JP6424337B2 - 波長可変光フィルタモジュール - Google Patents

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Description

本発明は、所定波長の光線を選択的に透過させて検出する波長可変光フィルタモジュールに関する。
従来、この種の波長可変光フィルタモジュールとしては、以下の構造が知られている。入射光が一対の反射板間で多重反射し、その際の干渉作用により特定波長の光を透過させる波長可変光フィルタを利用している。そして、波長可変光フィルタにおける一対の反射板の微小間隔を変位させることにより、透過する光の波長を可変させて、検出器で検出する。
そして、従来の波長可変光フィルタモジュールの利用例としては、中赤外線を利用してガスの種類を検知するようなマルチガスセンサや、近赤外線を利用して尿糖値や血糖値を検知するようなセンサがあげられる。
なお、従来の波長可変光フィルタモジュールは、光線を射出する光源と、波長可変光フィルタと、検出器とが、光源の光軸に沿った直線上に配置されている。
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
特表平10−511772号公報
しかしながら、従来の波長可変光フィルタモジュールにおいては、波長可変光フィルタと検出器は光源に沿った直線上に配置されおり、波長可変光フィルタと検出器は別体として扱われていた。よって、波長可変光フィルタモジュールを製造する際、製造工程が増えてしまい、生産性の課題があった。
本発明はこのような課題を解決し、波長可変光フィルタモジュールの生産性を向上させることを目的とする。
この目的を達成するために本発明の波長可変光フィルタモジュールは、内部に反射部を有するパッケージと、パッケージの内部に配置され、互いに対向する第1及び第2の反射板を有し、第1の反射板と第2の反射板との間隔が可変する波長可変光フィルタと、パッケージの内部に配置され、波長可変光フィルタを通過する光線を検出する検出器とを備える。そして、波長可変光フィルタと検出器は、反射部に対向する側に配置され、波長可変光フィルタを介してパッケージ内部に入射する光線は、反射部を介して検出器に入射することを特徴とする。
この構成により、波長可変光フィルタモジュールの生産性を向上させることが出来る。
図1は、本発明の実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの断面図である。 図2は、本発明の実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの測定原理を示す模式図である。 図3は、本実施の形態における波長変換光フィルタモジュールの波長変換光フィルタの断面図である。 図4は、本実施の形態における波長変換光フィルタモジュールの検出器の断面図である。 図5Aは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第1ブロックの製造方法を示す模式図である。 図5Bは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第1ブロックの製造方法を示す模式図である。 図5Cは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第1ブロックの製造方法を示す模式図である。 図5Dは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第1ブロックの製造方法を示す模式図である。 図6Aは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第2ブロックの製造方法を示す模式図である。 図6Bは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第2ブロックの製造方法を示す模式図である。 図6Cは、本実施の形態における波長可変光フィルタモジュールの第2ブロックの製造方法を示す模式図である。 図7は、本実施の形態における第1ブロックと第2ブロックの接合方法を示す模式図である。
(実施の形態)
<波長可変光フィルタモジュールの構成>
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は波長可変光フィルタモジュール1の断面図である。まず、波長可変光フィルタモジュール1の基本構造について説明する。
パッケージ5は、第1ブロック5a(第1の領域)と、第2ブロック5b(第2の領域)で構成されている。そして、パッケージ5は内部空間6を有する。波長可変光フィルタ2と検出器3は、パッケージの内部に配置されている。パッケージ5のうち、第2ブロック5bは傾斜面37を有し、傾斜面37の表面に反射面38A、38B(反射部)が形成されている。反射面38A、38Bが光路調整部4として機能している。
