DE102013203035A1

DE102013203035A1 - Optisches modul

Info

Publication number: DE102013203035A1
Application number: DE102013203035.5A
Authority: DE
Inventors: Jan Horn; Benedikt Knauf
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2013-02-25
Filing date: 2013-02-25
Publication date: 2014-08-28
Also published as: CN105026975A; US20160025952A1; CN105026975B; KR102211467B1; KR20150122655A; JP6571535B2; US9599788B2; WO2014128310A1; JP2016513285A

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel, mit einem optischen Element (109) und einer Stützstruktur (108) zur Abstützung des optischen Elements (109), wobei die Stützstruktur (108) eine Stelleinrichtung (111) zum aktiven Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements (109) in wenigstens einem Freiheitsgrad umfasst. Die Stützstruktur (108) umfasst eine selektiv aktivierbare Kontaktiereinrichtung (113) mit wenigstens einer Kontaktiereinheit (113.1) mit einem ersten Kontaktabschnitt (113.2), wobei der erste Kontaktabschnitt (113.2) in einem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113) einen zweiten Kontaktabschnitt (109.4) des optischen Elements (109) kontaktiert, um eine Kontaktkraft auf das optische Element (109; 209) auszuüben, während der erste Kontaktabschnitt (113.2) in einem deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113) von dem zweiten Kontaktabschnitt (109.4) entfernt ist.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Modul, eine optische Abbildungseinrichtung, ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, ein optisches Abbildungsverfahren sowie ein Verfahren zum Strukturieren eines Kontaktabschnitts eines optischen Moduls. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang mit beliebigen optischen Einrichtungen bzw. optischen Abbildungsverfahren anwenden. Insbesondere lässt sie sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen.
Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie ist es neben der Verwendung mit möglichst hoher Präzision ausgeführter Komponenten unter anderem erforderlich, die Position und Geometrie optischer Module der Abbildungseinrichtung, also beispielsweise der Module mit optischen Elementen wie Linsen, Spiegeln oder Gittern aber auch der verwendeten Masken und Substrate, im Betrieb möglichst präzise gemäß vorgegebenen Sollwerten einzustellen bzw. solche Komponenten in einer vorgegebenen Position bzw. Geometrie zu stabilisieren, um eine entsprechend hohe Abbildungsqualität zu erzielen.
Im Bereich der Mikrolithographie liegen die Genauigkeitsanforderungen im mikroskopischen Bereich in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter. Sie sind nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben.
Mit der erhöhten Auflösung und der damit in der Regel einhergehenden Verringerung der Wellenlänge des verwendeten Lichts steigen naturgemäß die Anforderungen an die Genauigkeit der Positionierung und Orientierung der verwendeten Komponenten. Dies wirkt sich insbesondere für die in der Mikrolithographie verwendeten geringen Arbeitswellenlängen im UV-Bereich (beispielsweise im Bereich von 193 nm), insbesondere aber im so genannten extremen UV-Bereich (EUV) mit Arbeitswellenlängen zwischen 5 nm und 20 nm (typischerweise im Bereich von 13 nm), natürlich auf den Aufwand aus, der für die Einhaltung der hohen Anforderungen an die Genauigkeit der Positionierung und/oder Orientierung der beteiligten Komponenten zu betreiben ist.
Im Zusammenhang mit der vorstehend erwähnten Stabilisierung des optischen Systems erweist sich der Umgang mit im System entstehender oder von außen in das System eingetragener Schwingungsenergie jedoch als besonders problematisch. Ein häufig verwendeter Ansatz, dieses Problem zu lösen, besteht darin, Position und/oder Orientierung einzelner oder mehrerer der verwendeten Systemskomponenten, insbesondere verwendete optische Elemente, aktiv zu beeinflussen, um die betreffende Komponente an einer vorgegebenen Position und/oder in einer vorgegebenen Orientierung zu halten.
Aus der DE 102 05 425 A1 (Holderer et al.), deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird, ist es im Zusammenhang mit der definierten Positionierung und Orientierung der Facettenelemente eines Facettenspiegels eines EUV-Systems bekannt, diese Facettenelemente einzeln zu justieren und danach durch entsprechende Fixierkräfte im justierten Zustand zu halten.
Zwar kann hierbei durch entsprechend bemessene Fixierkräfte eine Dejustage der Facettenelemente durch eingeleitete Schwingungsenergie relativ zu deren Träger verhindert werden. Problematisch ist jedoch, dass der Träger selbst durch eingeleitete Schwingungsenergie verformt werden kann, sodass die Facettenelemente aus ihrer gewünschten Position bzw. Orientierung im Strahlengang ausgelenkt werden können.
Zudem ist häufig zur Erhöhung der Flexibilität des optischen Systems eine aktive Beeinflussung der Position und/oder Orientierung einzelner oder mehrerer optischer Elemente des Abbildungssystems erwünscht. So ist es wiederum bei EUV-Systemen insbesondere in der Beleuchtungseinrichtung für eine flexible Pupillenbildung erwünscht, Facettenspiegel mit einer großen Anzahl beweglicher (in der Regel kippbarer) Mikrospiegel bzw. Facettenelemente zu verwenden, deren jeweilige Position und/oder Orientierung dann natürlich hoch präzise eingestellt und gehalten werden muss.
Gerade bei solchen EUV-Systemen besteht eine besondere Herausforderung darin, die präzise Einstellung der Position und/oder Orientierung einer großen Anzahl von Facettenelementen bei sehr geringen Abmessungen dieser Facettenelemente zu realisieren. So liegt bei einem Facettenspiegel für ein solches EUV-Systemen die Anzahl der Facettenelemente typischerweise in der Größenordnung von mehreren Hunderttausend Facettenelementen, während der Durchmesser der optisch wirksamen Fläche des einzelnen Facettenelements typischerweise in der Größenordnung von einigen Hundert Mikrometern liegt.
Ähnliche Mikrospiegelanordnungen mit mehreren Hunderttausend Mikrospiegeln sind beispielsweise auch aus der US 6,906,845 B2 (Cho et al.) bekannt, deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird.
KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, ein optisches Modul mit einem optischen Element, eine optische Abbildungseinrichtung, ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, ein optisches Abbildungsverfahren sowie ein Verfahren zum Strukturieren eines Kontaktabschnitts eines optischen Moduls zur Verfügung zu stellen, welche die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweisen und insbesondere auf einfache Weise eine zuverlässige Positionierung bzw. Orientierung eines optischen Elements gewährleisten.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass man auf einfache Weise auf kleinstem Raum eine verbesserte Abstützung eines aktiv einstellbaren optischen Elements, insbesondere auch kleinster Facettenelemente, und damit eine verbesserte Positionierung bzw. Orientierung des optischen Elements in der jeweiligen Einstellung erzielt, wenn eine selektiv aktivierbare Kontaktiereinrichtung vorgesehen wird, welche einen Kontaktabschnitt umfasst, der selektiv mit einem Kontaktabschnitt des optischen Elements in Kontakt gebracht werden kann, um auf dieses eine Kontaktkraft auszuüben. Der aktivierte Zustand der Kontaktiereinrichtung und damit der Kontakt bzw. die Kontaktkraft wird vorzugsweise solange aufrecht erhalten, bis entweder eine erneute (beispielsweise im Zuge einer Korrektur erfolgende) Verstellung der Position bzw. Orientierung des optischen Elements erforderlich wird oder der Betrieb des optischen Moduls endet.
Durch diese selektiv auf das optische Element ausgeübte Kontaktkraft ist es möglich, das optische Element in der jeweils eingestellten Position bzw. Orientierung zu halten. Dabei kann das optische Element durch die Kontaktiereinrichtung im Wesentlichen starr fixiert werden. Ebenso ist es aber auch möglich, durch eine entsprechend schwingungsdämpfende Gestaltung wenigstens eines (im Bereich des optischen Elements und/oder der Kontaktiereinrichtung gelegenen) Dämpfungsabschnitts eine gezielte Dämpfung von Schwingungen zu erzielen, die in das optische Element eingetragen wurden bzw. einen solchen Schwingungseintrag zu reduzieren, gegebenenfalls sogar vollständig zu vermeiden.
Um den Kontakt zwischen dem Kontaktabschnitt der Kontaktiereinrichtung und dem Kontaktabschnitt optischen Elements herzustellen kann sowohl der Kontaktabschnitt der Kontaktiereinrichtung als auch das optische Element (oder auch beide) betätigt bzw. bewegt werden. Die Betätigungskraft kann dabei auf beliebige Weise nach beliebigen Wirkprinzipien erzeugt werden. Vorzugsweise wird die Betätigungskraft kontaktlos erzeugt, um eine besonders Platz sparende Konfiguration zu erzielen.
Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher ein Optisches Modul, insbesondere Facettenspiegel, mit einem optischen Element und einer Stützstruktur zur Abstützung des optischen Elements, wobei die Stützstruktur eine Stelleinrichtung zum aktiven Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements in wenigstens einem Freiheitsgrad umfasst. Die Stützstruktur umfasst eine selektiv aktivierbare Kontaktiereinrichtung mit wenigstens einer Kontaktiereinheit mit einem ersten Kontaktabschnitt, wobei der erste Kontaktabschnitt in einem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung einen zweiten Kontaktabschnitt des optischen Elements kontaktiert, um eine Kontaktkraft auf das optische Element auszuüben, und der erste Kontaktabschnitt in einem deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung von dem zweiten Kontaktabschnitt entfernt ist.
Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer Maske mit einem Projektionsmuster, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats, wobei die Beleuchtungseinrichtung zur Beleuchtung des Projektionsmusters, insbesondere mit Licht im EUV-Bereich, ausgebildet ist und die Projektionseinrichtung (103) zur Projektion des Projektionsmusters auf das Substrat (105.1) ausgebildet ist. Die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung umfasst ein erfindungsgemäßes optisches Modul.
Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere eines Facettenelements eines Facettenspiegels, bei dem das optische Element durch eine Stützstruktur abgestützt wird, wobei eine Position und/oder Orientierung des optischen Elements in wenigstens einem Freiheitsgrad eingestellt wird. Ein erster Kontaktabschnitt einer selektiv aktivierbaren Kontaktiereinrichtung wird in einem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung mit einem zweiten Kontaktabschnitt des optischen Elements in Kontakt gebracht, um eine Kontaktkraft auf das optische Element auszuüben, während der erste Kontaktabschnitt in einem deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung von dem zweiten Kontaktabschnitt entfernt wird.
Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem eine Beleuchtungseinrichtung ein Projektionsmuster, insbesondere mit Licht im EUV-Bereich, beleuchtet und eine Projektionseinrichtung das Projektionsmuster auf ein Substrat projiziert. Hierbei wird ein optisches Element, insbesondere ein Facettenelement eines Facettenspiegels, der Beleuchtungseinrichtung und/oder der Projektionseinrichtung (103) mit einem erfindungsgemäßen Verfahren abgestützt.
Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Strukturieren eines Kontaktabschnitts eines erfindungsgemäßen optischen Moduls, wobei einer der beiden Kontaktabschnitte, insbesondere der erste Kontaktabschnitt, als strukturierbarer Kontaktabschnitt ausgebildet ist, der zumindest abschnittsweise ein strukturierbares und nach der Strukturierung verfestigbares Material umfasst, während der andere der beiden Kontaktabschnitte, insbesondere der zweite Kontaktabschnitt, als strukturierender Kontaktabschnitt ausgebildet ist, der zumindest abschnittsweise eine zur definierten Strukturierung des strukturierbaren Kontaktabschnitts ausreichende Steifigkeit aufweist. Der strukturierbare Kontaktabschnitt wird durch den strukturierenden Kontaktabschnitt zur Herstellung der komplementär strukturierten ersten und zweiten Kontaktfläche in seinem strukturierbaren Zustand strukturiert und nach dieser Strukturierung verfestigt.
Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt. Hierbei gehören jegliche Kombinationen der offenbarten Merkmale ungeachtet ihrer Erwähnung in den Ansprüchen zum Gegenstand der Erfindung.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
1 ist eine schematsche Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, welche eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen optischen Moduls umfasst, bei dem eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahrens zum Abstützen eines optischen Elements zur Anwendung kommt.
2 ist eine schematische Draufsicht auf das erfindungsgemäße optische Modul aus 1.
3 ist eine schematische Schnittansicht durch einen Teil einer bevorzugten Variante des optischen Moduls aus 2 (entlang Linie III-III aus 2) in einem ersten Betriebszustand.
4 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 3 (entlang Linie III-III aus 2) in einem zweiten Betriebszustand.
5 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 3 (entlang Linie III-III aus 2) in einem dritten Betriebszustand.
6 ist eine schematische Schnittansicht durch einen Teil einer weiteren bevorzugten Variante des optischen Moduls aus 2 (entlang Linie III-III aus 2) in einem ersten Betriebszustand.
7 ist eine schematische Ansicht des Details VII aus 6.
8 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 6 in einem zweiten Betriebszustand.
9 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 6 in einem dritten Betriebszustand.
10 ist eine schematische Schnittansicht durch einen Teil einer weiteren bevorzugten Variante des optischen Moduls aus 2 (entlang Linie III-III aus 2) in einem ersten Betriebszustand.
11 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 10 in einem zweiten Betriebszustand.
12 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus
10 in einem dritten Betriebszustand.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Erstes Ausführungsbeispiel
Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 eine erste Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung 101 beschrieben. Zur Vereinfachung des Verständnisses der nachfolgenden Erläuterungen wurde in die beigefügten Zeichnungen ein orthogonales xyz-Koordinatensystem eingeführt, in welchem die z-Richtung mit der Richtung der Gravitationskraft zusammenfällt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Ausrichtung dieses xyz-Koordinatensystems bzw. der Komponenten der optischen Abbildungseinrichtung im Raum gewählt sein kann.
Die 1 ist eine schematische, nicht maßstäbliche Darstellung der optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung 101, welche zur Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendet wird. Die Abbildungseinrichtung 101 umfasst eine Beleuchtungseinrichtung 102 und eine optische Projektionseinrichtung 103, die dazu ausgebildet ist, in einem Abbildungsprozess eine Abbildung eines auf einer Maske 104.1 einer Maskeneinrichtung 104 gebildeten Projektionsmusters auf ein Substrat 105.1 einer Substrateinrichtung 105 zu projizieren. Hierzu beleuchtet die Beleuchtungseinrichtung 102 die Maske 104.1 mit einem (nicht näher dargestellten) Beleuchtungslichtbündel. Die Projektionseinrichtung 103 erhält dann das von der Maske 104.1 kommende Projektionslichtbündel (welches in 1 durch die Linie 101.1 angedeutet ist) und projiziert das Abbild des Projektionsmusters der Maske 104.1 auf das Substrat 105.1, beispielsweise einen so genannten Wafer oder dergleichen.
Die Beleuchtungseinrichtung 102 umfasst ein (in 1 nur stark schematisiert dargestelltes) System optischer Elemente 106, welches unter anderem ein erfindungsgemäßes optisches Modul 106.1 umfasst. Wie nachfolgend noch näher erläutert werden wird, ist das optische Modul 106.1 als Facettenspiegel ausgebildet. Die optische Projektionseinrichtung 103 umfasst ein weiteres System optischer Elemente 107, welches eine Mehrzahl optischer Module 107.1 umfasst. Die optischen Module der optischen Systeme 106 und 107 sind dabei entlang einer gefalteten optischen Achse 101.1 der Abbildungseinrichtung 101 angeordnet.
Im gezeigten Beispiel arbeitet die Abbildungseinrichtung 101 mit Licht im EUV-Bereich bei einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 20 nm, genauer gesagt bei einer Wellenlänge von etwa 13 nm. Folglich sind die optischen Elemente in der Beleuchtungseinrichtung 102 und der Projektionseinrichtung 103 ausschließlich als reflektive optische Elemente ausgebildet. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung, welche mit anderen Wellenlängen arbeiten, auch einzeln oder in beliebiger Kombination beliebige Arten von optischen Elementen (z. B. refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente) zum Einsatz kommen können. Weiterhin kann auch die Projektionseinrichtung 103 ein weiteres erfindungsgemäßes optisches Modul, beispielsweise in Form eines weiteren Facettenspiegels, umfassen.
Wie den 2 bis 5 zu entnehmen ist, umfasst der Facettenspiegel 106.1 eine Stützstruktur 108, welche eine Vielzahl von optischen Elementen in Form von Facettenelementen 109 abstützt (von denen in 3 nur ein einziges dargestellt ist). In 2 sind aus Gründen der Übersichtlichkeit nur 900 Facettenelemente 109 dargestellt. In der Realität umfasst der Facettenspiegel 106.1 jedoch etwa 400.000 Facettenelemente 109, wobei es sich versteht, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine abweichende Anzahl von (beliebigen) optischen Elementen auf einer entsprechenden Stützstruktur abgestützt sein kann.
Es sei angemerkt, dass bei Facetteneinrichtungen bevorzugt so viele Facettenelemente wie möglich vorgesehen sind, um eine möglichst weit gehende Homogenisierung des Lichts zu erzielen. Insbesondere bei Facetteneinrichtungen sind daher bevorzugt 10.000 bis 1.000.000, vorzugsweise 50.000 bis 600.000, weiter vorzugsweise 200.000 bis 500.000, Facettenelemente vorgesehen.
