い基準光源を用いずに移動鏡の位置を求めることができ、これによって、小型の構成でありながら、移動鏡の変位量を大きくして高分解能を実現することができるフーリエ変換分光器を提供することにある。
本発明のフーリエ変換分光器は、移動鏡および固定鏡と、前記移動鏡を移動させる駆動機構と、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射される各光を合成してなる干渉光を受光してインターフェログラムを検出する検出器と、干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置での前記インターフェログラムをフーリエ変換する演算部とを備えたフーリエ変換分光器であって、前記干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置を算出する移動鏡位置算出機構をさらに備え、前記駆動機構は、共振によって前記移動鏡を移動させることにより、時間経過とともに前記移動鏡の位置を周期的に変化させ、前記移動鏡位置算出機構は、前記移動鏡の変位がゼロの基準位置X0とその基準位置X0からの変位が最大の位置Xmとの間の位置Xpを検出し、前記位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを外挿法によって算出し、その位置Xeを前記干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置とすることを特徴としている。
本発明のフーリエ変換分光器において、前記移動鏡位置算出機構は、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したか否かを検知する通過検知部と、前記移動鏡が前記基準位置X0を通過した時点からの経過時間を計時する計時部と、前記位置Xpと前記位置Xpを通過した時間とに基づいて、前記移動鏡が時間経過とともに変位する際の軌跡を示す関数を特定し、この軌跡関数から、前記位置Xeを外挿法によって算出する算出部とで構成されていてもよい。
本発明のフーリエ変換分光器において、前記通過検知部は、光を出射する投光部と、前記投光部から出射される光を受光する受光部とからなる光スイッチで構成されており、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したときの前記受光部での受光状態に基づいて、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したか否かを検知してもよい。
本発明のフーリエ変換分光器において、前記通過検知部は、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したときに、前記投光部から出射される光を前記受光部が受光することによって、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したことを検知してもよい。
本発明のフーリエ変換分光器において、前記移動鏡位置算出機構は、前記干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置を検知する位置検知用光学系で構成されており、前記位置検知用光学系は、基準光源と、前記基準光源から出射される光を分離して前記固定鏡および前記移動鏡に導くとともに、前記固定鏡および前記移動鏡にて反射された各光を合成し、干渉光として出射するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタからの前記干渉光を検出するとともに、前記干渉光の強度に基づいて前記移動鏡の前記位置Xpを検出する位置検出用の検出器と、前記移動鏡が前記基準位置X0を通過した時点からの経過時間を計時する計時部と、前記位置Xpと前記位置Xpを通過した時間とに基づいて、前記移動鏡が時間経過とともに変位する際の軌跡を示す関数を特定し、この軌跡関数から、前記位置Xeを外挿法によって算出する算出部とを有しており、前記基準光源は、レーザーダイオードまたは発光ダイオードで構成されていてもよい。
本発明のフーリエ変換分光器において、前記駆動機構は、平行板ばねで構成されていてもよい。
本発明によれば、移動鏡位置算出機構での外挿法による演算によって干渉強度測定点に対応する移動鏡の位置Xeを算出する。なお、このような演算によって移動鏡の位置Xeを算出できるのは、駆動機構が共振によって移動鏡を移動させていることによる。つまり、共振によって移動鏡を移動させることにより、移動鏡の振動の繰り返し周期が一定かつ正確となるので、上記の演算によって干渉強度測定点に対応する移動鏡の位置Xeを高精度に求めることが可能となる。
したがって、移動鏡の変位量を大きくして高分解能のフーリエ変換分光器を実現する場合でも、従来のような干渉性の高いHe−Neレーザを用いずに、干渉強度測定点に対応する移動鏡の位置Xeを特定することができる。よって、He−Neレーザを用いない小型の構成で、移動鏡の変位量の大きい高分解能のフーリエ変換分光器を実現することが可能となる。
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。
(分光器について)
図1は、本実施形態の分光器1の概略の構成を模式的に示す説明図である。分光器1は、フーリエ変換分光器であり、干渉光学系2と、演算部3と、出力部4とを有している。
図1は、本実施形態の分光器1の概略の構成を模式的に示す説明図である。分光器1は、フーリエ変換分光器であり、干渉光学系2と、演算部3と、出力部4とを有している。
干渉光学系2は、マイケルソン干渉計で構成されているが、その詳細については後述する。演算部3は、干渉光学系2から出力される信号をA/D変換およびフーリエ変換することにより、波数(1/波長)ごとの光の強度を示すスペクトルを生成する。出力部4は、演算部3にて生成されたスペクトルを出力(例えば表示)する。以下、干渉光学系2の詳細について説明する。
干渉光学系2は、光源11と、コリメータ光学系12と、BS(ビームスプリッタ)13と、固定鏡14と、移動鏡15と、集光光学系16と、検出器17と、駆動機構21と、移動鏡位置算出機構22とを備えている。なお、移動鏡15と固定鏡14の位置は逆であってもよい。
光源11は、例えば赤外光を出射する。コリメータ光学系12は、光源11からの光を平行光に変換してBS13に導く。BS13は、入射光、すなわち、光源11から出射された光を2つの光に分離して、それぞれを固定鏡14および移動鏡15に導くとともに、固定鏡14および移動鏡15にて反射された各光を合成し、干渉光として出射するものであり、例えばハーフミラーで構成されている。集光光学系16は、BS13にて合成されて出射された光を集光して検出器17に導く。検出器17は、BS13から集光光学系16を介して入射する上記干渉光を受光してインターフェログラム(干渉パターン、干渉縞)を検出する。
