JP7022736B2 - 半導体構造と超格子とを用いた高度電子デバイス - Google Patents
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Description
本出願は、2014年5月27日に出願された、「Advanced Electronic Device Structures Using Semiconductor Structures and Superlattices」という名称の、オーストラリア仮特許出願第2014902008号の優先権を主張し、参照により、その全体が本明細書に組み込まれる。
LEDを開発する際の最も大きな制約の1つである。したがって、特に、III-N物質におけるp型特性のための不純物ドーパントの改善に対するニーズがある。
成長軸に沿って、極性結晶構造を有する半導体を成長させることであって、成長軸が、結晶構造の自然分極軸に実質的に平行である、成長させることと、
p型またはn型の伝導性を誘導するために、半導体の組成を、ワイダーバンドギャップ(WBG)物質からナロワーバンドギャップ(NBG)物質に、またはNBG物質からW
BG物質に、成長軸に沿って単調に変えることと、を備える。
好適には、半導体の組成を変えることは、組成内の少なくとも2つの種類の金属原子陽イオンのうちの1つまたは複数のモル分率を、成長軸に沿って変えることを備える。
陽イオン-極性結晶構造を有する半導体を成長させ、半導体の組成を、WBG物質からNBG物質に、成長軸に沿って単調に変えること、または
陰イオン-極性結晶構造を有する半導体を成長させ、半導体の組成を、NBG物質からWBG物質に、成長軸に沿って単調に変えること、によって誘導される。
陽イオン-極性結晶構造を有する半導体を成長させ、半導体の組成を、NBG物質からWBG物質に、成長軸に沿って単調に変えること、または
陰イオン-極性結晶構造を有する半導体を成長させ、半導体の組成を、WBG物質からNBG物質に、成長軸に沿って単調に変えること、によって誘導される。
好適には、半導体の組成は、継続的な方法で、または段階的な方法で、成長軸に沿って変えられる。
適切には、半導体の組成は、以下の、窒化アルミニウムガリウム(AlxGa1-xN)、式中0≦x≦1と、窒化アルミニウムガリウムインジウム(AlxGayIn1-x-yN)、式中0≦x≦1、0≦y≦1、及び0≦(x+y)≦1と、酸化マグネシウム亜鉛(MgxZnx-1O)、式中0≦x≦1と、から選択される。
成長軸に沿って、極性結晶構造を有する超格子を成長させることであって、成長軸が、結晶構造の自然分極軸に実質的に平行である、成長させることと、
p型伝導率またはn型伝導率を誘導するために、超格子の単位格子の平均組成を、ワイダーバンドギャップ(WBG)物質に対応する平均組成からナロワーバンドギャップ(NBG)物質に対応する平均組成に、またはNBG物質に対応する平均組成からWBG物質に対応する平均組成に、成長軸に沿って、単調に変えることと、を備える。
陽イオン-極性結晶構造を有する超格子を成長させ、単位格子の平均組成を、WBG物質に対応する平均組成からNBG物質に対応する平均組成に、成長軸に沿って、単調に変えること、または
陰イオン-極性結晶構造を有する超格子を成長させ、単位格子の平均組成を、NBG物質に対応する平均組成からWBG物質に対応する平均組成に、成長軸に沿って、単調に
変えること、によって誘導される。
陽イオン-極性結晶構造を有する超格子を成長させ、単位格子の平均組成を、NBG物質に対応する平均組成からWBG物質に対応する平均組成に、成長軸に沿って、単調に変えること、または
陰イオン-極性結晶構造を有する超格子を成長させ、単位格子の平均組成を、WBG物質に対応する平均組成からNBG物質に対応する平均組成に、成長軸に沿って、単調に変えること、によって誘導される。
好適には、単位格子の平均組成は、継続的な方法または段階的な方法で、成長軸に沿って、変えられる。
