JP5648658B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5648658B2 JP5648658B2 JP2012172211A JP2012172211A JP5648658B2 JP 5648658 B2 JP5648658 B2 JP 5648658B2 JP 2012172211 A JP2012172211 A JP 2012172211A JP 2012172211 A JP2012172211 A JP 2012172211A JP 5648658 B2 JP5648658 B2 JP 5648658B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- film
- region
- passivation film
- metal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 92
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 73
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 60
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 57
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 51
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 25
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 21
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/562—Protection against mechanical damage
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3157—Partial encapsulation or coating
- H01L23/3192—Multilayer coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
本発明の半導体装置の実施例について説明する。図1に示す半導体装置10は、半導体基板12と、半導体基板12の上面及び下面に形成されている電極、絶縁膜等によって構成されている。半導体基板12は、アクティブ領域20と、周辺耐圧領域50を有している。アクティブ領域20には、IGBTが形成されている。アクティブ領域20は、半導体基板12を上面側から見たときに、半導体基板12の略中央部に形成されている。周辺耐圧領域50は、アクティブ領域20の電界を緩和する領域であり、半導体基板12の外周部に形成されている。より具体的には、半導体基板12の外部端面(外周面)12aとアクティブ領域20の間の領域である。したがって、半導体基板12を上方から平面視した場合には、アクティブ領域20は周辺耐圧領域50に囲まれている。
次に、半導体装置10の製造方法について、図7から図12を参照して説明する。図示していないが、半導体基板12のアクティブ領域20には、拡散層等の半導体素子構造が形成されている。アクティブ領域20の半導体素子構造は従来公知の方法によって形成されているので、その形成方法については説明を省略する。以下の説明では、主に半導体基板12の周辺耐圧領域50の表面に設けられる保護膜の形成方法について説明する。また、以下に示す図では、電極54の近傍のみを描いているが、以下の製造方法は周辺耐圧領域50において共通である。本実施例では、半導体基板12に対して、絶縁膜形成工程、金属層形成工程、第1のパッシベーション膜形成工程、第2のパッシベーション膜形成工程を実施することによって、半導体装置10を製造する。
まず、図7に示すように、公知の方法によって半導体基板12の表面に絶縁膜を形成する。次に、絶縁膜にフォトリソグラフィ技術などを用いてエッチングを施し、パターニングされた絶縁膜58を形成する。
次に、図7に示すように、絶縁膜58及び半導体基板12の表面に、CVD法などでアルミニウム層を形成する。なお、アルミニウム層と絶縁膜58の間、及び、アルミニウム層と半導体基板12との間には、予めバリア層が形成されていてもよい。その後、アルミニウム層にフォトリソグラフィ技術などを用いてエッチングを施し、電極54を形成する。なお、図示しない電極64についても同様の方法で形成する。
続いて、図7に示すように、半導体基板12の周辺耐圧領域50の表面にポリイミドを含有する有機溶剤をスピン塗布などの方法によって塗布して乾燥させて、ポリイミド塗布膜69を形成する。この際、ポリイミド塗布膜69は、電極54及び絶縁膜58との間の段差が埋まるように、電極54の高さよりも高く形成する。次に、図8に示すように、フォトリソグラフィ技術を用いてポリイミド塗布膜69上に、パターニングされたマスク84を形成する。パターニングされたマスク84は、電極54の上方に開口86を有する。図8に示すように、開口86の幅は、電極54の幅よりも狭くされている。
次に、図12に示すように、ポリイミド膜70及び電極54の上面に、プラズマCVD法などを用いて窒化膜76を形成する。窒化膜76を形成する方法はプラズマCVD法に限られず、例えば、ラジカルビーム法などを用いてもよい。このようにして形成された窒化膜76は、ポリイミド膜70から電極54に亘って連続して形成されており、ポリイミド膜70の上面及び電極54の上面と接している。
12:半導体基板
20:アクティブ領域
22:エミッタ電極
24:エミッタ領域
26:ボディ領域
28:ゲート電極
30:ドリフト領域
30a:周辺ドリフト領域
32:コレクタ領域
34:コレクタ電極
50:周辺耐圧領域
52:ディープp型領域
54、64:電極
56:リサーフ領域
58:絶縁膜
62:端部n型領域
70:パッシベーション膜
76:パッシベーション膜
80:ポリマー層
82:樹脂層
Claims (1)
- 半導体基板上に金属層を形成する工程と、
半導体基板上に、金属層を覆うように第1のパッシベーション膜を形成する工程と、
前記金属層上の第1のパッシベーション膜をエッチングして金属層の上面を露出させる工程と、
第1のパッシベーション膜の上面の高さが金属層の上面の高さ以下となり、第1のパッシベーション膜が金属層の側面の少なくとも一部と接するように、第1のパッシベーション膜を加熱して熱収縮させる工程と、
第1のパッシベーション膜から金属層に亘って形成され、第1のパッシベーション膜の上面に接するとともに、金属層の上面の少なくとも一部と接する第2のパッシベーション膜を形成する第2のパッシベーション膜形成工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012172211A JP5648658B2 (ja) | 2012-08-02 | 2012-08-02 | 半導体装置の製造方法 |
US13/954,457 US9082778B2 (en) | 2012-08-02 | 2013-07-30 | Semiconductor device and manufacturing method of same |