Im gezeigten Beispiel sind die Facettenelemente 109 in einer regelmäßigen rechtwinkligen Matrix so angeordnet, dass zwischen ihnen ein schmaler Spalt von weniger als 0.05 mm bis 0,02 mm verbleibt, um einen möglichst geringen Verlust an Strahlungsleitung zu erzielen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Anordnung der durch die Stützstruktur 108 abgestützten optischen Elemente in Abhängigkeit von den optischen Anforderungen der Abbildungseinrichtung realisiert sein kann.
Wie den 2 bis 5 zu entnehmen ist, weist das Facettenelement 109 eine reflektierende und damit optisch wirksame Oberfläche 109.1 auf. Die reflektierende Oberfläche 109.1 ist auf einer der Stützstruktur 108 abgewandten bzw. dem Beleuchtungslichtbündel zugewandten Vorderseite eines Facettenkörpers 109.2 des Facettenelements 109 ausgebildet.
Der Flächeninhalt der optisch wirksamen Oberfläche 109.1 des Facettenelements 109 beträgt vorzugsweise 0,05 mm² bis 2,0 mm², weiter vorzugsweise 0,15 mm² bis 0,5 mm². Im vorliegenden Beispiel liegt der Flächeninhalt der optisch wirksamen Oberfläche 109.1 zwischen 0,2 mm² und 0,3 mm², nämlich bei 0,25 mm².
An der (der reflektierenden Oberfläche 109.1 abgewandten) Rückseite des Facettenkörpers 109.2 ist ein Vorsprung in Form eines säulenartigen Kopplungselements 109.3 vorgesehen, mittels dessen das Facettenelement 109 über eine Verbindungseinrichtung 110 mit der Stützstruktur 108 verbunden ist. Im vorliegenden Beispiel ist die Verbindungseinrichtung 110 als elastisches Membranelement oder Blattfederelement ausgebildet, welches einerseits mit dem Kopplungselement 109.3 und andererseits mit der Stützstruktur 108 verbunden ist.
Die Stützstruktur 108 umfasst eine (in 3 nur stark schematisiert dargestellte) Stelleinrichtung 111 zum aktiven Einstellen einer Position und/oder Orientierung des Facettenelements 109 in wenigstens einem Freiheitsgrad. Die betreffende Einstellung kann für jedes Facettenelement 109 individuell vorgenommen werden. Ebenso können bei anderen Varianten der Erfindung aber natürlich auch beliebig gebildete Gruppen von Facettenelementen 109 (bis hin zu allen Facettenelementen 109 des Facettenspiegels 106.1) gemeinsam eingestellt werden.
Durch die Stelleinrichtung 111 können beliebig viele Freiheitsgrade bis hin zu allen sechs Freiheitsgraden im Raum eingestellt werden. Allerdings werden zur apparativen Vereinfachung bevorzugt nur diejenigen Freiheitsgrade berücksichtigt, welche einen nicht vernachlässigbaren Einfluss auf den Abbildungsfehler bzw. die Abbildungsqualität der Abbildungseinrichtung 101 haben bzw. deren Einfluss auf den Abbildungsfehler bzw. die Abbildungsqualität nicht auf einfachere Weise an anderer Stelle im Strahlengang kompensiert werden kann.
Im vorliegenden Beispiel kann mittels der Stelleinrichtung 111 unter anderem der rotatorische Freiheitsgrad des Facettenelements 109 um die y-Achse eingestellt werden, mithin also die Verkippung des Facettenelements 109 um die y-Achse. Dies kann im vorliegenden Beispiel einer Abbildungseinrichtung im EUV-Bereich in der Beleuchtungseinrichtung 102 beispielsweise zur Pupillenvariation bzw. zu einem so genannten Setting-Wechsel verwendet werden.
Die Stelleinrichtung 111 ist zu diesem Zweck dazu ausgebildet, eine Stellkraft FS bzw. ein entsprechendes Stellmoment MS um die y-Achse auf das Facettenelement 109 auszuüben, um die Einstellung des Facettenelements 109 in dem bzw. den gewünschten Freiheitsgraden zu erzielen.
Im vorliegenden Beispiel geschieht dies berührungslos nach einem elektrostatischen Wirkprinzip. Hierzu können beispielsweise Stellelektroden 111.1 an der Stützstruktur 108 vorgesehen sein, welche gesteuert durch eine mit der Stelleinrichtung 111 verbundene Steuereinrichtung 112 im Bereich des Facettenelements 109 entsprechende elektrische Felder aufbauen, um die Stellkraft FS bzw. das Stellmoment MS auf das Facettenelement 109 zu erzeugen.
Es versteht sich jedoch, dass die Stellkraft FS bzw. das Stellmoment MS bei anderen Varianten der Erfindung auch auf beliebige andere Weise durch berührungslos oder aber auch taktil arbeitende bzw. mechanisch mit dem Facettenelement 109 verbundene Stelleinrichtungen erzeugt werden kann.
Die Stützstruktur 108 umfasst weiterhin eine selektiv aktivierbare Kontaktiereinrichtung 113 mit einer Kontaktiereinheit 113.1, die dazu ausgebildet ist, in einem aktivierten Zustand eine Kontaktkraft FK auf das Facettenelement 109 auszuüben, während sie in einem deaktivierten Zustand keine derartige Kontaktkraft FK auf das Facettenelement 109 ausübt bzw. nicht mit dem Facettenelement 109 in derartiger mechanischer Wechselwirkung steht.
Die Kontaktiereinheit 113.1 umfasst hierzu einen ersten Kontaktabschnitt 113.2, der in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 einen zweiten Kontaktabschnitt 109.4 des Facettenelements 109 kontaktiert, sodass zwischen den beiden Kontaktpartnern 113.2 und 109.4 die Kontaktkraft FK (im Wesentlichen senkrecht zu deren Kontaktfläche) wirkt (siehe 4 und 5).
Wie der 3 zu entnehmen ist, ist der zweite Kontaktabschnitt 109.4 am freien (dem Facettenkörper 109.2 abgewandten) Ende des Kopplungselements 109.3 angeordnet. Der zweite Kontaktabschnitt 109.4 ist dem ersten Kontaktabschnitt 113.2 in dem (in 3 dargestellten) deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 derart benachbart angeordnet, dass zwischen einer ersten Kontaktfläche 113.3 des ersten Kontaktabschnitts 113.2 und einer zweiten Kontaktfläche 109.5 des zweiten Kontaktabschnitts 109.4 ein schmaler Spalt 114 mit einer minimalen Spaltbreite S_min (senkrecht zur ersten Kontaktfläche 113.3) gebildet ist.
Der Spalt 114 bzw. die minimale Spaltbreite S_min ist im deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 zumindest gerade so groß, dass die Stelleinrichtung 111 das Facettenelement 109 ohne nennenswerte Berührung zwischen der ersten Kontaktfläche 113.3 und der zweiten Kontaktfläche 109.5 (bzw. nennenswerten daraus resultierenden Widerstand) verstellen kann.
Im vorliegenden Beispiel liegt die minimale Spaltbreite S_min bei 10 μm. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine andere minimale Spaltbreite S_min gewählt sein kann. Bevorzugt beträgt die minimale Spaltbreite S_min 0,1 μm bis 10.000 μm, vorzugsweise 1 μm bis 1.000 μm, weiter vorzugsweise 2 μm bis 100 μm.
Wird die Kontaktiereinrichtung 113 gesteuert durch die Steuereinrichtung 112 aktiviert, so übt die Kontaktiereinrichtung 113 entlang der z-Achse auf das Facettenelement 109 eine Betätigungskraft FB (siehe 3) aus, welche das Facettenelement 109 im vorliegenden Beispiel unter elastischer Deformation der Verbindungseinrichtung 110 auf die (im Wesentlichen feststehende) Kontaktiereinheit 113.1 zu bewegt, bis die erste Kontaktfläche 113.3 und die zweite Kontaktfläche 109.5 unter der Kontaktkraft FK aneinander anliegen (wie dies in den 4 und 5 für zwei unterschiedliche Einstellungen des Facettenelements 109 dargestellt ist bzw. in 3 durch die gestrichelte Kontur 115 angedeutet ist).
Die Kontaktiereinrichtung 113 übt die Betätigungskraft FB im vorliegenden Beispiel berührungslos über eine Betätigungseinrichtung 113.4 aus, indem sie wiederum nach einem elektrostatischen Wirkprinzip arbeitet. Hierzu können beispielsweise Betätigungselektroden 113.5 der Betätigungseinrichtung 113.4 an der Stützstruktur 108 vorgesehen sein, welche gesteuert durch die mit der Kontaktiereinrichtung 113 verbundene Steuereinrichtung 112 im Bereich des Facettenelements 109 entsprechende elektrische Felder aufbauen, um die Betätigungskraft FB auf das Facettenelement 109 bzw. die Kontaktkraft FK zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 113.2 und dem zweiten Kontaktabschnitt 109.4 zu erzeugen.
