JP5889288B2 - 一体型吸着器ヘッド及び弁設計及びこれと関連したスイング吸着法 - Google Patents

一体型吸着器ヘッド及び弁設計及びこれと関連したスイング吸着法 Download PDF

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Description

本発明は、構造上、吸着器ヘッドと関連した弁を有し、弁と吸着床との間の死空間を最小限に抑えると共に耐久性のある弁構造体を提供する吸着器に関する。本発明は又、広義には、かかる吸着器を用いる方法に関する。
〔関連出願の説明〕
本願は、2011年3月1日に出願された米国特許仮出願第61/448,160号(発明の名称:INTEGRATED ADSORBER HEAD AND VALVE DESIGN AND SWING ADSORPTION METHODS RELATED THERETO)、2010年5月28日に出願された米国特許仮出願第61/349,464号(発明の名称:REACTOR WITH REACTOR HEAD AND INTEGRATED VALVE)及び2011年5月6日に出願された国際出願PCT/US2011/035553号(発明の名称:REACTOR WITH REACTOR HEAD AND INTEGRATED VALVE)の権益主張出願であり、これら米国特許仮出願及び国際出願を参照により引用し、これらの記載内容全体を本明細書の一部とする。
当該技術分野において逆流反応器(RFR)及び吸着ユニットが知られている。典型的なRFRとして、例えば、ウルフ熱分解(Wulff pyrolysis )及び再生反応器及び再生熱酸化剤(RTO)を含む他の再生反応器が挙げられる。これら反応器は、典型的には、中期的バッチ生成高温化学作用を実施するために用いられる。再生反応器サイクルは、対称(両方向において同一の化学作用又は反応)か非対称(化学作用又は反応がサイクル中、ステップごとに変化する)かのいずれかである。対称サイクルは、典型的には、比較的穏やかな発熱化学作用に用いられ、例は、再生熱酸化(RTO)及びオートサーマル改質(ATR)である。非対称サイクルは、典型的には、吸熱化学作用の実施のために用いられ、所望の吸熱化学作用は、発熱性(典型的には、燃焼)である別の化学作用と対をなし、それにより吸熱反応のための反応熱が提供される。非対称サイクルの例は、ウルフ熱分解法及び圧力スイング吸着法(PSR)である。
例えば、RFRの一特徴は、気体時空間速度であり、これは、所与の反応器容積当たりの気体の空間速度である。典型的には、高い気体時空間速度(及びそれ故に反応器生産性)は、短い反応器サイクル時間を有し、低い気体時空間速度は、長い反応サイクル時間を有する。RFRを用いた熱分解法の場合、好ましい生成物への変換を容易にする短い滞留時間を達成するには高い速度が必要である。第2の特徴は、1つのサイクルの終わりにおけるRFR内に残存する気体の体積(ボイド容積)は、次のサイクルの開始前に管理された、例えばスイープアウトされ又は払い出される必要があり、かかるガス体積管理の結果として、効率が悪くなると共にコストが追加される場合があるということにある。第3の特徴は、迅速な熱伝達をもたらす(急峻な熱勾配を得ると共に結果としての高い効率を得るため)のに必要な床構造(充填)も又その結果として、高い圧力降下が生じるということにある。かくして、RFR設計は、システムを正しく管理するために空間速度、ボイド容積及び充填特性を考慮すべきである。したがって、従来型RFRにおける或る特定の欠点、例えば従来の充填の特性並びに長いサイクル時間は、これら反応器がエネルギー及び石油化学分野において広く用いられるのを妨げている。
RFRは、歴史的に、床構造体中に異なる充填材料を用いている。典型的には、これら逆流反応器は、チェッカー煉瓦、ペブルベッド又は他の利用可能な充填材を利用している。この種の床構造体は、典型的には、小さい幾何学的表面積(av)を有し、これは、反応器の単位長さ当たりの圧力降下を最小限に抑えるが、体積熱伝達率を減少させる。非対称逆流反応器の基本的な原理の1つは、熱を一ステップで蓄え、次のステップでこの熱を用いて所望の吸熱化学作用を達成することである。かくして、反応器の単位容積当たりに達成できる所望の化学作用の量は、体積熱伝達率に直接関連している。それにより、熱伝達率を低くするには、同一の所望の化学生産量を達成するには反応器容積を大きくする必要がある。低い熱伝達率は、RFR流から熱を捕捉し、それにより顕熱損失が大きくなり、その結果効率が低くなるので不適切な場合がある。また、低い熱伝達率により、サイクル時間が長くなる場合がある。というのは、蓄熱がゆっくりと用いられ、従って、所与の床温度仕様の場合に長く続くからである。低いavチェッカー煉瓦又はペブルベッド充填材を用いる歴史的なRFRは、大型であり(例えば、長大であり且つ資本集約度が高い)、2分以上のサイクル時間を有する。したがって、これら反応器は、反応器効率を制限すると共に実用的な反応器サイズを制限する。
改良例として、RFRの中には、床構造体内に工学的充填材を利用するものがある。工学的充填材は、特定の形態、例えばハニカム、セラミックフォーム等の状態で提供される材料を含む場合がある。これら工学的充填材は、他の床構造体と比較して高い幾何学的表面積(av)を有する。この種の充填材の使用により、高い気体時空間速度、高い体積反応器生産性、高い熱効率及び小型のより経済的な反応器が得られる。しかしながら、これら経済的な反応器は、熱を迅速に用い、かくして、減少したサイクル時間を必要とする場合がある。圧力スイング改質法(PSR)は、かかる好ましいRFRの一例である。
さらに、この種の充填材の使用の結果として、反応器のサイズを減少させることができ、それにより資本経費の著しい節約が得られる。しかしながら、反応器の充填材を調節すると、他の動作上の特徴に影響が生じる。例えば、体積表面積(av)の増大は、典型的には、流れチャネルを細くすることによって達成され、その結果、反応器の単位長さ当たりの圧力降下が高くなる。これを補償するため、これら新型RFRは、短い長さを有するよう構成されている。大型石油化学用途に利用する場合、高い生産性の実現を可能にするためには直径が大きくされるが、圧力降下によって長さが制限され、かくして、単位長さ当たりの直径(D/L)に関して高い比が生じる。従来設計の反応器は、典型的には、床から出た流体を集め、そして流体を或る外部弁まで管で送る。かかる管の容積は、反応器直径と幾分かの比例関係をなす。というのは、管は、反応器直径全体からガスを集める必要があるからである。かくして、高いD/L比を持つ従来型反応器の場合、管の容積は、床内部の容積と比較して極めて大きい場合がある。かくして、新型RFRのために従来設計の反応器を用いると、その結果として、ボイド容積(主として、管内のボイド容積)が大きくなり、それによりガス体積管理に関して問題が生じる。
残念ながら、従来型反応器弁システムは、新型の生産性の高い反応器(例えば、短いサイクル時間を利用したコンパクトな反応器)については正しく動作しない或る特定の欠点を持っている。例えば、従来型反応器弁システムは、典型的には、RFRの耐久性要件を満たしておらず、従って、短いサイクル時間を取り扱うことができない場合がある。石油化学用弁は、500,000サイクルのオーダの最大サイクル寿命を有する場合があり、これは、1年未満の作動に対応しており、従って、迅速なサイクル時間を必要とする石油化学用には不適切である。加うるに、従来型弁は、反応器の外部に配置され、これら従来型弁は、床と弁との間でガスを運搬するマニホルド方式を用いており、他方、床を横切って一様な流れ分布状態を提供する。RFRの床が広く且つ短い場合、このマニホルド方式は、サイクル変化ごとに管理しなければならない多大なガス体積を保持する。
上述の反応器と従来型吸着ユニットとの間には幾分かの類似性が存在するが、吸着ユニットの設計基準は、反応器設計基準とは異なる場合が多い。吸着ユニットでは、化学反応が存在する場合があれば存在しない場合もある。多くの吸着プロセスは、化学反応を伴わない物理的プロセスを利用している。さらに、吸着速度は、化学反応速度とは同等でない場合が多い。
したがって、弁と吸着床との間の死空間を最小限に抑える一方で、吸着器入口及び出口のところでの厳しい高温条件において数百万サイクルまでの弁寿命を延長させることができる吸着器を提供することが望ましい。さらに、サイクル時間を向上させると共にサイクル相互間の流体のパージを管理する弁を有する工業規模の吸着器を実現する新型の方法及び装置が要望されている。本発明は、上述の欠点のうちの1つ又は2つ以上を解決する方法及び装置を提供する。
吸着器であって、a)吸着器本体と、b)吸着器本体に係合した第1のヘッドと、c)ヘッドの外部からヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、d)第1の導管と流れ連通状態にあり、第1の弁から吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御する第1の弁とを有することを特徴とする吸着器が提供される。本発明の目的に関し、「流路」という用語は、開放流路を含む流体を通す全容積として特徴付けることができる。本発明の目的に関し、「ヘッド」は、皿形ヘッドであるのが良く、このことは、この内部形状が実質的に凹状であることを意味し、例えば、ヘッドは、実質的に丸形、実質的に楕円形、実質的に皿形球形(torispherical)又は実質的に半球形であるのが良い。
また、吸着器であって、a)2つの実質的に互いに反対側に位置する開口端を有する吸着領域を部分的に包囲した吸着器本体を有し、b)吸着器本体の一端を覆っている第1のヘッドを有し、c)吸着器本体の反対側の端を覆っている第2のヘッドを有し、d)第1のヘッドの近位側に位置する領域、第2のヘッドの近位側に位置する領域及び第1のヘッドと第2のヘッドとの間に位置する中央領域を有する固定床を有し、固定床は、吸着器本体内に設けられていて、ガス流の1つ又は2つ以上の成分の吸着を促進することができる固体材料から成り、e)第1のヘッドと関連していて、第1のヘッドを貫通して吸着器本体中への経路を開く少なくとも1つのガス流入口及び第2のヘッドと関連していて、吸着器本体から第2のヘッド中への経路を開く少なくとも1つのガス流出口を有し、f)入口と関連したヘッドと一体化されていて、ガス流入口を制御する少なくとも1つの入口ポペット弁を有し、入口ポペット弁は、直線的に作動可能な弁棒を有し、g)入口と関連したヘッドと一体化されていて、ガス流出口を制御する少なくとも1つの出口ポペット弁を有し、出口ポペット弁は、直線的に作動可能な弁棒を有し、h)上記f)及び/又はg)の直線的に作動可能な弁棒と係合可能な少なくとも1つのアクチュエータを有し、アクチュエータは、直線運動をポペット弁に与えてガスが吸着器の外部から吸着器本体の内部に流れたり吸着器本体の内部から吸着器の外部に流れたりして変更可能な流れ操作をもたらすことによって弁の開閉を行うことを特徴とする吸着器が提供される。
さらに、2つの実質的に互いに反対側の開口端を有する吸着領域を部分的に包囲した吸着器本体を有する逆流吸着器内で少なくとも2つの流れの迅速な流れ切り替えを行う方法が提供され、第1のヘッドが吸着器本体の一端を覆い、第2のヘッドが吸着器本体の反対側の端を覆い、吸着器本体内に設けられた固定床がガス流の吸着を促進することができる固体材料から成る。この方法は、i)1つ又は2つ以上の入口ガス源から少なくとも1つの第1のガス流を第1のヘッドを通って第1のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流入口まで導入し、そして吸着器本体に導入し、処理された第1のガス流を吸着器本体から取り出し、第2のヘッドを通って第2のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流出口に至らせるステップを有し、導入及び取り出しは、それぞれ、第1のヘッド内に設けられた少なくとも1つの吸気ポペット弁及び第2のヘッド内に設けられた少なくとも1つの排気ポペット弁により制御され、ii)1つ又は2つ以上の入口ガス源から少なくとも1つの第2のガス流を第2のヘッドを通って第2のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流入口まで導入し、そして吸着器本体に導入し、処理された第2のガス流を吸着器本体から取り出し、第1のヘッドを通って第1のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流出口に至らせるステップを有し、導入及び取り出しは、それぞれ、第2のヘッド内に設けられた少なくとも1つの吸気ポペット弁及び第1のヘッド内に設けられた少なくとも1つの排気ポペット弁により制御される。
1つ又は2つ以上の実施形態では、弁の開放及び流れの再分布を可能にする吸着床の頂部のところの空間は、死空間である。死空間は、好ましくは、高い生成物回収率を得るためにスイング吸着法でスイープされる。例えば、有益な死空間は、各端のところでの容器の真っ直ぐな側部の約0.5〜2.0%である。床中の均一な流れ分布状態が吸着器を経済的にするのに十分な能力を提供する上で好ましい。好ましくは、0.5〜2.0%の変動係数がチャネルの流量について提供される。
本発明の実施形態としての単一ヘッド及び関連の弁組立体を備えた非対称吸着器の略図である。 本発明の実施形態としての互いに反対側の扁平なヘッド及び関連弁組立体を備えた非対称吸着器の略図である。 本発明の実施形態としての吸着器に用いられる扁平な吸着器ヘッドと関連した弁組立体及びマニホルドの略図である。 本発明の実施形態に従って非対称逆流吸着器の皿形楕円形ヘッド内に組み込まれた弁組立体及びマニホルドの略図である。 例示のポペット弁を示す図(A,B)である。 例示のポペット弁を示す図である。 例示のポペット弁を示す図である。 例示のポペット弁及び吸着床を示す図である。 例示のポペット弁を示す図である。
弁と吸着床との間に減少した開放流路容積部を有する吸着器システムが提供され、高温条件下においても弁寿命の延長が弁を吸着器ヘッド内に実質的に組み込んだ吸着器構成又は設計によって達成できる。かかる設計により、圧力降下を最小限に抑えると共に死空間を少なくした状態で且つ流れ分布状態を実質的に一様にした状態で全体として多くの流量の導入及び除去を可能にすることができる。本発明の目的のため、開放流路容積は、吸着床の外部に位置していて、弁と吸着床との間の流路に沿うガスの処理に影響を及ぼす容積に一致する。この開放流路容積は、吸着器内のガスの処理への寄与の度合いはほんの僅かであるが、一ステップのガスを逆のステップの生成物流で受け入れるか或いは互いに逆の流れ方向相互間でこのガスを吸着器からスイープアウトする手段及び/又は流体を提供するかのいずれかによって吸着器の作動サイクル中の流れ方向の逆転ごとに管理されるべき多量のガスを保持することができる。本発明の吸着器の設計は、典型的には、弁により制御される開放度を変更するディスク要素及び作動手段が各プロセス流について作動手段を各プロセス流について作動させることができる弁棒要素を有する1つ又は2つ以上の弁、例えばポペット弁を用いている。理解できるように、ポペット弁は、ディスク要素と本質的に同じ機能を実行する他の要素を有するのが良く、例えば、他の幾何学的形状(例えば、楕円形又は半球形)又は特定の形態に応じて種々の輪郭形状を有することができる。弁の各々は、実質的に吸着器ヘッド内に設けられるのが良い。供給物及び生成物を弁に供給したりこれから運び出したりするために弁の外部にマニホルド方式を備えた大径ヘッドに多数の弁を用いるのが良い。
逆流吸着器及び再生熱交換器は、典型的には、通過するガスに対して何らかの処理を行う。流れが逆になると、入口の近くの領域は、出口の近くの領域になり、一ステップに関する入口条件に典型的なガス組成及び条件は、次のステップの出口条件に突然近似し、それどころかガスが出口中に流入する。非対称逆流吸着器の場合、交互のステップ内のガスは、極めて異なる場合がある。一ステップ中の不純物は、次のステップにとっては不適切な場合がある。例えば、水蒸気改質では、再生水蒸気は、大部分が、窒素で構成されている場合があり、改質流は、大部分が水素で構成されている場合があり、再生からの残留酸素は、改質生成水素中の汚染要因物として問題になる場合がある。この汚染の問題の程度は、本発明では、ステップの終わりに吸着器内に残っているガスの量を最小限に抑える吸着器を提供することによって最小限に抑えられる。ガスのキャリーオーバの程度又は影響を軽減するために追加のステップが取られる場合がある。吸着器は、問題になる成分をなくすために一ステップの終わりでパージされるのが良い。上述の例としての水蒸気改質では、不活性ガスを吸着器中に導入して残留酸素をスイープアウトし、その後水素製造を開始するのが良い。パージ用ガスを本明細書において説明する追加の組をなすポペット弁の使用により導入しても良く又は従来型手段、例えばヘッドを貫通していて、ヘッドの外部に設けられた従来型のプロセス弁及びマニホルドを備えた導管を介して導入しても良い。本明細書で説明するように床速度の高い一様性を達成することは、吸着流の場合よりもパージ流の場合の方が重要度が低いことがある。というのは、これらパージ用流を処理できる見込みが低いからである。変形例として、サイクル動作に起因して生じる汚染要因物について吸着後処理において堆積が行われる場合がある。例えば、水蒸気改質ステップ後に吸着器内に残っている炭化水素を残存する燃料を燃え尽きさせる煙道ガス中の触媒コンバータによって燃焼生成汚染要因物として管理される場合がある。吸着後処理の規模及び/又はパージ要件の規模は、本明細書において開示する吸着器の使用によって最小限に抑えられ、かかる吸着器は、吸着器内に存在する不必要なガスを最小限に抑える。
1つ又は2つ以上の実施形態では、吸着器は、a)吸着器本体と、b)吸着器本体に係合した第1のヘッドと、c)ヘッドの外部からヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、d)第1の導管と流れ連通状態にあり、第1の弁から吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御する第1の弁とを有する。或る特定の実施形態では、「導管」という用語は、吸着器本体の外部の場所からヘッドの少なくとも一部分又はヘッドと関連した弁座を通って吸着器本体に向かう流体流れの経路を提供することができる吸着器の部分を意味している。幾つかの実施形態では、導管は、ヘッドを完全に貫通して吸着器本体中に延びる。或る特定の実施形態では、導管は、吸着器本体の外部から吸着器本体に向かう流体流れを案内するマニホルド又は吸着器の他の部分を有するのが良い。本発明の目的に関し、「流路」という用語は、ガス及び/又は生成物流を供給する吸着器内の空間として特徴付けられるのが良い。流路の容積は、代表的には、i)吸着床の固体‐流体接触部分内の充填流路容積(以下に更に特徴付けられる)と、ii)弁と吸着床との間の開放流路容積(以下に更に特徴付けられる)とから成り、更に吸着床内の任意の開放流れ部分を含む。典型的には、生成物流体は、制御入口弁を通って吸着器中に流入し、そして制御出口弁を通って吸着器から流出する。流体が入口弁と出口弁との間を横切るとき、流体は、吸着器内容物と実質的に接触する領域(充填流路容積部と呼ばれる)及び吸着床内容物とほとんど接触しない領域(開放流路容積部と呼ばれる)を通る。流動中の流体が入口弁から出口弁に至るときに流動中の流体に接近可能な吸着器容積部内の経路の全体が本明細書では流体「流路」と考えられており、かかる流体流路は、充填吸着器容積部と開放吸着器容積部の両方を含む。代表的には、これら2つの容積を合わせると、流路の互いに反対側に位置していて、流路に沿う流体流れを制御している弁相互間に位置する流体に利用可能な全吸着器容積となる。好都合には、かかる容積は、弁が閉鎖位置にある状態で測定されて計算される。吸着器容器の周囲のところの断熱材の体積は、代表的には、いずれの流路容積の一部ともみなされない。というのは、実質的な流れが断熱材を通って流れるとは予想されていないからである。固体が流体流路の適度に近くに位置している限り、好ましくは、流体流路から2センチメートル(cm)未満の距離のところに位置している限り、吸着器コンポーネント内の固体及びボイド空間を含むよう容積をバルクに基づいてコンピュータ計算する。
幾つかの実施形態では、吸着器は、e)吸着器本体に係合した第2のヘッド、f)第1のヘッド又は第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第2の導管及びg)第2の導管と流れ連通状態にある第2の弁のうち少なくとも1つを更に有し、第2の弁は、吸着器本体から第2の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する。
幾つかの実施例では、第1の弁は、流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置を有し、流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置を有する。吸着器は、流路の少なくとも一部分の互いに反対側に設けられた第1の弁対を有するのが良く、第1の弁及び第2の弁は各々、流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にあり、流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にある。
幾つかの実施形態では、吸着器は、h)第1のヘッド又は第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第3の導管を更に有し、i)第3の導管と流れ連通状態にある第3の弁を更に有し、第3の弁は、吸着器本体から第3の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御し、j)第1のヘッド又は第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第4の導管を更に有し、k)第2の導管と流れ連通状態にある第4の弁を更に有し、第4の弁は、吸着器本体から第4の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する。吸着器は、流路の少なくとも一部分の互いに反対側に設けられていて第2の逆の流れ方向における流れを制御する第3の弁及び第4の弁を含む第2の弁対を有するのが良く、第3の弁及び第4の弁は各々、流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にあり、流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にある。
或る特定の実施形態では、吸着器は、対称である再生吸着器サイクルで、即ち、両方向に同一の吸着反応速度で動作することができる再生吸着器である。
他の実施形態では、吸着器は、非対称である再生サイクルで動作することができる再生吸着器、即ち、吸着反応速度がサイクル中の各ステップ又は流れ方向に応じて変化する非対称逆流吸着器である。いずれの場合においても、非対称逆流吸着器では、組み合わせ前方流(前方流れ)と組み合わせ逆流が組成に関して異なることが必要である。
他の実施形態では、吸着器は、1つ又は2つ以上の追加の弁を有し、各弁は、追加の導管のそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通して延びる追加の導管を介して第1、第2、第3又は第4の導管のうちの1つと流れ連通状態にあり、追加の導管と流体連通状態にある任意他の導管と同相で動作し、吸着器本体からそれぞれの弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する。これらの実施形態では、「〜と流れ連通状態にある」又は「〜と流体連通状態にある」という表現は、直接的な流れ連通状態にあることを意味しており、即ち、流れを妨げる介在する弁又は他のクロージャ手段が設けられていないことを意味し、かかる表現は又、ヘッド又は取り付け状態のマニホルド内で流体連通状態にあることを意味し、即ち、吸着器流路によって流体連通状態になっているわけではないことを意味している。かかる実施形態は、流体を関連のある弁に運ぶ追加の導管がそのヘッド内に完全に収納された実施形態を含む。例えば、導管は、ヘッドの外部から(一次導管として)入り、そして1本又は2本以上の「追加の導管」(又は二次導管)に枝分かれし、これら追加の導管は、これら導管から弁を通って、吸着器本体中に差し向けられた流路までの流れを制御する互いに異なる弁まで延びている。同一の流路は、前方方向と逆方向の両方において流れによって利用でき、方向は、吸着器内のどの弁が開き、どの弁が閉じられているかに応じる。本発明の目的に関し、「追加の導管」は、特定の吸着器設計に応じて、一次導管である場合があれば二次導管である場合もある。かくして、幾つかの実施形態では、2つの隣り合う弁(代表的には、同一のヘッド内に設けられている)は、同一のガス流を運び、同相で動作する。
ここで用いられており、又本明細書全体を通じてどこか他の場所で用いられている「同相で動作する」という表現は、実質的に一緒に、即ち、少なくとも80%のオーバーラップ状態で、例えば少なくとも90%のオーバーラップ状態で(100%のオーバーラップ状態は、同一又は完全に同相である)開閉する2つ若しくは3つ以上の入口弁又は2つ若しくは3つ以上の出口弁に関する。例えば、弁が或る特定の状態、即ち開き状態又は閉じ状態にある時間間隔について考察すると、かかる時間間隔の少なくとも80%、例えば少なくとも90%は、「同相」にある全ての弁に共通である。他の実施形態では、弁の位相調整に関する公差は、弁変化相互間の時間が少ないことを許容するために厳しい。かかる実施形態では、弁が状態を変化させ、即ち開閉する時間間隔を考察すると、かかる時間間隔の少なくとも80%、好ましくは少なくとも90%が「同相」にある弁全てに共通である。本発明の或る特定の実施形態では、同相にある弁は、開放から閉鎖に移行し始める時間の範囲を有するのが良い。一例として、第1の弁は、時刻0での開放を始め、同じ相の状態にある最終の弁は、将来の或る時点t0での開放を始める場合があり(典型的には、弁開放時間又は幾つかの実施形態では弁開放中の時間のほんの何分の一か)、更に、同一の流体流れ組成及び方向を有する。同相にある弁は、同一のリフト高さまで開いても良く又はそうでなくても良い。同相にある弁に関し、最も高いリフト高さにある弁から最も低いリフト高さにある弁までの高さに関し、最も低いリフト高さは、リフト高さの最も高い弁のリフト高さの20%以上又はそれどころか50%以上であるのが良い。
第1の導管は、ヘッドの上側外面を突き通すのが良く、「追加の導管」は、ヘッド内に完全に収納されるのが良く、但し、追加の導管の関連の弁の作動機構体は、幾つかの実施形態では、この弁が納まっているヘッドを突き通すのが良い。変形例として、この関連の弁は、一次導管の関連の弁を作動させるのと同一の機構体によって作動されるのが良い。動作中、吸着器のこれら実施形態は、代表的には、前方流れ入口(又は吸気部)、前方流れ出口(又は排気部)、逆流入口(又は吸気部)及び逆流出口(又は排気部)のための4本の基本的な主要導管を有し、少なくとも1つの弁が各導管と関連している。幾つかの実施形態では、2つ以上の弁が基本導管のうちの少なくとも1つと関連しているのが良い。追加の弁は、これが関連している導管の容量を増大させる。代表的には、特定の一次導管又はその関連の二次導管と関連した弁を実質的に同相で一緒に作動させて特定の流路に沿う一方向の流れを生じさせる。吸着器の或る特定の実施形態は、二次導管が存在しない状態でヘッドの外部に延びる一次導管だけを利用する。これにより、吸着器の外部から接近可能な関連の弁の点検整備の容易性を向上させる。
吸着器の或る特定の実施形態では、吸着器本体は、吸着床を有し、流路の容積は、i)吸着床の固体‐流体接触部分内の充填流路容積と、ii)弁と吸着床との間の開放流路容積とから成り、更に吸着床内の任意の開放流れ部分を含む。代表的には、充填流路容積は、個体‐流体接触面から2cm未満の距離、好ましくは個体‐流体接触面から1cm未満の距離のところに位置する吸着床内の容積部から成る。このように定義した場合、充填流路容積は、流路に沿う個体体積と流体体積の両方を含む。代表的には、充填流路容積は、床充填材を収容していて、流体を流通させる吸着床の領域の嵩容積を表している。吸着床の固体‐流体接触部分は、吸着床の上述の部分の全ての領域に0.5cm2/cm3を超える濡れ面積を有する。本明細書において用いる「濡れ面積」という用語は、単位体積内の流体/固体境界部の面積を単位体積で除算して得られる値を表している。本明細書において用いる「濡れ」という用語は、流体と固体との間のインターフェースを意味するに過ぎず、特定の流体、例えば水との接触を意味するものではない。濡れ面積は、当該技術分野においては、充填材表面積、場合によっては幾何学的表面積とも呼ばれており、かかる濡れ面積は、当該技術分野においては、床を通るバルク流れに関連したチャネル内の流体/固体境界部を含むものと理解される。したがって、濡れ領域は、代表的には、充填材又はチャネル壁内に存在している場合のあるミクロ細孔内に面積を含むことはない。幾つかの実施形態では、開放流路容積と充填流路容積の比は、1未満、好ましくは0.5未満である。充填流路容積は、代表的には、流体が吸着器本体を通って流れるときに固体‐流体接触が起こる流路中の容積を計算することによって測定される。開放流路容積は、吸着器本体の流路中の容積の残部を構成し、かかる開放流路容積は、吸着床の上下に位置する吸着器本体内の空間だけでなく固体‐流体接触が起こらない吸着床内の領域、例えば、流路に沿って流れている流体との密な固体接触を提供する表面のない吸着床内の混合ゾーン又は任意他のゾーンを含むのが良い。便宜上、開放流路容積は、代表的には、全ての弁がこれらの閉鎖位置にある状態でコンピュータ計算される。
幾つかの実施形態では、吸着床は、熱交換を行うことができる固体材料から成る固定床コアを有する。かかる固体材料は、吸着器内の物理的及び化学的条件に対して耐久性があるように選択され、かかる固体材料は、意図した吸着プロセスに応じて金属、セラミックその他を含む場合がある。或る特定の実施形態では、弁のうちの少なくとも1つは、弁棒要素に連結されたディスク要素を有するポペット弁である。ポペット弁ディスク要素は、代表的には、内燃エンジンで遭遇する近位吸着床表面に類似した近位吸着床表面に向いた表面を有する。ディスク要素の表面は、実質的に丸形の開口部内に嵌まり込むことができるよう実質的に丸形であるのが良い。本発明の目的に関し、「実質的に丸形」という表現は、楕円形状、例えば、或る特定の構成のエンジンで見受けられる楕円形を含むのが良い。この表面は、平坦であっても良く又は異形であっても良い。或る特定の実施形態では、ポペット弁ディスク要素は、これが動作する開口部に対して内方又は外方に異形に作られても良い。
幾つかの実施形態では、ポペット弁の表面は、近位吸着器表面に実質的に平行である。本発明に適した他の弁は、当業者に知られており、かかる弁としては、回転弁、スリーブ弁、滑り弁、プランジャ弁及び蝶弁が挙げられる。これら弁は、例えば吸着器内の特定の弁場所に関して遭遇する条件、例えば温度、圧力、吸着器保守スケジュールに耐えることができる適当な材料で作られる。極端に高い温度条件の場合、セラミックが用いられ、この温度よりも低い大抵の用途については金属性の弁が適している。吸着器設計に応じて、ポペット弁は、吸着床に向かって開き又は吸着床から遠ざかる方向に開く。ポペット弁が吸着床に向かって開く或る特定の実施形態は、管及び/又はヘッド設計内の流れ及び圧力降下を管理しやすいので好ましい場合がある。ポペット弁が吸着床から遠ざかる方向に開く或る特定の実施形態は、2つの理由で好ましい場合がある。第1に、過剰に加圧された吸着器内の圧力を逃がすため、例えば、圧力は、付勢クロージャばねにより生じる力に打ち勝つのに十分である。これは、別個の圧力逃がし弁の必要性をなくすことができ、しかも、吸着器が迅速な圧力上昇の影響を受けやすい場合に有用なことがある。さらに、かかる実施形態は、ポペット弁が吸着床に向かって開く実施形態よりも吸着器内に生じさせる死空間が少ない。かかる実施形態では、結果的に生じる互いに異なるフローパターンを制御するためには流れディストリビュータが有用であり、この流れディストリビュータは、吸着器内の追加の死空間を満たす。