次に、本実施の形態の波長可変光フィルタモジュール1に入射される光の光路について説明する。
図2に示すように、光源7から射出された平行光線8は測定対象物9に照射される。そして、透過光10は、バンドパスフィルタ11、波長可変光フィルタ2を通過し、パッケージ5の内部に入射する。パッケージ5の内部に入射する光は、反射面38A(反射部)、反射面38B(反射部)で順に反射し、検出器3で受光する。
なお、波長可変光フィルタ2が透過光10の波長を選択し、検出器3が透過光量を測定することによって、分光スペクトルの測定は行われる。
<波長可変光フィルタ2の構成の詳細>
波長可変光フィルタ2は、図3に示すように、対向配置された2つの反射板12、13を有する。反射板12の端部は、枠体14で支持されている。反射板13の端部は梁15を介して枠体14に支持されている。
なお、反射板12は、アモルファスシリコン層16の間に窒化シリコン層17が配置された3層構造である。反射板13も反射板12と同様に、アモルファスシリコン層18の間に窒化シリコン層19が配置された3層構造である。枠体14は、反射板12,13の両側の延出部分とその間に配置された酸化シリコン層20による7層構造である。
梁15の表面(下面)には駆動層24が配置されている。駆動層24は、電極21(第1の電極)と電極22(第2の電極)との間に圧電体層23が設けられて構成されている。駆動層24は、制御回路(図示せず)から接続端子(図示せず)を介して電極21(第1の電極)に駆動電圧が印加される。駆動電圧が電極21に印加されると、電極21、22の間に電位差が生じる。この電位差に応じて圧電体層23が撓む。この撓みが、反射板13を反射板12と対向する方向(図面上下方向)に向かって変位させることができる。つまり、梁15に配置された駆動層24に印加する駆動電圧の大きさを調節することで、一対の反射板12,13の間隔を自在に調節することが出来る。
なお、駆動層24の表面には、弾性絶縁層25と金属層26からなる振動部27が設けられている。振動部27が駆動層24を拘束することで、梁15は大きな撓みを得ることができる。
<検出器3の構成>
検出器3は、図4に示すように、電極21と電極22の間に焦電体層28が設けられた検出層29で形成されている。上述した波長可変光フィルタ2における枠体14の延長部分、つまり反射板12を構成するアモルファスシリコン層16と窒化シリコン層17と、反射板13を構成するアモルファスシリコン層18と窒化シリコン層19と、これらの間に配置される酸化シリコン層20からなる7層の構造体の表面に、検出層29は配置されている。
<パッケージ5の構成>
次にパッケージ5の内部構成について、図1を参照しながらさらに詳細に説明する。
パッケージ5は、図1に示すように、内部空間6を有する中空構造体である。内部空間6を形成する図中上側の第1平面31に、波長可変光フィルタ2と、検出器3が並んで配置されている。パッケージ5には、波長可変光フィルタ2の入射光路となる部分に開口部35Aが形成され、検出器3の裏面近傍で検出器3の熱拡散を防止する部分に開口部35Bが形成されている。
なお、本実施の形態の波長可変光フィルタモジュール1では、開口部35Aが形成されているが、ガラスなど光が透過できる材料で、光路を形成すれば、必ずしも開口部35Aを形成する必要はない。波長可変光フィルタ2に光が入射できれば、何ら問題はない。
さらに開口部35Bについては、検出器3の熱拡散を防止するためのものであるが、必ずしも形成する必要はない。
更に、パッケージ5の第2ブロック5bには、凹部36が形成されている。傾斜面37は凹部36の側面の一部である。傾斜面37の表面に反射面38A、38Bが形成されている。そして反射面38A、38Bが光路調整部4となっている。
次に、パッケージ5の内部における光の光路について説明する。
波長可変光フィルタモジュール1は、図2に示すように、入射された透過光10が反射板12,13との間で多重反射を起こし、反射板12,13(図3参照)の微小間隔で決定する干渉条件と一致する波長の光線のみが共振する。そして、この共振した波長の光線だけが反射板12,13(図3参照)を透過する。上述したように、波長可変光フィルタ2の反射板13の微小間隔を順次変動させることによって反射板13から射出される透過光10の波長が選択される。波長可変光フィルタ2から出力された透過光10が光路調整部4(反射面38A、38B)で反射して検出器3に入射する。検出器3で、その透過光量を測定することによって、分光スペクトルが測定される。