Es versteht sich jedoch, dass die Betätigungskraft FB bzw. die Kontaktkraft FK bei anderen Varianten der Erfindung auch auf beliebige andere Weise durch berührungslos oder aber auch taktil arbeitende bzw. mechanisch mit dem Facettenelement 109 verbundene Einrichtungen erzeugt werden kann.
Im vorliegenden Beispiel ist die erste Kontaktfläche 113.3 als im Wesentlichen ebene Fläche ausgebildet, während die zweite Kontaktfläche 109.5 als zumindest einfach gekrümmte Fläche gestaltet ist, deren eine Hauptkrümmungsachse im Wesentlichen parallel zur y-Achse (also im Wesentlichen parallel zur Achse des einstellbaren rotatorischen Freiheitsgrades) verläuft.
Soll keine Einstellung des Facettenelements 109 in dem rotatorischen Freiheitsgrad um die x-Achse erfolgen, so kann es sich bei der zweiten Kontaktfläche 109.5 um eine einfach gekrümmte, also im Wesentlichen zylindrische Fläche handeln. Im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 liegt dann eine linienartige, je nach Steifigkeit der beiden Kontaktpartner 113.2, 109.4 (und natürlich Höhe der Kontaktkraft FK) mehr oder weniger großflächige Kontaktzone vor.
Soll jedoch auch eine Einstellung des Facettenelements 109 in dem rotatorischen Freiheitsgrad um die x-Achse möglich sein, so handelt es sich bei der zweiten Kontaktfläche 109.5 um eine zweifach gekrümmte, also im Wesentlichen ellipsioide oder sphärische Fläche. Im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 liegt dann eine punktartige, je nach Steifigkeit der beiden Kontaktpartner 113.2, 109.4 (und natürlich Höhe der Kontaktkraft FK) mehr oder weniger großflächige Kontaktzone vor.
Der Kontakt zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 113.2 und dem zweiten Kontaktabschnitt 109.4 hat grundsätzlich zum einen den Vorteil, dass hierüber eine zusätzliche Wärmeabfuhr aus dem Facettenelement 109 in die Stützstruktur 108 erzielt werden kann. Die linienartige Kontaktzone hat hierbei durch ihre größere räumliche Ausdehnung gegenüber der punktartigen Kontaktzone den Vorteil, dass sie einen verbesserten Wärmeübergang von dem Facettenelement 109 in die Stützstruktur 108 ermöglicht, sodass eine nochmals erhöhte Wärmeabfuhr aus dem Facettenelement 109 in die Stützstruktur 108 erzielt werden kann.
Weiterhin wird in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 bei der jeweiligen durch die Stelleinrichtung 111 eingestellten Position und/oder Orientierung des Facettenelements 109 in wenigstens einer Reibschlussrichtung parallel zur ersten Kontaktfläche 113.3 (im vorliegenden Beispiel also in den Richtungen parallel zur xy-Ebene, insbesondere parallel zur x-Achse) eine reibschlüssige Verbindung erzielt, wodurch das Facettenelement 109 selbst unter Einfluss von Schwingungen, welche in das Facettenelement 109 eingetragen werden, in seiner Position gehalten wird, solange die Schwingungsenergie eine bestimmte Schwelle nicht überschreitet. Diese Schwelle wird durch die aktuelle Haftreibkraft FHR definiert, welche durch die aktuelle Kontaktkraft FK und die Reibbedingungen in der Kontaktzone, insbesondere den Reibkoeffizienten zwischen den beiden Kontaktpartnern 113.2, 109.4, bedingt ist.
Erst wenn die aus der Schwingungsenergie resultierende, auf das Facettenelement 109 parallel zur Reibschlussrichtung dislozierend wirkende Kraft diese Haftreibkraft (und eventuell noch zusätzlich wirkende Haltekräfte der Stelleinrichtung 111) übersteigt, wird das Facettenelement 109 ausgelenkt. Mithin ermöglicht die vorliegende Erfindung also zum einen eine Reduktion der Haltekräfte der Stelleinrichtung 111.
Zum anderen muss dank des Kontakts zwischen den beiden Kontaktpartnern 113.2, 109.4 und der daraus resultierenden Fixierung des Facettenelements 109 in seiner jeweiligen Einstellung zur Stabilisierung dieser Einstellung keine die Schwingungseinflüsse kompensierende Regelung der Stelleinrichtung 111 vorgesehen werden. Selbst bei hoher Bandbreite der im Betrieb auftretenden Schwingungen ist somit keine Regelung mit entsprechend hoher Regelbandbreite erforderlich. Vielmehr genügt eine einfache Aktivierung bzw. Deaktivierung der Kontaktiereinrichtung 113 durch die Steuereinrichtung 112 nach erfolgter Einstellung bzw. vor erneuter Einstellung des Facettenelements 109. Hierbei ist lediglich eine deutlich geringere Bandbreite für die Ansteuerung der Kontaktiereinrichtung 113 erforderlich.
Die jeweilige Hauptkrümmung der zweiten Kontaktfläche 109.5 ist im vorliegenden Beispiel vorzugsweise so an die (durch die Stelleinrichtung 111 erzeugte) Stellbewegung des Facettenelements 109 angepasst, dass der Spalt 114 bzw. die minimale Spaltbreite S_min in jeder Einstellung im Wesentlichen unverändert bleibt. Demgemäß wird das Facettenelement 109 bei Aktivierung der Kontaktiereinrichtung 113 in jeder Einstellung um denselben Weg auf die Kontaktiereinheit 113.1 zu bewegt, bis die erste Kontaktfläche 113.3 und die zweite Kontaktfläche 109.5 unter der Kontaktkraft FK aneinander anliegen.
Es versteht sich jedoch, dass die jeweilige Hauptkrümmung der zweiten Kontaktfläche 109.5 bei anderen Varianten der Erfindung auch derart angepasst sein kann, dass der Spalt 114 bzw. die minimale Spaltbreite S_min mit zunehmender Auslenkung aus der (in 3 dargestellten und in den 4 und 5 durch die gestrichelten Konturen 116 bzw. 117 angedeuteten) Neutralstellung des Facettenelements 109 variiert, um unerwünschte Einflüsse der Bewegung des Facettenelements 109 bei Aktivierung der Kontaktiereinrichtung 113 auf die Abbildungsqualität zu minimieren. So kann beispielsweise vorgesehen sein, dass sich der Spalt 114 bzw. die minimale Spaltbreite S_min zumindest abschnittsweise mit zunehmender Auslenkung aus der (in 3 dargestellten) Neutralstellung des Facettenelements 109 reduziert. Ebenso kann zusätzlich oder alternativ zumindest abschnittsweise eine Vergrößerung mit zunehmender Auslenkung vorgesehen sein.
Es sei an dieser Stelle erwähnt, dass die im vorliegenden Beispiel gewählte Gestaltung mit einer ausschließlich reibschlüssigen Verbindung in der Kontaktzone zwischen den beiden Kontaktpartnern 113.2, 109.4 den Vorteil hat, dass beliebige Einstellungen bzw. Auslenkungen des Facettenelements 109 aus seiner Neutralstellung vorgenommen werden können, ohne dass es zu einer nennenswerten Variation der Fixierwirkung des Facettenelements 109 kommt.
Im vorliegenden Beispiel ist weiterhin vorgesehen, dass die Steuereinrichtung 112 in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 die Kontaktkraft FK variieren kann, sodass in der Reibschlussrichtung eine einstellbare Haftreibkraft FHR bzw. (nach Überwinden der Haftreibkraft FHR) eine einstellbare Gleitreibkraft FGR als Verstellwiderstand W gegen die Stellkraft FS der Stelleinrichtung wirkt.
Hiermit ist es möglich, den Verstellwiderstand in einem Einstellzustand des aktivierten Zustands der Kontaktiereinrichtung 113 derart herabzusetzen, dass die Stellkraft FS der Stelleinrichtung 111 ausreicht, um eine Einstellung des Facettenelements 109 unter einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen den beiden Kontaktflächen 113.3, 109.5 gegen den Verstellwiderstand W vorzunehmen.
In einem Fixierzustand des aktivierten Zustands der Kontaktiereinrichtung 113 kann der Verstellwiderstand W durch die Steuereinrichtung 112 dann gegenüber dem Einstellzustand derart erhöht werden, dass die maximale Stellkraft FS_max der Stelleinrichtung 111 nicht mehr ausreicht, um eine Einstellung des Facettenelements 109 gegen den Verstellwiderstand W vorzunehmen.