或る特定の他の実施形態では、弁と床表面との間にガスディストリビュータ機構体が設けられるのが良い。一例としてのガスディストリビュータ機構体が米国特許出願公開第2007/0144940号明細書に記載されている。ガスディストリビュータ機構体は、ガスを差し向けて床内のチャネルを選択するよう機能することができる。好ましい実施形態では、完全開放弁と床表面との間の間隔、例えば、ディスク要素直径の5〜200%は、かかるディストリビュータに十分なスペースを提供する。しかしながら、かかる機構体が設けられていると共に他の吸着器特徴、例えば床支持構造体が存在している結果として、間隔が変更されると共に/或いは床‐弁間隔が好ましい範囲の高い方の端に選択される場合がある。
代表的には、作動中において完全開放位置にあるポペット弁ディスク要素の平坦な表面と吸着床表面との間の距離は、ディスク要素直径の5%〜200%、好ましくはディスク要素直径の20%〜80%である。ポペット弁は、代表的には、そのヘッドの外部の場所まで延びるポペット弁棒要素又はロッドを有する。弁棒は、案内するのに直線経路に沿う運動を可能にしながら弁の支持体となるブッシュ及び/又は弁要素によって包囲されるのが良く、幾つかの場合においては、動作中、弁を封止する。幾つかの実施形態では、弁棒シールが弁棒、例えば典型的には往復圧縮機で見られるロッド充填材と関連している。本発明の目的に関し、幾つかの場合において、弁棒シールは、ブッシュ又は弁案内と同一であるのが良い。ただし、別個の弁シールは、使用中における摩耗の影響を受けにくい。
吸着器の或る特定の実施形態では、各弁は、吸着器本体とそのそれぞれの入口及び/又は吸着器本体からの出口内に嵌まり込んでいる外部から接近可能な弁座と関連しており、各弁は、任意適当な封止手段によって、例えば、弁組立体をそのそれぞれの入口に取り付けるフランジによって定位置に包囲されたガスケットによってヘッドに密着される。変形例として、弁組立体を回転可能なロック機構体、例えばターン・トゥ・ロック(turn-to-lock)又はバヨネット機構体によりそのそれぞれの入口に取り付けられても良い。他の実施形態では、弁座は、ねじ込み若しくは押し込みシートの使用により又はヘッドそれ自体への弁座の機械加工によって弁組立体とは別個にヘッドに設けられるのが良い。
幾つかの実施形態では、ポペット弁は、作動可能な弁棒を有し、かかる弁棒は、線形運動をこの弁棒に与えることにより弁を開閉するようアクチュエータと係合可能である。アクチュエータは、少なくとも一方向への空気圧作動式、油圧作動式及び電磁作動式のうちの少なくとも1つである。他の実施形態では、アクチュエータは、少なくとも一方向にカムシャフトによって作動されるのが良い。変形例としての戻し機構体、例えば或る特定の実施形態では、弁閉鎖付勢力を発揮するばねを用いても良い。変形例としての作動方式は、特定の流体流れに共通の直線状に整列した複数個の弁に設けられた共通のアクチュエータを採用する。
ポペット弁は、或る特定の実施形態では、中実の円筒形弁棒要素に連結された円形のディスク要素を有するのが良い。ポペットの直径(DP)(添え字“P”は、ポペット弁に関することを意味している)をディスク要素の横断方向に測定するのが良い。リフト(LP)をポペット弁が流れを得るために開放領域を作るために並進した距離として測定されるのが良い。ポペット弁の組立体は又、弁相互間の間隔の面で特徴付け可能である。間隔(SP)は、中心間間隔を意味している。かくして、直径(DP)の等しい2つの弁が正確にDPに等しい(即ち、DPの100%である)間隔を有する場合、2つのポペットディスク要素は、これらの周囲が互いにちょうど触れることができる。弁間隔、即ち、弁相互間の間隔は、弁直径(DP)の百分率として弁の中心間測定値として特徴付けることができる。弁が互いに近寄ると、弁は、吸着器の内側に流れ絞り部を作ると共に外部に対する構築性の問題を生じさせる傾向がある。さらに、大きな弁間隔は、流れ面積が十分であるかどうかということ及び床中への流れ分布状態が一様であるかどうかに関する懸念を生じさせる。したがって、適当な弁間隔は、これら互いに相反する要因のバランスを取るべきである。弁の間隔は、代表的には、弁直径の120%〜400%、好ましくは140%〜200%である。直径が互いに異なる弁相互間の間隔の場合、平均直径を約数として用いるのが良い。この好ましい間隔は、所与のヘッドに設けられている隣り合う弁が同一の流れを運んでいるかどうかとは関係なく、これら隣り合う弁の各々に当てはまる。隣り合う弁の各々が同一の間隔を有することは期待されないが、隣り合う弁の各々が提供された範囲内の間隔を有することが好ましい。
或る特定の実施形態では、特定のヘッドと関連した円形ポペット弁は、実質的に円形であり、直径が一様であり、中心間間隔が平均ポペット弁ディスク要素直径の120%〜400%であり、好ましくは、中心間間隔が平均ポペット弁ディスク要素直径の140%〜200%である。
幾つかの実施形態では、吸着器は、i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の1%〜100%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が1%〜30%であること、iii)ポペット弁直径が、以下の方程式1で定義される最小値DPMINと以下の方程式2で定義される最大値DPMAXとの間であること、
上式において、DBは、大括弧に入れて示された単位の流れ面積直径であり、
上式において、DBは、大括弧に入れて示された単位の流れ面積直径であり、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が3%〜25%であること、及びv)弁リフト時間が少なくとも50ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供する。理解できるように、ポペット流れ面積APFIは、弁の直径、リフト及び個数に関連しており、以下の方程式3により定義される。
上式において、FIは、「前方流れ入口」であり、Aは、面積であり、Nは、弁の個数であり、Dは、直径であり、Lは、リフトである。
代表的には、吸着器は、i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の5%〜20%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が2%〜20%であること、iii)ポペット弁直径が、最小値DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート]と最大値DPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]との間であること、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が5%〜20%であること、及びv)弁リフト時間が100ミリ秒〜500ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供する。さらに、特定の入口流又は出口流に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比は、1%〜30%、好ましくは2%〜20%である。
吸着器は、或る特定の実施形態では、ポペットと床充填材との間に作られる距離又は隙間の面で特徴付けることも可能である。例えば、開放隙間(GO)は、吸着床表面と弁が開いているときに近位吸着床表面に向いているポペットの平坦な又は異形表面との間の距離であり、閉鎖隙間(GC)は、弁が閉じられているときの距離として定義される。多くの実施形態(例えば、図3に示されている)では、これらの値の差(GC−GO)は、リフトLPに等しい。
ポペット弁の使用により、弁が開かれているときに提供される広い流れ面積によって高い流量の実現が可能である。流れ面積は、一般に、弁周長(π・DP)と弁リフト(LP)の積として知られている。ポペット弁では、他の弁の場合と同様、流体が弁を通って流れているときに生じる圧力の幾分かの減少が生じる(圧力降下と呼ばれている)。同様に、流体が弁相互間に吸着器内容物を有する流路を通って流れているときに生じる圧力降下が存在する。弁圧力降下と全吸着器圧力降下の比に関して適当な範囲により、互いに相反する要因のバランスを取ることができ、低い弁圧力降下は床内の流れ分布に好ましく、高い弁圧力降下は、高い流量及び小型/少ない弁に好ましい。かくして、弁圧力降下は、代表的には、吸着器内部圧力降下の1%〜100%であり、好ましくは吸着器内部圧力降下の5%〜20%である。
ポペット弁逆流吸着器の多くの用途は、有利には、吸着器流れ面積の百分率としての各流れについてのポペット弁流れ面積の面で指定され、各流れのポペット弁流れ面積は、その流れに関するポペット弁の個数及び性質から計算され、吸着器流れ面積は、流れを受け入れ又は放出している吸着床の断面積として計算される。例えば、前方流れ方向について流れ入口である流れを受け持っている一組のNFI個のポペット弁(この場合、FI=前方入口)を考察すると、全ポペット弁流れ(APFI)面積は、NFI・π・DPFI・LPFIである。流れが筒体の軸線に沿う代表的な円筒形吸着器の場合、DBは、床直径であり、その結果、1/4πDB 2は、吸着器流れ面積である。全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比に関して代表的な適当な範囲は、圧力降下の場合と同様互いに相反する要因のバランスを取る。各特定の入口又は出口流に関する弁の個数及びサイズは、特定の入口又は出口流に関するポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が1%〜30%、好ましくは2%〜20%であるように選択されるのが良い。換言すると、前方流れ入口又は逆流れ出口に関してポペット弁流れ面積を通る流れは、吸着器流れ面積の百分率として1%〜30%であり、好ましくは2%〜20%であるのが良い。逆流吸着器の多くの用途は、実施形態の幾つかにおいて、有利には、特定のポペット弁直径及びリフトの面で指定される。ポペット弁直径(DP)は、有利には、吸着器流れ面積の直径(DB)に比例して指定される。非円筒形吸着器流れ面積の場合、等価直径を(4A/π)1/2とコンピュータ計算することができる。直径の適当な範囲は、満足のいくこととして、高い流量、一様な流れ分布状態及び最小限の複雑さに関する互いに相反する要望のバランスをとる。好ましいポペット直径は、単純に直径の何分の一というわけではなく、代表的には、床直径が変化するにつれて連続的に変化する。ポペット弁直径の範囲は、最小値(DPMIN)と最大値(DPMAX)との間であるのが良く、この場合、これら最小値及び最大値は、次の方程式、即ち、DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート]とDPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]において床直径の関数として表される。
弁リフト(LP)とポペット直径(DP)の比に関する適当な範囲は、弁の圧力降下、弁の効率、床流れ一様性及び機械的複雑さの向上に関する要因のバランスを取る。弁リフト比(LP/DP)は、代表的には、3%〜25%、好ましくは5%〜20%である。
ポペット流れ面積、直径及びリフトに関する上述の寸法に加えて、ポペット流れ面積を、以下の幾何学的方程式、即ち、APFI=NFI・π・DPFI・LPFI(1つの流れに関する例、添え字FIは、前方入口を表している)によって弁の直径、リフト及び個数に関連付けることができる。吸着器内に設けるのに適した弁の個数は、他のパラメータについて作成される仕様に従って吸着器設計の結果である。本明細書において提供される仕様による設計の結果として、弁の個数は、幾つかの互いに相反する目的のバランスを取る。使用する弁の数を少なくすると、これら弁は、流れ面積に関する要件を満たすために大型になる。大型の弁を用いると、大きなリフト及び大きな弁‐床隙間(GO)が必要になり、かくして、吸着器ヘッドと吸着床との間の距離が増大し、その結果、開放流路容積が大きくなる。多すぎるほどの弁を用いると、これら自体により複雑なマニホルドの必要性に加えて、吸着器コストが増大する。これら特徴を組み込んだ例示の設計例を実施例1及び実施例2並びに図1及び図2に見ることができる。
本発明の1つ又は2つ以上の実施形態の吸着器により、予期せぬこととして、弁組立体と吸着床の入口との間の隙間を僅かにすることができる。この隙間を最小限にすることにより、有利には、逆流吸着器の効率にとって悪影響を及ぼす吸着器開放流路容積が最小限に抑えられる。開放流路容積は、吸着床と弁との間の空間と関連している。開放流路容積部には、相当な量の充填材又は熱伝達固体がなく、かくして、吸着器内で生じるガス流取り扱いへの貢献は本質的に生じない。しかしながら、開放流路容積部内の流体は、依然として流路内に存在し、かくして、かかる流体を流れ方向が逆にされたときに一ステップから次のステップに移送することができ或いは流れ方向を逆にする前にパージ用流体を回収することが必要になる場合がある。本発明の1つ又は2つ以上の実施形態は、開放流路容積を減少させ、その結果、パージ要件を軽くすると共に/或いは一ステップから次のステップへの生成物の損失が減少する。用いられる充填材の臨界熱伝達特性は、圧力スイング改質法では周知であり、その結果、ポペット弁が用いられて本発明で指定されたとおりに位置決めされると、予期しない流れ分布特性が得られる。開放状態のポペット弁と吸着床表面との間の距離又は高さとして特徴付けられる分布空間を吸着器内で最小限に抑えることができる。入口弁に関する床とポペットとの間の高さ(GO)は、典型的には、ポペットの直径の20%〜80%である。良好な流れ分布が出口又は排気弁にとって関心の低いものなので、最小限の床とポペットとの間の高さは、入口又は吸気弁に関する場合よりも低いといって良い。代表的には、出口弁に関する床とポペットとの間の距離(GO)は、ポペット直径の5%〜80%である。これらの値は、魅力のある最小隙間寸法を表している。大きな隙間を用いると、他の吸着器内部構成要素、例えば床支持体又は燃料分布システムに対応することができる。
産業用ディーゼルエンジンの代表的な例における弁リフト時間は、約0.004秒(4ミリ秒)である。代表的には、これら弁は、カムシャフトを利用して開かれ、弁は、或る特定のクランク角で開き、代表的には、約25°のクランクシャフト回転で完全閉鎖状態から完全開放状態になる。吸着器に用いられる弁は、空気圧アクチュエータを利用して開放可能であり、これら弁を閉鎖前に所与の期間にわたり完全開放位置に保持することができる。弁に関する開閉時間は、吸着器の全サイクル時間に基づいている。本発明の実施形態のうちの幾つかで用いられるポペット弁は、ポペット弁エンジン技術では予期されていないリフト時間を有する。弁開閉時期は、区別される。というのは、弁開閉速度が逆流床システム内の速度変化を制御し、これら変化が床性能及び耐久性に影響を及ぼすからである。例えばエンジンで用いられている速すぎる弁リフト時間は、本発明では望ましくない。というのは、かかる時間の結果として、床速度の迅速すぎる変化が生じるからである。代表的には、弁のリフト時間は、50ミリ秒を超えるのが良く、例えば、50〜1000ミリ秒であり、好ましくは100〜500ミリ秒である。サイクル1回の持続時間は、τとして定義され、弁の全リフトは、λとして定義される。代表的には、吸着器を採用するプロセスは、一組の2つ又は3つ以上の吸着器を使用し、従って、1つ又は2つ以上の吸着器は、前方方向に作動し、1つ又は2つ以上の他の吸着器は、逆方向に作動する。単一の吸着器は、吸着器の個数及びサイクルの設計に応じて、全サイクル時間(τ)の約15%〜約80%の持続時間の間、前方又は逆方向流れステップのままであるのが良い。弁のリフト時間は、0.01τ〜0.05τであるのが良い。
上述したように、第2の観点では、本発明は、吸着器であって、a)2つの実質的に互いに反対側に位置する開口端を有する吸着領域を部分的に包囲した吸着器本体を有し、b)吸着器本体の一端を覆っている第1のヘッドを有し、c)吸着器本体の反対側の端を覆っている第2のヘッドを有し、d)第1のヘッドの近位側に位置する領域、第2のヘッドの近位側に位置する領域及び第1のヘッドと第2のヘッドとの間に位置する中央領域を有する固定床を有し、固定床は、吸着器本体内に設けられていて、ガス流の1つ又は2つ以上の成分の吸着を促進することができる固体材料から成り、e)第1のヘッドと関連していて、第1のヘッドを貫通して吸着器本体中への経路を開く少なくとも1つのガス流入口及び第2のヘッドと関連していて、吸着器本体から第2のヘッド中への経路を開く少なくとも1つのガス流出口を有し、f)入口と関連したヘッドと一体化されていて、ガス流入口を制御する少なくとも1つの入口ポペット弁を有し、入口ポペット弁は、直線的に作動可能な弁棒を有し、g)入口と関連したヘッドと一体化されていて、ガス流出口を制御する少なくとも1つの出口ポペット弁を有し、出口ポペット弁は、直線的に作動可能な弁棒を有し、h)上記f)及び/又はg)の直線的に作動可能な弁棒と係合可能な少なくとも1つのアクチュエータを有し、アクチュエータは、直線運動をポペット弁に与えてガスが吸着器の外部から吸着器本体の内部に流れたり吸着器本体の内部から吸着器の外部に流れたりして変更可能な流れ操作をもたらすことによって弁の開閉を行うことを特徴とする吸着器に関する。
この観点の或る特定の実施形態では、吸着器は、i)第2のヘッドと関連していて、第2のヘッド及び吸着器本体を通る経路を開く少なくとも1つのガス流入口及び第1のヘッドと関連していて、吸着器本体及び第1のヘッドを通る経路を開く少なくとも1つのガス流出口を更に有し、上記f)、g)及びh)に類似した関連の入口ポペット弁又は他の入口流れ制御手段、出口ポペット弁及びアクチュエータが設けられている。
第3の観点は、上述したように、2つの実質的に互いに反対側の開口端を有する吸着領域を部分的に包囲した吸着器本体を有する逆流吸着器内で少なくとも2つの流れの迅速な流れ切り替えを行う方法が提供され、第1のヘッドが吸着器本体の一端を覆い、第2のヘッドが吸着器本体の反対側の端を覆い、吸着器本体内に設けられた固定床がガス流の吸着を促進することができる固体材料から成る。この方法は、i)1つ又は2つ以上の入口ガス源から少なくとも第1のガス流を第1のヘッドを通って第1のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流入口まで導入し、そして吸着器本体に導入し、処理された第1のガス流を吸着器本体から取り出し、第2のヘッドを通って第2のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流出口に至らせるステップを有し、導入及び取り出しは、それぞれ、第1のヘッド内に設けられた少なくとも1つの吸気ポペット弁及び第2のヘッド内に設けられた少なくとも1つの排気ポペット弁により制御され、ii)1つ又は2つ以上の入口ガス源から少なくとも第2のガス流を第2のヘッドを通って第2のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流入口まで導入し、そして吸着器本体に導入し、処理された第2のガス流を吸着器本体から取り出し、第1のヘッドを通って第1のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流出口に至らせるステップを有し、導入及び取り出しは、それぞれ、第2のヘッド内に設けられた少なくとも1つの吸気ポペット弁及び第1のヘッド内に設けられた少なくとも1つの排気ポペット弁により制御される。
1つ又は2つ以上の実施形態では、器具は、毎分0.1〜20回の速度、好ましくは毎分1〜15回の速度でサイクル動作し、圧力は、0〜5000kPaの全圧力でスイングする。本発明の吸着器は、これらの環境において確実に働くことができる。
例示の実施形態が以下の図1に示されている。図1は、本発明の実施形態に従って単一ヘッド及び関連弁組立体を備えた非対称逆流吸着器の略図である。吸着器101は、吸着床103を備えた吸着器本体102を有し、吸着床103は、吸着床を左側吸着床105及び右側吸着床106に分割した実質的にガス不透過性仕切り104を備えている。吸着床の上側部分は、単一のヘッド107によって覆われており、仕切り104は、この単一ヘッドまで延びている。ヘッド107に設けられた入口開口部108が左側吸着床105の上方に位置決めされていて、第1の導管109による供給を受ける。導管、例えば導管109,115がマニホルド(図示せず)の一部分として又はこれからの延長部として提供された管又は他の流体運搬手段であるのが良い。導管、例えば導管109,115は、ヘッド107の外部からこのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びるのが良い。第1の導管109は、吸着器本体102の外部からヘッド107に設けられた開口部を通って左側吸着床105に向かって延びるのが良い。前方流れ入口ポペット弁110がヘッド内に着座可能であり、着座すると、ヘッド(図示せず)内に挿入された別個の弁座又はヘッドそれ自体に接触し、又、ヘッドの外部から左側吸着床105の上方の左上開放空間111内への流体の流れを制御する。入口ポペット弁110は、閉鎖引っ込み位置では上方に伸長され、下方に伸長されると開く。入口ポペット弁110が開かれると、流体は、第1の導管109から入口ポペット弁110を通って前方に流れ、開放空間111を経て流路に入り、そして左側吸着床105を通って吸着床103の下の下側共通開放空間112に流入し、次に右側吸着床106及び右上開放空間113に至り、この右上開放空間から流路は、前方流れ出口ポペット弁まで延び、この前方流れ出口ポペット弁114は、ヘッド107内に着座可能であり、着座すると、別個の弁座(図示せず)又はヘッドそれ自体に接触する。ヘッド107内に着座した出口ポペット弁114は、右上開放空間113から、出口ポペット弁114からヘッドを通ってヘッドの外部の場所まで延びる第2の導管115への流れを制御する。入口ポペット弁110と同様、出口ポペット弁114は、閉鎖引っ込み位置では上方に伸長され、下方に伸長されると開く。(入口ポペット弁110及び出口ポペット弁114が閉鎖位置では下方に伸長され、開放位置では吸着床から遠ざかって上方に延びる別の構成を取ることができる)。第2の導管115は、マニホルド(図示せず)の一部分として又はこのマニホルドからの延長部として提供される管又は他の流体運搬手段であるのが良い。第2の導管115は、吸着器本体102の外部からヘッド107に設けられた開口部を通って右側吸着床106に向かって延びるのが良く、そしてかかる第2の導管を用いて生成物を吸着床103から吸着器101の外部の場所まで導くのが良い。
作動中、入口ポペット弁110と出口ポペット弁114は、実質的に同相の状態にあり、即ち、これらポペット弁は、実質的に同時に互いに開閉する。かくして、開放時、これらポペット弁は、第1の導管109から第2の導管115への流体の流れを可能にする。対応の組をなす弁及び導管(図示せず)が流路に沿い吸着床を通る逆方向の逆流を提供することができ、逆流入口弁が右側吸着床106上に位置し、逆流出口弁が左側吸着床105上に位置している。第2の組をなす弁は又、代表的には、互いに実質的に同相で動作し、他方、第1の組をなす弁とは実質的に逆の相で動作する。かくして、第1の弁及び第2の弁(第1の弁対)は、同時に開き、これに対し、第3の入口ポペット弁及び第4の出口ポペット弁(第2の弁対)は、流れが前方方向(吸着器の左側から右側の方向)にあるときには閉じられる。この場合、第1の弁対に属する第1の弁及び第2の弁は、閉じられ、これに対し、第2の弁対は、逆方向の流れを可能にするよう開く。
変形実施形態では、特に対称の弁パターンを採用した場合の利点としては、弁直径が対称性を考慮することなく選択されるDPMAXよりも大きいということが挙げられる。例えば、円筒形吸着床設計の円形の端と関連した6個又は7個の弁の六角形パターンを用いることができる。中心間弁間隔が弁直径の120%以上である場合、弁は、吸着器直径の27.8%という大きな直径である。さらに、中心間弁間隔が弁直径の140%以上である場合、弁は、吸着器直径の23.8%という大きな直径である場合がある。一例として、直径が96インチ(2.44メートル)の吸着床は、直径が22.85又は26.7インチ(58又は67.8cm)の弁から恩恵を受けることができる。かかる実施形態の場合、DPMAXは、方程式(DPMAX)[インチ]=1.6113+2.858・DB[フィート]又は(DPMAX)[cm]=4.0927+0.238・DB[cm]によって与えられる吸着器直径の大きな割合であるのが良い。理解できるように、他の変形例も又、本発明の範囲に含まれる。
非対称逆流作動では、代表的には、前方方向に流れるガスの組成が逆方向に流れるガスの組成とは異なっていることが必要である。例えば、吸気弁を前方方向に通って流れるガスは、吸気弁を通って逆方向に流れるガスの組成とは異なる。
多数の弁及び導管を有する大規模吸着器に利用された場合の本発明の吸着器の例示の実施形態が以下の図2に示されている。図2は、本発明の実施形態に従って2つの反対側に位置するヘッド及び関連弁組立体を備えた非対称逆流吸着器の略図である。吸着器200は、断面図において左側壁202、左断熱層204、右側壁206及び右断熱層208として示された円筒形の壁及び円筒形の断熱層を有している。吸着床210が上側吸着床部分212、下側吸着床部分214及び混合構造体を収容するのが良い混合ゾーン216を有している。吸着器は、上側ヘッド218及び下側ヘッド220で覆われており、その結果、上側開放ゾーン222及び下側開放ゾーン224が形成されており、これら開放ゾーンは、実質的に開放流路容積部で構成されている。逆流吸着器内のかかる開放流路容積部は、サイクルの前方流れステップから逆流れステップまで横切り、適切に管理されていなければ、例えば、これらサイクルステップ相互間でフラッシすることによって逆の方向に流れることができるガスを収容する。開放流路容積部を最小限に抑えることにより、有利には、サイクル中に管理されるべき量が減少し、サイクル時間が減少すると共に効率が増大する。上側ヘッド218及び下側ヘッド220は、弁構造体を挿入することができる開口部を有する。ヘッドと吸着床との間の上側又は下側開放流路容積部は又、吸着器200内で燃焼可能な燃料を直接導入する分配ライン(図示せず)を更に収納するのが良い。
上側ヘッド218は、前方流れ入口マニホルド230及び逆流出口マニホルド232のための種々の開口部、例えば例示の開口部226,228(後者の開口部は、ポペット弁で占有された状態で示されている)を有する。マニホルドを貫通すると共に開口部を制御する状態で前方流れ入口弁234及び逆流出口弁236が設けられている。前方流れ入口弁234及び逆流出口弁236は、ブッシュ又は弁案内241内に位置決め可能な弁棒要素240に連結されているディスク要素238を有する(符号236の場合に示されている)ポペット弁である。弁棒要素240は、作動手段242に連結され、この作動手段は、直線運動を弁に与える。理解できるように、開口部226,228及び関連マニホルド230,232は、流体の流れのために上側ヘッド218の外部から上側ヘッド218を少なくとも部分的に貫通したところまで延びる導管を形成するのが良い。この例示の実施形態は、有利には、各弁と関連した独立作動手段を有し、それにより、作動手段の故障をたった1つの弁だけにとどめている。変形例として、複数個の弁を制御する単一の作動手段が設けられても良い。一般に、入口マニホルドのための開口部及び入口弁は、出口マニホルドのための開口部及び入口弁よりも小径のものである。ただし、入口を通過するガスの量が出口を通過する生成物流よりも少ない傾向があることを条件とする。図2では、前方流れ入口弁が開放位置で示され、逆流出口弁が閉鎖位置で示されている。
類似のマニホルド及び弁構成が下側ヘッド220と関連している。下側ヘッド220は、前方流れ出口マニホルド248及び逆流入口マニホルド250のための種々の開口部、例えば例示の開口部244,246を有している。(開口部246は、逆流入口弁254が閉鎖位置で示されている限り、部分的に覆い隠されている。)符号246の「タグ」は、矢印であり、逆流入口弁254を通って開口部246に向いている。開口部244,246及び関連マニホルド248,250は、流体流れのために下側ヘッド220の外部から下側ヘッド220を少なくとも部分的に貫通したところまで延びる導管を形成するのが良い。マニホルドを貫通すると共に開口部を制御する状態で前方流れ出口弁252及び逆流入口弁254が設けられている。この場合も又、前方流れ出口弁252及び逆流入口弁254は、ブッシュ又は弁案内内に位置決め可能な弁棒要素に連結されているディスク要素を有する。前方流れ出口弁252について図示したように、弁棒要素は、作動手段256に連結され、この作動手段は、上述したのと同様に直線運動を弁に与える。この例示の実施形態は、有利には、各弁と関連した独立作動手段を有し、それにより、作動手段の故障をたった1つの弁だけにとどめている。変形例として、同相で動作している複数個の弁、好ましくは一群の複数個の逆流入口弁を制御する単一の制御手段が設けられても良い。吸着器弁設計の一部は、生成ガスの放出をなくすために具体的には弁の周りの吸着器の封止を含む。適当なシールとしては、ロッド充填材、例えば弁の弁棒要素又はシャフト用の往復圧縮機型シールが挙げられる。弁アクチュエータ手段は、適当な力及びリフト回数を提供し、吸着器の設計寿命に合っている。代表的には、アクチュエータ手段は、空気圧制御式アクチュエータであり、かかる空気圧制御式アクチュエータは、ばね力で戻され、アクチュエータ破損の場合には閉鎖状態に付勢される。
図2では、逆流出口弁236は、閉鎖状態で示され、前方流れ入口弁234は、開放位置で示されている。かくして、図2は、ガスを上側ヘッド218の前方流れ入口マニホルド230から吸着床210を通って下側ヘッド220の前方流れ出口244内への前方流の状態で示している。両方の逆流弁(逆流出口弁236及び逆流入口弁254)は、この時点では閉じられている。サイクルの次の段階では、前方流れ入口弁(234,252)が閉じ、下側ヘッドの逆流入口弁254が上側ヘッド218の逆流出口弁236と一緒に開き、それにより、下側ヘッド220から吸着床210を通って上側ヘッド218から出るガスの逆流を促進する。
典型的には、各弁対が前方流れ入口弁及び前方流れ出口弁から成る複数の前方流弁対は、各対の各部材と同相で一緒に動作する。前方流弁対が互いに真向かいに位置したこれらのそれぞれのヘッドに設けられるのが良く、弁棒は、吸着器側部に平行であり共通のアクチュエータ手段によって駆動される。同様に、各弁対が逆流入口弁及び逆流出口弁から成る複数の逆流弁対が互いに同相で動作し、所望ならば、これら逆流弁対を互いに真向かいに位置するこれらのそれぞれのヘッド内に設けられるのが良く、これらの弁棒は、吸着器側部に平行であり、共通のアクチュエータ手段によって駆動される。一般に、前方流弁対は、逆流弁対と正反対に動作し、その結果、前方流弁対が開かれているとき、逆流弁対は閉じられ、又この逆の関係が成り立つ。吸着器に設けられている各弁がそれ自体のアクチュエータ手段を有する場合、吸着器は、弁が1つだけ故障した場合でも動作し続けることができ、それにより、吸着器全体を分解する必要なく、単一の弁の取り外し及び交換が可能である。変形例として、同一の供給/生成物流を制御する複数個の弁を共通のアクチュエータによって駆動しても良い。