より具体的には、駆動層24に駆動信号を印加して、反射板12,13の間隔を350nm〜1.5μmの範囲で制御する。そして、一次の干渉条件により、様々な波長の混在する透過光10から近赤外線領域(700nm〜3.0μm)の任意の波長の光線を取り出すことが可能となる。このとき、他次数の干渉条件により取り出される不要な波長を除去するバンドパスフィルタ11と、所望の波長領域に感度のある検出器3を組み合わせることで、簡便な部品構成にて近赤外線領域に応じた分光スペクトルを測定することができる。なお、干渉条件については、一例として一次の干渉条件を用いることとしたが、他次数の干渉条件を用いてもよい。
<波長可変光フィルタモジュール1の製造方法>
次に、本発明の実施の形態における波長可変光フィルタモジュール1の製造方法について、図5A〜図6Cを参照しながら説明する。
なお、本実施の形態においては、パッケージ5は第1ブロック5aと、第2ブロック5bとの接合構造である。第1ブロック5aは第1ブロック5aを含み、波長可変光フィルタ2および検出器3が第1平面31に配置される。また、パッケージ5の第2ブロック5bは光路調整部4を形成する。
[第1ブロック5aの製造方法]
まず、第1ブロック5aの製造方向について説明する。
図5Aに示すように、シリコンからなる基板30の一面にアモルファスシリコン層16、窒化シリコン層17、アモルファスシリコン層16を順に成形する。なお、これらの層が反射板12および枠体14の一部を構成する。
次に、アモルファスシリコン層16の上に酸化シリコン層20を形成する。なお、これらの層は、枠体14の一部および犠牲層を構成する。
更に、酸化シリコン層20の上に、アモルファスシリコン層18、窒化シリコン層19、アモルファスシリコン層18を順に成形する。なお、これらの層が反射板13、枠体14の一部、梁15を構成する。
さらに、アモルファスシリコン層18の上に、電極22、圧電体層23または焦電体層28、電極21がスパッタ法等により順に積層される。電極22は白金で形成され、圧電体層23および焦電体層28はチタン酸ジルコン酸鉛で形成され、電極21は金で形成されている。
次に、ICPドライエッチングによって電極22(白金)と、圧電体層23または焦電体層28(チタン酸ジルコン酸鉛)と、電極21(金)の一部を除去することにより、図5Bに示すように駆動層24、検出層29がパターンニングされる。
さらに、図5Cに示すように、波長可変光フィルタ2の駆動層24となる部分の表面に振動部27が形成される。光架橋反応が進行するような絶縁材料から成る弾性絶縁層25が電極21の上に形成される。さらに、弾性絶縁層25の上面に電界めっき法により銅からなる金属層26が形成される。弾性絶縁層25および金属層26で振動部27は形成される。
次に、反射板13や梁15の下方に位置する酸化シリコン層20を、フッ化水素を用いて除去する。犠牲層のうち枠体14に相当する酸化シリコン層20は除去されない。
さらに、基板30の反射板12及び検出層29の裏面側部分を除去し開口部35A、35Bを形成する。図5Dに示すように、上述した通り、第1ブロック5aが完成する。
[第2ブロック5bの製造方法]
次に、第2ブロック5bの製造方法について説明する。図6Aに示すように第2ブロック5bを構成するシリコンからなる基板30に対して、第2平面32に、ドライエッチにより内部空間6を構成する第2平面32と側壁部分が形成される。次に、図6Bに示すように、第2平面32にウエットエッチングにより凹部36を形成する。凹部36には、傾斜面37が形成される。続いて、図6Cに示すように、第2ブロック5bの表面(第2平面32傾斜面37など)に対して、金をスパッタリングや蒸着し、反射面38A、38Bを形成する。これにより第2ブロック5bが完成する。
最後に、図7に示すように、第1ブロック5aの外周部分に露出した電極22の延出部分となる白金と、第2ブロック5bにおける反射面38A、38Bの延出部分となる金を接合させることで、第1ブロック5aと第2ブロック5bを一体化させ、パッケージ5が完成する。
以上のように、パッケージ5の内部空間6の第1ブロック5a(第1の領域)の表面に波長可変光フィルタ2と検出器3が配置されている。さらには、パッケージ5の内部空間6の第2ブロック5b(第2の領域)の表面に光路調整部4として機能する反射部(反射面38)が形成されている。よって、波長可変光フィルタ2と検出器3を配置する第1ブロック5aと、光路調整部4を有する第2ブロック5bに分けることか可能となる。そして、波長可変光フィルタ2と検出器3を第1ブロック5aとして形成し、光路調整部4を第2ブロック5bとして形成し、その後に第1ブロック5aと第2ブロック5bを接合している。よって、本実施の形態の波長可変光フィルタモジュール1は、上述したような製造方法で生産できる。この結果、波長可変光フィルタ2、光路調整部4および検出器3の位置あわせ精度についても、半導体プロセスによる高精度な組み立てにより確立されるため波長可変光フィルタモジュール1の生産性を高めることができる。さらに、波長可変光フィルタモジュール1の全体が半導体プロセスにより形成でき、MEMS構造にできる。よって、波長可変光フィルタモジュール1の低背化を実現できる。
