JP5782293B2 - プラズマ生成用電極およびプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
上記第1の観点において、前記セラミックス溶射皮膜は、1個のガス吐出孔毎に複数の箇所に形成されており、隣接するセラミックス溶射皮膜どうしは分離し、前記隣接するセラミックス溶射皮膜の間の部分は前記本体の前記対向面が露出しているように構成することができる。
上記第2の観点において、前記セラミックス溶射皮膜の例としては、直線状に配列された複数のガス吐出孔毎にライン状に複数形成されたものを挙げることができる。
図2は上部電極20のガス吐出孔が形成された部分を示す断面図、図3は上部電極20におけるガス吐出孔の出口部分を拡大して示す断面図である。これらの図に示すように、上部電極20本体は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材20aと、基材20aの表面に硬質アルマイト処理(陽極酸化処理)により形成されたアルマイト(陽極酸化)皮膜20bとを有している。アルマイト皮膜20bは、ガス吐出孔22の内面にも形成されている。
まず、ゲートバルブ32を開いて、ガラス基板Gを搬送アーム(図示せず)により基板搬入出口31を介してチャンバ2内へと搬入し、載置台3の静電チャック6上に載置する。この場合に、昇降ピン10を上方に突出させて支持位置に位置させ、搬送アーム上のガラス基板Gを昇降ピン10の上に受け渡す。その後、昇降ピン10を下降させてガラス基板Gを載置台3の静電チャック6上に載置する。
上記実施形態では、上部電極20は、箱状に形成されていたが、図7に示すように、図1における上部電極20の内部空間21よりも下の部分に対応する板状部分を上部電極50としてもよい。この場合には、図1における上部電極20の上部構造に対応する部分は、電極支持部材51となり、上部電極50は電極支持部材51に対し着脱可能とされ、上部電極50を電極支持部材51に取り付けた状態でその内部に内部空間52が形成される。電極支持部材51の中央にはガスを内部空間52へ導入するガス導入口54が設けられている。また、上部電極50には、上記ガス吐出孔22と同じ構造のガス吐出口53が形成されている。
2;処理チャンバ
3;載置台
5;下部電極
6;静電チャック
7;シールドリング
14;第1の高周波電源
17;第2の高周波電源
20,50;上部電極(プラズマ生成用電極)
20a;基材
20b;アルマイト皮膜(陽極酸化皮膜)
22;ガス吐出孔
22c;開口部
23;セラミックス溶射皮膜
28;処理ガス供給源
G;ガラス基板
Claims (9)
- フラットパネルディスプレイ用の基板をプラズマ処理する容量結合型のプラズマ処理装置の処理容器内にフラットパネルディスプレイ用の基板に対向して配置されるプラズマ生成用電極であって、
前記処理容器内に配置されたフラットパネルディスプレイ用の基板との対向面を有し、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の表面に陽極酸化処理がされて構成され、少なくとも前記対向面が陽極酸化皮膜である本体と、
プラズマを生成するための処理ガスを前記処理容器内に導入するために、前記本体の前記対向面に開口した複数のガス吐出孔と、
前記対向面において、少なくとも前記ガス吐出孔の開口部に形成されたセラミックス溶射皮膜と
を有し、
前記対向面において前記セラミックス溶射皮膜の間の部分は、前記本体の前記対向面が露出しており、
前記ガス吐出孔の開口部は、前記陽極酸化皮膜が剥がされた状態で前記セラミックス溶射皮膜が形成されていることを特徴とするプラズマ生成用電極。 - 前記セラミックス溶射皮膜は、1個のガス吐出孔毎に複数の箇所に形成されており、隣接するセラミックス溶射皮膜どうしは分離し、前記隣接するセラミックス溶射皮膜の間の部分は前記本体の前記対向面が露出していることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ生成用電極。
- フラットパネルディスプレイ用の基板をプラズマ処理する容量結合型のプラズマ処理装置の処理容器内にフラットパネルディスプレイ用の基板に対向して配置されるプラズマ生成用電極であって、
前記処理容器内に配置されたフラットパネルディスプレイ用の基板との対向面を有し、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の表面に陽極酸化処理がされて構成され、少なくとも前記対向面が陽極酸化皮膜である本体と、
プラズマを生成するための処理ガスを前記処理容器内に導入するために、前記本体の前記対向面に開口した複数のガス吐出孔と、
前記対向面において、少なくとも前記ガス吐出孔の開口部に形成されたセラミックス溶射皮膜と
を有し、
前記対向面において前記セラミックス溶射皮膜の間の部分は、前記本体の前記対向面が露出しており、
前記セラミックス溶射皮膜は、複数のガス吐出孔毎に複数形成されており、隣接するセラミックス溶射皮膜どうしは分離し、前記隣接するセラミックス溶射皮膜の間の部分は前記本体の前記対向面が露出していることを特徴とするプラズマ生成用電極。 - 前記セラミックス溶射皮膜は、直線状に配列された複数のガス吐出孔毎にライン状に複数形成されていることを特徴とする請求項3に記載のプラズマ生成用電極。
- 前記セラミックス溶射皮膜は、アルミナ、イットリア、およびフッ化イットリウムのいずれかの材料で構成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ生成用電極。
- 前記ガス吐出孔の前記開口部は、前記ガス吐出孔の中心軸を含む断面において末広がり状の曲線を構成しており、前記セラミックス溶射皮膜は、前記末広がり状の曲線に沿って形成されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマ生成用電極。
- 前記本体は、箱状部材であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ生成用電極。
- 前記本体は、板状部材であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ生成用電極。
- フラットパネルディスプレイ用の基板をプラズマ処理する容量結合型のプラズマ処理装置であって、
フラットパネルディスプレイ用の基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、フラットパネルディスプレイ用の基板を載置し、下部電極を有する載置台と、
前記請求項1から請求項8のいずれかのプラズマ生成用電極からなる上部電極と、
前記処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、
前記上部電極と前記下部電極の少なくとも一方に高周波電力を供給して前記処理容器内に前記処理ガスのプラズマを形成するための高周波電力供給機構と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
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