駆動機構21は、移動鏡15にて反射される光の光路長(BS13と移動鏡15との間の光路長)が変化するように、移動鏡15を平行移動させる移動機構であるが、その詳細については後述する。
移動鏡位置算出機構22は、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置、つまり、検出したインターフェログラムから干渉強度を求めるにあたり、移動鏡15での反射光と固定鏡14での反射光との光路差を決める移動鏡15の位置を算出するものであるが、その詳細については後述する。
上記の構成において、光源11から出射された光は、コリメータ光学系12によって平行光に変換された後、BS13での透過および反射によって2光束に分離される。分離された一方の光束は移動鏡15で反射され、他方の光束は固定鏡14で反射され、それぞれ元の光路を逆戻りしてBS13で重ね合わせられ、干渉光として試料Sに照射される。このとき、駆動機構21によって移動鏡15を連続的に移動させながら試料Sに光が照射されるが、BS13から各ミラー(移動鏡15、固定鏡14)までの光路長の差が波長の整数倍のときは、重ね合わされた光の強度は最大となる。一方、移動鏡15の移動によって2つの光路長に差が生じている場合には、重ね合わされた光の強度に変化が生じる。試料Sを透過した光は、集光光学系16にて集光されて検出器17に入射し、そこでインターフェログラムとして検出される。
ここで、上記のインターフェログラムは、移動鏡15での反射光と固定鏡14での反射光との光路差Xの関数として、以下の数式で示される。なお、νは波数を示す。
演算部3では、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置で得られるインターフェログラムがフーリエ変換されることにより、波数ごとの光の強度を示すスペクトルが生成される。つまり、波数ごとの光の強度をB(ν)とすると、B(ν)は、以下の数式で示され、これがフーリエ変換の式に相当する。
上記のスペクトルは、出力部4で出力される。したがって、このスペクトルに基づき、試料Sの特性(材料、構造、成分量など)を知ることができる。
(駆動機構について)
次に、上記した駆動機構21の詳細について説明する。図2は、駆動機構21の概略の構成を示す斜視図であり、図3は、駆動機構21の断面図である。この駆動機構21は、2つの板ばね部31・32と、2つの剛体33・34と、駆動部35と、上記の移動鏡15とを有しており、一端部21aに対して他端部21bを振動(平行移動)させる平行板ばねで構成されている。なお、このような駆動機構21の製造方法については後述する。
次に、上記した駆動機構21の詳細について説明する。図2は、駆動機構21の概略の構成を示す斜視図であり、図3は、駆動機構21の断面図である。この駆動機構21は、2つの板ばね部31・32と、2つの剛体33・34と、駆動部35と、上記の移動鏡15とを有しており、一端部21aに対して他端部21bを振動(平行移動)させる平行板ばねで構成されている。なお、このような駆動機構21の製造方法については後述する。
板ばね部31・32は、剛体33・34を介して互いに対向配置される第1の板ばね部および第2の板ばね部である。これらの板ばね部31・32は、例えばSOI基板を用いて形成されている。板ばね部31を形成するためのSOI基板は、シリコンからなる支持層31aと、酸化シリコンからなる絶縁酸化膜層(BOX層)31bと、シリコンからなる活性層31cとを積層して構成されている。同様に、板ばね部32を形成するためのSOI基板も、シリコンからなる支持層32aと、絶縁酸化膜層(BOX層)32bと、シリコンからなる活性層32cとを積層して構成されている。そして、支持層31a・32aが内側で活性層31c・32cが外側となるように、つまり、活性層31c・32cよりも支持層31a・32aが剛体33・34により近い位置となるように、板ばね部31・32が対向配置されている。
支持層31aおよび絶縁酸化膜層31b、支持層32aおよび絶縁酸化膜層32bは、それぞれ部分的に除去されている。より詳しくは、支持層31aおよび絶縁酸化膜層31bは、剛体33との対向領域および剛体34との対向領域が残存し、これら以外の部分が除去されている。なお、支持層31aにおける剛体33との対向領域および剛体34との対向領域とは、支持層31aにおいて剛体33と直接対向する支持層31a1、および剛体34と直接対向する支持層31a2をそれぞれ指す。また、絶縁酸化膜層31bにおける剛体33との対向領域および剛体34との対向領域とは、絶縁酸化膜層31bにおいて、支持層31a1を介して剛体33と対向する絶縁酸化膜層31b1、および支持層31a2を介して剛体34と対向する絶縁酸化膜層31b2をそれぞれ指す。
同様に、支持層32aおよび絶縁酸化膜層32bは、剛体33との対向領域および剛体34との対向領域が残存し、これら以外の部分が除去されている。なお、支持層32aにおける剛体33との対向領域および剛体34との対向領域とは、支持層32aにおいて剛体33と直接対向する支持層32a1、および剛体34と直接対向する支持層32a2をそれぞれ指す。また、絶縁酸化膜層32bにおける剛体33との対向領域および剛体34との対向領域とは、絶縁酸化膜層32bにおいて、支持層32a1を介して剛体33と対向する絶縁酸化膜層32b1、および支持層32a2を介して剛体34と対向する絶縁酸化膜層32b2をそれぞれ指す。
このように支持層31a・32aおよび絶縁酸化膜層31b・32bが部分的に除去されている結果、活性層31cのうち、剛体33との対向領域および剛体34との対向領域を除く部位と、活性層32cのうち、剛体33との対向領域および剛体34との対向領域を除く部位とが、剛体33と剛体34との間の空間を介して直接対向している。なお、活性層31cにおける剛体33との対向領域および剛体34との対向領域とは、活性層31cにおいて、支持層31a1および絶縁酸化膜層31b1を介して剛体33と対向する活性層31c1と、支持層31a2および絶縁酸化膜層31b2を介して剛体34と対向する活性層31c2とをそれぞれ指す。また、活性層32cにおける剛体33との対向領域および剛体34との対向領域とは、活性層32cにおいて、支持層32a1および絶縁酸化膜層32b1を介して剛体33と対向する活性層32c1と、支持層32a2および絶縁酸化膜層32b2を介して剛体34と対向する活性層32c2とをそれぞれ指す。
板ばね部31・32において、剛体33と剛体34との間の空間を介して対向する部位はそれぞれ平板状であることから、これらの部位を平板部31p・32pと称すると、各平板部31p・32pは、各SOI基板から、剛体33との対向領域(支持層31a1・32a1、絶縁酸化膜層31b1・32b1)および剛体34との対向領域(支持層31a2・32a2、絶縁酸化膜層31b2・32b2)を除いて支持層31a・32aおよび絶縁酸化膜層31b・32bを除去したときに、剛体33と剛体34との間の空間を介して対向する活性層31c・32cでそれぞれ構成されていると言うことができる。