また、本実施の形態では、波長可変光フィルタ2の駆動層24を形成する圧電体層23と、検出器3の検出層29を形成する焦電体層28を同じチタン酸ジルコン酸鉛で形成している。圧電体層23と焦電体層28を同一の材料で形成することにより、同一のプロセスで形成できることができる。よって、より生産性を高めることができる。
なお、本実施の形態では、圧電体層23及び焦電体層28の材料として、チタン酸ジルコン酸鉛を用いて説明したが、これに限定されない。圧電体層23及び焦電体層28の材料が単結晶構造(または一軸配向結晶構造)のABOで表されるペロブスカイト型酸化物であって、Aサイトの主成分がPbであり、Bサイトが、Zr、Tiの元素を含み、正方晶、菱面体晶から選ばれる結晶相を有し、その結晶相が<100/001>配向しているものであれば、チタン酸ジルコン酸鉛と同様の効果を得ることができる。
なお、本実施の形態では、図2に示す通り、パッケージ5内において、透過光10は、反射面38A、反射面38Bの2箇所で反射してから、検出器3に入射している。つまり、反射部は、反射面38Aおよび反射面38Bで形成されている。しかしながら反射面の数は2つに限定されるものではない。
例えば、2つの反射面38A、38Bの間に位置する凹部36の底面にも反射面38C(図2参照)を設け、反射面38A、38Bの傾斜角を小さくすることで、3面反射構成とすることが可能である。反射面38Aなどの反射部を形成する傾斜面37の傾斜角を小さくできれば、ウエットエッチングが容易となり、生産性を高めることができる。
本実施の形態では凹部36の傾斜面37に反射面38Aなどの反射部を形成する構成で説明したが、特に図示していないが、内部空間6に突出するように傾斜面37を形成し、この傾斜面37に反射部を設ける構成としてもよい。
また、上述した実施の形態においては、波長可変光フィルタ2における反射板12,13の間隔を可変させる手段として圧電体層23を用いた圧電駆動方式で説明したが、静電駆動方式や電磁駆動方式といった公知の駆動方式を用いる場合で効果を得ることができる。ただし、圧電駆動型は梁15を圧電体層23の伸縮により直接的に変形させるものであることから、上述した静電駆動方式や電磁駆動方式のものに比べ、反射板13の変位量を大きくすることや、反射板13の変位応答性を高めることができる。
本発明によれば、所定波長の光線を選択的に透過させて検出する波長可変光フィルタモジュールに関して、生産性を高めることができる。特に、中赤外線や、近赤外線を利用する波長可変光フィルタモジュールに有用である。
1 波長可変光フィルタモジュール
2 波長可変光フィルタ
3 検出器
4 光路調整部
5 パッケージ
5a 第1ブロック
5b 第2ブロック
6 内部空間
7 光源
8 平行光線
9 測定対象物
10 透過光
11 バンドパスフィルタ
12,13 反射板
14 枠体
15 梁
16,18 アモルファスシリコン層
17,19 窒化シリコン層
20 酸化シリコン層
21,22 電極
23 圧電体層
24 駆動層
25 弾性絶縁層
26 金属層
27 振動部
28 焦電体層
29 検出層
31 第1平面
32 第2平面
35A,35B 開口部
36 凹部
37 傾斜面
38A,38B,38C 反射面

Claims (7)

  1. 内部に反射部を有するパッケージと、
    前記パッケージの内部に配置され、互いに対向する第1及び第2の反射板を有し、前記第1の反射板と前記第2の反射板との間隔が可変する波長可変光フィルタと、
    前記パッケージの内部に配置され、前記波長可変光フィルタを通過する光線を検出する検出器と、
    を備え、
    前記波長可変光フィルタは、前記第1の反射板と前記第2の反射板との間隔を可変させる圧電体層を有し、
    前記検出器は、前記圧電体層と同じ材料で形成された、光線を検出する焦電体層を有し、
    前記波長可変光フィルタと前記検出器は、前記反射部に対向する側に配置され、
    前記波長可変光フィルタを介して前記パッケージ内部に入射する光線は、前記反射部を介して前記検出器に入射することを特徴とする波長可変光フィルタモジュール。
  2. 前記パッケージが、第1の領域と第2の領域とを含み、
    前記第1の領域に前記波長可変光フィルタおよび前記検出器が配置され、
    前記第2の領域に前記反射部が形成される
    ことを特徴とする請求項1に記載の波長可変光フィルタモジュール。
  3. 前記圧電体層及び前記焦電体層のいずれも
    単結晶構造または一軸配向結晶構造の、ABO3で表される、
    ペロブスカイト型酸化物である
    ことを特徴とする請求項に記載の波長可変光フィルタモジュール。
  4. 前記波長可変光フィルタは、
    前記第1の反射板を支持する枠体と、
    前記枠体と前記第2の反射板とを接続する梁と、
    をさらに備え、
    前記梁の表面には、第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と第2の電極との間
    に配置される前記圧電体層で構成される駆動層配置される
    ことを特徴とする請求項1に記載の波長可変光フィルタモジュール。
  5. 前記パッケージは内部に複数の傾斜面を有し、
    前記反射部が前記傾斜面の表面に設けられている
    ことを特徴とする請求項1に記載の波長可変光フィルタモジュール。
  6. 前記パッケージ内部に凹部を有し、
    前記複数の傾斜面は、前記凹部の側面の一部である
    ことを特徴とする請求項に記載の波長可変光フィルタモジュール。
  7. 前記凹部の底面にさらに反射部が設けられている
    ことを特徴とする請求項に記載の波長可変光フィルタモジュール。


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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016092336A (ja) * 2014-11-10 2016-05-23 セイコーエプソン株式会社 焦電体、焦電素子、焦電素子の製造方法、熱電変換素子、熱電変換素子の製造方法、熱型光検出器、熱型光検出器の製造方法および電子機器
KR102328838B1 (ko) * 2019-07-17 2021-11-22 모스탑주식회사 비분산 적외선 방식의 멀티 가스 검출 장치 및 이의 구동 방법

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5550373A (en) * 1994-12-30 1996-08-27 Honeywell Inc. Fabry-Perot micro filter-detector
US6763718B1 (en) * 2001-06-26 2004-07-20 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Micro-electro-mechanical systems ultra-sensitive accelerometer with independent sensitivity adjustment
US6618199B2 (en) * 2001-06-05 2003-09-09 Axsun Technologies, Inc. Dual-band fabry-perot mirror coating
US7145143B2 (en) * 2002-03-18 2006-12-05 Honeywell International Inc. Tunable sensor
US20040051763A1 (en) * 2002-09-13 2004-03-18 Shogo Matsubara Piezoelectric thin film element, actuator, ink-jet head and ink-jet recording apparatus therefor
JP4057871B2 (ja) * 2002-09-19 2008-03-05 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 液晶表示装置
US7420738B2 (en) * 2003-12-22 2008-09-02 Axsun Technologies, Inc. Dual membrane single cavity Fabry-Perot MEMS filter
US7342705B2 (en) * 2004-02-03 2008-03-11 Idc, Llc Spatial light modulator with integrated optical compensation structure
US20050224694A1 (en) * 2004-04-08 2005-10-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. High efficiency microlens array