Im vorliegenden Beispiel weist das Facettenelement 109 weiterhin wenigstens eine erste Resonanzfrequenz auf, die im Bereich von etwa 600 Hz liegt. Die Kontaktiereinheit 113.1 weist ihrerseits einen Dämpfungsabschnitt 113.6 auf, der im Bereich der ersten Resonanzfrequenz schwingungsdämpfend wirkt, um gerade in diesem kritischen Resonanzbereich des Facettenelements den Einfluss von Schwingungen auf die Abbildungsqualität zu minimieren.
Weiterhin weist die Anordnung aus dem Facettenelement 109 und der Verbindungseinrichtung 110 wenigstens eine zweite Resonanzfrequenz auf, die bei etwa 750 Hz liegt. Der Dämpfungsabschnitt 113.6 ist so gestaltet, dass er auch im Bereich dieser zweiten Resonanzfrequenz schwingungsdämpfend wirkt, um auch in diesem kritischen Resonanzbereich der Anordnung aus dem Facettenelement 109 und der Verbindungseinrichtung 110 den Einfluss von Schwingungen auf die Abbildungsqualität zu minimieren.
Es versteht sich jedoch, dass das Facettenelement 109 bei anderen Varianten der Erfindung auch eine oder mehrere andere erste Resonanzfrequenzen und/oder eine oder mehrere andere zweite Resonanzfrequenzen aufweisen kann, die vorzugsweise 1 Hz bis 2.000 Hz, vorzugsweise 50 Hz bis 1.500 Hz, weiter vorzugsweise 200 Hz bis 1.000 Hz, betragen.
Die Stelleinrichtung 111 ist im vorliegenden Beispiel weiterhin so ausgebildet, dass sie als aktive Löseeinrichtung betrieben werden kann, welche das Lösen des Kontakts zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 113.2 und dem zweiten Kontaktabschnitt 109.4 nach einem Deaktivieren der Kontaktiereinrichtung 113 durch eine erste Lösekraft FL1 unterstützt. Dies geschieht im vorliegenden Beispiel, indem über die Stelleinrichtung 111 eine variierende, gegebenenfalls sogar alternierende Stellkraft FS erzeugt wird, mithin also definiert Vibrationsenergie in das Facettenelement 109 eingeleitet wird.
Diese erste Lösekraft FL1 unterstützt die zweite Lösekraft FL2, nämlich die lösende Rückstellkraft aus der deformierten Verbindungseinrichtung 110, und hilft, hemmende Oberflächenkräfte (z. B. Van-der-Waals-Kräfte) zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 113.2 und dem zweiten Kontaktabschnitt 109.4 zu lösen bzw. zu überwinden.
Es versteht sich hierbei, dass bei anderen Varianten der Erfindung zusätzlich oder alternativ auch eine andere Unterstützung des Lösevorgangs nach Deaktivieren der Kontaktiereinrichtung 113 vorgesehen sein kann. So kann im Bereich der Kontaktiereinheit 113.1 eine entsprechende Löseeinrichtung vorgesehen sein, welche eine entsprechende Lösekraft erzeugt. Ebenso kann zusätzlich oder alternativ die Betätigungseinrichtung 113.4 eine entsprechende Lösekraft erzeugen.
Die 4 und 5 zeigen wie bereits erwähnt den aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 113 für zwei unterschiedliche Einstellungen des Facettenelements 109, beispielsweise die beiden entgegengesetzten extreme Auslenkungen des Facettenelements 109 aus seiner Neutralstellung (siehe Kontur 116 in 4 bzw. Kontur 117 in 5). Es versteht sich, dass im vorliegenden Beispiel in Abhängigkeit von der Einstellauflösung der Stelleinrichtung 111 zwischen diesen Extremstellungen beliebig viele Zwischenzustände realisierbar sind, sodass eine besonders feinfühlige Einstellung des Facettenelements 109 möglich ist.
Zweites Ausführungsbeispiel
Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 2, und 6 bis 9 eine weitere bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen optischen Moduls 206.1 beschrieben. Das optische Modul 206.1 kann anstelle des optischen Moduls 106.1 in der Abbildungseinrichtung 101 verwendet werden. Das optische Modul 206.1 entspricht in seiner grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise dem optischen Modul aus den 3 bis 5, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
Der wesentliche Unterschied zu der Ausführung aus 3 bis 5 besteht in der Gestaltung der Kontaktiereinrichtung 213, bei der im vorliegenden Beispiel die erste Kontaktfläche 213.3 des ersten Kontaktabschnitts 213.2 und die zweite Kontaktfläche 209.5 des zweiten Kontaktabschnitts 209.4 derart komplementär strukturiert sind, dass sie in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 213 bei den beiden in den 8 und 9 dargestellten diskreten Einstellungen in wenigstens einer Formschlussrichtung (im vorliegenden Beispiel die Richtung parallel zur x-Achse) eine formschlüssige Verbindung bilden.
Hierzu weist die erste Kontaktfläche 213.3 zwei entsprechende Vertiefungen 213.7 und 213.8 auf, in welche in der jeweiligen Einstellung (im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 213) jeweils ein komplementär gestalteter Vorsprung 209.6 bzw. 209.7 der zweiten Kontaktfläche 209.5 eingreift.
Im vorliegenden Beispiel wird die komplementäre Gestaltung zur Herstellung der formschlüssigen Verbindung im aktivierten Zustand durch zueinander entsprechend komplementäre polygonale Schnittkonturen der Kontaktflächen 213.3 und 209.5 in einer Schnittebene erreicht, welche eine Flächennormale der jeweiligen Kontaktfläche enthält (im vorliegenden Beispiel die xz-Ebene).
Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Schnittkontur der Kontaktflächen 213.3 und 209.5 vorgesehen sein kann, solange diese in der jeweiligen Einstellung zueinander derart komplementär ausgebildet sind, dass sie im aktivierten Zustand ineinander eingreifen, um in einer gewünschten Formschlussrichtung einen Formschluss zu erzielen.
Durch die komplementäre Strukturierung der beiden Kontaktflächen 213.3 und 209.5 wird weiterhin eine vergleichsweise großflächige Kontaktzone erzielt. Dies hat den Vorteil, dass sich gegenüber dem ersten Ausführungsbeispiel ein weiter verbesserter Wärmeübergang von dem Facettenelement 209 in die Stützstruktur 108 ergibt, sodass eine nochmals erhöhte Wärmeabfuhr aus dem Facettenelement 209 in die Stützstruktur 108 erreicht werden kann.
Die komplementäre Strukturierung der beiden Kontaktflächen 213.3 und 209.5 wird im vorliegenden Beispiel dadurch erzielt, dass der erste Kontaktabschnitt 213.2 als strukturierbarer Kontaktabschnitt ausgebildet ist. Hierzu ist der erste Kontaktabschnitt 213.2 in dem Bereich 213.9, der auf der dem Facettenelement 209 zugewandten Seite des Dämpfungsabschnitts 213.6 liegt, aus einem strukturierbaren und nach der Strukturierung verfestigbaren Material gebildet. Der zweite Kontaktabschnitt 209.4 ist demgegenüber als strukturierender Kontaktabschnitt ausgebildet, der eine zur definierten Strukturierung des strukturierbaren ersten Kontaktabschnitts 213.2 ausreichende Steifigkeit aufweist.
Um die Strukturierung des ersten Kontaktabschnitts 213.2 zu erzielen, wird der strukturierbare erste Kontaktabschnitt 213.2 in seinem strukturierbaren Zustand durch den strukturierenden zweiten Kontaktabschnitt 209.4 strukturiert, indem zunächst die Stelleinrichtung 111 das Facettenelement 209 in eine erste Einstellung bringt und dann die Kontaktiereinrichtung 213 aktiviert wird, sodass das Facettenelement 209 mit seinem zweiten Kontaktabschnitt 209.4 in den strukturierbaren ersten Kontaktabschnitt 213.2 gedrückt wird, bis die in 8 dargestellte Anordnung erzielt ist.
Anschließend wird die Kontaktiereinrichtung 213 deaktiviert, das Facettenelement 209 durch die Stelleinrichtung 111 in eine zweite Einstellung gebracht und dann die Kontaktiereinrichtung 213 erneut aktiviert, sodass das Facettenelement 209 mit seinem zweiten Kontaktabschnitt 209.4 in den strukturierbaren ersten Kontaktabschnitt 213.2 gedrückt wird, bis die in 9 dargestellte Anordnung erzielt ist.
Anschließend wird der strukturierbare Bereich 213.9 des ersten Kontaktabschnitts 213.2 verfestigt, um die in 6 bis 9 dargestellte strukturierte erste Kontaktfläche 213.3 zu erzielen, welche eine ausreichende Steifigkeit besitzt, um den oben beschriebenen Formschluss in der gewünschten Formschlussrichtung erzielen zu können.
Um sicherzustellen, dass der derart strukturierte erste Kontaktabschnitt 213.2 seine Strukturierung während dieses Prozesses in ausreichendem Maße beibehält, weist das verfestigbare Material des strukturierbaren Bereichs 213.9 in seinem strukturierbaren Zustand eine gelartige oder wachsartige Konsistenz auf.
Hierbei besitzt das verfestigbare Material des strukturierbaren Bereichs 213.9 im vorliegenden Beispiel in seinem strukturierbaren Zustand eine Formstabilität, welche ausreicht, um nach Einfluss einer Beschleunigung, die wenigstens 100%, vorzugsweise wenigstens 125%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 150%, der Erdbeschleunigung entspricht, eine Formtreue zum strukturierenden Kontaktabschnitt von wenigstens 80%, vorzugsweise wenigstens 90%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 100%, zu erhalten.
Bevorzugt ist die Formstabilität des verfestigbaren Materials so gewählt, dass es bei allen Beschleunigungen, die beim Handling bis zur abschließenden Verfestigung des Materials auftreten können, eine für den gewünschten späteren Formschluss ausreichende Formtreue zum strukturierenden zweiten Kontaktabschnitt 209.4 erhält.
Als strukturierbares und verfestigbares Material wird vorzugsweise wenigstens ein Material aus einer Materialgruppe verwendet, die aus einem Photolackmaterial, einem, insbesondere durch UV-Licht aushärtbaren, Mehrkomponentenklebstoff und einem, insbesondere thermisch aushärtbaren, Pulverbeschichtungsmaterial besteht. Als Photolackmaterial können grundsätzlich beliebige Photolacke verwendet werden, wie sie in der Mikrosystemtechnik, insbesondere in der Halbleiterlithographie, zum Einsatz kommen.
Es versteht sich jedoch, dass die komplementäre Strukturierung der beiden Kontaktflächen 213.3 und 209.5 bei anderen Varianten der Erfindung auch auf andere Weise erfolgen kann. So können beispielsweise die Rollen der beiden Kontaktflächen 213.3 und 209.5 vertauscht sein, mithin also der erste Kontaktabschnitt 213.2 den strukturierenden Kontaktabschnitt bilden, während der zweite Kontaktabschnitt 209.4 als strukturierbarer Kontaktabschnitt gestaltet ist. Ebenso können natürlich auch Mischformen dieser beiden Varianten vorgesehen sein, bei denen der jeweilige Kontaktabschnitt teils als struktuierbarer, teils als strukturierender Kontaktabschnitt ausgebildet ist.
Ebenso versteht es sich, dass die komplementäre Strukturierung der beiden Kontaktflächen 213.3 und 209.5 bei anderen Varianten der Erfindung auch jeweils individuell durch separate formgebende Herstellung und/oder Nachbearbeitung durch beliebige urformende und/oder Material abtragende und/oder Material aufbringende Verfahren hergestellt werden kann.
Im vorliegenden Beispiel weist das Facettenelement 209 im Betrieb der Abbildungseinrichtung 101 die beiden in 8 und 9 dargestellten Einstellungen auf. Hiermit kann beispielsweise eine Ein/Aus-Funktion erzielt werden, bei welcher das Facettenelement 209 beispielsweise in der Einstellung aus 8 auftreffendes Licht derart weiterleitet, dass es als Nutzlicht im aktuellen Abbildungsvorgang genutzt werden kann, während das auftreffende Licht in der Einstellung aus 9 aus dem Nutzstrahlengang entfernt wird. Bei anderen Varianten der Erfindung, bei denen Lichtverluste vermieden werden, kann auch lediglich eine Ablenkung auf unterschiedliche Nutzbereiche erzielt werden.
Weiterhin versteht es sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch mehr als zwei diskrete Einstellungen vorgesehen sein können. In diesem Fall ist dann natürlich eine entsprechende Anzahl von (im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 213) entsprechend formschlüssig ineinander eingreifenden Abschnitten der beiden Kontaktflächen 213.3 und 209.5 vorgesehen.
Drittes Ausführungsbeispiel
Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 2, und 10 bis 12 eine weitere bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen optischen Moduls 306.1 beschrieben. Das optische Modul 306.1 kann anstelle des optischen Moduls 106.1 in der Abbildungseinrichtung 101 verwendet werden. Das optische Modul 306.1 entspricht in seiner grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise dem optischen Modul aus den 6 bis 9, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem zweiten Ausführungsbeispiel verwiesen.
Der wesentliche Unterschied zu der Ausführung aus 6 bis 9 besteht wiederum in der Gestaltung der Kontaktiereinrichtung 313. So ist die Kontaktiereinheit 313.1 der Kontaktiereinrichtung 313 im vorliegenden Beispiel zwar ebenfalls mit einer ersten Kontaktfläche 313.3 des ersten Kontaktabschnitts 313.2 ausgestattet, die identisch wie beim zweiten Ausführungsbeispiel derart komplementär zu der zweiten Kontaktfläche 209.5 des zweiten Kontaktabschnitts 209.4 strukturiert ist, dass sie in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 313 bei den beiden in den 11 und 12 dargestellten diskreten Einstellungen in wenigstens einer Formschlussrichtung (im vorliegenden Beispiel die Richtung parallel zur x-Achse) eine formschlüssige Verbindung bilden. Insoweit sei explizit auf die obigen Ausführungen zum zweiten Ausführungsbeispiel verwiesen.
Im vorliegenden Beispiel ist jedoch das Facettenelement 209 als in der jeweiligen (durch die Stelleinrichtung 111 eingestellten) Einstellung im Wesentlichen feststehendes Element gestaltet. Demgegenüber übt die Betätigungseinrichtung 313.4 bei Aktivierung der Kontaktiereinrichtung 313 (durch die Steuereinrichtung 112) auf die Kontaktiereinheit 313.1 entlang der z-Achse eine Betätigungskraft FB (siehe 10) aus, welche die Kontaktiereinheit 313.1 im vorliegenden Beispiel unter elastischer Deformation des Trägers 313.10 der Kontaktiereinheit 313.1 auf das (im Wesentlichen feststehende) Facettenelement 109 zu bewegt, bis die erste Kontaktfläche 313.3 und die zweite Kontaktfläche 209.5 unter der Kontaktkraft FK aneinander anliegen (wie dies in den 11 und 12 für zwei unterschiedliche Einstellungen des Facettenelements 209 dargestellt ist).
Der Träger 313.10 ist im vorliegenden Beispiel so gestaltet, dass er in der jeweiligen Einstellung (durch die Stelleinrichtung 111) im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 313 (siehe 11 und 12) sowie im deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung 313 (siehe 10) einen stabilen Zustand einnimmt, aus dem er nur durch Aufbringung einer entsprechenden Betätigungskraft FB heraus bewegt werden kann. Hierzu ist der Träger 313.10 als bistabiles elastisches Element (beispielsweise als membranartiges oder blattfederartiges Element) gestaltet, welches eine bogenförmige oder topfförmige Schnittkontur aufweist.
Die Kontaktiereinrichtung 313 übt die Betätigungskraft FB im vorliegenden Beispiel wiederum berührungslos über eine Betätigungseinrichtung 313.4 aus, indem sie wiederum nach einem elektrostatischen Wirkprinzip arbeitet. Ebenso können zusätzlich oder alternativ natürlich auch Betätigungsmechanismen vorgesehen sein, welche mit einer direkten mechanischen Verbindung zur Kontaktiereinheit 313.1 bzw. dem elastischen Träger 313.10 arbeiten. Beispielsweise können entsprechende Aktuatoren (beispielsweise Piezoaktuatoren) an den Bereichen des elastischen Trägers 313.10 angreifen, welche zwischen der Kontaktiereinheit 313.1 und der Stützstruktur 108 liegen, um entsprechende Biegemomente zum Umschalten zwischen den beiden stabilen Endpositionen des elastischen Trägers 313.10 in den elastischen Träger 313.10 einzuleiten.
Diese bistabile Gestaltung hat den Vorteil, dass nur zum Umschalten zwischen den beiden Endpositionen des elastischen Trägers 313.10 Energie aufgebracht werden muss, während zu allen anderen Zeitpunkten keine Energie aufgebracht werden muss. Dies ist im Hinblick auf den Eintrag von störender bzw. dann wiederum abzuführender Wärmeenergie in die Abbildungseinrichtung 101 von Vorteil.
Es versteht sich, dass eine solche bistabile Gestaltung gegebenenfalls auch bei den beiden anderen Ausführungsbeispielen durch eine entsprechende Gestaltung der Verbindungseinrichtung 110 realisiert sein kann.
Ebenso kann natürlich auch bei dem dritten Ausführungsbeispiel eine herkömmliche Gestaltung des Trägers als einfaches membranartiges oder blattfederartiges Element vorgesehen sein, wie dies in 10 durch die gestrichelte Kontur 318 angedeutet ist. In diesem Fall muss dann im aktivierten Zustand stets eine entsprechende Betätigungskraft FB aufgebracht werden, um die Kontaktkraft FK zu erzielen. In diesem Fall übt der Träger 318 dann eine Lösekraft aus, welche das Lösen des Kontakts zwischen der ersten Kontaktfläche 313.3 und der zweiten Kontaktfläche 209.5 dann zumindest unterstützt.