支持層31aにおける剛体33・34との対向領域(支持層31a1・31a2)は、剛体33・34とそれぞれ連結されている。同様に、支持層32aにおける剛体33・34との対向領域(支持層32a1・32a2)は、剛体33・34とそれぞれ連結されている。
剛体33・34は、板ばね部31・32の間でそれらが対向する方向とは垂直方向に離間して配置される第1の剛体および第2の剛体である。剛体33は、板ばね部31(特に支持層31a1)と連結されているとともに、板ばね部32(特に支持層32a1)と連結されている。同様に、剛体34は、板ばね部31(特に支持層31a2)と連結されているとともに、板ばね部32(特に支持層32a2)と連結されている。なお、剛体34は、平行板ばねの一端部21aに対応して設けられており、剛体33は、平行板ばねの他端部21bに対応して設けられている。
また、剛体33・34は両方とも、板ばね部31・32の各平板部31p・32pよりも厚いガラスで構成されている。本実施形態では、上記のガラスとして、例えば酸化ナトリウム(Na2O)や酸化カリウム(K2O)を含むアルカリガラスを用いている。なお、剛体33・34は、ガラスの代わりにシリコンで構成されていてもよい。
本実施形態では、剛体33・34がガラスで構成され、板ばね部31の支持層31a1・31a2および板ばね部32の支持層32a1・32a2がともにシリコンで構成されているため、剛体33・34と板ばね部31・32とは、例えば陽極接合により連結されている。なお、陽極接合とは、シリコンおよびガラスに数百℃の温度下で数百Vの直流電圧を印加し、Si−Oの共有結合を生じさせることによって両者を直接、接合する手法である。このように接着剤を用いずに陽極接合によって両者を連結(接合)することにより、接着剤に起因する製造誤差(接着剤の収縮の影響)を排除することができる。
また、剛体33には、貫通孔33aが設けられている。この貫通孔33aは、移動鏡15の移動方向(図2および図3で上下方向)とは垂直方向であって、剛体33・34が並ぶ方向とは垂直な方向(図3で奥行き方向)に剛体33の内部を貫通して設けられている。この貫通孔33aは、後述する移動鏡位置算出機構22の通過検知部23によって移動鏡15の位置を検知する際に利用される。なお、剛体33における貫通孔33a以外の部分を、これとは区別するために遮光部33bと称することとする。
駆動部35は、板ばね部31・32の一方を曲げ変形させることにより、剛体33・34の一方を板ばね部31・32の対向方向に平行移動させるものである。本実施形態では、駆動部35は、板ばね部31における剛体34の上方で、かつ、剛体34とは反対側の表面に設けられている。また、上記の移動鏡15は、板ばね部31における剛体33の上方で、かつ、剛体33とは反対側の表面に設けられている。なお、駆動部35および移動鏡15は、板ばね部32に設けられていてもよい。また、駆動部35および移動鏡15の大きさは、適宜設定されればよい。
ここで、駆動部35は、例えば圧電素子で構成されている。この圧電素子は、図4に示すように、圧電材料であるPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)41を電極42・43で挟持した構造となっている。例えば、電極42・43への電圧印加によってPZT41が伸びたときには、板ばね部31が上に凸となるように変形するため、剛体33とともに移動鏡15が下方に変位する。一方、電極42・43への上記とは逆極性の電圧印加によってPZT41が縮んだときには、板ばね部31が下に凸となるように変形するため、剛体33とともに移動鏡15が上方に変位する。このように、電極42・43に正または負の電圧を印加し、PZT41を水平方向に伸縮させることにより、板ばね部31を曲げ変形させることができるとともに、移動鏡15を共振によって変位させることができる。
ここで、図5は、時間経過に伴う移動鏡15の位置(変位)を模式的に示す説明図である。同図に示すように、共振によって移動鏡15を変位させることにより、移動鏡15は、変位がゼロとなる基準位置X0(振動振幅の中心位置)と、その基準位置X0からの変位が最大となる位置Xmとの間で、時間経過とともに変位する。しかも、共振により、移動鏡15は固有振動数で一定の周期でかつ正確に振動し、固有振動数以外の振動数では振動しない。
このことから、駆動部35を備えた駆動機構21は、共振によって移動鏡15を移動させることにより、時間経過とともに移動鏡15の位置を周期的に変化させる構成であるということができる。特に、駆動機構21が上記したように平行板ばねで構成されていることにより、そのような共振によって移動鏡15の位置を周期的に変化させる構成を容易にかつ確実に実現することができる。
なお、駆動部35として、圧電素子の代わりにVCM(ボイスコイルモータ)を用いてもよい。また、例えば静電アクチュエータや、磁石とコイルとを用いた電磁式アクチュエータによって駆動機構21を構成し、移動鏡15を共振させるようにしてもよい。
(移動鏡位置算出機構について)
次に、上述した移動鏡位置算出機構22の詳細について説明する。図1に示すように、移動鏡位置算出機構22は、通過検知部23と、計時部24と、算出部25とで構成されている。
次に、上述した移動鏡位置算出機構22の詳細について説明する。図1に示すように、移動鏡位置算出機構22は、通過検知部23と、計時部24と、算出部25とで構成されている。
通過検知部23は、共振によって変位する移動鏡15が、基準位置X0と変位が最大の位置Xmとの間の位置Xpを通過したか否かを検知するものである。移動鏡15が位置Xpを通過したことを示す検知信号は、通過検知部23から算出部25に入力される。
ここで、図6は、通過検知部23の平面図である。通過検知部23は、例えば光スイッチ23aで構成されている。そして、この光スイッチ23aは、図4に示すように、位置X0’に対して移動鏡15の移動方向(図4で上下方向)の両側に1つずつ配置されており、それぞれ、投光部23a1と受光部23a2とで構成されている(図6参照)。なお、図4における位置X0’、Xp’、Xm’は、それぞれ、移動鏡15の基準位置X0、Xp、Xmにそれぞれ対応している。
投光部23a1は、受光部23a2に向けて光を出射する。受光部23a2は、移動鏡15が位置Xpを通過したときに、投光部23a1から出射される光を剛体33の貫通孔33aを介して受光するように配置されている。これにより、受光部23a2は、投光部23a1から出射される光の受光状態に基づいて、移動鏡15が位置Xpを通過したか否かを検知することができる。
つまり、移動鏡15が位置Xpを通過する直前には、投光部23a1から出射される光は剛体33の遮光部33bによって一瞬だけ遮光され、位置Xpを通過する瞬間に貫通孔33aを通過して受光部23a2にて受光される。この現象は、移動鏡15が共振によって位置Xpを往復で通過する際に、どちらの方向から位置Xpを通過しても同じように生ずる。したがって、投光部23a1から出射される光の瞬間的な遮光の後の瞬間的な受光を検知することにより、移動鏡15が位置Xpを通過したことを検知することができる。