適切には、単位格子の少なくとも2つの異なる層のうちの1つまたは複数の組成物は、以下の、
窒化ガリウム(GaN)と、
窒化アルミニウム(AlN)と、
窒化アルミニウムガリウム(AlxGa1-xN)、式中0≦x≦1と、
窒化ホウ素アルミニウムBxAl1-xN、式中0≦x≦1と、
窒化アルミニウムガリウムインジウム(AlxGayIn1-x-yN)、式中0≦x≦1、0≦y≦1、及び0≦(x+y)≦1と、から選択される。
酸化マグネシウム(MgO)と、
酸化亜鉛(ZnO)と、
酸化マグネシウム亜鉛(MgxZn1-xO)、式中0≦x≦1と、から選択される。
成長軸に沿って、ワイダーバンドギャップ(WBG)n型領域とナロワーバンドギャップ(NBG)p型領域との間に、極性結晶構造を有する半導体構造を成長させることであって、極性結晶構造内では、自然分極軸が成長軸に平行であり、半導体構造が、組成を、WBGn型領域に隣接するワイダーバンドギャップ(WBG)物質から、NBGp型領域に隣接するナロワーバンドギャップ(NBG)物質に、単調に変える半導体を備える、成長させること、
を備える。
成長軸に沿って、ワイダーバンドギャップ(WBG)n型領域とナロワーバンドギャップ(NBG)p型領域との間に、実質的に単結晶半導体から形成された少なくとも2つの異なる層を各々が備える複数の単位格子を備える超格子を成長させることであって、超格子が、極性結晶構造を有し、極性結晶構造内では、自然分極軸が成長軸に平行であり、単位格子が、平均組成を、WBGn型領域に隣接する単位格子内のワイダーバンドギャップ(WBG)物質に対応する平均組成から、NBGp型領域に隣接する単位格子内のナロワーバンドギャップ(NBG)物質に対応する平均組成に、単調に変える、成長させること、を備える。
ED)構造が提供される。
p型超格子領域と、
i型超格子領域と、
n型超格子領域と、
を備える半導体構造が提供され、
p型超格子領域とi型超格子領域とn型超格子領域とのうちの少なくとも1つは、ワイダーバンドギャップ(WBG)物質に対応する平均組成から、ナロワーバンドギャップ(NBG)物質に対応する平均組成への、またはNBG物質に対応する平均組成からWBG物質に対応する平均組成への、平均組成の単調な変化を備え、分極の急激な変化が各領域間の界面において無いようにする。
同一の参照番号が別々の図を通して同一または機能的に類似の要素を指す、添付の図面は、以下の詳細な説明と共に、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を形成し、特許請求される発明を含む概念の実施形態をさらに例示し、それらの実施形態のさまざまな原理と利点とを説明する役割を果たす。
調に変えることによって誘導され得る。代替的に、p型伝導率は、窒素-極性結晶構造または酸素-極性結晶構造などの陰イオン-極性結晶構造を有する半導体を成長させ、半導体の組成を、NBG物質からWBG物質に、成長軸に沿って、単調に変えることによって誘導され得る。
lxGayIn1-x-yN)、式中0≦x≦1、0≦y≦1、及び0≦(x+y)≦1、から形成される。しかしながら、半導体構造または半導体超格子は、他の化合物、たとえば、酸化マグネシウム(MgO)、酸化亜鉛(ZnO)、及び酸化マグネシウム亜鉛(MgxZn1-xO)、式中0≦x≦1、から形成され得る。いくつかの実施形態では、不純物ドーパントも、誘導p型伝導率または誘導n型伝導率を強化するために、半導体の組成内または各単位格子の少なくとも2つの異なる層のうちの1つまたは複数の中に、含まれる。
される通り、図3Bの、WBG物質332、勾配領域342、及びNBG物質352は、図3Aの、WBGエミッタ330と線形グレーディング合金340とNBG接触層350とに対応する。