吸着床210は、上側吸着床部分212、下側吸着床部分214及び混合構造体を収容することができる混合ゾーン216を有している。下側吸着床は、床(図示せず)の重量を支持する構造体を更に有するのが良い。代表的な吸着床材料は、圧力降下を最小限に抑えると共に長い吸着器長さを可能にする真っ直ぐなチャネルを有するハニカムモノリス(一体品)を含む。吸着器に用いられるハニカムモノリスは、代表的には、1平方インチ当たり約16本のチャネル(チャネル/in2)〜約3200チャネル/in2(2.5〜500チャネル/cm2)のチャネル密度を有する。変形例として、床212,214のうちの1つ又は2つ以上の部分の充填材は、曲がりくねっており、例えばフォームモノリス及び充填床であって良い。本発明のための代表的なフォームモノリスは、約5ppi(1インチ当たりの細孔の数)〜100ppi(即ち、2〜40個の細孔/cm)の細孔密度を有する。本発明のための代表的な充填床は、1フィート当たり(ft-1)約60〜約3000ft-1(即ち、2〜100cm-1)の濡れ表面積を備えた充填材を有する。図2の全流路は、開放ゾーン222,224内の容積部並びに床212,214及びミキサ216内の容積部によって表されている。開放流路容積部は、大部分が開放ゾーン222,224で構成され、充填流路容積部は、大部分が床及びミキサゾーン212,214,216で構成されている。
吸着器のヘッド内への大型ポペット弁の組み込みにより、従来型弁装置と比較して、吸着床と弁との間の非生産的容積部の量(容積)が大幅に減少する。さらに、この実施形態は、所望の圧力降下、代表的には吸着器内部圧力降下の1%〜100%、好ましくは吸着器内部圧力降下の5%〜20%の弁圧力降下での作動を可能にするよう十分な流れ面積を提供するために十分な数の弁を吸着器ヘッドに設けた状態で容易に構成されると共に作動される。図2との関連において吸着器内部圧力降下は、上側開放ゾーン222と下側開放ゾーン224との間の圧力差を含む場合がある。図2との関連において弁圧力降下は、マニホルド(例えば、230)と開いた弁(例えば、234)をちょうど越えたところの開放ゾーン(例えば、222)との間の圧力差を含む。上述したように、弁圧力降下は、代表的には、吸着器内部圧力降下の1%〜100%であり、好ましくは吸着器内部圧力降下の5%〜20%である。さらに、弁から出た流れは、床の幅全体にわたって適当に分布されるのが良い。この実施形態は、実質的に先の段落に記載したように流れ方向に互いに平行なチャネルを有する吸着床、例えば、流れの半径方向分散をなくすことができるハニカムモノリスに使用されるのが良い。新型の逆流吸着器技術により、例えば側部の標準偏差により定量化される床断面を横切る高い速度一様性が得られ、従って、床を通る軸方向経路内の滞留時間がほぼ同じになることができる。特に、圧力スイング改質に用いられる逆流吸着器技術では、吸着床充填材の外部の開放容積部内に高度の流れ分布状態が必要である。というのは、例えばハニカム構造体内における互いに平行なチャネルコンポーネントが床内部の流れのそれ以上の再分布を制限するからである。これら技術は、一体型ポペット弁からの流れを平衡チャネルハニカム床充填材中に分布させるヘッド一体型ポペット弁吸着器を提供する際に特に有用である。
図3は、吸着器上側ヘッド300の詳細縦断面図であり、吸着床表面301の上方のマニホルド内の定位置にある関連の一体型弁組立体を示している。前方流れ入口弁組立体302が弁着座手段304を有し、この弁着座手段は、ヘッドと弁組立体との間のインターフェースを取り、この弁着座手段は、ヘッド内に設けられた開口部内に取り付けられ、それによりヘッド内に前方入口開口部が形成される。前方流れ入口弁組立体302は、弁棒要素310に連結されているディスク要素308を備えたポペット弁306を更に有し、弁棒要素310は、部分的に中空円筒形弁案内部材312によって包囲され、支持アーム314がこの案内部材312から延びており、支持アーム314は、弁着座手段を弁案内手段に連結している。前方流れ入口弁組立体302は、送り出し管として働く垂直マニホルド管315を通って弁開口部まで延びている。垂直マニホルド管315は、水平マニホルド管316と交差し、入口ガスがこの水平マニホルド管を通って弁に導かれ、そしてこれを通って最終的には吸着床301に導入される。流体は、水平マニホルド管316及び垂直マニホルド管315からヘッド300の開口部を少なくとも部分的に通って流れ、この開口部は、ヘッド300の外部からヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまでの流体の流れを可能にする導管となり、流れは、ポペット弁306が開放位置にあるとき、引き続き弁着座手段304を通過し続ける。この導管は、弁着座手段304、中空円筒形弁案内部材312、垂直マニホルド管315、水平マニホルド管316、弁作動部材320及び/又は入口弁組立体302のための組立体のカラー318を有するのが良い。垂直マニホルド管315は、弁組立体のカラー318により覆われており、弁案内部材312及び弁棒部材310がこの弁組立体カラーを貫通して延びている。カラー318の頂部には、弁作動部材320が設けられ、この弁作動部材は、弁棒要素の直線運動及びかくして弁着座手段304により包囲された前方流れ入口開口部を通る流体の通過を空気圧の作用で制御する。大径逆流出口弁組立体322が上側ヘッドに設けられた逆流出口開口部のところに取り付けられている。弁組立体324,326,328は、追加の弁組立体、即ち、前方流れ入口弁組立体324、逆流出口弁組立体326及び別の前方流れ入口弁組立体328をそれぞれ表している。各追加の弁組立体は、上述の前方入口弁組立体と類似している。前方流れ入口弁組立体320,324,328は、これらの弁が閉鎖位置にある状態で示されており、逆流出口弁組立体322,326は、弁が開放位置にある状態で示されており、LP即ちリフト、GO即ち開放隙間及びGC即ち閉鎖隙間が示されている。
各弁組立体は、弁座、弁座と合致するディスク、ディスクに取り付けられた弁棒、弁棒のための案内、弁座から案内までの取り付け構造体、直線軸受、シールシステム及びアクチュエータを含む。弁座は、案内に取り付けられるのが良く、そしてヘッドへの組み込みに先立って組み立てられても良く、又、ヘッドに押し込まれ又はねじ込まれても良く、或いはマニホルド及び弁を含む一体型ヘッドを利用できる場合のようにヘッド内に機械加工により設けられても良い。ディスクは、円形、楕円形、半球形又はディスクを作動させるために弁棒を取り付けることができる任意所望の形状であって良い。円形又は楕円形ディスクは、最も効率の良い形状であると言える。弁棒の案内は、弁棒のための直線軸受及びシールを有する。アクチュエータは、電磁アクチュエータ、空気圧アクチュエータ、油圧アクチュエータ又はサイクル時間に依存するプロセスに望ましい速度で回転するカムシャフトであるのが良い。アクチュエータは、運動を数個の弁に同時に与えることができ又は運動を各弁に個々に与えることができる。弁座が案内に取り付けられる場合、上述のコンポーネントを含むのが良い弁組立体は、ユニットとして吸着器ヘッドから容易に取り外せ、それにより、もし万が一弁組立体の交換が必要になった場合には吸着器の補修が容易になる。この組立体は、マニホルドの頂部に設けられたフランジに取り付けられているボルトによって吸着器ヘッド内に取り付けられるのが良い。変形例として、弁組立体が挿入され、そして弁組立体が回されてついにはこれが定位置にロックするようになるターン・トゥ・ロック(turn-tu-lock)(又はバヨネット)型システムを利用しても良い。しかしながら、これは、大型弁及び高い温度流の場合には好ましさの度合いが低い。
変形実施形態では、各一体型弁組立体は、ヘッドの開口部に固定可能な弁着座手段、弁着座手段を中空弁案内に固定する支持アーム、線形調節が吸着器内への流量を変化させるディスク部材に固定された弁案内内の弁棒要素、弁案内を包囲していて、垂直マニホルド管の上方開口部に固定可能なカラーを含み、垂直マニホルド管の上方には、アクチュエータ部材が位置決めされ、このアクチュエータ部材は、これが連結されている弁棒要素に直線運動を与える。各一体型弁組立体は、ユニットとして吸着器ヘッドから容易に取り外せ、それにより、もし万が一弁組立体の交換が必要になった場合には吸着器の補修が容易になる。弁座組立体は、代表的には、マニホルドの頂部のところに設けられたフランジを介してヘッドに取り付けられ、一体型組立体は、マニホルドを通って定位置に下げられる。この構成では、弁組立体を3つの場所で封止する必要がある。フランジは、ガスケットで封止され、弁棒は、往復圧縮機シールを用いて封止され、吸着器のヘッドの弁座は、リップシールを用いて封止される。弁組立体を吸着器内に取り付けてこれを封止するための別の手段は、弁組立体が挿入され、そして弁組立体全体が回されてついにはこれが定位置にロックするようになるターン・トゥ・ロック(又はバヨネット)型システムを利用しても良い。しかしながら、これは、大型弁及び高い温度流の場合には好ましさの度合いが低い。本発明の幾つかの実施形態では、特に弁が吸着器内にではなくマニホルド内に開口している場合又はヘッドが弁の取り付け取り外しのために取り外し可能である場合、弁座は、ねじ込み若しくは押し込みシートの使用により又はヘッドそれ自体への弁座の機械加工によって弁組立体とは別個にヘッドに設けられる。自動車型エンジンの非一体型弁組立体と同様な非一体型弁組立体を用いても良い。
図4は、関連マニホルド内の定位置に位置する関連一体型弁組立体と共に皿状で実質的に楕円形の上側ヘッド400の詳細縦断面図である。ヘッドの外部は、実質的に楕円形の外壁401により構成され、この外壁は、使用中に受ける動作圧力を封じ込めるのに十分な厚さのものである。前方流れ入口弁組立体402は、弁着座手段404を有し、この弁着座手段は、吸着器の吸着ゾーンに当接してバリヤとなるヘッドの平坦なフロア405に設けられた前方入口開口部のところに取り付けられている。この平坦なフロア405は、弁着座手段404が取り付けられる表面を提供するが、この表面は、圧力バウンダリとしては作用しない。前方流れ入口弁組立体402は、弁棒要素410に連結されているディスク要素408を備えたポペット弁406を更に有し、弁棒要素410は、部分的に中空円筒形弁案内部材412によって包囲され、支持アーム414がこの案内部材412から延びており、支持アーム414は、弁着座手段を弁案内部材412に連結している。前方流れ入口弁組立体402は、送り出し管として働く垂直マニホルド管415を通って弁開口部まで延びている。垂直マニホルド管415は、水平マニホルド管416と交差し、入口ガスがこの水平マニホルド管を通って弁に導かれ、そしてこれを通って最終的には吸着床(図示せず)に導入される。流体は、水平マニホルド管416及び垂直マニホルド管415からヘッド400の開口部を少なくとも部分的に通って流れ、この開口部は、ヘッド400の外部からヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまでの流体の流れを可能にする導管となり、流れは、ポペット弁406が開放位置にあるとき、引き続き弁着座手段404を通過し続ける。この導管は、ヘッド400の外部からヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延び、この導管は、弁着座手段404、弁案内部材412、垂直マニホルド管415、水平マニホルド管416、弁作動部材420及び/又は入口弁組立体402のための組立体のカラー418のうちの全て又はこれらを部分的に含むのが良い。垂直マニホルド管415は、溶接部417によって楕円形外壁401に固定されるのが良く、垂直マニホルド管415は、弁組立体のカラー418により覆われており、弁案内部材412及び弁棒部材410がこの弁組立体カラーを貫通して延びている。カラー418の頂部には、弁作動部材420が設けられ、この弁作動部材は、弁棒要素の直線運動及びかくして弁着座手段404により包囲された前方流れ入口開口部を通る流体の通過を空気圧の作用で制御する。大径逆流出口弁組立体422が上側ヘッドに設けられた逆流出口開口部のところに取り付けられている。弁組立体424,426,428は、追加の弁組立体、即ち、前方流れ入口弁組立体424、逆流出口弁組立体426及び別の前方流れ入口弁組立体428をそれぞれ表している。各弁組立体は、詳細に上述したように前方入口弁組立体と類似している。外部楕円形壁401とヘッドの平坦なフロア405との間及び垂直マニホルド管相互間の開放空間は、符号430,432で示されているようにヘッドそれ自体内におけるガスの望ましくない堆積を回避するために、適当な空間充填固体、例えば適当な耐熱性を備えた低多孔率材料、好ましくは低多孔率セラミック材料で満たされるのが良い。
他の実施形態では、吸着器は、上述のヘッド及び吸着器本体又はシェルに加えて、他の形態を有していても良い。例えば、吸着器本体は、吸着器本体内に吸着ゾーンを形成する1つのユニット又は別々のコンポーネントで形成されても良い。さらに、1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、吸着器本体に直接結合されても良く、或いは、吸着器本体又はヘッドに直接結合された他の導管に結合されても良い。したがって、一実施形態では、吸着器は、吸着器本体を有するのが良く、吸着器本体は、吸着器本体内に吸着ゾーンを形成し、吸着器は、吸着ゾーン内に設けられた充填材及び吸着器本体に結合された1つ又は2つ以上のポペット弁組立体を更に有するのが良く、かかるポペット弁組立体は、吸着ゾーンと流れ連通状態にあると共に吸着器本体の外部の場所と吸着ゾーン内の場所との間での流体の流れを制御する。吸着器本体は、一ユニットであっても良く、別々のコンポーネントであっても良く、或いはヘッド及びシェル構成のものであっても良い。吸着器及びポペット弁組立体は、上述したように作動するのが良い。
充填材としては、上述したように、互いに異なる形式の充填材、例えばペブル又は工学的充填材が挙げられる。充填材が工学的充填材である場合、かかる充填材は、特定の形態、例えばハニカム、セラミックフォーム等の状態で提供される材料を含むのが良い。これら工学的充填材は、他の床構造体と比較して高い幾何学的表面積(av)を有する。この種の充填材の使用により、高い気体時空間速度、高い体積吸着器生産性、高い熱効率及び小型で経済的な吸着器が得られる。
提供される吸着器は、炭化水素、例えば天然ガス及び石油処理の開発及び生産のための吸着化学反応速度分離法、装置及びシステムに有用である。特に、提供される方法、装置及びシステムは、ガス混合物からの種々の標的ガスの迅速で大規模な効率的分離に有用である。
上述の提供される吸着器は、スイング吸着プロセス(法)に有用である。非限定的なスイング吸着プロセスとしては、圧力スイング吸着(PSA)、真空圧力スイング吸着(VPSA)、温度スイング吸着(TSA)、分圧スイング吸着(PPSA)、迅速サイクル圧力スイング吸着(RCPSA)、迅速サイクル温度スイング吸着(RCTSA)、迅速サイクル分圧スイング吸着(RCPPSA)並びにこれらプロセス、例えば圧力/温度スイング吸着の組み合わせが挙げられる。
PSA法は、気体が圧力下にあるとき、ガスが吸着材料の細孔構造又は自由体積内に容易に吸着されるという現象を利用しており、即ち、ガス圧力が高ければ高いほど、容易に吸着される気体の吸着量がそれだけ一層多くなる。圧力を減少させると、吸着成分が放出され又は脱着される。
PSA法は、気体混合物の気体を分離するために使用されるのが良く、その理由は、互いに異なる気体が吸着材のミクロ細孔を互いに異なる程度まで充填する傾向があるからである。気体混合物、例えば天然ガスがメタンの場合よりも二酸化炭素の方に選択性を示すポリマー又は微孔性吸着材を使用した容器を通って圧力下で流される場合、二酸化炭素の少なくとも一部分は、吸着材によって選択的に吸着され、容器を出た気体は、メタンが富化されている。吸着材が二酸化炭素を吸収するその能力の限界に達した場合、吸着材は、圧力を減少させることにより再生され、それにより吸着状態の二酸化炭素が放出される。次に、吸着材を典型的にはパージし、そして再加圧し、それにより新たな吸着サイクルの準備ができる。
TSA法は、ガスが低温状態において高温と比較して吸着材料の細孔構造又は自由体積内に容易に吸着されるという現象を利用しており、即ち、吸着材の温度を増大させると、吸着状態の気体が放出され又は脱着される。吸着材床の温度を周期的にスイングさせることにより、TSA法を利用すると、気体混合物の成分のうちの1つ又は2つ以上に選択性を示す吸着材に利用された場合に混合物中の気体を分離することができる。
提供される方法、装置及びシステムは、汚染要因物及び重炭化水素、即ち少なくとも2つの炭素原子を含む炭化水素を除去することによって天然ガス生成物を調製することができる。提供される方法、装置及びシステムは、ユーティリティに使用される気体供給物流を調製するのに有用であり、ユーティリティとしては、分離用途、例えば露点制御、スイートニング/解毒、腐食防止/制御、脱水、発熱量、状態調整(コンディショニング)及び浄化が挙げられる。1つ又は2つ以上の分離用途を利用するユーティリティの例としては、燃料ガス、シールガス、雑用水、ブランケットガス、インストルメント及びコントロールガス、冷媒、不活性ガス及び炭化水素回収が挙げられる。例示の「限度を超えない」生成物(又は「標的」)ガス仕様としては、(a)2体積%CO2、4ppmH2S、(b)50ppmCO2、4ppmH2S又は(c)1.5体積%CO2、2ppmH2Sが挙げられる。
提供される方法、装置及びシステムを用いると、炭化水素流から酸性ガスを除去することができる。酸性ガス除去技術は、可採鉱量としての天然ガスが高い濃度の酸性ガスを示し、即ち、サワーガス資源を示しているのでますます重要になっている。炭化水素供給流は、酸性ガスの量に大幅なばらつきがあり、例えば、数ppm酸性ガスから90体積%酸性ガスまで様々である。例示の可採鉱量としてのガスからの酸性ガス濃度の非限定的な例としては、少なくとも、(a)1体積%H2S、5体積%CO2、(b)1体積%H2S、15体積%CO2、(c)1体積%H2S、60体積%CO2、(d)15体積%H2S、15体積%CO2及び(e)15体積%H2S、30体積%CO2の濃度が挙げられる。
以下の技術的思想A〜Oのうちの1つ又は2つ以上を上記において提供された方法、装置及びシステムに利用することができ、それにより高い炭化水素回収率を維持しながら望ましい生成物流を調製することができる。
技術的思想A:1つ又は2つ以上の速度論的スイング吸着法、例えば圧力スイング吸着(PSA)、温度スイング吸着(TSA)、仮焼及び分圧スイング又は置換パージ吸着(PPSA)及びこれら方法の組み合わせを含む吸着法を用いることであり、各スイング吸着法を迅速なサイクルに利用することができ、例えば、1つ又は2つ以上の迅速サイクル圧力スイング吸着(RC‐PDS)ユニットを用い、1つ又は2つ以上の迅速サイクル温度スイング吸着(RC‐TSA)ユニット又は1つ又は2つ以上の迅速サイクル分圧スイング吸着(RC‐PPSA)ユニットを用いること、例示の速度論的スイング吸着法は、米国特許出願公開第2008/0282892号明細書、同第2008/0282887号明細書、同第2008/0282886号明細書、同第2008/0282885号明細書及び同第2008/0282884号明細書に記載されており、これら米国特許出願公開の各々を参照により引用し、その記載内容全体を本明細書の一部とする。
技術的思想B:2011年3月1日に出願された米国特許出願第61/447,848号明細書(代理人事件番号:2011EM060)に記載されている新型サイクル及びパージを用いたRC‐TSAにより酸性ガスを除去することであり、この米国特許出願を参照により引用し、その記載内容全体を本明細書の一部とする。
技術的思想C:米国特許出願公開第2008/0282892号明細書、同第2008/0282885号明細書、同第2008/0282886号明細書に記載されているようにメソ細孔充填材を用いて吸着剤中の捕捉メタンの量を減少させると共に全体的炭化水素回収率を増大させること。粒子相互間のメソフェーズ細孔を充填することにより吸着チャネル壁内の結晶又は細孔相互間に存在する非スイープ可能ボイド空間を減少させ、それにより吸着剤層を通る迅速な気体輸送を可能にしながら開放体積部を減少させる。非スイープ可能ボイド空間のこの充填は、迅速な脱着ステップ中に失われる所望の生成物の量を許容可能なレベルに減少させると共に温度脱着に続く高い吸着床純度の実現を可能にするのに望ましい。かかるメソフェーズ細孔充填を種々の仕方で達成することができる。例えば、ポリマー充填材、例えば固有の多孔性を有するシリコーンゴム又はポリマーをH2S及びCO2の迅速な拡散と共に使用するのが良い。メソ多孔性及び/又はミクロ多孔性を有する熱分解炭素でボイド空間を充填することにより別の仕方で実施することができる。非常に小さいサイズの不活性固体でボイド空間を充填することにより又は所望のガスを迅速に通して拡散させる補充可能な液体(例えば、水、溶剤又は油)でボイド空間を充填することにより更に別の仕方で実施することができる。好ましくは、吸着剤壁内のボイド空間を60体積%未満、好ましくは70体積%未満、より好ましくは80体積%未満に減少させる。
技術的思想D:適当な吸着材料、例えば米国特許出願公開第2008/0282887号明細書及び同第2009/0211441号明細書に記載されたゼオライトのうちの1つ又は2つ以上を選択して高い選択性を提供してメタン及び他の炭化水素の吸着(及び損失)を最小限に抑えること。
酸性ガスの除去に好ましい吸着剤は、酸性ガスとの化学反応を可能にする官能性のあるなしを問わずメソ細孔又はミクロ細孔材料から成る群から選択させる。官能性のない材料の例としては、陽イオン性ゼオライトやスタノシリケートが挙げられる。H2S及びCO2と化学反応する官能化材料は、炭化水素よりもH2S及びCO2の方に著しく強い選択性を示す。さらに、これらは、酸性ゼオライト上に生じる炭化水素との望ましくない反応を触媒しない。官能化メソ細孔吸着剤も又好ましく、炭化水素に対するこれらの親和性は、非官能化された小さな細孔の材料、例えばゼオライトと比較して、一段と減少する。
変形例として、重炭化水素の吸着は、重炭化水素の拡散がH2S及びCO2と比較してゆっくりとしている小さな細孔の官能化材料を用いることにより速度論的に抑制されても良い。また、H2S及びCO2選択性吸着剤の外面上の約4に等しく又はこれを超える炭素含有量を有する炭化水素(即ち、C4+炭化水素)の凝縮を減少させるのに注意を払う必要がある。
本発明に使用するのに適した官能基の非限定的な例としては、一次、二次、三次及び他の非プロトジェニック塩基性基、例えばアミジン、グアニジン及びビグアニドが挙げられる。さらに、これら材料は、2つ又は3つ以上の種類の官能基で官能化されるのが良い。天然ガス流からのH2S及びCO2の実質的に完全な除去を行うために、吸着材料は、好ましくは、H2S及びCO2については選択性であるが、メタンと重炭化水素(C2+)の両方についての容量が低い。1つ又は2つ以上の実施形態では、基剤としてのシリカ又は他の支持体上に支持されるアミンを用いることが好ましい。というのは、アミンは、酸性ガス種については強力な吸着等温線を有するからである。アミンは又、かかる種について高い容量を有し、これらの高い吸着熱の結果として、比較的強い温度反応性を有する(即ち、十分に加熱されると、アミンは、H2S及びCO2を容易に脱着し、かくして、過度の温度スイングなしで使用できる)。25℃〜70℃の範囲で吸着を行い、90℃〜140℃の範囲で脱着を行う吸着剤が好ましい。CO2及びH2S除去のために互いに異なる吸着剤を必要とするシステムでは、標的種に適した吸着剤を有する層状床が望ましい場合がある。
天然ガスからのCO2除去の場合、速度論的選択性を有する8リングゼオライト材料の特定の等級を含む吸着剤を処方することが好ましい。8リングゼオライト材料のこの等級の速度論的選択性により、CO2をゼオライト結晶中に迅速に送ることができ、他方、メタンの輸送を阻止し、その結果、CO2とメタンの混合物からCO2を選択的に分離することが可能である。天然ガスからのCO2の除去のため、8リングゼオライト材料のこの特定の等級は、好ましくは、約1から約25までのSi/Al比を有する。他の好ましい実施形態では、ゼオライト材料のSi/Al比は、2から約1000であり、好ましくは約10から約500までであり、より好ましくは約50から約300までである。注目されるべきこととして、本明細書で用いるSi/Alという用語は、ゼオライト構造のシリカとアルミナのモル比として定義される。本明細書で用いるのに適したこの好ましい等級の8リングゼオライトにより、CO2は、メタンと比較されるCO2に関する単一成分拡散係数の比(即ち、DCO2/DCH4)が10よりも大きく、好ましくは約50よりも大きく、より好ましくは約100よりも大きく、更により好ましくは200よりも大きいような仕方で8リング窓を通って内部細孔構造に接近することができる。
多くの場合、窒素含有ガスからの精製メタン生成物の高い回収率を得るためには、窒素も又、石油の産出と関連したガスから除去されなければならない。メタンからの窒素分離のための有効な平衡状態又は化学論的選択性を備えた分子ふるい吸着剤はほんの僅かしか存在しない。天然ガスからのN2分離のためには、化学論的選択性を有する8リングゼオライト材料の等級を有する吸着剤を処方することも又好ましい。この等級の8リングゼオライト材料の速度論的反応性により、N2をゼオライト結晶中に迅速に送ることができ、他方、メタンの輸送を阻止し、その結果、N2とメタンの混合物からN2を選択的に分離することが可能である。天然ガスからのN2の除去のため、8リングゼオライト材料のこの特定の等級は、好ましくは、約2から約1000まで、好ましくは約10から約500まで、より好ましくは約50から約300までのSi/Al比を有する。本明細書で用いるのに適したこの好ましい等級の8リングゼオライトにより、N2は、メタンと比較されるN2に関する単一成分拡散係数の比(即ち、DN2/DCH4)が5よりも大きく、好ましくは約20よりも大きく、より好ましくは約50よりも大きく、更により好ましくは100よりも大きいような仕方で8リング窓を通って内部細孔構造に接近することができる。天然ガスからのN2の除去中のスイング吸着法における耐ファウリング性は、この等級の8リングゼオライト材料により提供される別の利点である。
他の場合、約0.001%〜約70%H2Sを含む場合のある天然ガスからH2Sを除去することが望ましい場合もある。この場合、スタノシリケート並びに速度論的選択性を有する8リングゼオライトの上述の等級を含む吸着剤を処方することが有利な場合がある。この等級の8リングゼオライト材料の速度論的反応性により、H2Sをゼオライト結晶中に迅速に送ることができ、他方、メタンの輸送を阻止し、その結果、H2Sとメタンの混合物からH2Sを選択的に分離することが可能である。天然ガスからのH2Sの除去のため、8リングゼオライト材料のこの特定の等級は、好ましくは、約2から約1000まで、好ましくは約10から約500まで、より好ましくは約50から約300までのSi/Al比を有する。本明細書で用いるのに適したこの好ましい等級の8リングゼオライトにより、H2Sは、メタンと比較されるH2Sに関する単一成分拡散係数の比(即ち、DH2S/DCH4)が5よりも大きく、好ましくは約20よりも大きく、より好ましくは約50よりも大きく、更により好ましくは100よりも大きいような仕方で8リング窓を通って内部細孔構造に接近することができる。DDR、シグマ‐1及びZSM‐58も又、天然ガスからのH2Sの除去に適している。幾つかの用途では、H2Sは、ppm又はサブppmレベルまで除去されなければならない。
本発明の実施形態に用いられる好ましい選択的吸着材料の他の非限定的な例としては、ミクロ細孔材料、例えばゼオライト、AlPO、SAPO、MOF(金属有機構成組織)、ZIF(ゼオライトイミダゾレート構成組織、例えばZIF‐7、ZIF‐8、ZIF‐22等)及び炭素並びにメソ細孔材料、例えばアミン官能化MCM材料が挙げられる。一般に天然ガス流中に見受けられる酸性ガス、例えば硫化水素や二酸化炭素の場合、例えば陽イオン性ゼオライト、アミン官能化メソ細孔材料、スタノシリケート、炭素のような吸着剤も又好ましい。
技術的思想E:多数のステップで1つ又は2つ以上のRC‐PSAユニットを中間圧力まで減圧し、酸性ガス排出物を高い平均圧力で捕捉することができるようにし、それにより酸性ガス注入に必要な圧縮度を減少させ、中間減圧ステップのための圧力レベルを酸性ガス圧縮器の段間圧力に合わせて全体的圧縮システムを最適化するのが良い。
技術的思想F:排出又は再循環流を用いて処理及び炭化水素損失を最小限に抑え、例えば、1つ又は2つ以上のRC‐PSAユニットからの排出流を再注入又はガス抜きに代えて燃料ガスとして用いる。
技術的思想G:単一床内に多数の吸着材料を用いて微量の第1の汚染要因物、例えばH2Sを除去し、その後第2の汚染要因物、例えばCO2を除去し、かかるセグメント化床は、最小限のパージ流量によりRC‐PSAユニットでppmレベルまで活発な酸性ガス除去を提供することができる。
技術的思想H:1つ又は2つ以上のRC‐PSAユニットの前に供給物圧縮を用いて所望の生成物純度を達成すること。
技術的思想I:非酸性ガス汚染要因物、例えばメルカプタン、COS及びBTEXの同時除去を行い、これを達成するために選択方法及び材料を用いること。
技術的思想J:気体‐固体接触器のために構造化吸着剤を用いて従来型充填床と比較して圧力降下を最小限に抑える。
技術的思想K:吸着材料の反応速度に基づいてサイクル時間及びサイクルステップを選択すること。
技術的思想L:機器の中で2つのRC‐PSAユニットを直列に用いる方法及び装置を使用し、第1のRC‐PSAユニットは、供給流を所望の生成物純度まで浄化し、第2のRC‐PSAユニットは、第1のユニットからの排出物を浄化してメタンを捕捉し、高い炭化水素回収率を維持し、この直列設計の仕様は、メソ細孔充填材の必要性を減少させることができる。
技術的思想M:並列チャネル接触器を用い、気体‐固体接触が比較的小径の吸着剤内張りチャネル内で起こる。接触器のこの構造は、気体膜抵抗を最小限に抑えると共に高い気体‐固体連通により迅速な吸着反応速度の利点を提供する。好ましい吸着器設計は、鮮明な吸着フロントを生じさせる。
極めて迅速な気体‐吸着剤反応速度を提供することが好ましく、即ち、標的種が拡散して吸着剤壁に接触しなければならない距離、長さが短く保たれ、好ましくは1000ミクロン未満、より好ましくは200ミクロン未満、最も好ましくは100ミクロン未満に保たれる。望ましい吸着剤反応速度は、床圧力降下を許容可能な値に制限した状態で、並列チャネル接触器を利用することによって実現でき、この場合、供給ガス及びパージガスは、吸着材料の有効厚さまで内張りされている複数本の極めて細い(1000〜30ミクロン直径)の開放チャネルに封じ込められる。
「有効厚さ」という用語は、たいていの用途に関し、約500ミクロン〜30ミクロンまでの範囲を意味している。層状ガス流の最も限定的な場合、極めて細いチャネルは、微量種に関する最大拡散距離をチャネルの直径の1/2以下に制限する。吸着フロントの先導縁のところで所望の種を吸着した場合であっても、これらの濃度が気相中でゼロに近づく場合、かかる小径並列チャネル構造化吸着床形態を用いることにより鮮明な吸着フロントを維持することができる。かかる構成は、多数本の独立並列チャネルの形態をしていても良く又は螺旋巻き設計を用いることによって達成できる極めて太く且つ極めて短いチャネルの形態をしていても良い。
技術的思想N:吸着床構造体を迅速に加熱したり冷却したりして吸着が低い温度で生じ、脱着が高い温度で生じるようにする手段。この場合、吸着ステップは、高い圧力で生じ、高い温度での脱着ステップは、オプションとして、吸着剤スイング容量を増大させるために減圧状態で生じるのが良い。吸着剤特性に応じて、外部温度制御か内部温度制御方式かのいずれかに適した床アーキテクチャを用いることが望ましい場合がある。