なお、剛体33に貫通孔33aを設けず、移動鏡15が位置Xpを通過するときに、投光部23a1からの光が剛体33で遮光される(受光部23a2で受光されない)ことを検知することにより、移動鏡15の位置Xpの通過を検知するようにしてもよい。要は、通過検知部23は、移動鏡15が位置Xpを通過したときの受光部23a2での受光状態に基づいて、移動鏡15が位置Xpを通過したか否かを検知すればよい。
計時部24は、移動鏡15が基準位置X0を通過した時点からの経過時間(図5の横軸の時間)を計時するタイマーである。
算出部25は、位置Xpと位置Xpを通過した時間とに基づいて、移動鏡15が時間経過とともに変位する際の軌跡を示す軌跡関数X(t,x)を特定し、この軌跡関数X(t,x)から、位置Xpよりも基準位置X0からの変位が大きい位置Xeを外挿法によって算出する。なお、外挿法とは、ある既知の数値データを基にして、そのデータの範囲の外側で予想される数値を求める手法である。ちなみに、内挿法は、ある既知の数値データを基にして、そのデータ列の各区間の範囲内を埋める数値を求める手法である。
ここで、移動鏡15の軌跡関数X(t,x)としては、以下の(1)(2)のいずれかを選択することができる。(1)式は、移動鏡15の移動軌跡に歪み(正弦波形からのずれ)がない場合の軌跡関数であり、(2)式は、移動鏡15の移動軌跡に歪みがある場合の軌跡関数である。なお、移動軌跡の歪みは、例えば駆動機構21を構成する平行板ばねのバネ係数が移動鏡15の変位量に対して変動することによって生じる。
(1)X(t,x)=Asin(2πft)
ただし、
A:移動鏡の振動振幅(mm)
f:移動鏡の固有振動数(Hz)
t:移動鏡が基準位置を通過した時点からの経過時間(s)
x:移動鏡の基準位置からの変位量(mm)
ただし、
A:移動鏡の振動振幅(mm)
f:移動鏡の固有振動数(Hz)
t:移動鏡が基準位置を通過した時点からの経過時間(s)
x:移動鏡の基準位置からの変位量(mm)
(2)X(t,x)=Σ(Aksin(2πft)+Bkcos(2πft))
ただし、
k=0、1、2、・・・
Ak,Bk:移動鏡の振動と移動軌跡の歪みに基づいて決まる定数
(定数の数は、歪みに対するフィッティング精度によって決まる。)
f:移動鏡の固有振動数(Hz)
t:移動鏡が基準位置を通過した時点からの経過時間(s)
x:移動鏡の基準位置からの変位量(mm)
ただし、
k=0、1、2、・・・
Ak,Bk:移動鏡の振動と移動軌跡の歪みに基づいて決まる定数
(定数の数は、歪みに対するフィッティング精度によって決まる。)
f:移動鏡の固有振動数(Hz)
t:移動鏡が基準位置を通過した時点からの経過時間(s)
x:移動鏡の基準位置からの変位量(mm)
移動鏡15の軌跡関数X(t,x)を特定できれば、この軌跡関数X(t,x)から任意の時刻tでの任意の位置xを算出できる。したがって、軌跡関数X(t,x)に基づいて移動鏡15の位置Xeを外挿算出することが可能となる。
(移動鏡位置の算出の流れについて)
図7は、移動鏡15の位置Xeを外挿算出する際の流れを示すフローチャートである。また、図8は、移動鏡15の位置が周期的に変化する際の各時刻とそのときの移動鏡15の位置との関係を示すグラフである。以下、図7および図8に基づいて、移動鏡位置の算出方法について説明する。なお、ここでは、移動鏡15の移動軌跡に歪みがないものとし、軌跡関数X(t,x)として上記の(1)式を選択した場合について説明する。
図7は、移動鏡15の位置Xeを外挿算出する際の流れを示すフローチャートである。また、図8は、移動鏡15の位置が周期的に変化する際の各時刻とそのときの移動鏡15の位置との関係を示すグラフである。以下、図7および図8に基づいて、移動鏡位置の算出方法について説明する。なお、ここでは、移動鏡15の移動軌跡に歪みがないものとし、軌跡関数X(t,x)として上記の(1)式を選択した場合について説明する。
まず、計時部24により、共振によって変位する移動鏡15が基準位置X0を最初に通過した時点(時刻t0)からの計時を開始する(S1)。次に、移動鏡15が基準位置X0から位置Xmに向かって変位するときに、通過検知部23により、その途中の位置Xpを通過したことを検知すると、そのときの通過時刻をt1とする(S2)。続いて、移動鏡15が位置Xmに達し、そこから基準位置X0に向かって変位するときに、同じ通過検知部23により、移動鏡15が上記と同じ位置Xpを(逆方向に)通過したことを検知すると、そのときの通過時刻をt2とする(S3)。
次に、算出部25は、移動鏡15の軌跡関数X(t,x)を決定する(S4)。具体的には、算出部25は、上記した(1)式で示される移動鏡15の軌跡関数X(t,x)の変数tおよびxに2点(t1,Xp)、(t2,Xp)の値を代入し、(1)式の振幅Aおよび固有振動数fを求める。これにより、図8の破線のグラフで示す軌跡関数X(t,x)が決定される。
このようにして軌跡関数X(t,x)が決定されると、算出部25は、時刻t1と時刻t2との間の時刻Tをその軌跡関数X(t,x)に代入し、その時刻Tにおける、位置Xpと位置Xmとの間の位置Xeを算出するとともに、その位置Xeを干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置とする(S5)。このとき、位置Xeは、位置X0に対して位置Xpよりも外側の位置であるので、位置Xeは外挿算出されていることになる。上述した演算部3は、S5で求めた移動鏡15の位置Xeでのインターフェログラムをフーリエ変換することにより、スペクトルを生成する、つまり、波数ごとの光の強度を求めることになる(S6)。
なお、以上では、2個の通過検知部23(2個の光スイッチ23a)のうちの一方で得られる検知結果に基づいて、基準位置X0に対して一方の側の位置Xe(図8で基準位置X0よりも上側の位置Xe)を外挿算出しているが、同様に、他方の通過検知部23での検知結果に基づいて、基準位置X0に対して他方の側の位置Xe(図8で基準位置X0よりも下側の位置Xe)を外挿算出することが可能である。
以上のように、移動鏡位置算出機構23は、移動鏡15の基準位置X0と変位が最大の位置Xmとの間の位置Xpを検出し、位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを外挿法によって算出し、算出した位置Xeを干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置としている。このように外挿法によって干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を算出するので、移動鏡15の変位量を大きくして、高分解能の分光器1を実現する場合でも、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置(特に位置Xpよりも変位が大きい位置Xe)を特定することができる。これにより、従来、高分解能の分光器では、干渉強度測定点に対応する移動鏡の位置(特に位置Xe)を求めるにあたり、干渉性(コヒーレンシー)の高い、大型のHe−Neレーザを用いる必要があったが、本発明では、そのようなレーザを用いる必要がなくなる。よって、移動鏡15の変位量の大きい高分解能の分光器1を、He−Neレーザを用いない小型の構成で実現することが可能となる。
また、駆動機構21は共振によって移動鏡15を移動させるので、移動鏡15の振動の繰り返し周期が一定かつ正確である(固有振動数を持つため)。したがって、上記のように移動鏡位置算出機構22での演算によって干渉強度測定点を求める場合でも、その干渉強度測定点を高精度に求めることができ、高精度な分光器1を実現することができる。つまり、本発明は、駆動機構21が共振によって移動鏡15を移動させる構成だからこそ、移動鏡位置算出機構22での演算によって干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を算出することが可能となる。移動鏡15が固有周波数を持たずに振動する場合、つまり、移動鏡15の振動周波数が一定でない場合は、演算によって移動鏡15の軌跡関数を特定することができず、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を算出することができないので、その点に鑑みれば、本発明は、共振によって移動鏡15を移動させる構成が大前提の構成であると言える。
また、移動鏡位置算出機構22を、通過検知部23と計時部24と算出部25とで構成することにより、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを確実に求めることができる。また、投光部23a1と受光部23a2とからなる光スイッチ23aで通過検知部23を構成することにより、移動鏡15が位置Xpを通過したときの受光部23a2での受光状態に基づいて、移動鏡15が位置Xpを通過したか否かを確実にかつ容易に検知することができる。特に、通過検知部23は、移動鏡15が位置Xpを通過したときに、投光部23a1から出射される光を受光部23a2が(剛体33の貫通孔33aを介して)受光することによって、移動鏡15が位置Xpを通過したことを検知するので、その検知の精度を高めることができる。
また、本発明によれば、位置Xpよりも移動鏡15の変位が大きいどの位置Xeについても、上述した外挿演算により算出することができるが、基準位置X0から位置Xpまでの間にある位置については、同じ軌跡関数X(t,x)を用いて内挿演算により算出することができる。したがって、基準位置X0から位置Xmまでの全ての干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を求めることが可能となる。
(分光器の他の構成について)
図9は、分光器1の他の構成を模式的に示す説明図である。同図に示すように、分光器1は、上述した移動鏡位置算出機構22の代わりに移動鏡位置算出機構22’を用いて構成されていてもよい。なお、駆動機構21が共振によって移動鏡15を変位させるなど、その他の構成は図1の場合と同様とする。移動鏡位置算出機構22’は、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を検知する位置検知用光学系26で構成されている。
図9は、分光器1の他の構成を模式的に示す説明図である。同図に示すように、分光器1は、上述した移動鏡位置算出機構22の代わりに移動鏡位置算出機構22’を用いて構成されていてもよい。なお、駆動機構21が共振によって移動鏡15を変位させるなど、その他の構成は図1の場合と同様とする。移動鏡位置算出機構22’は、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を検知する位置検知用光学系26で構成されている。
位置検知用光学系26は、コリメータ光学系12から集光光学系16までの光学系(BS13、固定鏡14、移動鏡15を含む)を赤外光用光学系と共有している。なお、赤外光用光学系とは、光源11から検出器17に至る赤外光の光路を形成するための光学系を指す。そして、位置検知用光学系26は、さらに、基準光源27と、光路合成ミラー28と、光路分離ミラー29と、検出器30と、上述した計時部24および算出部25とを有して構成されている。
基準光源27は、He−Neレーザよりも干渉性の低い、LD(レーザーダイオード)またはLED(発光ダイオード)で構成されている。
光路合成ミラー28は、光源11からの光を透過させ、基準光源27からの光を反射させることにより、これらの光の光路を同一光路に合成する。一方、光路分離ミラー29は、光源11から出射されてBS13を介して入射する光を透過させ、基準光源27から出射されてBS13を介して入射する光を反射させることにより、これらの光の光路を分離する。
検出器30は、基準光源27から出射されてBS13を介して光路分離ミラー29に入射し、そこで反射された光(干渉光)を検出するとともに、その干渉光の強度に基づいて移動鏡15の位置Xpを検出する。つまり、BS13は、基準光源27から出射される光を分離して固定鏡14および移動鏡15に導くとともに、固定鏡14および移動鏡15にて反射された各光を合成し、干渉光として出射するが、検出器30は、光路分離ミラー29を介してBS13からの上記干渉光を検出し、その干渉強度に基づいて移動鏡15の位置Xpを検出する。なお、位置Xpの検出方法については後述する。検出器30は、移動鏡15の位置検出用の検出器であり、その点で、赤外光を受光する上述した検出器17とは区別される。
次に、移動鏡位置算出機構22’の動作について説明する。基準光源27から出射された光は、光路合成ミラー28にて反射され、コリメータ光学系12によって平行光に変換された後、BS13での透過および反射によって2光束に分離される。分離された一方の光束は移動鏡15で反射され、他方の光束は固定鏡14で反射され、それぞれ元の光路を逆戻りしてBS13で重ね合わせられ、干渉光として試料Sに照射される。試料Sを透過した光は、集光光学系16にて集光され、光路分離ミラー29で反射されて検出器30に入射する。
ここで、図10は、移動鏡15の変位量(移動鏡15の変位量によって決まる固定鏡14と移動鏡15との位相差)と干渉光の強度との関係を、干渉性が高い光源の場合と干渉性が低い光源の場合とで示す説明図である。なお、干渉強度の高い部分は干渉縞の明部に対応し、干渉強度の低い部分は干渉縞の暗部に対応する。
同図より、干渉性が高い光源の場合でも、干渉性が低い光源の場合でも、干渉強度の高い部分(干渉縞の明部)をカウントしていけば、横軸の移動鏡15の変位量を求めることができることがわかる。特に、干渉性が高い光源の場合は、移動鏡15の変位量に関係なく、干渉強度差d、すなわち、最大干渉強度と最小干渉強度との差が大きいので、移動鏡15の変位量に関係なく、移動鏡15の位置を求めることができる。つまり、移動鏡15の位置が基準位置X0から変位が最大の位置Xmまでのどの位置にあっても、干渉強度に基づいてその位置を求めることができる。