0、z)におけるゾーンセンター空間的変化(図3H)と、について示している。図3Gは、AlGaNを使用して形成されたp-i-nダイオードを示しているが、圧電電荷及び焦電電荷が零に設定されている場合である。図3Hは、圧電電荷と焦電電荷とを考慮した、比較の結果を示している。分極電荷は、極性デバイスを設計する時には考慮されるべきである、ということを理解することができる。また、バルク状物質について、範囲0.0≦x(z)≦0.8のx(z)による、Alx(z)Ga1-x(z)N内のAl%の変化は、x(z)~0.65で発生するk=0において、最も低いエネルギー価電子帯内にクロスオーバーを有する。x<0.65の値では、物質は、ヘビーホール価電子帯を、支配的な正孔の種類として有し、一方で、x>0.65では、結晶場分裂価電子帯が支配的になる。図3Iは、図3Aのダイオード300の全空間的ゾーンセンターバンド構造を、エピタキシャル成長の2つの対照的な場合、すなわち、成長軸310に対する金属-極性配向または窒素-極性配向について示している。結果は、WBGからNBGへの成長軸に沿った組成遷移が、金属-極性成長ではp型挙動、または窒素-極性成長ではn型挙動を誘導することを示している。
抗金属接点である。
型領域760と、を備える。抵抗金属接点770及び抵抗金属接点772が提供され、光窓780は、LED構造700の上部からの光の伝達を可能にするように提供され得る。バッファ領域730は、代わりに、またはむしろ、転位フィルタ領域であってよい、ということを理解するものである。
Li AlN(z)+Li GaN(z)であるように、厚さLi AlN(z)と厚さLi GaN(z)とを有している。導電帯端とヘビーホール価電子帯端とにおける(つまり、ゾーンセンター波動ベクトルk=0における)急激な空間変調は、AlNとGaNとの各遷移のヘテロ接合において形成された、原子的に急激な界面を示す。原子的に粗い界面は、ポテンシャル井戸を効果的に広げるが、そうでなくても、同様な挙動になる。代替的な実施形態では、各ヘテロ接合での界面の粗さは、同等のAlGaN中間層を使用して、したがって、3層単位格子を形成して説明され得る。
これは、前記単位格子の平均組成が、本明細書で開示する正しいグレーディングに従う限りにおいてである。
とを生成するためのスタック1300を示している。超格子は、やはり、二元ウルツ鉱型GaN層1207とAlN層1209と金属-極性成長とを有する単位格子から作られている。しかしながら、スタック1300は、意図的にドープされていない、追加的なi型SL(i:SL)を備える。i:SLは、n:SL上に形成されている。i:SLは、n:SLが吸収することができるエネルギーよりも著しく小さい光の発光エネルギーを達成するように、特に調整されている(つまり、n:SLの吸収端は、i:SLの発光エネルギーよりも大きいエネルギーを有するように設計されている)。たとえば、n:SLは、1ML GaNと2ML AlNとを、50反復で有する単位格子1310から成る。その後、i:SLは、2ML GaNと4ML AlNとを、25反復で備える単位格子1311を選択することによって、約246nmの発光エネルギーを有するように選択される。しかしながら、より長い周期またはより短い周期を、n:SLの作成とi:SLの作成との両方で使用することができる。
及び金属接点1472と、光窓1480と、を有するLED構造1400を示している。
[n:SL xave1、Λ1]/[i:SL xave2、Λ2]/[p:SL xave3、Λ3]
という形式のLEDスタックの光学特性を調整することが可能であり、
各超格子の有効Al%は、xave1=xave2=xave3=定数であるように、p-n構造を通して一定に保たれ、成長方向(z)から独立している。この場合は、平均合金組成が保たれるため、誘導p型領域または誘導n型領域を作らない。