「内部温度制御」という表現は、気体供給流に利用される同一の吸着剤内張りチャネルを通って再循環させることができる気体か液体かのいずれかの流体媒体、好ましくは液体の加熱及び冷却の使用を意味している。内部温度制御では、吸着材料は、温度制御流体によって悪影響を受けず、温度制御流体を加熱ステップ後に従来吸着された種(H2S及びCO2)から容易に分離する必要がある。さらに、内部温度制御のためには、気体供給物吸着ステップ中に構造化床中の並列チャネルの各々前後の圧力降下は、好ましくは、温度制御流体の各チャネル(又は螺旋巻き設計の場合には単一のチャネル)を通過するのに十分高い。加うるに、内部流体流れ温度設計は、好ましくは、温度制御流体を強く吸着することはない吸着剤を利用し、従って、H2S及びCO2が温度制御流体の存在下にあっても有効に吸着できるようにする。
かかる吸着剤の非限定的な例としては、アミン官能化ミクロ細孔及びメソ細孔吸着剤が挙げられる。かかるシステムの非限定的な例は、加熱及び冷却のための高温及び低温水(加圧液体又は加熱のための蒸気として用いられる)の使用による支持アミン又は水安定性支持体の使用である。液体としての水が吸着ステップ中、吸着剤壁内に残されるが、吸着剤壁の厚さが小さく(1000ミクロン未満、好ましくは200ミクロン未満、最も好ましくは100ミクロン未満)に保たれている場合、H2S及びCO2は、1分未満、より好ましくは10秒未満の時間尺度で液体としての水を通って拡散して支持アミンにより吸着状態になることが可能である。脱着ステップに続き、分留又は当業者に知られている他の方法を用いてH2S及びCO2を容易に分離することができる。
「外部温度制御」という表現は、加熱及び冷却用流体が気体運搬吸着剤チャネルと接触しないように保たれる吸着床構造を意味している。かかる構造は、多管式熱交換器、プレートチャネル式熱交換器若しくは外周部又は内周部に流体不浸透性バリヤ層を備えた中空ファイバ又は任意他の適当な構造に似ていると言える。迅速な加熱及び冷却を行うためには、熱が温度制御流体から吸着剤層に拡散しなければならない距離が最小限に、理想的には、10,000ミクロン未満、より好ましくは1000ミクロン未満、最も好ましくは200ミクロン未満に保たれなければならない。
かかる外部温度制御床設計の非限定的な例は、外周部に流体不浸透性バリヤ層を備えた中空ファイバの使用であり、この場合、中空ファイバは、ポリマー及び支持アミン吸着剤の混合マトリックス系で構成される。供給ガスは、多孔質ファイバの内周部中に通されて低温で吸着剤により吸着され、他方、低温温度制御流体は、ファイバの外周部上でこれに沿って流れる。脱着は、高温制御流体を好ましくはファイバの外周部上でこれに沿って向流方向に流すことによって達成され、かくして、吸着剤が加熱される。サイクルは、高温制御流体を低温流体で交換して吸着剤を含む繊維を所望の吸着温度に戻すことによって完了する。
好ましい実施形態では、系中の熱流速度は、温度制御流体中の急な温度勾配が加熱及び冷却中に生じ、その結果、系の顕熱を吸着床構造内で回収することができるようにする。かかる非限定的な中空ファイバ例の場合、有効ファイバ外径寸法は、20,000ミクロン未満、好ましくは2000ミクロン未満、最も好ましくは1000ミクロン未満である。有効中空ファイバ内径(供給ガスチャネル)は、所望の吸着及び脱着サイクル時間、供給物吸着種濃度及びこれら種のための吸着剤層スイング容量に基づいて適当な直径として10,000ミクロン未満、好ましくは1000ミクロン未満、最も好ましくは500ミクロン未満である。
1つ又は2つ以上の実施形態では、吸着床中の非吸着熱質量と吸着剤の比をできるだけ低く保つことが有利である。この比は、好ましくは、20未満、より好ましくは10未満、最も好ましくは5未満であろう。このように、各サイクルでスイングさせなければならない系の顕熱を最小限に保つことができる。
技術的思想O:全供給物の約0.01〜5%の比較的低い流量の、実質的にH2S又はCO2のないクリーンガスがパージガスとして利用される。かかるガス(即ち、「クリーンガス」)の非限定的な例としては、プロセスのうちの脱着ステップの少なくとも一部分の間、供給方向に対して反対の方向(向流)に並列チャネルを通って流れる状態で維持されるメタン及び窒素が挙げられる。このクリーンガスの流量は、吸着チャネルの生成物側端部を実質的にクリーンな状態に保つために脱着H2S及びCO2の自然な拡散に打ち勝つのに十分であることが好ましい。次の各脱着サイクル時に、生成物流中への標的種、例えばH2S又はCO2の破過(bleed-through)が生じないようにするのは、脱着中におけるこの向流パージ流である。
本発明の実施に好ましいサイクル及び床設計は、吸着剤チャネルの生成物側端部、即ち、供給ガスが流入する端部と反対側の端部が吸着状態のH2S及びCO2の低い又は理想的には本質的にゼロの濃度を有することである。このように、上述したように適当な構造化チャネルにより、H2S及びCO2は、供給ガス流から活発に除去される。床の下流側端部は、実質的にH2S及びCO2のないクリーンガスの低い流量を脱着ステップ中、より好ましくはサイクル中のあらゆる加熱及び冷却ステップ中、供給方向に対して向流方向に維持することによって上述したようにクリーンに維持できる。さらに、吸着ステップ中、サイクルの吸着部分は、H2S及びCO2を含んだ吸着剤の前進吸着フロントがチャネルの端部に到達せず、即ち、H2S及び/又はCO2破過に先立って止められるような時間に制限され、その結果、吸着剤チャネルの実質的にクリーンな区分に実質的に標的種がないままであるようにすることが好ましい。適度に鮮明な吸着フロントを用いると、これにより、吸着剤の50体積%を超える量、より好ましくは75体積%を超える量、最も好ましくは85体積%を超える量を利用することができる。
本明細書において提供されている方法、装置及びシステムは、一日あたり500万標準立方フィート(MSCFD)の天然ガス又は15MSCFDを超える天然ガス又は25MSCFDを超える天然ガス、50MSCFDを超える天然ガス、100MSCFDを超える天然ガス、500MSCFDを超える天然ガス又は、一日あたり10億標準立方フィート(BSCFD)を超える天然ガス、2BSCFDを超える天然ガスを処理する施設で有用である。
従来技術と比較して、本願において提供されている方法、装置及びシステムの必要とする設備投資は低く、運転費は、低く、物理的空間は少なく、それにより、沖合及び遠隔場所、例えば北極環境での具体化が可能である。提供されている方法、装置及びシステムは、従来技術と比較して高い炭化水素回収率を提供しながら上述の利点をもたらす。
他の実施態様としては、次が挙げられる。
[実施態様項1]
吸着器であって、
a.吸着器本体と、
b.前記吸着器本体に係合した第1のヘッドと、
c.前記ヘッドの外部から前記ヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、
d.前記第1の導管と流れ連通状態にあり、前記第1の弁から前記吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御する第1の弁とを有する、吸着器。
[実施態様項2]
e)前記吸着器本体に係合した第2のヘッド、
f)前記第1のヘッド又は前記第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第2の導管、及び
g)前記第2の導管と流れ連通状態にある第2の弁のうち少なくとも1つを更に有する、実施態様項1記載の吸着器。
[実施態様項3]
前記第1の弁は、前記流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置を有し、前記流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置を有する、実施態様項2記載の吸着器。
[実施態様項4]
前記流路の少なくとも一部分の互いに反対側に設けられた第1の弁対を有し、前記第1の弁及び第2の弁は各々、前記流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にあり、前記流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にある、実施態様項3記載の吸着器。
[実施態様項5]
h)前記第1のヘッド又は前記第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第3の導管を更に有し、
i)前記第3の導管と流れ連通状態にある第3の弁を更に有し、前記第3の弁は、前記吸着器本体から前記第3の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御し、
j)前記第1のヘッド又は前記第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第4の導管を更に有し、
k)前記第2の導管と流れ連通状態にある第4の弁を更に有し、前記第4の弁は、前記吸着器本体から前記第4の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する、実施態様項4記載の吸着器。
[実施態様項6]
前記流路の少なくとも一部分の互いに反対側に設けられていて前記第2の逆の流れ方向における流れを制御する前記第3の弁及び前記第4の弁を含む第2の弁対を有し、前記第3の弁及び前記第4の弁は各々、前記流路中の流体の流れが前記第1の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にあり、前記流路中の流体の流れが前記第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にある、実施態様項5記載の吸着器。
[実施態様項7]
前記吸着器は、非対称逆流吸着器である、実施態様項6記載の吸着器。
[実施態様項8]
1つ又は2つ以上の追加の弁を有し、各弁は、追加の導管のそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通して延びる追加の導管を介して第1、第2、第3又は第4の導管のうちの1つと流れ連通状態にあり、前記追加の導管と流体連通状態にある任意他の導管と同相で動作し、前記吸着器本体からそれぞれの弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する、実施態様項6記載の吸着器。
[実施態様項9]
前記吸着器本体は、吸着床を有し、前記流路の容積は、i)前記吸着床の固体‐流体接触部分内の充填流路容積と、ii)前記弁と前記吸着床との間の開放流路容積とから成り、更に前記吸着床内の任意の開放流れ部分を含む、実施態様項2記載の吸着器。
[実施態様項10]
前記充填流容積部は、個体‐流体接触面から2cm未満の距離を置いたところに位置する吸着床中の全ての体積部を含む、実施態様項9記載の吸着器。
[実施態様項11]
前記吸着床の前記固体‐流体接触部分は、前記吸着床の前記部分のあらゆる領域に0.5cm2/cm3を超える濡れ面積を有する、実施態様項9記載の吸着器。
[実施態様項12]
開放流路容積と充填流路容積の比は、1未満である、実施態様項9記載の吸着器。
[実施態様項13]
開放流路容積と充填流路容積の比は、0.5未満である、実施態様項9記載の吸着器。
[実施態様項14]
吸着床は、熱交換を行うことができる個体材料から成る固定床コアを有する、実施態様項9記載の吸着器。
[実施態様項15]
前記弁のうちの少なくとも1つは、弁棒要素に連結されたディスク要素を有するポペット弁である、実施態様項9記載の吸着器。
[実施態様項16]
前記ポペット弁ディスク要素は、近位側吸着床表面に実質的に平行であり且つこれに向いた表面を有する、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項17]
前記ポペット弁は、吸着床に向かって開く、実施態様項16記載の吸着器。
[実施態様項18]
前記ポペット弁は、前記吸着床から遠ざかる方向に開く、実施態様項16記載の吸着器。
[実施態様項19]
作動中において完全開放位置にある前記ポペット弁ディスク要素の平坦な表面と前記吸着床表面との間の距離は、前記ディスク要素直径の5%〜200%である、実施態様項16記載の吸着器。
[実施態様項20]
動作中における完全開放位置にあるポペット弁ディスク要素の平坦な表面と吸着床表面との間の距離は、ディスク要素直径の20%〜80%である、実施態様項16記載の吸着器。
[実施態様項21]
前記ポペット弁棒要素は、前記ヘッドの外部の場所まで延びている、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項22]
各弁は、前記吸着器本体とそのそれぞれの入口及び/又は前記吸着器本体からの出口内に嵌まり込んでいる外部から接近可能な弁座と関連しており、各弁は、前記ヘッドに密着される、実施態様項2記載の吸着器。
[実施態様項23]
前記弁座は、回転可能なロック機構体、ねじ込みシート及び押し込みシートのうちの1つにより前記ヘッドに取り付けられている、実施態様項22記載の吸着器。
[実施態様項24]
前記弁棒と関連した弁棒シールを更に有する、実施態様項21記載の吸着器。
[実施態様項25]
前記弁棒シールは、ロッド充填材である、実施態様項24記載の吸着器。
[実施態様項26]
ポペット弁は、直線運動を与えることにより前記弁を開閉するアクチュエータと係合可能な直線作動可能な弁棒を有する、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項27]
前記アクチュエータは、空気圧作動式、油圧作動式及び電磁作動式のうちの少なくとも1つである、実施態様項26記載の吸着器。
[実施態様項28]
前記アクチュエータは、クランクシャフト作動式である、実施態様項26記載の吸着器。
[実施態様項29]
共通アクチュエータが特定の流体流れに共通の直線状に整列した複数個の弁を制御する、実施態様項26記載の吸着器。
[実施態様項30]
特定のヘッドと関連した円形ポペット弁が実質的に円形であり、直径が一様であり、中心間間隔が平均ポペットディスク要素直径の120%〜400%である、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項31]
特定のヘッドと関連した円形ポペット弁が実質的に円形であり、直径が一様であり、中心間間隔が平均ポペットディスク要素直径の140%〜200%である、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項32]
i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の1%〜100%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が1%〜30%であること、iii)ポペット弁直径が、最小値DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート](DBは、フィートで表された流れ領域直径である)と最大値DPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]との間であること(DBは、フィートで表された流れ領域直径である)、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が3%〜25%であること及びv)弁リフト時間が少なくとも50ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供する、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項33]
i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の5%〜20%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が2%〜20%であること、iii)ポペット弁直径が、最小値DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート](DBは、フィートで表された流れ領域直径である)と最大値DPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]との間であること(DBは、フィートで表された流れ領域直径である)、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が5%〜20%であること、及びv)弁リフト時間が100ミリ秒〜500ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供する、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項34]
吸着器であって、
a)2つの実質的に互いに反対側に位置する開口端を有する吸着領域を部分的に包囲した吸着器本体を有し、
b)前記吸着器本体の一端を覆っている第1のヘッドを有し、
c)前記吸着器本体の反対側の端を覆っている第2のヘッドを有し、
d)前記第1のヘッドの近位側に位置する領域、前記第2のヘッドの近位側に位置する領域及び前記第1のヘッドと前記第2のヘッドとの間に位置する中央領域を有する固定床を有し、前記固定床は、前記吸着器本体内に設けられていて、ガス流の1つ又は2つ以上の成分の吸着を促進することができる固体材料から成り、
e)前記第1のヘッドと関連していて、前記第1のヘッドを貫通して前記吸着器本体中への経路を開く少なくとも1つのガス流入口及び前記第2のヘッドと関連していて、前記吸着器本体から前記第2のヘッド中への経路を開く少なくとも1つのガス流出口を有し、
f)前記入口と関連したヘッドと一体化されていて、前記ガス流入口を制御する少なくとも1つの入口ポペット弁を有し、前記入口ポペット弁は、直線的に作動可能な弁棒を有し、
g)前記入口と関連した前記ヘッドと一体化されていて、前記ガス流出口を制御する少なくとも1つの出口ポペット弁を有し、前記出口ポペット弁は、直線的に作動可能な弁棒を有し、
h)前記f)及び/又は前記g)の前記直線的に作動可能な弁棒と係合可能な少なくとも1つのアクチュエータを有し、前記アクチュエータは、直線運動を前記ポペット弁に与えてガスが前記吸着器の外部から前記吸着器本体の内部に流れたり前記吸着器本体の内部から前記吸着器の外部に流れたりして変更可能な流れ操作をもたらすことによって弁の開閉を行う、吸着器。
[実施態様項35]
i)前記第2のヘッドと関連していて、前記第2のヘッド及び前記吸着器本体を通る経路を開く少なくとも1つのガス流入口及び前記第1のヘッドと関連していて、前記吸着器本体及び前記第1のヘッドを通る経路を開く少なくとも1つのガス流出口を更に有し、前記f)、前記g)及び前記h)に類似した関連の入口ポペット弁又は他の入口流れ制御手段、出口ポペット弁及びアクチュエータが設けられている、実施態様項34記載の吸着器。
[実施態様項36]
2つの実質的に互いに反対側の開口端を有する吸着領域を部分的に包囲した吸着器本体を有する逆流吸着器内で少なくとも2つの流れの迅速な流れ切り替えを行う方法であって、第1のヘッドが吸着器本体の一端を覆い、第2のヘッドが前記吸着器本体の反対側の端を覆い、前記吸着器本体内に設けられた固定床がガス流の吸着を促進することができる固体材料から成り、前記方法は、
i)1つ又は2つ以上の入口ガス源から少なくとも1つの第1のガス流を前記第1のヘッドを通って前記第1のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流入口まで導入し、そして前記吸着器本体に導入し、処理された前記第1のガス流を前記吸着器本体から取り出し、前記第2のヘッドを通って前記第2のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流出口に至らせるステップを有し、前記導入及び前記取り出しは、それぞれ、前記第1のヘッド内に設けられた少なくとも1つの吸気ポペット弁及び前記第2のヘッド内に設けられた少なくとも1つの排気ポペット弁により制御され、
ii)1つ又は2つ以上の入口ガス源から少なくとも1つの第2のガス流を前記第2のヘッドを通って前記第2のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流入口まで導入し、そして前記吸着器本体に導入し、処理された前記第2のガス流を前記吸着器本体から取り出し、前記第1のヘッドを通って前記第1のヘッドと関連した少なくとも1つのガス流出口に至らせるステップを有し、前記導入及び前記取り出しは、それぞれ、前記第2のヘッド内に設けられた少なくとも1つの吸気ポペット弁及び前記第1のヘッド内に設けられた少なくとも1つの排気ポペット弁により制御される、方法。
[実施態様項37]
吸着器であって、
a)吸着器本体を有し、前記吸着器本体は、前記吸着器本体内に吸着ゾーンを形成し、
b)前記吸着ゾーン内に設けられた充填材料を有し、
c)前記吸着器本体に結合された1つ又は2つ以上のポペット弁組立体を有し、前記ポペット弁組立体は、前記吸着ゾーンと流れ連通状態にあると共に前記吸着器本体の外部の場所と前記吸着ゾーン内の場所との間の流体の流れを制御する、吸着器。
[実施態様項38]
前記吸着器本体は、前記吸着ゾーンを形成するよう互いに結合されたヘッドとシェルを有し、前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、前記ヘッドに結合されている、実施態様項37記載の吸着器。
[実施態様項39]
前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、
i)前記ヘッドの外部から前記ヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、
ii)前記第1の導管と流れ連通状態にあり、前記第1の弁から前記吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御する第1の弁とを有する、実施態様項38記載の吸着器。
[実施態様項40]
前記第1の弁は、前記流路内の流体の流れが第1の流れ方向にあるときに実質的に開放位置を有すると共に前記流路内の流体の流れが第2の逆の流れ方向にあるときには実質的に閉鎖位置を有する、実施態様項39記載の吸着器。
[実施態様項41]
コンピュータ計算装置であって、プロセッサと前記プロセッサに結合されたメモリと、前記メモリに提供される命令とを有し、前記命令は、
吸着器本体に結合されると共に吸着ゾーンと流れ連通状態にある1つ又は2つ以上のポペット弁組立体に基づいてモデル結果を生じさせ、前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、前記吸着器本体の外部の場所と前記吸着ゾーン内の場所との間の流体の流れを制御し、
前記モデル結果を記憶するよう前記プロセッサによって実行可能である、コンピュータ計算装置。
[実施態様項42]
前記モデル結果は、吸着器本体に結合された前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体の間隔に基づいている、実施態様項41記載のコンピュータ計算装置。
[実施態様項43]
前記吸着器は、非対称逆流吸着器である、実施態様項37記載の吸着器。
[実施態様項44]
前記充填材料は、ハニカム充填材料である、実施態様項37記載の吸着器。
[実施態様項45]
前記吸着器は、添付の図面に示されている1つ又は2つ以上の特徴を有する、実施態様項1〜44のうちいずれか一に記載の吸着器。
他の実施態様項としては、次が挙げられる。
[実施態様項1A]
吸着器であって、
a.吸着器本体と、
b.前記吸着器本体に係合した第1のヘッドと、
c.前記ヘッドの外部から前記ヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、
d.前記第1の導管と流れ連通状態にあり、前記第1の弁から前記吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御する第1の弁とを有する、吸着器。
[実施態様項2A]
e)前記吸着器本体に係合した第2のヘッド、
f)前記第1のヘッド又は前記第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第2の導管、及び
g)前記第2の導管と流れ連通状態にある第2の弁のうち少なくとも1つを更に有する、実施態様項1A記載の吸着器。
[実施態様項3A]
前記第1の弁は、前記流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置を有し、前記流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置を有する、実施態様項2A記載の吸着器。
[実施態様項4A]
前記流路の少なくとも一部分の互いに反対側に設けられた第1の弁対を有し、前記第1の弁及び第2の弁は各々、前記流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にあり、前記流路中の流体の流れが第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にある、実施態様項3A記載の吸着器。
[実施態様項5A]
h)前記第1のヘッド又は前記第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第3の導管を更に有し、
i)前記第3の導管と流れ連通状態にある第3の弁を更に有し、前記第3の弁は、前記吸着器本体から前記第3の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御し、
j)前記第1のヘッド又は前記第2のヘッドの外部からそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第4の導管を更に有し、
k)前記第2の導管と流れ連通状態にある第4の弁を更に有し、前記第4の弁は、前記吸着器本体から前記第4の弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する、実施態様項4A記載の吸着器。
[実施態様項6A]
前記流路の少なくとも一部分の互いに反対側に設けられていて前記第2の逆の流れ方向における流れを制御する前記第3の弁及び前記第4の弁を含む第2の弁対を有し、前記第3の弁及び前記第4の弁は各々、前記流路中の流体の流れが前記第1の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にあり、前記流路中の流体の流れが前記第2の逆の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にある、実施態様項5A記載の吸着器。
[実施態様項7A]
前記吸着器は、非対称逆流吸着器である、実施態様項6A記載の吸着器。
[実施態様項8A]
1つ又は2つ以上の追加の弁を有し、各弁は、追加の導管のそれぞれのヘッドを少なくとも部分的に貫通して延びる追加の導管を介して第1、第2、第3又は第4の導管のうちの1つと流れ連通状態にあり、前記追加の導管と流体連通状態にある任意他の導管と同相で動作し、前記吸着器本体からそれぞれの弁まで延びる一部分を含む流路に沿う流体の流れを制御する、実施態様項6A記載の吸着器。
[実施態様項9A]
前記吸着器本体は、吸着床を有し、前記流路の容積は、i)前記吸着床の固体‐流体接触部分内の充填流路容積と、ii)前記弁と前記吸着床との間の開放流路容積とから成り、更に前記吸着床内の任意の開放流れ部分を含む、実施態様項2A記載の吸着器。
[実施態様項10A]
前記充填流容積部は、個体‐流体接触面から2cm未満の距離を置いたところに位置する吸着床中の全ての体積部を含む、実施態様項9A記載の吸着器。
[実施態様項11A]
前記吸着床の前記固体‐流体接触部分は、前記吸着床の前記部分のあらゆる領域に0.5cm2/cm3を超える濡れ面積を有する、実施態様項9A記載の吸着器。
[実施態様項12A]
開放流路容積と充填流路容積の比は、1未満である、実施態様項9A記載の吸着器。
[実施態様項13A]
開放流路容積と充填流路容積の比は、0.5未満である、実施態様項9A記載の吸着器。
[実施態様項14A]
吸着床は、熱交換を行うことができる個体材料から成る固定床コアを有する、実施態様項9A記載の吸着器。
[実施態様項15A]
前記弁のうちの少なくとも1つは、弁棒要素に連結されたディスク要素を有するポペット弁である、実施態様項9A記載の吸着器。
[実施態様項16A]
前記ポペット弁ディスク要素は、近位側吸着床表面に実質的に平行であり且つこれに向いた表面を有する、実施態様項15A記載の吸着器。
[実施態様項17A]
前記ポペット弁は、吸着床に向かって開く、実施態様項16A記載の吸着器。
[実施態様項18A]
前記ポペット弁は、前記吸着床から遠ざかる方向に開く、実施態様項16A記載の吸着器。
[実施態様項19A]
作動中において完全開放位置にある前記ポペット弁ディスク要素の平坦な表面と前記吸着床表面との間の距離は、前記ディスク要素直径の5%〜200%である、実施態様項16A記載の吸着器。
[実施態様項20A]
動作中における完全開放位置にあるポペット弁ディスク要素の平坦な表面と吸着床表面との間の距離は、ディスク要素直径の20%〜80%である、実施態様項16A記載の吸着器。
[実施態様項21A]
前記ポペット弁棒要素は、前記ヘッドの外部の場所まで延びている、実施態様項15記載の吸着器。
[実施態様項22A]
各弁は、前記吸着器本体とそのそれぞれの入口及び/又は前記吸着器本体からの出口内に嵌まり込んでいる外部から接近可能な弁座と関連しており、各弁は、前記ヘッドに密着される、実施態様項2A記載の吸着器。
[実施態様項23A]
前記弁座は、回転可能なロック機構体、ねじ込みシート及び押し込みシートのうちの1つにより前記ヘッドに取り付けられている、実施態様項22A記載の吸着器。
[実施態様項24A]
前記弁棒と関連した弁棒シールを更に有する、実施態様項21A記載の吸着器。
[実施態様項25A]
前記弁棒シールは、ロッド充填材である、実施態様項24A記載の吸着器。
[実施態様項26A]
ポペット弁は、直線運動を与えることにより前記弁を開閉するアクチュエータと係合可能な直線作動可能な弁棒を有する、実施態様項15A記載の吸着器。
[実施態様項27A]
前記アクチュエータは、空気圧作動式、油圧作動式及び電磁作動式のうちの少なくとも1つである、実施態様項26A記載の吸着器。
[実施態様項28A]
前記アクチュエータは、クランクシャフト作動式である、実施態様項26A記載の吸着器。
[実施態様項29A]
共通アクチュエータが特定の流体流れに共通の直線状に整列した複数個の弁を制御する、実施態様項26A記載の吸着器。
[実施態様項30A]
特定のヘッドと関連した円形ポペット弁が実質的に円形であり、直径が一様であり、中心間間隔が平均ポペットディスク要素直径の120%〜400%である、実施態様項15A記載の吸着器。
[実施態様項31A]
特定のヘッドと関連した円形ポペット弁が実質的に円形であり、直径が一様であり、中心間間隔が平均ポペットディスク要素直径の140%〜200%である、実施態様項15A記載の吸着器。
[実施態様項32A]
i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の1%〜100%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が1%〜30%であること、iii)ポペット弁直径が、最小値DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート](DBは、フィートで表された流れ領域直径である)と最大値DPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]との間であること(DBは、フィートで表された流れ領域直径である)、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が3%〜25%であること及びv)弁リフト時間が少なくとも50ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供する、実施態様項15A記載の吸着器。
[実施態様項33A]
i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の5%〜20%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が2%〜20%であること、iii)ポペット弁直径が、最小値DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート](DBは、フィートで表された流れ領域直径である)と最大値DPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]との間であること(DBは、フィートで表された流れ領域直径である)、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が5%〜20%であること、及びv)弁リフト時間が100ミリ秒〜500ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供する、実施態様項15A記載の吸着器。
[実施態様項34A]
前記吸着器は、圧力スイング吸着(PSA)、真空圧力スイング吸着(VPSA)、温度スイング吸着(TSA)、分圧スイング吸着(PPSA)、迅速サイクル圧力スイング吸着(RCPSA)、迅速サイクル温度スイング吸着(RCTSA)、迅速サイクル分圧スイング吸着(RCPPSA)並びにこれらプロセス、例えば圧力/温度スイング吸着の組み合わせのために用いられる吸着器である、実施態様項1A〜33A記載の吸着器。
[実施態様項41A]
吸着器であって、
a)吸着器本体を有し、前記吸着器本体は、前記吸着器本体内に吸着ゾーンを形成し、
b)前記吸着ゾーン内に設けられた充填材料を有し、
c)前記吸着器本体に結合された1つ又は2つ以上のポペット弁組立体を有し、前記ポペット弁組立体は、前記吸着ゾーンと流れ連通状態にあると共に前記吸着器本体の外部の場所と前記吸着ゾーン内の場所との間の流体の流れを制御する、吸着器。
[実施態様項42A]
前記吸着器本体は、前記吸着ゾーンを形成するよう互いに結合されたヘッドとシェルを有し、前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、前記ヘッドに結合されている、実施態様項41A記載の吸着器。
[実施態様項43A]
前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、
i)前記ヘッドの外部から前記ヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、
ii)前記第1の導管と流れ連通状態にあり、前記第1の弁から前記吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御する第1の弁とを有する、実施態様項42A記載の吸着器。
[実施態様項44A]
前記第1の弁は、前記流路内の流体の流れが第1の流れ方向にあるときに実質的に開放位置を有すると共に前記流路内の流体の流れが第2の逆の流れ方向にあるときには実質的に閉鎖位置を有する、実施態様項43A記載の吸着器。
[実施態様項45A]
コンピュータ計算装置であって、プロセッサと前記プロセッサに結合されたメモリと、前記メモリに提供される命令とを有し、前記命令は、
吸着器本体に結合されると共に吸着ゾーンと流れ連通状態にある1つ又は2つ以上のポペット弁組立体に基づいてモデル結果を生じさせ、前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体は、前記吸着器本体の外部の場所と前記吸着ゾーン内の場所との間の流体の流れを制御し、
前記モデル結果を記憶するよう前記プロセッサによって実行可能である、コンピュータ計算装置。
[実施態様項46A]
前記モデル結果は、吸着器本体に結合された前記1つ又は2つ以上のポペット弁組立体の間隔に基づいている、実施態様項45A記載のコンピュータ計算装置。
[実施態様項47A]
前記吸着器は、非対称逆流吸着器である、実施態様項41A記載の吸着器。
[実施態様項48A]
前記充填材料は、ハニカム充填材料である、実施態様項41A記載の吸着器。
[実施態様項49A]
前記充填材料は、エチレンに変換される、実施態様項37A記載の吸着器。
[実施態様項50A]
前記吸着器は、添付の図面に示されている1つ又は2つ以上の特徴を有する、実施態様項1A〜49Aのうちいずれか一に記載の吸着器。
理解できるように、変形実施形態では、実施態様項1〜15又は実施態様項1A〜15Aのうちいずれか一に記載の吸着器は、i)流体が弁を通っているときの弁圧力降下が吸着器内部圧力降下の5%〜20%であること、ii)入口流及び出口流のうちの一方に関する全流れポペット弁流れ面積と吸着器流れ面積の比が2%〜20%であること、iii)ポペット弁直径が、最小値DPMIN[インチ]=0.1484+0.4876・DB[フィート](DBは、フィートで表された流れ領域直径である)と最大値DPMAX[インチ]=1.6113+1.8657・DB[フィート]との間であること(DBは、フィートで表された流れ領域直径である)、iv)LP/DP(弁リフトとポペット直径の比)が3%〜25%であること、及びv)弁リフト時間が少なくとも50ミリ秒であることのうちの少なくとも1つを提供するのが良い。
本発明を本明細書において詳細に説明したが、当業者であれば、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲に含まれる他の実施形態を想到することができよう。

Claims (12)

  1. 吸着器であって、
    a.吸着器本体と、
    b.前記吸着器本体に係合した第1のヘッドと、
    c.前記ヘッドの外部から前記ヘッドを少なくとも部分的に貫通したところまで延びる第1の導管と、
    d.複数の弁と、を有し、
    前記複数の弁は前記第1の導管と流れ連通状態にある第1の弁を含み、前記第1の弁は、当該第1の弁から前記吸着器本体を通って延びる流路に沿う流体の流れを制御し、
    前記複数の弁のうちの少なくとも1つは、弁棒要素に連結されたディスク要素を有するポペット弁であり、作動中において完全開放位置にある前記ポペット弁のディスク要素の平坦な表面と吸着床表面との間の距離は、前記ディスク要素直径の5%〜200%であり、
    前記吸着器は、温度スイング吸着装置又は圧力スイング吸着装置であり、
    前記ポペット弁は、線形運動を与えることにより弁を開閉するようアクチュエータと係合可能な直線的に作動可能な弁棒を有し、
    前記第1のヘッドと関連した複数の前記ポペット弁のディスク要素は実質的に円形であり、直径が一様であり、隣接するポペット弁の中心間の距離は、前記ポペット弁のディスク要素の平均直径の120%〜400%である、吸着器。
  2. 前記第1の弁は、前記流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置を有し、前記流路中の流体の流れが前記第1の流れ方向と反対の第2の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置を有する、請求項1記載の吸着器。
  3. 前記流路の前記第1のバルブの反対側に第2の弁を有し、前記第1の弁及び第2の弁は各々、前記流路中の流体の流れが第1の流れ方向にある場合、実質的に開いた位置にあり、前記流路中の流体の流れが前記第1の流れ方向と反対の第2の流れ方向にある場合、実質的に閉じられた位置にある、請求項2記載の吸着器。
  4. 前記ポペット弁は、当該ポペット弁が開く際に、前記吸着器本体に向かって開く、請求項1記載の吸着器。
  5. 前記ポペット弁は、当該ポペット弁が開く際に、前記吸着器本体から遠ざかる方向に開く、請求項1記載の吸着器。
  6. 各弁は外部から接近可能な弁座と関連しており、外部から接近可能な弁座は、前記吸着器本体へのそれぞれの入口及び/又は前記吸着器本体からの出口内に嵌まり込んでおり、各弁は、前記ヘッドに密着される、請求項1記載の吸着器。
  7. 前記弁座は、回転可能なロック機構体、ねじ込みシート及び押し込みシートのうちの1つにより前記ヘッドに取り付けられている、請求項6記載の吸着器。
  8. 前記弁棒と関連した弁棒シールを更に有する、請求項1記載の吸着器。
  9. 前記弁棒シールは、往復圧縮機型シールである、請求項8記載の吸着器。
  10. 前記アクチュエータは、空気圧作動式、油圧作動式及び電磁作動式のうちの少なくとも1つである、請求項記載の吸着器。
  11. 前記アクチュエータは、クランクシャフト作動式である、請求項記載の吸着器。
  12. 共通アクチュエータが特定の流体流れに共通の直線状に整列した複数個の弁を制御する、請求項記載の吸着器。
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Families Citing this family (340)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2008321326B2 (en) * 2007-11-12 2013-04-18 Exxonmobil Upstream Research Company Methods of generating and utilizing utility gas
BRPI0911224A2 (pt) 2008-04-30 2015-09-29 Exxonmobil Upstream Res Co sistema e método para tratar uma corrente de alimentação gasosa, e, contactador adsorvente estruturado
US10378106B2 (en) 2008-11-14 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming insulation film by modified PEALD
US9394608B2 (en) 2009-04-06 2016-07-19 Asm America, Inc. Semiconductor processing reactor and components thereof
US8802201B2 (en) 2009-08-14 2014-08-12 Asm America, Inc. Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species
US9067168B2 (en) 2010-05-28 2015-06-30 Exxonmobil Upstream Research Company Integrated adsorber head and valve design and swing adsorption methods related thereto
TWI495501B (zh) 2010-11-15 2015-08-11 Exxonmobil Upstream Res Co 動力分餾器及用於氣體混合物之分餾的循環法
JP6035553B2 (ja) 2011-03-01 2016-11-30 エクソンモービル アップストリーム リサーチ カンパニー スイング吸着により炭化水素流から汚染物質を除去する方法並びに関連装置及びシステム
CA2824162A1 (en) 2011-03-01 2012-09-07 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having a rotary valve assembly and swing adsorption processes related thereto
SG192572A1 (en) 2011-03-01 2013-09-30 Exxonmobil Upstream Res Co Apparatus and systems having an encased adsorbent contactor and swing adsorption processes related thereto
US9017457B2 (en) 2011-03-01 2015-04-28 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having a reciprocating valve head assembly and swing adsorption processes related thereto
CA2842928A1 (en) 2011-03-01 2012-11-29 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having a rotary valve assembly and swing adsorption processes related thereto
US9162175B2 (en) 2011-03-01 2015-10-20 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having compact configuration multiple swing adsorption beds and methods related thereto
US9312155B2 (en) 2011-06-06 2016-04-12 Asm Japan K.K. High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules
US10364496B2 (en) 2011-06-27 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Dual section module having shared and unshared mass flow controllers
US10854498B2 (en) 2011-07-15 2020-12-01 Asm Ip Holding B.V. Wafer-supporting device and method for producing same
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US9017481B1 (en) 2011-10-28 2015-04-28 Asm America, Inc. Process feed management for semiconductor substrate processing
US9659799B2 (en) 2012-08-28 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling
US9034078B2 (en) 2012-09-05 2015-05-19 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having an adsorbent contactor and swing adsorption processes related thereto
US9021985B2 (en) 2012-09-12 2015-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Process gas management for an inductively-coupled plasma deposition reactor
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
US9484191B2 (en) 2013-03-08 2016-11-01 Asm Ip Holding B.V. Pulsed remote plasma method and system
US9589770B2 (en) 2013-03-08 2017-03-07 Asm Ip Holding B.V. Method and systems for in-situ formation of intermediate reactive species
US9240412B2 (en) 2013-09-27 2016-01-19 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor structure and device and methods of forming same using selective epitaxial process
US10683571B2 (en) 2014-02-25 2020-06-16 Asm Ip Holding B.V. Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same
US10167557B2 (en) 2014-03-18 2019-01-01 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
CA2949262C (en) 2014-07-25 2020-02-18 Shwetha Ramkumar Cyclical swing absorption process and system
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US9890456B2 (en) 2014-08-21 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method and system for in situ formation of gas-phase compounds
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US9657845B2 (en) * 2014-10-07 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Variable conductance gas distribution apparatus and method
US10307749B2 (en) 2014-11-11 2019-06-04 Exxonmobil Upstream Research Company High capacity structures and monoliths via paste imprinting
KR102300403B1 (ko) 2014-11-19 2021-09-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
CA2970286C (en) 2014-12-10 2019-08-13 Exxonmobil Research And Engineering Company Adsorbent-incorporated polymer fibers in packed bed and fabric contactors, and methods and devices using same
KR102263121B1 (ko) 2014-12-22 2021-06-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 및 그 제조 방법
US9744521B2 (en) 2014-12-23 2017-08-29 Exxonmobil Upstream Research Company Structured adsorbent beds, methods of producing the same and uses thereof
US10529542B2 (en) 2015-03-11 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Cross-flow reactor and method
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
CA2979870C (en) 2015-05-15 2019-12-03 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and system for swing adsorption processes related thereto
SG11201707069QA (en) 2015-05-15 2017-11-29 Exxonmobil Upstream Res Co Apparatus and system for swing adsorption processes related thereto comprising mid-bed purge systems
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10600673B2 (en) 2015-07-07 2020-03-24 Asm Ip Holding B.V. Magnetic susceptor to baseplate seal
US10043661B2 (en) 2015-07-13 2018-08-07 Asm Ip Holding B.V. Method for protecting layer by forming hydrocarbon-based extremely thin film
US10083836B2 (en) 2015-07-24 2018-09-25 Asm Ip Holding B.V. Formation of boron-doped titanium metal films with high work function
US10293298B2 (en) 2015-09-02 2019-05-21 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and system for combined temperature and pressure swing adsorption processes related thereto
US10220345B2 (en) 2015-09-02 2019-03-05 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and system for swing adsorption processes related thereto
US9960072B2 (en) 2015-09-29 2018-05-01 Asm Ip Holding B.V. Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US10322365B2 (en) 2015-10-27 2019-06-18 Exxonmobil Upstream Reseach Company Apparatus and system for swing adsorption processes related thereto
JP6616011B2 (ja) * 2015-10-27 2019-12-04 エクソンモービル アップストリーム リサーチ カンパニー 複数の弁を有するスイング吸着プロセス用の装置及びシステム
CN108348837B (zh) * 2015-10-27 2021-02-19 埃克森美孚上游研究公司 具有主动控制的进料提升阀和被动控制的产物阀的装置和与其相关的用于摆动吸附方法的系统
US10322384B2 (en) 2015-11-09 2019-06-18 Asm Ip Holding B.V. Counter flow mixer for process chamber
US10744449B2 (en) 2015-11-16 2020-08-18 Exxonmobil Upstream Research Company Adsorbent materials and methods of adsorbing carbon dioxide
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10468251B2 (en) 2016-02-19 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning
US10501866B2 (en) 2016-03-09 2019-12-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system
US10343920B2 (en) 2016-03-18 2019-07-09 Asm Ip Holding B.V. Aligned carbon nanotubes
RU2714063C1 (ru) 2016-03-18 2020-02-11 Эксонмобил Апстрим Рисерч Компани Устройство и система для осуществления процессов короткоцикловой адсорбции
US9892913B2 (en) 2016-03-24 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Radial and thickness control via biased multi-port injection settings
JP6980686B2 (ja) 2016-03-31 2021-12-15 スヴァンテ インコーポレイテッド 低熱導電率吸着ガス分離器
US10087522B2 (en) 2016-04-21 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10190213B2 (en) 2016-04-21 2019-01-29 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10865475B2 (en) 2016-04-21 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides and silicides
US10032628B2 (en) 2016-05-02 2018-07-24 Asm Ip Holding B.V. Source/drain performance through conformal solid state doping
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
KR102592471B1 (ko) 2016-05-17 2023-10-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 배선 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
CN109219476A (zh) 2016-05-31 2019-01-15 埃克森美孚上游研究公司 用于变吸附方法的装置和系统
RU2716686C1 (ru) 2016-05-31 2020-03-13 Эксонмобил Апстрим Рисерч Компани Устройство и система для осуществления процессов короткоцикловой адсорбции
US10388509B2 (en) 2016-06-28 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Formation of epitaxial layers via dislocation filtering
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9793135B1 (en) 2016-07-14 2017-10-17 ASM IP Holding B.V Method of cyclic dry etching using etchant film
US10714385B2 (en) 2016-07-19 2020-07-14 Asm Ip Holding B.V. Selective deposition of tungsten
KR102354490B1 (ko) 2016-07-27 2022-01-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
US10177025B2 (en) 2016-07-28 2019-01-08 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10395919B2 (en) 2016-07-28 2019-08-27 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10434458B2 (en) 2016-08-31 2019-10-08 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and system for swing adsorption processes related thereto
US10090316B2 (en) 2016-09-01 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. 3D stacked multilayer semiconductor memory using doped select transistor channel
KR102215684B1 (ko) 2016-09-01 2021-02-19 엑손모빌 업스트림 리서치 캄파니 3a 제올라이트 구조체를 사용하는 물의 제거를 위한 스윙 흡착 방법
US10328382B2 (en) 2016-09-29 2019-06-25 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and system for testing swing adsorption processes
US10410943B2 (en) 2016-10-13 2019-09-10 Asm Ip Holding B.V. Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems
US10643826B2 (en) 2016-10-26 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for thermally calibrating reaction chambers
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10435790B2 (en) 2016-11-01 2019-10-08 Asm Ip Holding B.V. Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap
US10229833B2 (en) 2016-11-01 2019-03-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10643904B2 (en) 2016-11-01 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures
US10134757B2 (en) 2016-11-07 2018-11-20 Asm Ip Holding B.V. Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US10340135B2 (en) 2016-11-28 2019-07-02 Asm Ip Holding B.V. Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
US9916980B1 (en) 2016-12-15 2018-03-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
KR20180070971A (ko) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CA3045034C (en) 2016-12-21 2021-06-29 Exxonmobil Upstream Research Company Self-supporting structures having active materials
EP3558490B1 (en) 2016-12-21 2022-06-29 ExxonMobil Upstream Research Company Self-supporting structures having foam-geometry structure and active materials
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US10867788B2 (en) 2016-12-28 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10655221B2 (en) 2017-02-09 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10283353B2 (en) 2017-03-29 2019-05-07 Asm Ip Holding B.V. Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10103040B1 (en) 2017-03-31 2018-10-16 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for manufacturing a semiconductor device
USD830981S1 (en) 2017-04-07 2018-10-16 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate processing apparatus
KR102457289B1 (ko) 2017-04-25 2022-10-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10446393B2 (en) 2017-05-08 2019-10-15 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10504742B2 (en) 2017-05-31 2019-12-10 Asm Ip Holding B.V. Method of atomic layer etching using hydrogen plasma
US10886123B2 (en) 2017-06-02 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
US10685834B2 (en) 2017-07-05 2020-06-16 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10605530B2 (en) 2017-07-26 2020-03-31 Asm Ip Holding B.V. Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10312055B2 (en) 2017-07-26 2019-06-04 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing film by PEALD using negative bias
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US10249524B2 (en) 2017-08-09 2019-04-02 Asm Ip Holding B.V. Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly
US10236177B1 (en) 2017-08-22 2019-03-19 ASM IP Holding B.V.. Methods for depositing a doped germanium tin semiconductor and related semiconductor device structures
USD900036S1 (en) 2017-08-24 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Heater electrical connector and adapter
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
US10607895B2 (en) 2017-09-18 2020-03-31 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal
KR102630301B1 (ko) 2017-09-21 2024-01-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치
US10844484B2 (en) 2017-09-22 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10319588B2 (en) 2017-10-10 2019-06-11 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
US11541371B2 (en) 2017-11-02 2023-01-03 Flow Dry Technology, Inc. Adsorbent system
US10910262B2 (en) 2017-11-16 2021-02-02 Asm Ip Holding B.V. Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure
KR102443047B1 (ko) 2017-11-16 2022-09-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
TWI791689B (zh) 2017-11-27 2023-02-11 荷蘭商Asm智慧財產控股私人有限公司 包括潔淨迷你環境之裝置
JP7214724B2 (ja) 2017-11-27 2023-01-30 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. バッチ炉で利用されるウェハカセットを収納するための収納装置
US10290508B1 (en) 2017-12-05 2019-05-14 Asm Ip Holding B.V. Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TW202325889A (zh) 2018-01-19 2023-07-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 沈積方法
CN111630203A (zh) 2018-01-19 2020-09-04 Asm Ip私人控股有限公司 通过等离子体辅助沉积来沉积间隙填充层的方法
USD903477S1 (en) 2018-01-24 2020-12-01 Asm Ip Holdings B.V. Metal clamp
WO2019147516A1 (en) 2018-01-24 2019-08-01 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and system for temperature swing adsorption
US11018047B2 (en) 2018-01-25 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Hybrid lift pin
US10535516B2 (en) 2018-02-01 2020-01-14 Asm Ip Holdings B.V. Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures
USD880437S1 (en) 2018-02-01 2020-04-07 Asm Ip Holding B.V. Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
JP7124098B2 (ja) 2018-02-14 2022-08-23 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 周期的堆積プロセスにより基材上にルテニウム含有膜を堆積させる方法
US10731249B2 (en) 2018-02-15 2020-08-04 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus
US10658181B2 (en) 2018-02-20 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
EP3758828A1 (en) 2018-02-28 2021-01-06 ExxonMobil Upstream Research Company Apparatus and system for swing adsorption processes
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
US10510536B2 (en) 2018-03-29 2019-12-17 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102501472B1 (ko) 2018-03-30 2023-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
KR20190128558A (ko) 2018-05-08 2019-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 산화물 막을 주기적 증착 공정에 의해 증착하기 위한 방법 및 관련 소자 구조
TW202349473A (zh) 2018-05-11 2023-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
CN108869796B (zh) * 2018-06-15 2019-12-17 上海理工大学 一种用于固定床化学链制氢的旋转组合阀及方法
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
WO2020003000A1 (en) 2018-06-27 2020-01-02 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
CN112292478A (zh) 2018-06-27 2021-01-29 Asm Ip私人控股有限公司 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构
KR20200002519A (ko) 2018-06-29 2020-01-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10767789B2 (en) 2018-07-16 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components
US10483099B1 (en) 2018-07-26 2019-11-19 Asm Ip Holding B.V. Method for forming thermally stable organosilicon polymer film
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US10883175B2 (en) 2018-08-09 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein
US10829852B2 (en) 2018-08-16 2020-11-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution device for a wafer processing apparatus
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
US10847365B2 (en) 2018-10-11 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD
US10811256B2 (en) 2018-10-16 2020-10-20 Asm Ip Holding B.V. Method for etching a carbon-containing feature
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US10381219B1 (en) 2018-10-25 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US10559458B1 (en) 2018-11-26 2020-02-11 Asm Ip Holding B.V. Method of forming oxynitride film
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
JP2020096183A (ja) 2018-12-14 2020-06-18 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム
US11318410B2 (en) 2018-12-21 2022-05-03 Exxonmobil Upstream Research Company Flow modulation systems, apparatus, and methods for cyclical swing adsorption
TWI819180B (zh) 2019-01-17 2023-10-21 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
KR20200102357A (ko) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
TW202044325A (zh) 2019-02-20 2020-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
TW202104632A (zh) 2019-02-20 2021-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備
TW202100794A (zh) 2019-02-22 2021-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200108243A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
US11742198B2 (en) 2019-03-08 2023-08-29 Asm Ip Holding B.V. Structure including SiOCN layer and method of forming same
KR20200116033A (ko) 2019-03-28 2020-10-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
KR20200123380A (ko) 2019-04-19 2020-10-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 층 형성 방법 및 장치
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
US11376545B2 (en) 2019-04-30 2022-07-05 Exxonmobil Upstream Research Company Rapid cycle adsorbent bed
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141003A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP2021015791A (ja) 2019-07-09 2021-02-12 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
TW202113936A (zh) 2019-07-29 2021-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
CN112323048B (zh) 2019-08-05 2024-02-09 Asm Ip私人控股有限公司 用于化学源容器的液位传感器
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
US20240084917A1 (en) 2019-10-07 2024-03-14 Wartsila Services Switzerland Ltd. Step lift control of hydraulically actuated popped valves
US11655910B2 (en) 2019-10-07 2023-05-23 ExxonMobil Technology and Engineering Company Adsorption processes and systems utilizing step lift control of hydraulically actuated poppet valves
TW202129060A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Asm Ip控股公司 基板處理裝置、及基板處理方法
KR20210043460A (ko) 2019-10-10 2021-04-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
EP4045173A1 (en) 2019-10-16 2022-08-24 Exxonmobil Upstream Research Company (EMHC-N1-4A-607) Dehydration processes utilizing cationic zeolite rho
KR20210045930A (ko) 2019-10-16 2021-04-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11450529B2 (en) 2019-11-26 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11885013B2 (en) 2019-12-17 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride layer and structure including the vanadium nitride layer
KR20210080214A (ko) 2019-12-19 2021-06-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
KR20210095050A (ko) 2020-01-20 2021-07-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
TW202146882A (zh) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
TW202146715A (zh) 2020-02-17 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於生長磷摻雜矽層之方法及其系統
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
KR20210116249A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 록아웃 태그아웃 어셈블리 및 시스템 그리고 이의 사용 방법
KR20210117157A (ko) 2020-03-12 2021-09-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
CN113555279A (zh) 2020-04-24 2021-10-26 Asm Ip私人控股有限公司 形成含氮化钒的层的方法及包含其的结构
KR20210132605A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
KR20210143653A (ko) 2020-05-19 2021-11-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
KR20220010438A (ko) 2020-07-17 2022-01-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
TW202212623A (zh) 2020-08-26 2022-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成金屬氧化矽層及金屬氮氧化矽層的方法、半導體結構、及系統
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
TW202217037A (zh) 2020-10-22 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
KR20220076343A (ko) 2020-11-30 2022-06-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터
US11946137B2 (en) 2020-12-16 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Runout and wobble measurement fixtures
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate
CN114699876B (zh) * 2022-06-01 2022-12-23 天津理工大学 一种混合气体分离装置

Family Cites Families (272)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3124152A (en) 1964-03-10 Poppet-type valve construction
US1868138A (en) 1930-04-10 1932-07-19 Edwin J Fisk Poppet valve
US2600435A (en) * 1948-11-29 1952-06-17 Samuel A Shapiro Freon 12 dehydrator and manifold
NL286634A (ja) 1961-12-18 1900-01-01
CH464625A (de) 1966-10-12 1968-10-31 Sulzer Ag Wellendichtung für ein Gebläse, insbesondere für das Umwälzgebläse einer gasgekühlten Kernreaktoranlage
US3602247A (en) 1969-11-10 1971-08-31 Stuart E Bunn Multiple-poppet valve structure
US3788036A (en) 1972-07-26 1974-01-29 D Stahl Pressure equalization and purging system for heatless adsorption systems
US3967464A (en) 1974-07-22 1976-07-06 Air Products And Chemicals, Inc. Air separation process and system utilizing pressure-swing driers
JPS51137439U (ja) * 1975-04-30 1976-11-06
JPS52120973A (en) * 1976-04-05 1977-10-11 Toyobo Co Ltd Continuous gas adsorption apparatus
US4207084A (en) * 1977-04-04 1980-06-10 The Bendix Corporation Single bed separator apparatus
DE2935147A1 (de) 1979-08-30 1981-03-26 Linde Ag, 65189 Wiesbaden Verfahren zur entfernung von schmiermittelnebeln und schmiermitteldaempfen aus einem gasstrom
US4261815A (en) 1979-12-31 1981-04-14 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic separator and method
US4325565A (en) 1980-03-03 1982-04-20 General Motors Corporation Cambering vehicle
US4329162A (en) 1980-07-03 1982-05-11 Corning Glass Works Diesel particulate trap
US4340398A (en) 1981-05-20 1982-07-20 Union Carbide Corporation Pressure swing adsorption recovery
US4374655A (en) * 1981-12-07 1983-02-22 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Humidity controller
JPS58114715A (ja) 1981-12-26 1983-07-08 Sumitomo Heavy Ind Ltd 乾式脱硫装置における不活性ガスの生成方法
JPS59232174A (ja) 1983-06-16 1984-12-26 Tokyo Gas Co Ltd コ−クス炉ガスの精製法
US4977745A (en) 1983-07-06 1990-12-18 Heichberger Albert N Method for the recovery of low purity carbon dioxide
JPS60189318A (ja) 1984-03-07 1985-09-26 Mitsubishi Electric Corp パルス増幅装置
JPS60189318U (ja) * 1984-05-23 1985-12-14 東洋紡績株式会社 廃ガスの吸着浄化装置における切替ダンパ−装置
US4816039A (en) 1986-02-24 1989-03-28 The Boc Group, Inc. PSA multicomponent separation utilizing tank equalization
US4770676A (en) 1986-05-16 1988-09-13 Air Products And Chemicals, Inc. Recovery of methane from land fill gas
EP0257493A1 (en) 1986-08-22 1988-03-02 Air Products And Chemicals, Inc. Adsorptive separation of gas mixtures
US4711968A (en) 1986-10-03 1987-12-08 Exxon Research & Engineering Co. Process for the hydrofomylation of sulfur-containing thermally cracked petroleum residua
SE459397B (sv) * 1987-05-07 1989-07-03 Garphyttan Haldex Ab Ventil i en tvaatorns luftfuktare
US4784672A (en) 1987-10-08 1988-11-15 Air Products And Chemicals, Inc. Regeneration of adsorbents
US4790272A (en) 1987-10-15 1988-12-13 Woolenweber William E Non-circular poppet valves for internal combustion engine cylinder assemblies
US5234472A (en) 1987-11-16 1993-08-10 The Boc Group Plc Separation of gas mixtures including hydrogen
US5292990A (en) 1988-12-07 1994-03-08 Exxon Research & Engineering Co. Zeolite composition for use in olefinic separations
US4877429A (en) 1989-03-06 1989-10-31 Hunter Donald W Valve device for P.S.A. or R.P.S.A. systems
JPH088972B2 (ja) 1989-03-28 1996-01-31 森川産業株式会社 ガスの回収装置
US5110328A (en) 1989-06-07 1992-05-05 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Solvent adsorber and solvent recovery system
JPH0724735B2 (ja) 1989-11-04 1995-03-22 西部瓦斯株式会社 圧力スイング吸着における過吸着回収システム
US5125934A (en) 1990-09-28 1992-06-30 The Boc Group, Inc. Argon recovery from argon-oxygen-decarburization process waste gases
US5174796A (en) 1991-10-09 1992-12-29 Uop Process for the purification of natural gas
US5169006A (en) 1991-11-14 1992-12-08 Ceil Stelzer Continuous magnetic separator
US6136222A (en) 1991-12-11 2000-10-24 Bend Research, Inc. Liquid absorbent solutions for separating nitrogen from natural gas