これに対して、干渉性が低い光源の場合、移動鏡15の変位量が大きくなるにつれて、干渉強度差dが減少する。このため、干渉強度差dが現れているか、干渉強度差dが所定値以上の部分しか、干渉強度の高い部分をカウントすることができず、カウントに限界が生ずる。しかし、移動鏡15が共振によって変位する構成では、干渉強度の高い部分を途中までカウントできれば十分である。つまり、干渉強度に基づいて基準位置X0から位置Xmまでの途中の位置Xpを認識できれば、あとは位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを演算によって求めることができる。したがって、ここでは、干渉強度差dが現れているか、干渉強度差dが所定値以上の部分をカウントすることによって求められる移動鏡15の位置を、位置Xpに対応付け、位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを外挿法によって求める手法を採る。以下、具体的に説明する。
図11は、移動鏡15の位置Xeを外挿算出する際の流れを示すフローチャートである。また、図12は、移動鏡15の位置が周期的に変化する際の各時刻とそのときの移動鏡15の位置との関係を示すグラフである。なお、ここでは、移動鏡15の移動軌跡に歪みがないものとし、軌跡関数X(t,x)として上記の(1)式を選択した場合について説明する。
まず、計時部24により、共振によって変位する移動鏡15が基準位置X0を最初に通過した時点(時刻t0)からの計時を開始する(S11)。次に、移動鏡15が基準位置X0から位置Xmに向かって変位するときに、検出器30は、基準光源27から出射されてBS13にて干渉した光を検出し、その干渉光の干渉強度に基づいて、移動鏡15の位置Xpを検出し、このときの時刻をt1とする(S12)。つまり、移動鏡15が基準位置X0から位置Xmに向かって変位する場合、移動鏡15の変位量は増大する方向(干渉強度差dが減少する方向)なので、検出器30は、干渉強度差dが所定値となるか、所定値を下回るまで干渉強度の高い部分をカウントし、カウント限界に対応する移動鏡15の位置を、位置Xpとして検出する。
続いて、移動鏡15が位置Xmに達し、そこから基準位置X0に向かって変位するときに、検出器30は、基準光源27から出射されてBS13にて干渉した光を検出し、その干渉光の干渉強度に基づいて、移動鏡15の位置Xpを検出し、このときの時刻をt2とする(S13)。つまり、移動鏡15が位置Xmから基準位置X0に向かって変位する場合、移動鏡15の変位量は減少する方向(干渉強度差dが増大する方向)なので、検出器30は、所定値以上の干渉強度差dが現れた時点に対応する移動鏡15の位置を、位置Xpとして検出する。
次に、算出部25は、移動鏡15の軌跡関数X(t,x)を決定する(S14)。具体的には、算出部25は、上記した(1)式で示される移動鏡15の軌跡関数X(t,x)の変数tおよびxに2点(t1,Xp)、(t2,Xp)の値を代入し、(1)式の振幅Aおよび固有振動数fを求める。これにより、図12の破線および実線のグラフで示す軌跡関数X(t,x)が決定される。
このようにして軌跡関数X(t,x)が決定されると、算出部25は、時刻t1と時刻t2との間の時刻Tをその軌跡関数X(t,x)に代入し、その時刻Tにおける、位置Xpと位置Xmとの間の位置Xeを算出するとともに、その位置Xeを干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置とする(S15)。このとき、位置Xeは、位置X0に対して位置Xpよりも外側の位置であるので、位置Xeは外挿算出されていることになる。上述した演算部3は、S15で求めた移動鏡15の位置Xeでのインターフェログラムをフーリエ変換することにより、スペクトルを生成する、つまり、波数ごとの光の強度を求めることになる(S16)。
以上のように、基準光源27を含む位置検知用光学系26で移動鏡位置算出機構22’を構成し、基準光源27として干渉性の低いLDまたはLEDを用いても、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを外挿演算によって求めることができる。つまり、移動鏡15の変位量を大きくして高分解能を実現するにあたり、移動鏡15の位置を求めるために従来用いられていた干渉性の高い大型のHe−Neレーザを用いる必要がなく、その代わりに、干渉性の低い基準光源27を用いて、干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置Xeを求めることができる。したがって、移動鏡15の変位量の大きい高分解能の分光器1を、He−Neレーザを用いない小型の構成で実現することが可能となる。
また、位置Xpよりも移動鏡15の変位が大きい位置Xeについては、上述した外挿演算により算出することができるが、基準位置X0から位置Xpまでの間にある位置については、同じ軌跡関数X(t,x)を用いた内挿演算により、あるいは、干渉強度差dが現れるので、干渉強度の高い部分をカウントすることにより、求めることができる。したがって、基準位置X0から位置Xmまでの全ての干渉強度測定点に対応する移動鏡15の位置を求めることが可能となる。つまり、図12の破線のグラフ上の位置については外挿演算により、実線のグラフ上の位置については内挿演算または干渉強度の高い部分をカウントすることにより、求めることができる。
(駆動機構の製造方法について)
次に、上述した駆動機構21の製造方法について説明する。図13は、駆動機構21の製造時の大まかな流れを示すフローチャートである。また、図14(a)〜図14(d)は、駆動機構21の製造工程を示す断面図である。なお、以降の図面では、便宜上、剛体33の貫通孔33aの図示を省略する。
次に、上述した駆動機構21の製造方法について説明する。図13は、駆動機構21の製造時の大まかな流れを示すフローチャートである。また、図14(a)〜図14(d)は、駆動機構21の製造工程を示す断面図である。なお、以降の図面では、便宜上、剛体33の貫通孔33aの図示を省略する。
まず、図14(a)に示すように、2つの板ばね部31・32を作製する(S21)。なお、板ばね部31・32の作製方法の詳細については後述する。続いて、図14(b)に示すように、剛体33・34を互いに離間して配置するとともに、各平板部31p・32pが剛体33と剛体34との間の空間を介して対向するように、剛体33・34を介して板ばね部31・32を配置する(S22)。
次に、図14(c)に示すように、板ばね部31に移動鏡15を形成するとともに(S23)、板ばね部31に駆動部35を形成する(S24)。S23における移動鏡15の形成は、例えば板ばね部31に対してAuをスパッタすることによって行われる。あるいは、AlやPtなどの金属材料を蒸着法や接着によって板ばね部31上に形成することで移動鏡15を形成してもよい。また、S24における駆動部35の形成は、例えば接着剤を用いて上記した圧電素子を板ばね部31に接着することによって行われる。