US7355780B2 (en) * 2004-09-27 2008-04-08 Idc, Llc System and method of illuminating interferometric modulators using backlighting
US7564612B2 (en) * 2004-09-27 2009-07-21 Idc, Llc Photonic MEMS and structures
US20060132383A1 (en) * 2004-09-27 2006-06-22 Idc, Llc System and method for illuminating interferometric modulator display
JP2008151544A (ja) * 2006-12-14 2008-07-03 Olympus Corp 可変分光素子、分光装置および内視鏡システム
US8115987B2 (en) * 2007-02-01 2012-02-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Modulating the intensity of light from an interferometric reflector
US7911623B2 (en) * 2007-08-07 2011-03-22 Xerox Corporation Fabry-Perot piezoelectric tunable filter
JP2009270959A (ja) * 2008-05-08 2009-11-19 Canon Inc 分光測色ユニット及びそれを用いた光学装置
US20100211333A1 (en) * 2009-01-14 2010-08-19 Integrated Process Resources, Inc. Leak Detection and Identification System
US8303151B2 (en) * 2010-05-12 2012-11-06 Apple Inc. Microperforation illumination
JP5774501B2 (ja) * 2012-01-12 2015-09-09 株式会社東芝 固体撮像装置
WO2013184515A1 (en) * 2012-06-06 2013-12-12 Northrop Grumman Systems Corporation Optical accelerometer system
US20140002802A1 (en) * 2012-06-27 2014-01-02 Young Optics Inc. Projection apparatus and projection lens thereof
US9348034B2 (en) * 2012-09-08 2016-05-24 Carestream Health, Inc. Indirect radiographic imaging systems including integrated beam detect
WO2014053562A1 (en) * 2012-10-04 2014-04-10 Lemoptix Sa An optical assembly
JP6260080B2 (ja) * 2013-01-07 2018-01-17 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、波長可変干渉フィルターの製造方法、光学モジュール、及び電子機器
US20140333998A1 (en) * 2013-03-12 2014-11-13 Board Of Trustees, Southern Illinois University Micro-lens for high resolution microscopy
KR102055840B1 (ko) * 2014-02-20 2019-12-17 삼성전자 주식회사 이미지 센서 패키지
TW201546397A (zh) * 2014-06-03 2015-12-16 Coretronic Corp 車用照明裝置
KR20160096368A (ko) * 2015-02-05 2016-08-16 삼성전자주식회사 반사 방지 구조물 제조 장치 및 이를 이용한 반사 방지 구조물 제조 방법
KR20170125389A (ko) * 2015-03-09 2017-11-14 캘리포니아 인스티튜트 오브 테크놀로지 중적외선 초분광 시스템 및 그 방법

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