Alternativ kann natürlich auch eine Konfiguration vorgesehen sein, bei welcher der Kontakt zwischen der ersten Kontaktfläche 313.3 und der zweiten Kontaktfläche 209.5 im aktivierten Zustand stets (d. h. ohne Energiezufuhr) durch eine entsprechende mechanische Vorspannung des Trägers erzielt wird, während im deaktivierten Zustand eine entsprechende Betätigungskraft FB aufgebracht werden muss, um den Kontakt zwischen der ersten Kontaktfläche 313.3 und der zweiten Kontaktfläche 209.5 unter weiterer elastischer Deformation des Trägers zu lösen.
Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend ausschließlich anhand von Facettenspiegeln beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Modulen bzw. optischen Elementen zum Einsatz kommen kann.
Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend weiterhin ausschließlich anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Anwendungen, insbesondere Abbildungsverfahren bei anderen Wellenlängen, zum Einsatz kommen kann.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 10205425 A1 [0006]
US 6906845 B2 [0010]

Claims

Optisches Modul, insbesondere Facettenspiegel, mit – einem optischen Element (109; 209) und – einer Stützstruktur (108) zur Abstützung des optischen Elements (109; 209), wobei – die Stützstruktur (108) eine Stelleinrichtung (111) zum aktiven Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements (109; 209) in wenigstens einem Freiheitsgrad umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstruktur (108) eine selektiv aktivierbare Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) mit wenigstens einer Kontaktiereinheit (113.1; 213.1; 313.1) mit einem ersten Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) umfasst, wobei – der erste Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) in einem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) einen zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) des optischen Elements (109; 209) kontaktiert, um eine Kontaktkraft auf das optische Element (109; 209) auszuüben, und – der erste Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) in einem deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) von dem zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) entfernt ist.
Optisches Modul nach Anspruch 1, wobei – die Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) dazu ausgebildet ist, in dem aktivierten Zustand auf das optische Element (109; 209) und/oder die Kontaktiereinheit (313.1) eine Betätigungskraft auszuüben, durch welche der erste Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) und der zweite Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) miteinander in Kontakt gebracht werden, insbesondere miteinander in Kontakt gehalten werden, wobei – insbesondere die Kontaktiereinheit (113.1; 213.1) als im Wesentlichen feststehendes Element ausgebildet ist und das optische Element (109; 209) durch die Betätigungskraft bewegt wird oder – insbesondere das optische Element (209) als in seiner durch die Stelleinrichtung (111) eingestellten Position und/oder Orientierung im Wesentlichen feststehendes Element ausgebildet ist und die Kontaktiereinheit (313.1) durch die Betätigungskraft bewegt wird, wobei die Kontaktiereinheit (313.1) insbesondere als bistabile Einheit ausgebildet ist, welche in dem aktivierten Zustand und in dem deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (313) jeweils einen stabilen Zustand annimmt, den die Kontaktiereinheit (313.1) vorzugsweise ohne Energiezufuhr hält.
Optisches Modul nach Anspruch 1 oder 2, wobei – der erste Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) eine erste Kontaktfläche (113.3; 213.3; 313.3) aufweist und der zweite Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) eine zweite Kontaktfläche (109.5; 209.5) aufweist, wobei – die erste Kontaktfläche (113.3; 213.3; 313.3) und die zweite Kontaktfläche (109.5; 209.5) derart komplementär strukturiert sind, dass sie in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) bei wenigstens einer durch die Stelleinrichtung (111) eingestellten Position und/oder Orientierung in wenigstens einer Formschlussrichtung eine formschlüssige Verbindung bilden, wobei – die erste Kontaktfläche (113.3; 213.3; 313.3) und die zweite Kontaktfläche (109.5; 209.5) insbesondere derart komplementär strukturiert sind, dass sie in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) bei mehreren diskreten durch die Stelleinrichtung (111) eingestellten Positionen und/oder Orientierungen in wenigstens einer Formschlussrichtung eine formschlüssige Verbindung bilden; – eine der beiden Kontaktflächen (213.3, 209.5; 313.3, 209.5) insbesondere wenigstens eine Vertiefung (213.7, 213.8) aufweist und die andere der beiden Kontaktflächen (213.3, 209.5; 313.3, 209.5) wenigstens einen Vorsprung (209.6, 209.7) aufweist, der zu der wenigstens einen Vertiefung (213.7, 213.8) komplementär ausgebildet ist, um in diese in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) einzugreifen; – wenigstens eine der beiden Kontaktflächen (213.3, 209.5; 313.3, 209.5) insbesondere zumindest abschnittsweise eine polygonale Schnittkontur in einer Schnittebene aufweist, die eine Flächennormale der Kontaktfläche (213.3, 209.5; 313.3, 209.5) enthält.
Optisches Modul nach Anspruch 3, wobei – einer der beiden Kontaktabschnitte (213.2, 209.4; 313.2, 209.4), insbesondere der erste Kontaktabschnitt (213.2; 313.2), als strukturierbarer Kontaktabschnitt ausgebildet ist, der zumindest abschnittsweise ein strukturierbares und nach der Strukturierung verfestigbares Material umfasst, – der andere der beiden Kontaktabschnitte (213.2, 209.4; 313.2, 209.4), insbesondere der zweite Kontaktabschnitt (209.4), als strukturierender Kontaktabschnitt ausgebildet ist, der zumindest abschnittsweise eine zur definierten Strukturierung des strukturierbaren Kontaktabschnitts ausreichende Steifigkeit aufweist, und – der strukturierbare Kontaktabschnitt (213.2; 313.2) durch den strukturierenden Kontaktabschnitt (209.4) zu Herstellung der komplementär strukturierten ersten und zweiten Kontaktfläche (213.3, 209.5; 313.3, 209.5) in seinem strukturierbaren Zustand strukturiert wurde und nach dieser Strukturierung verfestigt wurde, wobei – das strukturierbare und verfestigbare Material in seinem strukturierbaren Zustand insbesondere eine gelartige oder wachsartige Konsistenz aufweist; – das strukturierbare und verfestigbare Material in seinem strukturierbaren Zustand insbesondere eine Formstabilität aufweist, welche ausreicht, um nach Einfluss einer Beschleunigung, die wenigstens 100%, vorzugsweise wenigstens 125%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 150%, der Erdbeschleunigung entspricht, eine Formtreue zum strukturierenden Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) von wenigstens 80%, vorzugsweise wenigstens 90%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 100%, zu erhalten; – das strukturierbare und verfestigbare Material insbesondere wenigstens ein Material aus einer Materialgruppe umfasst, die aus einem Photolackmaterial, einem, insbesondere durch UV-Licht aushärtbaren, Mehrkomponentenklebstoff und einem, insbesondere thermisch aushärtbaren, Pulverbeschichtungsmaterial besteht.
Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei – der erste Kontaktabschnitt (113.2) eine erste Kontaktfläche (113.3) aufweist und der zweite Kontaktabschnitt (109.4) eine zweite Kontaktfläche (109.5) aufweist, wobei – die erste Kontaktfläche (113.3) und die zweite Kontaktfläche (109.5) derart ausgebildet sind, dass sie in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113) bei wenigstens einer durch die Stelleinrichtung (111) eingestellten Position und/oder Orientierung in wenigstens einer Reibschlussrichtung eine reibschlüssige Verbindung bilden, wobei – insbesondere zumindest eine der beiden Kontaktflächen (113.3, 109.5) zumindest abschnittsweise eben ausgebildet ist; – insbesondere zumindest eine der beiden Kontaktflächen (113.3, 109.5) zumindest abschnittsweise gekrümmt ausgebildet ist.
Optisches Modul nach Anspruch 5, wobei – die Kontaktiereinrichtung (113) derart ausgebildet ist, dass in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113) in der Reibschlussrichtung eine einstellbare Reibkraft als Verstellwiderstand gegen eine Stellkraft der Stelleinrichtung (111) wirkt, wobei – der Verstellwiderstand in einem Einstellzustand des aktivierten Zustands der Kontaktiereinrichtung (113) insbesondere derart herabgesetzt ist, dass die Stellkraft der Stelleinrichtung (111) ausreicht, um eine Einstellung des optischen Elements (109) in dem wenigstens einen Freiheitsgrad unter einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen den beiden Kontaktflächen (113.3, 109.5) gegen den Verstellwiderstand vorzunehmen. – der Verstellwiderstand in einem Fixierzustand des aktivierten Zustands der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) insbesondere gegenüber dem Einstellzustand derart erhöht ist, dass eine maximale Stellkraft der Stelleinrichtung (111) nicht ausreicht, um eine Einstellung des optischen Elements (109; 209) in dem wenigstens einen Freiheitsgrad gegen den Verstellwiderstand vorzunehmen.
Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei – das optische Element (109; 209) wenigstens eine erste Resonanzfrequenz aufweist und die Kontaktiereinheit (113.1; 213.1; 313.1) wenigstens einen Dämpfungsabschnitt (113.6; 213.6; 313.6) aufweist, der im Bereich der wenigstens einen ersten Resonanzfrequenz schwingungsdämpfend wirkt, wobei die erste Resonanzfrequenz insbesondere 1 Hz bis 2000 Hz, vorzugsweise 50 Hz bis 1500 Hz, weiter vorzugsweise 200 Hz bis 1000 Hz, beträgt, und/oder – das optische Element (109; 209) über eine Stützeinrichtung an der Stützstruktur abgestützt ist und die Anordnung aus dem optischen Element (109; 209) und der Stützeinrichtung wenigstens eine zweite Resonanzfrequenz aufweist und die Kontaktiereinheit (113.1; 213.1; 313.1) wenigstens einen Dämpfungsabschnitt (113.6; 213.6; 313.6) aufweist, der im Bereich der wenigstens einen zweiten Resonanzfrequenz schwingungsdämpfend wirkt, wobei die zweite Resonanzfrequenz insbesondere 1 Hz bis 2000 Hz, vorzugsweise 50 Hz bis 1500 Hz, weiter vorzugsweise 200 Hz bis 1000 Hz, beträgt.
Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei – das optische Element (109; 209) einen Elementkörper (109.2) mit einem Vorsprung (109.3) umfasst, – der Elementkörper (109.2) eine optisch wirksame Fläche (109.1) aufweist und – der Vorsprung (109.3) auf der der optisch wirksamen Fläche (109.1) abgewandten Seite des Elementkörpers (109.2) angeordnet ist, wobei – der zweite Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) an einem dem Elementkörper (109.2) abgewandten Ende des Vorsprungs (109.3) angeordnet ist, – die Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) insbesondere eine Betätigungseinheit (113.4; 213.4; 313.4) aufweist, die in dem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) bewirkt, dass auf den zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) eine Betätigungskraft ausgeübt wird, durch welche der erste Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) und der zweite Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) miteinander in Kontakt gebracht werden, insbesondere miteinander in Kontakt gehalten werden, wobei die Betätigungseinheit (113.4; 213.4; 313.4) insbesondere nach einem elektrostatischen Wirkprinzip arbeitet; – die Stelleinrichtung (111) die Stellkraft insbesondere auf den zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) ausübt, wobei die Stelleinrichtung (111) insbesondere nach einem elektrostatischen Wirkprinzip arbeitet.
Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei – eine aktive Löseeinrichtung (111) vorgesehen ist, welche dazu ausgebildet ist, ein Lösen des Kontakts zwischen dem ersten Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) und dem zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) nach einem Deaktivieren der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) durch eine erste Lösekraft zumindest zu unterstützen, wobei – das optische Element (109; 209) insbesondere über eine Stützeinrichtung (110) an der Stützstruktur (108) abgestützt ist, die im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) derart elastisch deformiert ist, dass sie eine zweite Lösekraft auf das optische Element (109; 209) ausübt, welche das Lösen des Kontakts zwischen dem ersten Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) und dem zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) zumindest unterstützt;. – die Kontaktiereinheit (313.1) insbesondere einen Löseabschnitt (318) aufweist, der im aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (313) derart elastisch deformiert ist, dass er eine dritte Lösekraft auf den ersten Kontaktabschnitt (313.2) ausübt, welche das Lösen des Kontakts zwischen dem ersten Kontaktabschnitt (313.2) und dem zweiten Kontaktabschnitt (209.4) zumindest unterstützt; – die Löseeinrichtung insbesondere dazu ausgebildet ist Vibrationsenergie in das optische Element (109; 209) und/oder die Kontaktiereinheit (113.1; 213.1; 313.1) einzuleiten.
Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei – das optische Element (109; 209) ein Facettenelement, insbesondere ein Facettenspiegelelement, mit einer optisch wirksamen Oberfläche (109.1) ist, wobei – die optisch wirksame Oberfläche (109.1) insbesondere eine Fläche von 0,05 mm² bis 2,0 mm², vorzugsweise 0,15 mm² bis 0,5 mm², weiter vorzugsweise 0,2 mm² bis 0,3 mm², aufweist, und/oder – insbesondere 10.000 bis 1.000.000, vorzugsweise 50.000 bis 600.000, weiter vorzugsweise 200.00 bis 500.000, Facettenelemente (109; 209) vorgesehen sind.
Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung (102) mit einer ersten optischen Elementgruppe (106), – einer Maskeneinrichtung (104) zur Aufnahme einer Maske (104.1) mit einem Projektionsmuster, – einer Projektionseinrichtung (103) mit einer zweiten optischen Elementgruppe (107) und – einer Substrateinrichtung (105) zur Aufnahme eines Substrats (105.1), wobei – die Beleuchtungseinrichtung (102) zur Beleuchtung des Projektionsmusters, insbesondere mit Licht im EUV-Bereich, ausgebildet ist und – die Projektionseinrichtung (103) zur Projektion des Projektionsmusters auf das Substrat (105.1) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass – die Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder die Projektionseinrichtung (103) ein optisches Modul (106.1; 206.1; 306.1) nach einem der Ansprüche 1 bis 10 umfasst.
Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere eines Facettenelements eines Facettenspiegels, bei dem – das optische Element (109; 209) durch eine Stützstruktur (108) abgestützt wird, – eine Position und/oder Orientierung des optischen Elements (109; 209) in wenigstens einem Freiheitsgrad eingestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass – ein erster Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) einer selektiv aktivierbaren Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) in einem aktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) mit einem zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) des optischen Elements (109; 209) in Kontakt gebracht wird, um eine Kontaktkraft auf das optische Element (109; 209) auszuüben, und – der erste Kontaktabschnitt (113.2; 213.2; 313.2) in einem deaktivierten Zustand der Kontaktiereinrichtung (113; 213; 313) von dem zweiten Kontaktabschnitt (109.4; 209.4) entfernt wird.
Optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – eine Beleuchtungseinrichtung (102) ein Projektionsmuster, insbesondere mit Licht im EUV-Bereich, beleuchtet und – eine Projektionseinrichtung (103) das Projektionsmuster auf ein Substrat (105.1) projiziert, dadurch gekennzeichnet, dass – ein optisches Element (109; 209), insbesondere ein Facettenelement eines Facettenspiegels, der Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder der Projektionseinrichtung (103) mit einem Verfahren nach Anspruch 12 abgestützt wird.
Verfahren zum Strukturieren eines Kontaktabschnitts eines optischen Moduls nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei – einer der beiden Kontaktabschnitte (213.2, 209.4; 313.2, 209.4), insbesondere der erste Kontaktabschnitt (213.2; 313.2), als strukturierbarer Kontaktabschnitt ausgebildet ist, der zumindest abschnittsweise ein strukturierbares und nach der Strukturierung verfestigbares Material umfasst, – der andere der beiden Kontaktabschnitte (213.2, 209.4; 313.2, 209.4), insbesondere der zweite Kontaktabschnitt (209.4), als strukturierender Kontaktabschnitt ausgebildet ist, der zumindest abschnittsweise eine zur definierten Strukturierung des strukturierbaren Kontaktabschnitts ausreichende Steifigkeit aufweist, – der strukturierbare Kontaktabschnitt (213.2; 313.2) durch den strukturierenden Kontaktabschnitt (209.4) zur Herstellung der komplementär strukturierten ersten und zweiten Kontaktfläche (213.3, 209.5; 313.3, 209.5) in seinem strukturierbaren Zustand strukturiert wird und nach dieser Strukturierung verfestigt wird.
Verfahren nach Anspruch 14, wobei – das strukturierbare und verfestigbare Material in seinem strukturierbaren Zustand eine gelartige oder wachsartige Konsistenz aufweist und/oder – das strukturierbare und verfestigbare Material in seinem strukturierbaren Zustand insbesondere eine Formstabilität aufweist, welche ausreicht, um nach Einfluss einer Beschleunigung, die wenigstens 100%, vorzugsweise wenigstens 125%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 150%, der Erdbeschleunigung entspricht, eine Formtreue zum strukturierenden Kontaktabschnitt (209.4) von wenigstens 80%, vorzugsweise wenigstens 90%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 100%, zu erhalten und/oder – das strukturierbare und verfestigbare Material insbesondere wenigstens ein Material aus einer Materialgruppe umfasst, die aus einem Photolackmaterial, einem, insbesondere durch UV-Licht aushärtbaren, Mehrkomponentenklebstoff und einem, insbesondere thermisch aushärtbaren, Pulverbeschichtungsmaterial besteht.