このとき、引き出し電極と固定電極とを金属材料のスパッタ等によって同時に板ばね部31に形成しておく。なお、上記の引き出し電極とは、圧電素子の下面の電極(図4の電極43に対応)を引き出すための電極であり、上記の固定電極とは、圧電素子の上面の電極(図4の電極42に対応)とワイヤーボンディングによって接続される電極であり、図示しない電源と接続される。
なお、S22〜S24の順序は、適宜変更してもよい。例えば、S23よりもS24を先に行ってもよいし、S23およびS24の後にS22の工程を行ってもよい。
その後、図14(d)に示すように、剛体33・34と板ばね部31・32とを連結する(S25)。ただし、このときの連結は、高温高電界下での陽極接合により行われる。そして、圧電素子の上面の電極と固定電極とをワイヤーボンディングによって結線する(S26)。これにより、駆動機構21が完成する。
以上では、1個の駆動機構21を製造する場合について説明したが、複数(例えば4つ)の駆動機構21を同時に製造することも可能である。その場合は、以下のようにすればよい。
図15は、4枚の板ばね部31(または4枚の板ばね部32)をシート状に綴った基板51の斜視図であって、後述する剛体ブロック52との対向側から見た斜視図である。4つの駆動機構21を同時に製造する場合は、このような基板51を2枚用意する(S21に対応)。
そして、図16に示すアルカリガラス製の剛体ブロック52を介して、2つの基板51・51を対向配置する(S22に対応)。上記の剛体ブロック52は、1個の駆動機構21を構成する剛体33と剛体34との間に空間を設けた状態で、剛体33・34を4つずつ設けるとともに、これらを一続きに形成したものである。
続いて、図17に示すように、基板51の所定部位に移動鏡15および圧電素子からなる駆動部35をそれぞれ形成する(S23、S24に対応)。このとき、隣り合う圧電素子の下面の電極に共通して引き出し電極53を形成するとともに、個々の圧電素子に対応して固定電極54を形成する。そして、3本の位置決めピン55によって位置決めを行いながら、各基板51・51と剛体ブロック52とを陽極接合によって接合する(S25に対応)。その後、接合体(各基板51・51、剛体ブロック52)を太線D1・D2に沿ってダイサーカットし、支持片56から移動鏡15を切り離す。
さらに、図18に示すように、上記接合体を太線D3・D4に沿ってダイサーカットし、4台の駆動機構21に分割する。最後に、不要な部分をさらにダイサーカットした後、個々の圧電素子の上面の電極と固定電極54とをワイヤーボンディングによって結線する(S26に対応)。これにより、4つの駆動機構21が完成する。
(板ばね部の作製方法について)
次に、上述した板ばね部31・32の作製方法の詳細について説明する。なお、ここでは、説明の理解をしやすくするために、図15の基板51を用いて行う板ばね部31の作製方法の詳細について説明する。なお、板ばね部32の作製方法についても同様の手法を採用できる。
次に、上述した板ばね部31・32の作製方法の詳細について説明する。なお、ここでは、説明の理解をしやすくするために、図15の基板51を用いて行う板ばね部31の作製方法の詳細について説明する。なお、板ばね部32の作製方法についても同様の手法を採用できる。
図19(a)〜図19(f)は、板ばね部31の作製工程を、図15のA−A’線矢視断面で見た場合の断面図である。なお、説明の便宜上、図15のA−A’線上において基板51を上下に貫通し、板ばね部31の周囲の空間に対応する部分を貫通部71・72とする。また、基板51において板ばね部31の平板部31pに対応する部分を領域73とする。
まず、図19(a)に示すように、図示しないフォトリソ工程によって、SOI基板61上にマスクとなる熱酸化膜62・63を順にパターン形成する。なお、SOI基板61は、シリコンからなる支持層31aと、酸化シリコンからなる絶縁酸化膜層31bと、シリコンからなる活性層31cとを積層して構成されているものとする。上記の熱酸化膜62・63は、SOI基板61における支持層31a側に形成されている。
続いて、図19(b)に示すように、ドライエッチングにより、熱酸化膜62をマスクとして、SOI基板61における貫通部71・72に位置する支持層31aの除去を開始するとともに、熱酸化膜63をマスクとして、領域73に位置する熱酸化膜62の除去を開始する。そして、領域73の熱酸化膜62を完全に除去した後は、図19(c)に示すように、残った熱酸化膜62をマスクとして、ドライエッチングにより、貫通部71・72に位置する支持層31aおよび領域73に位置する支持層31aを同時に除去する。このような支持層31aの段階的な除去により、貫通部71・72に位置する支持層31aを完全に除去したときには、領域73の支持層31aが若干残る。
次に、図19(d)に示すように、ドライエッチングにより、支持層31aをマスクとして、貫通部71・72に位置する絶縁酸化膜層31bを除去する。その後、図19(e)に示すように、ドライエッチングにより、熱酸化膜62をマスクとして、貫通部71・72に位置する活性層31cおよび領域73に位置する支持層31aを同時に除去する。最後に、図19(f)に示すように、ドライエッチングにより、支持層31aをマスクとして、領域73の絶縁酸化膜層31bを除去する。残った熱酸化膜62を除去することにより、図15の基板51における板ばね部31が完成する。
以上のように、駆動機構21の2つの板ばね部31・32を、SOI基板61を用いて形成することにより、上述したように、いわゆるMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術、すなわち、フォトリソグラフィーおよびエッチング等の半導体製造技術と、陽極接合などの接合技術とを複合した技術を用いて、駆動機構21を製造することができる。つまり、MEMS製の移動鏡(MEMS移動鏡)を実現することが可能となる。また、MEMS技術を用いることにより、リソグラフィーのマスク精度さえ高精度に確保しておけば、1個の駆動機構21においては2つの平板部31p・32pの長さがばらつくのを回避することができる。その結果、駆動機構21の組立時や平行移動時の可動部(剛体33および移動鏡15)の傾きを抑えることができる。また、個体差をなくす、すなわち、複数の駆動機構21の個体ごとに平板部31p・32pの長さがばらつくことも回避できるので、複数の駆動機構21を安定して作製することができる。
(駆動機構の他の構成について)
図20は、駆動機構21の他の構成を示す断面図である。同図に示すように、駆動機構21の板ばね部31の平板部31pは、絶縁酸化膜層31bと活性層31cとの2層で構成されていてもよく、板ばね部32の平板部32pは、絶縁酸化膜層32bと活性層32cとの2層で構成されていてもよい。