単位セルを繰り返す超格子の周期、たとえば、(Λ1=Λ3)<Λ2は、xave1=xave2=xave3であるように作られ、したがって、i:SLは、p:SLとn:SLとのうちの少なくとも1つの対応するn=1遷移よりもエネルギーが小さい、n=1電子とヘビーホール価電子帯との間の量子化エネルギー遷移を有する。利点は、超格子単位格子(たとえば、2層AlN/GaNペア)のインプレーン格子定数の効果的な格子整合であり、それは、ひずみの蓄積を軽減し、不整転位による欠陥密度を減少させる。
を示している、図14のLED構造を考える。
wz-III-N領域は、開始テンプレート上に成長させられる。その後、第1極性領域の最終面は、第2極性wz-III-N領域が反対の極性型領域になるように、変更または設計される。複数の分極型領域は、したがって、III-N特徴スラブの各々の極性を効果的に反転させることによって形成され得る。
子エネルギーフィルタとしての役割を果たす。
aN:2ML AlNのp:SL)、i:SL/p:SL界面とp:SL/p型GaN界面とのp型分極ドーピングという結果になり、それにより、価電子帯を、図18Dに示す通り、p:SL領域1840のいずれかの側で、フェルミエネルギー準位の上に固定する。これにより、正孔リザーバが、i:SL/p:SL界面において形成する。図18Cで例示した形態とは異なり、インプレーン格子定数のいくらかの変化が、これらの単位格子間でまだあるが、p:SL領域1840のp型分極ドーピングは、完全に格子整合したp:SL領域1840よりも、より有益になり得る。上記の場合は、p:SLを圧縮の状態で有する。
p:SL領域1840は、チャープ(たとえば、xave=0.5~0.1)されており、i:SL領域1860は、チャープ(たとえば、xave=0.7~0.6)されており、n:SL領域1880は、均一(たとえば、x=0.66)である。図18Gは、n:SL/i:SL界面において意図的に導入された2D分極シート電荷を有し、図18Hは、i:SL/p:SL界面において意図的に導入された2D分極シート電荷を有する。界面のうちの1つまたは複数における小さな組成変化は、シート分極電荷を誘導するために導入されている。たとえば、i:SL領域1860の上部が、0.6の組成を有し、p:SL領域1840の下部が、0.5の組成を有する場合、界面は、p型分極ドープされ、それは、二次元正孔ガス(2DHG)を誘導することができる。同様に、i:SL領域1860の下部が、66%n:SL領域1880上に0.7の組成(つまり、xave=0.66)を有する場合、小さなn型シート電荷が誘導される。このヘビーシートドーピングは、注入効率を改善し、キャリアオーバーシュートを減少させるための、キャリアのリザーバを提供するのに有益であり得る。それは、また、2DHG内における高い横方向移動度による電流の拡散を改善することができる。
でなく、むしろ、その整数、構成要素、またはステップなどのうちの1つまたは複数であり得る。
Claims (18)
- 半導体構造であって、
p型超格子領域と、
i型超格子領域と、
n型超格子領域とを備え、
分極の急激な変化が各領域間の界面において無く、
前記p型超格子領域と前記i型超格子領域と前記n型超格子領域とのうちの少なくとも1つが、第1のワイダーバンドギャップ(WBG)物質に対応する第1の平均組成から第1のナロワーバンドギャップ(NBG)物質に対応する第2の平均組成への、または、第2のNBG物質に対応する第3の平均組成から第2のWBG物質に対応する第4の平均組成への、成長軸に沿う平均組成の単調変化を示す複数の単位セルを含み、
前記複数の単位セルのうちの各単位セルは、少なくとも、第1の異なる層と第2の異なる層とを含み、
前記第1の異なる層は第1の実質的に単結晶半導体を含み、
前記第2の異なる層は第2の実質的に単結晶半導体を含み、
前記第1および第2の実質的に単結晶半導体は極性結晶構造を含み、前記半導体構造の成長軸は前記極性結晶構造の自然分極軸に実質的に平行である、半導体構造。 - 前記p型超格子領域は、
陽イオン-極性結晶構造を含み、前記p型超格子領域において、前記単位セルの平均組成の単調変化は、前記成長軸に沿って前記第1の平均組成から前記第2の平均組成に単調に変化する、または、
陰イオン-極性結晶構造を含み、前記p型超格子領域において、前記単位セルの平均組成の単調変化は、前記成長軸に沿って前記第3の平均組成から前記第4の平均組成に単調に変化する、請求項1に記載の半導体構造。 - 前記陰イオン-極性結晶構造は窒素-極性結晶構造または酸素-極性結晶構造であり、
前記陽イオン-極性結晶構造は金属-極性結晶構造である、請求項2に記載の半導体構造。 - 前記n型超格子領域は、
陽イオン-極性結晶構造を含み、前記n型超格子領域において、前記単位セルの平均組成の単調変化は、前記成長軸に沿って前記第3の平均組成から前記第4の平均組成に単調に変化する、または、
陰イオン-極性結晶構造を含み、前記n型超格子領域において、前記単位セルの平均組成の単調変化は、前記成長軸に沿って前記第1の平均組成から前記第2の平均組成に単調に変化する、請求項1に記載の半導体構造。 - 前記陽イオン-極性結晶構造は金属-極性結晶構造であり、
前記陰イオン-極性結晶構造は窒素-極性結晶構造または酸素-極性結晶構造である、請求項4に記載の半導体構造。 - 前記単位セルの平均組成の単調変化は、前記成長軸に沿う段階的な変化を含む、請求項1に記載の半導体構造。
- 前記平均組成の単調変化を示す前記複数の単位セルの厚さは前記成長軸に沿って一定である、請求項1に記載の半導体構造。
- 前記p型超格子領域は前記i型超格子領域に隣接し、
前記i型超格子領域は前記n型超格子領域に隣接する、請求項1に記載の半導体構造。 - 前記単位セルの平均組成は、前記第1の異なる層の厚さ、前記第2の異なる層の厚さ、または前記第1および第2の異なる層双方の厚さを変化させることによって変化する、請求項1に記載の半導体構造。
- 前記第1もしくは第2の異なる層の、または、前記第1および第2の異なる層の組成は、
窒化ガリウム(GaN)、
窒化アルミニウム(AlN)、
窒化アルミニウムガリウム(AlxGa1-xN)、式中0≦x≦1、
窒化ホウ素アルミニウムBxAl1-xN、式中0≦x≦1、および
窒化アルミニウムガリウムインジウム(AlxGayIn1-x-yN)、式中0≦x≦1、0≦y≦1、および0≦(x+y)≦1、
から選択される、請求項1に記載の半導体構造。 - 前記第1もしくは第2の異なる層の、または、前記第1および第2の異なる層の組成は、
酸化マグネシウム(MgO)、
酸化亜鉛(ZnO)、および
酸化マグネシウム亜鉛(MgxZn1-xO)、式中0≦x≦1、
から選択される、請求項1に記載の半導体構造。 - 前記第1および第2の異なる層は各々、各層内の電荷キャリアのド・ブロイ波長未満の厚さを有する、請求項1に記載の半導体構造。
- 前記第1および第2の異なる層は各々、弾性ひずみを維持するために必要な限界層厚以下の厚さを有する、請求項1に記載の半導体構造。
- 前記第1もしくは第2の異なる層、または、前記第1および第2の異なる層は各々、不純物ドーパントを含む、請求項1に記載の半導体構造。
- 前記p型超格子領域に隣接するp型GaN領域をさらに備える、請求項1に記載の半導体構造。
- 基板と、
前記基板に隣接するバッファまたは転位フィルタ領域とをさらに備え、
前記p型超格子領域または前記n型超格子領域は、前記バッファまたは転位フィルタ領域に隣接し、
前記i型超格子領域は、前記p型超格子領域と前記n型超格子領域との間にある、請求項1に記載の半導体構造。 - 前記基板は、サファイア(Al2O3)基板、窒化アルミニウム(AlN)基板、シリコン基板、または窒化ガリウム(GaN)基板である、請求項16に記載の半導体構造。
- 請求項1に記載の半導体構造を備える発光ダイオード(LED)であって、光は、前記i型超格子領域から放出され、前記LEDから放出される前に前記n型超格子領域または前記p型超格子領域を通る、発光ダイオード(LED)。
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