US5224350A (en) 1992-05-11 1993-07-06 Advanced Extraction Technologies, Inc. Process for recovering helium from a gas stream
US5306331A (en) 1993-03-18 1994-04-26 Permea, Inc. Process for cooling the feed gas to gas separation systems
US5286282A (en) * 1993-05-04 1994-02-15 Allied-Signal Inc. Continuous flow air dryer with double helix split desiccant bed
US5370728A (en) 1993-09-07 1994-12-06 Praxair Technology, Inc. Single bed pressure swing adsorption system and process
US5792239A (en) 1994-10-21 1998-08-11 Nitrotec Corporation Separation of gases by pressure swing adsorption
EP0745416B1 (en) 1995-06-02 2003-09-17 Corning Incorporated Device for removal of contaminants from fluid streams
US5811616A (en) 1995-06-13 1998-09-22 Amoco Corporation BF3 gas recovery process
AU1192897A (en) 1995-06-23 1997-01-22 Revolve Technologies Inc. Dry seal contamination prevention system
US5565018A (en) 1995-07-12 1996-10-15 Praxair Technology, Inc. Optimal pressure swing adsorption refluxing
US5700310A (en) 1995-12-29 1997-12-23 Mg Generon, Inc. Removal of oil from compressed gas with macroporous polymeric adsorbent
US5662727A (en) * 1996-02-06 1997-09-02 Westinghouse Air Brake Company Twin tower air dryer for an air compressor unit
US6063161A (en) 1996-04-24 2000-05-16 Sofinoy Societte Financiere D'innovation Inc. Flow regulated pressure swing adsorption system
USRE38493E1 (en) 1996-04-24 2004-04-13 Questair Technologies Inc. Flow regulated pressure swing adsorption system
US5837205A (en) 1996-05-07 1998-11-17 Megtec Systems, Inc. Bypass system and method for regenerative thermal oxidizers
CZ363398A3 (cs) 1996-05-10 1999-04-14 Megtec Systems, Inc. Regenerační oxidační zařízení
US5833938A (en) 1996-05-20 1998-11-10 Megtec Systems, Inc. Integrated VOC entrapment system for regenerative oxidation
US5807423A (en) 1996-09-27 1998-09-15 The Boc Group, Inc. Process and apparatus for gas separation
US5827358A (en) 1996-11-08 1998-10-27 Impact Mst, Incorporation Rapid cycle pressure swing adsorption oxygen concentration method and apparatus
US5769928A (en) 1996-12-12 1998-06-23 Praxair Technology, Inc. PSA gas purifier and purification process
AU734362B2 (en) * 1996-12-31 2001-06-14 Bowie Gordon Keefer High frequency pressure swing adsorption
US5912426A (en) 1997-01-30 1999-06-15 Praxair Technology, Inc. System for energy recovery in a vacuum pressure swing adsorption apparatus
EP0968043B1 (en) 1997-01-31 2004-10-13 RIC Investments, Inc. Pressure swing absorption system with multi-chamber canister
WO1998041313A1 (en) 1997-03-14 1998-09-24 Exxon Research And Engineering Company Membranes comprising aminoacid salts in polyamine polymers and blends
US6152991A (en) 1997-04-17 2000-11-28 Praxair Technology, Inc. Multilayer adsorbent beds for PSA gas separation
US5882380A (en) 1997-05-14 1999-03-16 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption process with a single adsorbent bed
US5906673A (en) 1997-05-15 1999-05-25 Nitrotec Corporation Pressure swing system with auxiliary adsorbent bed
US5924307A (en) 1997-05-19 1999-07-20 Praxair Technology, Inc. Turbine/motor (generator) driven booster compressor
ES2135329B1 (es) 1997-05-31 2000-05-16 Univ Valencia Politecnica Zeolita itq-3.
US6179900B1 (en) 1997-10-09 2001-01-30 Gkss Forschungszentrum Geesthacht Gmbh Process for the separation/recovery of gases
US5871349A (en) 1997-10-16 1999-02-16 Smith Engineering Company Rotary valve thermal oxidizer
US6039927A (en) 1997-11-04 2000-03-21 Greco; Richard Valve system for regenerative thermal oxidizers
US7094275B2 (en) 1997-12-01 2006-08-22 Questair Technologies, Inc. Modular pressure swing adsorption apparatus
JP4708562B2 (ja) 1997-12-01 2011-06-22 ウエストエアー・テクノロジーズ・インコーポレイテッド モジュール圧力スイング吸収装置
US6007606A (en) 1997-12-09 1999-12-28 Praxair Technology, Inc. PSA process and system
US6147126A (en) 1998-02-10 2000-11-14 Exxon Research And Engineering Company Gas conversion using hydrogen from syngas gas and hydroconversion tail gas
FR2775198B1 (fr) 1998-02-26 2000-04-14 Air Liquide Procede et dispositif de purification de gaz par adsorption a lits horizontaux fixes
KR100582913B1 (ko) 1998-02-27 2006-05-24 프랙스에어 테크놀로지, 인코포레이티드 고유 확산율이 높은 흡착제 및 낮은 압력비를 이용하는 압력 스윙 흡착 기체 분리 방법
KR100582914B1 (ko) 1998-02-27 2006-05-24 프랙스에어 테크놀로지, 인코포레이티드 흡착제 물질을 사용한 vpsa 방법
FR2775618B1 (fr) 1998-03-03 2000-05-05 Air Liquide Adsorbant a taux d'echange heterogene et procede psa mettant en oeuvre un tel adsorbant
JPH11280921A (ja) * 1998-03-30 1999-10-15 Kiichi Taga 高温ガス切替弁
FR2776941B1 (fr) 1998-04-07 2000-05-05 Air Liquide Procede et unite de production d'oxygene par adsorption avec cycle court
US5968234A (en) 1998-04-14 1999-10-19 Air Products And Chemicals, Inc. Temperature swing adsorption with regeneration by elevated pressure ASU nitrogen-enriched gas
PT1076800E (pt) 1998-05-07 2005-01-31 Megtec Sys Inc Secador de tela com fonte de calor regenerativa completamente integrada
US5935444A (en) 1998-05-14 1999-08-10 Amcol International Corporation Method and apparatus for removing oil from water on offshore drilling and production platforms
EP0958884A1 (de) 1998-05-19 1999-11-24 Lastec Laserjob AG Verfahren zum Bearbeiten von Werkstücken sowie Werkzeugmaschine
US6011192A (en) 1998-05-22 2000-01-04 Membrane Technology And Research, Inc. Membrane-based conditioning for adsorption system feed gases
US6129139A (en) 1998-06-23 2000-10-10 Megtec Systems Inc. Consolidated poppet valve assembly
JP4519954B2 (ja) 1998-07-07 2010-08-04 大陽日酸株式会社 高清浄乾燥空気と乾燥空気の製造方法及び装置
US6336278B1 (en) 1998-11-18 2002-01-08 Universal Dynamics, Inc. Method and system for controlling airflow in a multiple bed desiccant drying system
EP1018359A3 (en) 1998-11-25 2002-09-04 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption process and system with product storage tank(s)
US6096115A (en) 1998-11-25 2000-08-01 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption process and system utilizing two product storage tanks
WO2000035560A2 (en) 1998-12-16 2000-06-22 Quest Air Gases, Inc. Gas separation with split stream centrifugal turbomachinery
US6156101A (en) 1999-02-09 2000-12-05 Air Products And Chemicals, Inc. Single bed pressure swing adsorption process and system
US6183538B1 (en) 1999-02-09 2001-02-06 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption gas flow control method and system
US6245127B1 (en) 1999-05-27 2001-06-12 Praxair Technology, Inc. Pressure swing adsorption process and apparatus
US6231302B1 (en) 1999-06-08 2001-05-15 G. Fonda Bonardi Thermal control system for gas-bearing turbocompressors
US6651645B1 (en) 1999-06-08 2003-11-25 Nunez Suarez Rene Maurico Pressurized combustion and heat transfer process and apparatus
WO2000076628A1 (en) 1999-06-09 2000-12-21 Questair Technologies Inc. Rotary pressure swing adsorption apparatus
JP5188663B2 (ja) 1999-06-10 2013-04-24 エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド 圧力スイング吸着式化学反応器
CA2274312A1 (en) 1999-06-10 2000-12-10 Kevin A. Kaupert Modular pressure swing adsorption apparatus with clearance-type valve seals
CA2274318A1 (en) 1999-06-10 2000-12-10 Questor Industries Inc. Pressure swing adsorption with axial or centrifugal compression machinery
US6733571B1 (en) 1999-07-12 2004-05-11 Saes Pure Gas, Inc. Gas purification system with an integrated hydrogen sorption and filter assembly
US6436171B1 (en) 1999-07-22 2002-08-20 The Boc Group, Inc. Oxygen-selective adsorbents
US6311719B1 (en) 1999-08-10 2001-11-06 Sequal Technologies, Inc. Rotary valve assembly for pressure swing adsorption system
US6210466B1 (en) 1999-08-10 2001-04-03 Uop Llc Very large-scale pressure swing adsorption processes
US6284021B1 (en) 1999-09-02 2001-09-04 The Boc Group, Inc. Composite adsorbent beads for adsorption process
FR2800297B1 (fr) 1999-10-28 2001-12-28 Air Liquide Installation de traitement cyclique de fluide par adsorption avec vannes a etancheite amelioree
US6213758B1 (en) 1999-11-09 2001-04-10 Megtec Systems, Inc. Burner air/fuel ratio regulation method and apparatus
EP1261682B1 (en) 2000-03-03 2006-09-27 Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. Use of low pressure distillate as absorber oil in a fcc recovery section
US6835354B2 (en) 2000-04-05 2004-12-28 Hyradix, Inc. Integrated reactor
US6261092B1 (en) 2000-05-17 2001-07-17 Megtec Systems, Inc. Switching valve
US6579341B2 (en) 2000-05-19 2003-06-17 Membrane Technology And Research, Inc. Nitrogen gas separation using organic-vapor-resistant membranes
US6506351B1 (en) 2000-08-11 2003-01-14 The Boc Group, Inc. Removal of nitrogen oxides from gas streams
EP1180599A1 (de) 2000-08-16 2002-02-20 Siemens Building Technologies AG Sicherheitstechnische Einrichtung für eine Pumpe, die in einem Fluidgetriebe verwendet werden kann
JP3581879B2 (ja) 2000-08-30 2004-10-27 独立行政法人産業技術総合研究所 アルミナ多孔体及びその製造方法
US7122073B1 (en) 2000-09-18 2006-10-17 Praxair Technology, Inc. Low void adsorption systems and uses thereof
CA2320551C (en) 2000-09-25 2005-12-13 Questair Technologies Inc. Compact pressure swing adsorption apparatus
ATE503729T1 (de) 2000-09-26 2011-04-15 Lanxess Deutschland Gmbh Adsorptionsbehälter und eisenoxidadsorber
US6444012B1 (en) 2000-10-30 2002-09-03 Engelhard Corporation Selective removal of nitrogen from natural gas by pressure swing adsorption
US6425938B1 (en) 2000-11-01 2002-07-30 Air Products And Chemicals, Inc. Single bed pressure swing adsorption process
CA2329475A1 (en) 2000-12-11 2002-06-11 Andrea Gibbs Fast cycle psa with adsorbents sensitive to atmospheric humidity
US6500241B2 (en) 2000-12-19 2002-12-31 Fluor Corporation Hydrogen and carbon dioxide coproduction
US6497750B2 (en) 2001-02-26 2002-12-24 Engelhard Corporation Pressure swing adsorption process
US20020157535A1 (en) 2001-02-28 2002-10-31 Kanazirev Vladislav I. Process and adsorbent for gas drying
FR2822085B1 (fr) 2001-03-16 2003-05-09 Air Liquide Adsorbant a transfert de matiere ameliore pour procede vsa ou psa
US6531516B2 (en) 2001-03-27 2003-03-11 Exxonmobil Research & Engineering Co. Integrated bitumen production and gas conversion
TW490814B (en) 2001-04-04 2002-06-11 Macronix Int Co Ltd Manufacturing method of memory device with floating gate
US6630012B2 (en) 2001-04-30 2003-10-07 Battelle Memorial Institute Method for thermal swing adsorption and thermally-enhanced pressure swing adsorption
GB2375148A (en) 2001-04-30 2002-11-06 Corac Group Plc A dry gas seal
US6746515B2 (en) 2001-04-30 2004-06-08 Battelle Memorial Institute Method and apparatus for thermal swing adsorption and thermally-enhanced pressure swing adsorption
US6749815B2 (en) 2001-05-04 2004-06-15 Megtec Systems, Inc. Switching valve seal
JP2002348651A (ja) 2001-05-22 2002-12-04 Nisshin Steel Co Ltd Mg含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法及び製造装置
US6471939B1 (en) 2001-05-29 2002-10-29 Exxonmobil Research And Engineering Company Synthetic porous crystalline material ITQ-12, its synthesis and use
US6752852B1 (en) 2001-07-17 2004-06-22 American Air Liquide, Inc. Apparatus for removing moisture from fluids comprising acid gases; methods of using same, and compositions
US6576198B2 (en) 2001-08-14 2003-06-10 Megtec Systems, Inc. Modular VOC entrapment chamber for a two-chamber regenerative oxidizer
KR100851241B1 (ko) 2001-08-29 2008-08-08 다이요 닛산 가부시키가이샤 산소ㆍ질소 혼합 가스로부터 질소를 분리하기 위한흡착제와 이를 이용한 질소 제조 방법
SE523278C2 (sv) 2001-10-11 2004-04-06 Ifoe Ceramics Ab Förfarande och anordning för framställning av syre eller syreberikad luft
JP3891834B2 (ja) 2001-12-04 2007-03-14 大陽日酸株式会社 ガス供給方法及び装置
AU2002365046A1 (en) 2001-12-20 2003-07-09 Praxair Technology, Inc. Method and apparatus for gas purification
US6572678B1 (en) 2001-12-28 2003-06-03 Membrane Technology And Research, Inc. Natural gas separation using nitrogen-selective membranes of modest selectivity
EP1323468A1 (en) 2001-12-31 2003-07-02 Grace GmbH & Co. KG Adsorbing material comprised of porous functional solid incorporated in a polymer matrix
US7067208B2 (en) 2002-02-20 2006-06-27 Ion America Corporation Load matched power generation system including a solid oxide fuel cell and a heat pump and an optional turbine
US6565627B1 (en) 2002-03-08 2003-05-20 Air Products And Chemicals, Inc. Self-supported structured adsorbent for gas separation
US6770120B2 (en) 2002-05-01 2004-08-03 Praxair Technology, Inc. Radial adsorption gas separation apparatus and method of use
US6660065B2 (en) 2002-05-06 2003-12-09 Litton Systems, Inc. Pressure swing adsorption dryer for pneumatically driven pressure intensifiers
US7325562B2 (en) 2002-05-07 2008-02-05 Meggec Systems, Inc. Heated seal air for valve and regenerative thermal oxidizer containing same
US20030221725A1 (en) 2002-05-29 2003-12-04 Richard Greco Regenerative oxidizers with elliptical valve system
US6773225B2 (en) 2002-05-30 2004-08-10 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Gas turbine and method of bleeding gas therefrom
US6641645B1 (en) 2002-06-13 2003-11-04 Air Products And Chemicals, Inc. Vacuum swing adsorption process with controlled waste gas withdrawal
FR2841152B1 (fr) 2002-06-19 2005-02-11 Air Liquide Procede de traitement d'au moins un gaz de charge par adsorption a modulation de pression
FR2841153B1 (fr) 2002-06-21 2004-07-23 Air Liquide Procede de regulation d'une unite de traitement, par adsorption a modulation de pression, d'au moins un gaz de charge
US6605136B1 (en) 2002-07-10 2003-08-12 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption process operation and optimization
US7077891B2 (en) 2002-08-13 2006-07-18 Air Products And Chemicals, Inc. Adsorbent sheet material for parallel passage contactors
US7150446B1 (en) 2002-08-28 2006-12-19 Megtec Systems, Inc. Dual lift system
US6669472B1 (en) 2002-08-28 2003-12-30 Megtec Systems, Inc. Dual lift system
US6889710B2 (en) 2002-11-15 2005-05-10 Air Products And Chemicals, Inc. Rotary sequencing valve with flexible port plate
US6802889B2 (en) 2002-12-05 2004-10-12 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption system for gas separation
US20060165574A1 (en) 2002-12-18 2006-07-27 Abdelhamid Sayari Modified adsorbent for dry scrubbing and use thereof
US20040197596A1 (en) 2003-02-03 2004-10-07 Questair Technologies Inc. Spacerless parallel passage contractor
GB2398522A (en) 2003-02-18 2004-08-25 Air Prod & Chem Apparatus for the purification of gasses.