図20は、駆動機構21の他の構成を示す断面図である。同図に示すように、駆動機構21の板ばね部31の平板部31pは、絶縁酸化膜層31bと活性層31cとの2層で構成されていてもよく、板ばね部32の平板部32pは、絶縁酸化膜層32bと活性層32cとの2層で構成されていてもよい。
また、図21は、駆動機構21のさらに他の構成を示す断面図である。同図に示すように、駆動機構21の板ばね部31・32は、平板状のシリコン基板81・81でそれぞれ構成されていてもよい。なお、板ばね部31・32(シリコン基板81・81)と、ガラスからなる剛体33・34との連結には、陽極接合を用いることができる。この構成では、平板状のシリコン基板81・81で剛体33・34を挟むという簡単な構成で駆動機構21を容易に実現することができる。また、SOI基板61を用いる場合に比べて、板ばね部31・32の作製工程(S21の工程)を大幅に簡略化することができる。
また、図22は、駆動機構21のさらに他の構成を示す断面図である。同図に示すように、駆動機構21の板ばね部31・32は、平板状のガラス基板91・91でそれぞれ構成されていてもよい。この場合、例えば厚さ100μm以下のガラス(例えばアルカリガラス)に対してレーザー加工またはダイシング加工を施すことにより、ガラス基板91・91を得ることができる。なお、板ばね部31・32(ガラス基板91・91)と、ガラスからなる剛体33・34との連結には、オプティカルコンタクトまたは拡散接合を用いることができ、接着剤を用いずにこれらを連結することができる。なお、上記のオプティカルコンタクトとは、平滑な面同士を密着させ、分子の引力によって2部材を連結する方法である。また、拡散接合とは、母材を溶融させることなく加熱、加圧保持し、接合面を横切って接合界面の原子を拡散させて接合部を得る方法である。
このように、板ばね部31・32をガラス基板91・91でそれぞれ構成することにより、平板状のガラス基板91・91で剛体33・34を挟むという簡単な構成で駆動機構21を容易に実現することができる。また、SOI基板61を用いる場合に比べて、板ばね部31・32の作製工程(S21の工程)を大幅に簡略化することができる。さらに、剛体33・34および板ばね部31・32の構成材料がともにガラスとなるので、温度変化による駆動機構21の変形を確実に防止することができ、温度変化に起因して可動部(剛体33および移動鏡15)が傾くのを確実に防止することができる。
本発明は、マイケルソン干渉計を備えたフーリエ変換型の分光器に利用可能である。
1 分光器(フーリエ変換分光器)
3 演算部
13 BS(ビームスプリッタ)
14 固定鏡
15 移動鏡
17 検出器
21 駆動機構
22 移動鏡位置算出機構
22’ 移動鏡位置算出機構
23 通過検知部
23a 光スイッチ(通過検知部)
23a1 投光部
23a2 受光部
24 計時部
25 算出部
26 位置検知用光学系
27 基準光源
30 検出器
3 演算部
13 BS(ビームスプリッタ)
14 固定鏡
15 移動鏡
17 検出器
21 駆動機構
22 移動鏡位置算出機構
22’ 移動鏡位置算出機構
23 通過検知部
23a 光スイッチ(通過検知部)
23a1 投光部
23a2 受光部
24 計時部
25 算出部
26 位置検知用光学系
27 基準光源
30 検出器
Claims (6)
- 移動鏡および固定鏡と、
前記移動鏡を移動させる駆動機構と、
前記移動鏡および前記固定鏡にて反射される各光を合成してなる干渉光を受光してインターフェログラムを検出する検出器と、
干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置での前記インターフェログラムをフーリエ変換する演算部とを備えたフーリエ変換分光器であって、
前記干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置を算出する移動鏡位置算出機構をさらに備え、
前記駆動機構は、共振によって前記移動鏡を移動させることにより、時間経過とともに前記移動鏡の位置を周期的に変化させ、
前記移動鏡位置算出機構は、前記移動鏡の変位がゼロの基準位置X0とその基準位置X0からの変位が最大の位置Xmとの間の位置Xpを検出し、前記位置Xpよりも変位が大きい位置Xeを外挿法によって算出し、その位置Xeを前記干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置とすることを特徴とするフーリエ変換分光器。 - 前記移動鏡位置算出機構は、
前記移動鏡が前記位置Xpを通過したか否かを検知する通過検知部と、
前記移動鏡が前記基準位置X0を通過した時点からの経過時間を計時する計時部と、
前記位置Xpと前記位置Xpを通過した時間とに基づいて、前記移動鏡が時間経過とともに変位する際の軌跡を示す関数を特定し、この軌跡関数から、前記位置Xeを外挿法によって算出する算出部とで構成されていることを特徴とする請求項1に記載のフーリエ変換分光器。 - 前記通過検知部は、光を出射する投光部と、前記投光部から出射される光を受光する受光部とからなる光スイッチで構成されており、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したときの前記受光部での受光状態に基づいて、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したか否かを検知することを特徴とする請求項2に記載のフーリエ変換分光器。
- 前記通過検知部は、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したときに、前記投光部から出射される光を前記受光部が受光することによって、前記移動鏡が前記位置Xpを通過したことを検知することを特徴とする請求項3に記載のフーリエ変換分光器。
- 前記移動鏡位置算出機構は、前記干渉強度測定点に対応する前記移動鏡の位置を検知する位置検知用光学系で構成されており、
前記位置検知用光学系は、
基準光源と、
前記基準光源から出射される光を分離して前記固定鏡および前記移動鏡に導くとともに、前記固定鏡および前記移動鏡にて反射された各光を合成し、干渉光として出射するビームスプリッタと、
前記ビームスプリッタからの前記干渉光を検出するとともに、前記干渉光の強度に基づいて前記移動鏡の前記位置Xpを検出する位置検出用の検出器と、
前記移動鏡が前記基準位置X0を通過した時点からの経過時間を計時する計時部と、
前記位置Xpと前記位置Xpを通過した時間とに基づいて、前記移動鏡が時間経過とともに変位する際の軌跡を示す関数を特定し、この軌跡関数から、前記位置Xeを外挿法によって算出する算出部とを有しており、
前記基準光源は、レーザーダイオードまたは発光ダイオードで構成されていることを特徴とする請求項1に記載のフーリエ変換分光器。 - 前記駆動機構は、平行板ばねで構成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のフーリエ変換分光器。
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