TW102127410A TWI545753B (zh) | 2012-08-02 | 2013-07-31 | 半導體裝置及其製造方法 |
CN201310334916.6A CN103579303B (zh) | 2012-08-02 | 2013-08-02 | 半导体装置及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012172211A JP5648658B2 (ja) | 2012-08-02 | 2012-08-02 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014033053A JP2014033053A (ja) | 2014-02-20 |
JP5648658B2 true JP5648658B2 (ja) | 2015-01-07 |
Family
ID=50024670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012172211A Active JP5648658B2 (ja) | 2012-08-02 | 2012-08-02 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9082778B2 (ja) |
JP (1) | JP5648658B2 (ja) |
CN (1) | CN103579303B (ja) |
TW (1) | TWI545753B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5673627B2 (ja) * | 2012-08-03 | 2015-02-18 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP6478395B2 (ja) * | 2015-03-06 | 2019-03-06 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置 |
JP6460016B2 (ja) * | 2016-03-09 | 2019-01-30 | トヨタ自動車株式会社 | スイッチング素子 |
JP6588363B2 (ja) * | 2016-03-09 | 2019-10-09 | トヨタ自動車株式会社 | スイッチング素子 |
JP6718143B2 (ja) * | 2016-07-29 | 2020-07-08 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
JP2020202313A (ja) * | 2019-06-11 | 2020-12-17 | ローム株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP7378308B2 (ja) * | 2020-02-06 | 2023-11-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
CN113451416B (zh) * | 2021-06-29 | 2023-03-24 | 厦门市三安集成电路有限公司 | 功率器件及其制备方法 |
CN113451417B (zh) * | 2021-06-29 | 2023-08-04 | 厦门市三安集成电路有限公司 | 功率器件及其制备方法 |
CN113257888A (zh) | 2021-03-31 | 2021-08-13 | 华为技术有限公司 | 一种功率半导体器件、封装结构及电子设备 |
WO2024048508A1 (ja) * | 2022-09-02 | 2024-03-07 | 三井化学株式会社 | ポリアミド樹脂組成物、金属樹脂接合体およびその製造方法、バスバーユニット、駆動ユニットならびに移動体 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62293726A (ja) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH01200635A (ja) * | 1988-02-05 | 1989-08-11 | Seiko Epson Corp | 配線保護膜 |
JPH028231A (ja) | 1988-06-28 | 1990-01-11 | Sakota Kagaku Kaihatsu Kenkyusho:Kk | 難燃性断熱乃至緩衝材 |
JPH0428231A (ja) * | 1990-05-23 | 1992-01-30 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
US5161093A (en) * | 1990-07-02 | 1992-11-03 | General Electric Company | Multiple lamination high density interconnect process and structure employing a variable crosslinking adhesive |
JPH04316330A (ja) * | 1991-04-16 | 1992-11-06 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH06326201A (ja) | 1993-05-11 | 1994-11-25 | Nippon Steel Corp | 半導体装置 |
US20010043175A1 (en) * | 1996-10-22 | 2001-11-22 | Masahiro Yasukawa | Liquid crystal panel substrate, liquid crystal panel, and electronic equipment and projection type display device both using the same |
JPH118234A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
US6054752A (en) * | 1997-06-30 | 2000-04-25 | Denso Corporation | Semiconductor device |
JPH1154497A (ja) | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体装置の製造法 |
JP3439144B2 (ja) * | 1998-12-22 | 2003-08-25 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US6133144A (en) * | 1999-08-06 | 2000-10-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Self aligned dual damascene process and structure with low parasitic capacitance |