EP1468724A1 (en) 2003-04-15 2004-10-20 Board Of Regents, The University Of Texas System Dithiolene functionalized polymer membrane for olefin/paraffin separation
NL1023520C2 (nl) * 2003-05-23 2004-11-24 Sgt Singapore Holdings Pte Ltd Snelwisselfiltersysteem alsmede een basis en een snelwisselfilter bestemd voor een dergelijk systeem.
US6918953B2 (en) 2003-07-09 2005-07-19 H2Gen Innovations, Inc. Modular pressure swing adsorption process and apparatus
US7578864B2 (en) 2003-07-14 2009-08-25 Hitachi Metals, Ltd. Ceramic honeycomb filter and its production method
US20050112038A1 (en) 2003-07-24 2005-05-26 Stoll Herbert M.Iii Poppet valve stabilizer
NL1024083C2 (nl) * 2003-08-11 2005-02-14 Sgt Singapore Holding Pte Ltd In-line filter met snelwisselkoppeling, alsmede een filter.
CA2535842C (en) 2003-08-29 2012-07-10 Velocys Inc. Process for separating nitrogen from methane using microchannel process technology
WO2005032694A1 (en) 2003-09-29 2005-04-14 Questair Technologies Inc. High density adsorbent structures
US7027929B2 (en) 2003-11-21 2006-04-11 Geo-X Systems Ltd. Seismic data interpolation system
US7314503B2 (en) 2003-12-08 2008-01-01 Syntroleum Corporation Process to remove nitrogen and/or carbon dioxide from methane-containing streams
US7276107B2 (en) 2003-12-23 2007-10-02 Praxair Technology, Inc. Indexing rotary dual valve for pressure swing adsorption systems
US7637989B2 (en) 2003-12-31 2009-12-29 Merits Health Products Co., Ltd. Rapid cycle pressure swing adsorption oxygen concentration method and mechanical valve for the same
US7166149B2 (en) 2004-01-12 2007-01-23 Uop Llc Adsorption process for continuous purification of high value gas feeds
EP1577561A1 (de) 2004-03-19 2005-09-21 MAN Turbomaschinen AG Schweiz Umwälz- und Heizvorrichtung für einen Rotationskompressor
GB2413603A (en) 2004-04-30 2005-11-02 Corac Group Plc A dry gas seal assembly
US7117669B2 (en) 2004-05-05 2006-10-10 Eaton Corporation Temperature swing adsorption and selective catalytic reduction NOx removal system
US7128775B2 (en) 2004-05-12 2006-10-31 Praxair Technology, Inc. Radial bed flow distributor for radial pressure adsorber vessel
US7189280B2 (en) 2004-06-29 2007-03-13 Questair Technologies Inc. Adsorptive separation of gas streams
JP4534629B2 (ja) 2004-06-30 2010-09-01 Jfeエンジニアリング株式会社 ガス精製装置及び該ガス精製装置で使用された除去剤の再生方法
JP2006036849A (ja) 2004-07-23 2006-02-09 Kobelco Eco-Solutions Co Ltd バイオガスの処理利用システム及びバイオガスの処理利用方法
US20060048648A1 (en) 2004-08-20 2006-03-09 Questair Technologies Inc. Parallel passage contactor structure
JP4893944B2 (ja) 2004-08-30 2012-03-07 クラレケミカル株式会社 窒素ガスの分離方法及び分子ふるい炭素
US20060049102A1 (en) 2004-09-03 2006-03-09 Miller Jeffrey T Ionic polymer membranes
US7814934B2 (en) * 2004-12-20 2010-10-19 Flair Corporation Adsorbent fractionator directional flow control valve assembly apparatus and method
JP2008526494A (ja) 2005-01-07 2008-07-24 クエストエアー テクノロジーズ インコーポレイテッド 速度分離のための工学的吸着構造
JP2008526506A (ja) 2005-01-12 2008-07-24 エイチ2ジーイーエヌ・イノベーションズ・インコーポレイテッド Psaフロー変動の改良された制御のための方法と装置
US7297279B2 (en) 2005-01-21 2007-11-20 Amcol International Corporation Method for removing oil from water coalescing in a polymer particle/fiber media
FR2882941B1 (fr) 2005-03-08 2007-12-21 Inst Francais Du Petrole Procede de purification d'un gaz naturel par adsorption des mercaptans
US7311763B2 (en) 2005-04-22 2007-12-25 David Lloyd Neary Gas separation vessel apparatus
US7404846B2 (en) 2005-04-26 2008-07-29 Air Products And Chemicals, Inc. Adsorbents for rapid cycle pressure swing adsorption processes
US7390350B2 (en) 2005-04-26 2008-06-24 Air Products And Chemicals, Inc. Design and operation methods for pressure swing adsorption systems
EP1922389B1 (en) 2005-08-09 2019-02-20 ExxonMobil Research and Engineering Company Absorbent composition containing molecules with a hindered amine and a metal sulfonate structure for acid gas scrubbing process
WO2007044519A1 (en) 2005-10-07 2007-04-19 Kretchmer, Alma Magnetic repulsion components for jewelry articles
JP4621575B2 (ja) 2005-10-17 2011-01-26 メタウォーター株式会社 ガス回収方法および装置
US7722700B2 (en) 2006-09-18 2010-05-25 Invacare Corporation Apparatus and method of providing concentrated product gas
US7763098B2 (en) 2005-11-18 2010-07-27 Xebec Adsorption Inc. Rapid cycle syngas pressure swing adsorption system
WO2007111738A2 (en) 2005-12-21 2007-10-04 Uop Llc The use of mofs in pressure swing adsorption
US7846401B2 (en) 2005-12-23 2010-12-07 Exxonmobil Research And Engineering Company Controlled combustion for regenerative reactors
FR2896823B1 (fr) 2006-01-31 2008-03-14 Saint Gobain Ct Recherches Filtre catalytique presentant un temps d'amorcage reduit
US7674319B2 (en) 2006-03-06 2010-03-09 H2Gen Innovations, Inc. PSA pressure measurement and control system
DE102006011031A1 (de) 2006-03-09 2007-09-13 Linde Ag TSA-Prozess
US7651549B2 (en) 2006-06-13 2010-01-26 Air Products And Chemicals, Inc. Pressure swing adsorption process with improved recovery of high-purity product
JP2008272534A (ja) 2006-07-07 2008-11-13 Kobelco Eco-Solutions Co Ltd Psa方式の窒素ガス発生装置を利用する有機ハロゲン化合物を含む廃棄物の加熱処理方法及び加熱処理装置
US7456131B2 (en) 2006-08-28 2008-11-25 Ut-Battelle, Llc Increased thermal conductivity monolithic zeolite structures
US20080072822A1 (en) 2006-09-22 2008-03-27 White John M System and method including a particle trap/filter for recirculating a dilution gas
US7713333B2 (en) 2006-12-20 2010-05-11 Praxair Technology, Inc. Adsorbents for pressure swing adsorption systems and methods of use therefor
EP2114555B1 (en) 2007-01-24 2017-10-04 Air Products and Chemicals, Inc. Seal assembly for gas separation device
US7883569B2 (en) 2007-02-12 2011-02-08 Donald Leo Stinson Natural gas processing system
US7740687B2 (en) 2007-02-13 2010-06-22 Iacx Energy Llc Pressure swing adsorption method and system for separating gas components
JPWO2008120499A1 (ja) 2007-03-29 2010-07-15 日本碍子株式会社 ハニカムセグメント
US7947118B2 (en) 2007-05-15 2011-05-24 Air Products And Chemicals, Inc. Containerized gas separation system
US7959720B2 (en) 2007-05-18 2011-06-14 Exxonmobil Research And Engineering Company Low mesopore adsorbent contactors for use in swing adsorption processes
US8529662B2 (en) 2007-05-18 2013-09-10 Exxonmobil Research And Engineering Company Removal of heavy hydrocarbons from gas mixtures containing heavy hydrocarbons and methane
US8545602B2 (en) 2007-05-18 2013-10-01 Exxonmobil Research And Engineering Company Removal of CO2, N2, and H2S from gas mixtures containing same
US8529663B2 (en) 2007-05-18 2013-09-10 Exxonmobil Research And Engineering Company Process for removing a target gas from a mixture of gases by swing adsorption
US7938886B2 (en) 2007-05-18 2011-05-10 Exxonmobil Research And Engineering Company Process for removing a target gas from a mixture of gases by thermal swing adsorption
US8444750B2 (en) 2007-05-18 2013-05-21 Exxonmobil Research And Engineering Company Removal of CO2, N2, or H2S from gas mixtures by swing adsorption with low mesoporosity adsorbent contactors
AU2008254961B2 (en) 2007-05-18 2012-03-29 Exxonmobil Upstream Research Company Temperature swing adsorption of CO2 from flue gas utilizing heat from compression
US7744677B2 (en) 2007-05-25 2010-06-29 Prometheus Technologies, Llc Systems and methods for processing methane and other gases
US7766025B2 (en) * 2007-06-21 2010-08-03 Richard Greco Periodic regenerative heat exchanger
US7792983B2 (en) 2007-07-31 2010-09-07 International Business Machines Corporation Method and apparatus for checkpoint and restart of pseudo terminals
JP2009080171A (ja) 2007-09-25 2009-04-16 Nec Electronics Corp 信号処理装置
US7819948B2 (en) 2007-10-29 2010-10-26 Air Products And Chemicals, Inc. Rotary valve
CA2609859C (en) 2007-11-02 2011-08-23 Imperial Oil Resources Limited Recovery of high quality water from produced water arising from a thermal hydrocarbon recovery operation using vacuum technologies
US8377173B2 (en) 2007-11-08 2013-02-19 The University Of Akron Amine absorber for carbon dioxide capture and processes for making and using the same
AU2008321326B2 (en) 2007-11-12 2013-04-18 Exxonmobil Upstream Research Company Methods of generating and utilizing utility gas
US20100252497A1 (en) 2007-11-30 2010-10-07 Ellison Adam J Compositions for applying to honeycomb bodies
US7763099B2 (en) 2007-12-14 2010-07-27 Schlumberger Technology Corporation Downhole separation of carbon dioxide from natural gas produced from natural gas reservoirs
CN101952210B (zh) 2007-12-31 2013-05-29 3M创新有限公司 流体过滤制品及其制造和使用方法
US8142746B2 (en) 2008-02-21 2012-03-27 Exxonmobil Research And Engineering Company Separation of carbon dioxide from methane utilizing zeolitic imidazolate framework materials
US8071063B2 (en) 2008-02-21 2011-12-06 Exxonmobile Research And Engineering Company Separation of hydrogen from hydrocarbons utilizing zeolitic imidazolate framework materials
US8142745B2 (en) 2008-02-21 2012-03-27 Exxonmobil Research And Engineering Company Separation of carbon dioxide from nitrogen utilizing zeolitic imidazolate framework materials
TWI517156B (zh) 2008-02-29 2016-01-11 Toshiba Kk Semiconductor memory device
US7785405B2 (en) 2008-03-27 2010-08-31 Praxair Technology, Inc. Systems and methods for gas separation using high-speed permanent magnet motors with centrifugal compressors
US8591627B2 (en) 2009-04-07 2013-11-26 Innosepra Llc Carbon dioxide recovery
BRPI0911224A2 (pt) 2008-04-30 2015-09-29 Exxonmobil Upstream Res Co sistema e método para tratar uma corrente de alimentação gasosa, e, contactador adsorvente estruturado
JP5319962B2 (ja) 2008-05-30 2013-10-16 富士フイルム株式会社 有機薄膜光電変換素子およびその製造方法
WO2010028482A1 (en) 2008-09-09 2010-03-18 Xebec Adsorption Inc. Compact pressure balanced rotary valve
US7867320B2 (en) 2008-09-30 2011-01-11 Praxair Technology, Inc. Multi-port indexing drum valve for VPSA
KR100972555B1 (ko) 2008-11-04 2010-07-28 주식회사 하이닉스반도체 데이터 출력회로 및 데이터 출력방법
EP2373399A1 (en) 2008-12-22 2011-10-12 3M Innovative Properties Company Compact multigas filter
EP2198946B8 (en) 2008-12-22 2019-08-07 Glatt Systemtechnik GmbH Composite adsorbent bead, process for its production and gas separation process
WO2010081809A1 (en) 2009-01-15 2010-07-22 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Method and apparatus for separating nitrogen from a mixed stream comprising nitrogen and methane
TW201043327A (en) 2009-03-30 2010-12-16 Taiyo Nippon Sanso Corp Pressure swing adsorbing type gas separating method and separation device
ES2346627B1 (es) 2009-04-17 2011-08-08 Universidad Politecnica De Valencia Uso de un material cristalino microporoso de naturaleza zeolitica conestructura rho en tratamiento de gas natural.
MY155414A (en) 2009-04-20 2015-10-15 Exxonmobil Upstream Res Co Cryogenic system for removing acid gases from a hydrocarbon gas stream, and method of removing acid gases
US8221712B2 (en) 2009-05-12 2012-07-17 Basf Se Absorption medium for the selective removal of hydrogen sulfide from fluid streams
US20100288704A1 (en) 2009-05-12 2010-11-18 Jeffrey Michael Amsden Flow-Through Substrate Assemblies and Methods for Making and Using Said Assemblies
US8361200B2 (en) 2009-10-15 2013-01-29 Abdelhamid Sayari Materials, methods and systems for selective capture of CO2 at high pressure
US8268043B2 (en) 2009-12-23 2012-09-18 Praxair Technology, Inc. Modular compact adsorption bed
US8361205B2 (en) 2009-12-23 2013-01-29 Praxair Technology, Inc. Modular compact adsorption bed
US8216343B2 (en) * 2010-02-25 2012-07-10 Praxair Technology, Inc. Radial flow reactor with movable supports
US20110217218A1 (en) 2010-03-02 2011-09-08 Exxonmobil Research And Engineering Company Systems and Methods for Acid Gas Removal
WO2011139894A1 (en) 2010-05-05 2011-11-10 Linde Aktiengesellschaft Method and apparatus for making a high purity gas
US8573124B2 (en) 2010-05-11 2013-11-05 Orbital Sciences Corporation Electronic safe/arm system and methods of use thereof
US8529665B2 (en) 2010-05-12 2013-09-10 Praxair Technology, Inc. Systems and methods for gas separation using high-speed induction motors with centrifugal compressors
US9067168B2 (en) 2010-05-28 2015-06-30 Exxonmobil Upstream Research Company Integrated adsorber head and valve design and swing adsorption methods related thereto
WO2011149635A1 (en) * 2010-05-28 2011-12-01 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Reactor with reactor head and integrated valve
KR20120011642A (ko) 2010-07-29 2012-02-08 삼성전자주식회사 기준 셀을 포함하는 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 기준 전류 설정 방법
KR101157023B1 (ko) 2010-07-29 2012-06-21 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그 워드라인 디스차지방법
KR101735586B1 (ko) 2010-07-29 2017-05-15 삼성전자 주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 프로그램 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
US20120026802A1 (en) 2010-07-30 2012-02-02 Emanuele Confalonieri Managed hybrid memory with adaptive power supply
TWI495501B (zh) 2010-11-15 2015-08-11 Exxonmobil Upstream Res Co 動力分餾器及用於氣體混合物之分餾的循環法
US9017457B2 (en) * 2011-03-01 2015-04-28 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having a reciprocating valve head assembly and swing adsorption processes related thereto
SG192572A1 (en) 2011-03-01 2013-09-30 Exxonmobil Upstream Res Co Apparatus and systems having an encased adsorbent contactor and swing adsorption processes related thereto
JP6035553B2 (ja) 2011-03-01 2016-11-30 エクソンモービル アップストリーム リサーチ カンパニー スイング吸着により炭化水素流から汚染物質を除去する方法並びに関連装置及びシステム
CA2842928A1 (en) 2011-03-01 2012-11-29 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having a rotary valve assembly and swing adsorption processes related thereto
CA2824162A1 (en) 2011-03-01 2012-09-07 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having a rotary valve assembly and swing adsorption processes related thereto
EA026118B1 (ru) 2011-03-01 2017-03-31 Эксонмобил Апстрим Рисерч Компани Способ удаления загрязняющих примесей из потока углеводородов в циклическом адсорбционном процессе и связанные с этим способом устройство и система
AU2012223554B2 (en) 2011-03-01 2016-02-18 Exxonmobil Research And Engineering Company Rapid temperature swing adsorption contactors for gas separation
US9162175B2 (en) 2011-03-01 2015-10-20 Exxonmobil Upstream Research Company Apparatus and systems having compact configuration multiple swing adsorption beds and methods related thereto
AU2012363092B2 (en) 2011-04-06 2015-12-24 Exxonmobil Research And Engineering Company Identification and use of an isomorphously substituted molecular sieve material for gas separation
WO2013022529A1 (en) 2011-08-09 2013-02-14 Exxonmobil Upstream Research Company Natural gas liquefaction process

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