JP2001257210A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
JP2001358153A (ja) * | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
JP2003031655A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-31 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP3941645B2 (ja) | 2002-09-24 | 2007-07-04 | 株式会社デンソー | 樹脂封止型半導体装置及び樹脂封止型半導体製造方法 |
JP2005203548A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Honda Motor Co Ltd | 半導体装置のモジュール構造 |
JP2005117067A (ja) | 2005-01-13 | 2005-04-28 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
EP1717863B1 (en) * | 2005-04-28 | 2011-11-02 | Ixys Corporation | Semiconductor power device with passivation layers |
TWI335560B (en) * | 2006-02-17 | 2011-01-01 | Au Optronics Corp | Circuit structure of a display |
JP2010161240A (ja) * | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Toyota Motor Corp | 半導体装置 |
JP2011114008A (ja) | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Toyota Motor Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2012
- 2012-08-02 JP JP2012172211A patent/JP5648658B2/ja active Active
-
2013
- 2013-07-30 US US13/954,457 patent/US9082778B2/en active Active
- 2013-07-31 TW TW102127410A patent/TWI545753B/zh active
- 2013-08-02 CN CN201310334916.6A patent/CN103579303B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103579303A (zh) | 2014-02-12 |
JP2014033053A (ja) | 2014-02-20 |
CN103579303B (zh) | 2017-06-06 |
TW201421678A (zh) | 2014-06-01 |
TWI545753B (zh) | 2016-08-11 |
US9082778B2 (en) | 2015-07-14 |
US20140035124A1 (en) | 2014-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5648658B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP6034095B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP5720647B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR102212747B1 (ko) | 보이드를 포함하는 깊은 트렌치 커패시터 및 이의 제조 방법 | |
JP2014192351A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP6309907B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2016063004A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US20160172301A1 (en) | Semiconductor device and manufacturing method therefor | |
JP6736902B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US9698103B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method therefor | |
JP6673088B2 (ja) | 半導体装置 | |
US20150325538A1 (en) | Semiconductor device and method for producing semiconductor device | |
JP5673627B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP7235124B2 (ja) | 半導体装置 | |
TWI574369B (zh) | 半導體裝置與其製造方法 | |
JP7170894B2 (ja) | 半導体装置 | |
TWI708342B (zh) | 半導體結構及其製造方法以及半導體元件的終端區結構 | |
JPWO2017126084A1 (ja) | 半導体装置 | |
TWI611506B (zh) | 半導體結構及其製造方法 | |
JP7448429B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
WO2021215505A1 (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
TWI575651B (zh) | 半導體結構及其製造方法 | |
TWI578499B (zh) | 記憶體裝置 | |
JP2020031123A (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体装置 | |
JP2006196839A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140813 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141014 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141027 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5648658 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |