JP5401791B2 - スプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス - Google Patents
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Description
有機エレクトロルミネッセンス(以下、ELと略す)素子においては、正孔輸送層(バッファ層)、電荷注入層に、ポリマーやオリゴマー等からなる電荷輸送性薄膜が使用されている(例えば、特許文献1参照)。
電荷輸送性薄膜は、インジウム錫酸化物(以下、ITOと略す。)、インジウム亜鉛酸化物(以下、IZOと略す。)などの平坦な電極上に、均一で凹凸がない薄膜が形成できることが求められている。しかしながら、実際に電子デバイスに電荷輸送性薄膜を形成させる時には、電極に構造物が形成されている場合がほとんどである。具体的には、数μmの膜厚を有する1種類以上のパターンで単純若しくは複雑に構造物が構成されている場合がある。単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基板における露出したITOあるいはIZOなどの電極部分に、選択的、且つ、平坦に電荷輸送性薄膜を形成させるための電荷輸送性ワニスは、平坦な電極に均一に電荷輸送性薄膜を形成させようとする場合の電荷輸送性ワニスの液物性と異なる場合が多く、その基板上の構造物に適合した電荷輸送性ワニスの液物性を詳細に検討する必要が生じてくる。
電荷輸送性薄膜を作製するためのプロセスは大きく分けて、真空蒸着法などに代表されるドライプロセスか、スピンコート法に代表されるウェットプロセスに分類できる。ドライプロセスとウェットプロセスとを比較すると、ドライプロセスよりもウェットプロセスで電荷輸送性薄膜を作製した方が、ITO若しくはIZOなどの電極を被膜する能力が高く、電極表面の異物などを一様の膜厚で均一に被膜することができ、電子デバイスを作製した時の電気短絡特性が飛躍的に向上する。この点からウェットプロセスが有利であり、優位性が高い。
そこで、本発明者らはウェットプロセスが可能な各電子デバイスに対応した電荷輸送性薄膜を作製するための検討を続けてきた。(例えば、特許文献2参照)
電荷輸送性薄膜を高効率で作製するためのプロセスとしては、スプレー法あるいはインクジェット法が挙げられる。特に、装置の汎用性からスプレー法は大面積のデバイスを作製できるウェットプロセスとして有効である。
そこで、スプレー法あるいはインクジェット法により、単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基板における露出したITOあるいはIZOなどの電極部分に均一で凹凸がない電荷輸送性薄膜を形成させるための最適な電荷輸送性ワニスの調製が必要になってきた。
この単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基板への電荷輸送性薄膜形成の問題は、電子デバイス用薄膜に限らず、薄膜を使用するその他の技術分野においても重要である。
以上のような理由から、スプレー法あるいはインクジェット法に適した電荷輸送性ワニスの開発が求められている。
また、本発明は、電子デバイス用途として、該ワニスから作製される電荷輸送性薄膜を備える有機EL素子を提供することを他の目的とする。
〔1〕 電荷輸送性モノマー、又は数平均分子量200〜5000の電荷輸送性オリゴマーからなる電荷輸送物質及び電子受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料と、良溶媒と、高レベリング性貧溶媒と、揮発性貧溶媒とを含有し、前記良溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、及びN−シクロヘキシル−2−ピロリジノンから選ばれる少なくとも1種であり、前記高レベリング性貧溶媒が、スチレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、1−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、シクロヘキサノール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、γ−ブチルラクトン、及びジプロピレングリコールから選ばれる少なくとも1種であり、前記揮発性貧溶媒が、p−キシレン、o−キシレン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルノーマルブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピルケトン、酢酸ノーマルプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ノーマルブチル、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール、アリルアルコール、ノーマルプロパノール、2−メチル−2−ブタノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−1−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−1−ペンタノール、2−エチルヘキサノール、1−メトキシ−2−ブタノール、ジアセトンアルコール、イソプロピルエーテル、及び1,4−ジオキサンから選ばれる少なくとも1種であり、前記電子受容性ドーパント物質が、一般式(7)で表されるアリールスルホン酸誘導体であることを特徴とするスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔2〕 前記良溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、及び1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンから選ばれる少なくとも1種である〔1〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔3〕 前記良溶媒が、N−メチルピロリドン、及び1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンから選ばれる少なくとも1種である〔2〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔4〕 前記高レベリング性貧溶媒が、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、γ−ブチルラクトン、及びジプロピレングリコールから選ばれる少なくとも1種である〔1〕〜〔3〕のいずれかのスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔5〕 前記高レベリング性貧溶媒が、シクロヘキサノール、2,3−ブタンジオール及びプロピレングリコールから選ばれる少なくとも1種である〔4〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔6〕 前記揮発性貧溶媒が、メチルエチルケトン、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール、ノーマルプロパノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、及びエチレングリコールモノブチルエーテルから選ばれる少なくとも1種である〔1〕〜〔5〕のいずれかのスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔7〕 前記揮発性貧溶媒が、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール、及びエチレングリコールモノブチルエーテルから選ばれる少なくとも1種である〔6〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔8〕 前記良溶媒と、少なくとも1種類以上の高レベリング性貧溶媒と、少なくとも1種類以上の揮発性貧溶媒との組み合わせが、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエチレングリコールモノブチルエーテル、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとイソブタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとエタノール、N,N−ジメチルアセトアミドとシクロヘキサノールとイソブタノール、N,N−ジメチルアセトアミドとシクロヘキサノールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとエタノール、N−メチルピロリドンと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、N−メチルピロリドンと2,3−ブタンジオールとエタノール、N,N−ジメチルアセトアミドと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、N,N−ジメチルアセトアミドと2,3−ブタンジオールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとジプロピレングリコールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとジプロピレングリコールとエタノール、N−メチルピロリドンとジプロピレングリコールとイソブタノール、N−メチルピロリドンとジプロピレングリコールとエタノール、N,N−ジメチルアセトアミドとジプロピレングリコールとイソブタノール、又はN,N−ジメチルアセトアミドとジプロピレングリコールとエタノールである〔1〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔9〕 前記良溶媒と、少なくとも1種類以上の高レベリング性貧溶媒と、少なくとも1種類以上の揮発性貧溶媒との組み合わせが、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとエタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとイソブタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエチレングリコールモノブチルエーテルである〔1〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔10〕 前記電荷輸送物質が、共役単位を有する電荷輸送性モノマー又は共役単位を有する数平均分子量200〜5000の電荷輸送性オリゴマーであり、かつ、単一の前記共役単位が連続している、又は相異なる2種以上の前記共役単位が任意の順序の組み合わせで連続している〔1〕〜〔9〕のいずれかのスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔11〕 前記共役単位が、置換若しくは非置換、かつ、2〜4価の、アニリン、チオフェン、ジチイン、フラン、ピロール、エチニレン、ビニレン、フェニレン、ナフタレン、アントラセン、イミダゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、キノキザリン、シロール、シリコン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、フェニレンビニレン、フルオレン、カルバゾール、トリアリールアミン、金属−若しくは無金属−フタロシアニン、及び金属−若しくは無金属−ポルフィリンから選ばれる少なくとも1種である〔10〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔12〕 前記電荷輸送物質が、一般式(1)で表されるオリゴアニリン誘導体、又は一般式(1)の酸化体であるキノンジイミン誘導体である〔11〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔13〕 前記電荷輸送物質が、一般式(4)で表されるオリゴアニリン誘導体、又は一般式(4)の酸化体であるキノンジイミン誘導体である〔12〕のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
〔14〕 〔1〕〜〔13〕のいずれかのスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニスを使用して作製されることを特徴とする電荷輸送性薄膜。
〔15〕 スプレー法により作製されることを特徴とする〔14〕の電荷輸送性薄膜。
〔16〕 〔14〕又は〔15〕の電荷輸送性薄膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔17〕 前記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層又は正孔輸送層である〔16〕の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔18〕 〔1〕〜〔13〕のいずれかの電荷輸送性ワニスを基材上にスプレー又はインクジェット法により塗布し、溶媒を蒸発させることを特徴とする電荷輸送性薄膜の作製方法。
〔19〕 スプレー法により塗布することを特徴とする〔18〕の電荷輸送性薄膜の作製方法。
〔20〕 〔14〕又は〔15〕の電荷輸送性薄膜を用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
これは、本発明者らによる構造物付き基板における、構造物間の膜厚分布を高精度微細形状測定器 SUREFCORDER ET4000Aにより測定することで証明された。
この測定により、本発明のワニスにより得られた薄膜が、構造物間の膜厚分布が一定で平坦化性及び均一性が高い薄膜であることが確認された。
有機EL素子に使用される電荷輸送性ワニスの塗布方法では、素子の歩留まり、生産効率の点からスピンコート法及び印刷法よりもインクジェット法又はスプレー法などが工業的プロセスとして現実性が高い。本発明の電荷輸送性ワニスは、これら工業的プロセスに対応し、再現性良く、信頼性の高い電荷輸送性薄膜を提供し得る。
単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基材に塗布する場合、スピンコート法では基板サイズが大きくなるのに伴って、基板の中央部分とエッジ部分の構造物内での膜厚分布が生じ易く、さらに、焼成条件やレベリング条件にも依存するが、一つの構造物内でも膜厚分布が生じることがある。これは、スピンコート法が、滴下したワニスを回転する基板の外側に働く応力によって成膜、乾燥するウェットプロセスだからである。
また、印刷法は単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基材に塗布する場合、主に印刷版として使用されているAPR版が構造物に直接接触してしまうことで、微細なパターンで構成された構造物が破壊されてしまう可能性がある。基材に予め構造物が形成されている場合、構造物を破壊しないよう、これに接触しないことが好ましいことから、印刷法は好適ではない。
また、本発明の電荷輸送性薄膜は、EL素子の正孔注入層又は正孔輸送層に用いた場合、従来の電荷輸送性薄膜に比べ、平坦化性及び均一性に優れた薄膜であり、ITO電極の凹凸や電極上に存在する異物によって引き起こされる電極の短絡を著しく抑制できる。
したがって、本発明の電荷輸送性薄膜を用いることにより、EL素子の発光開始電圧の低下、電流効率の向上、素子の長寿命化が達成され、安価で生産効率の高いEL素子を歩留まり良く、作製することが可能である。
本発明に係るワニスは、分子量200〜1000の有機化合物又は分子量200〜5000のオリゴマーからなる基質と、良溶媒と、少なくとも1種類の高レベリング性貧溶媒と、少なくとも1種類の揮発性貧溶媒とを含有するものである。
また、このワニスのうち、基質が電荷輸送性モノマー又は数平均分子量200〜5000の電荷輸送性オリゴマーからなる電荷輸送物質、又はこの電荷輸送物質及び電子受容性ドーパント物質若しくは正孔受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料であるものは、電荷輸送性ワニスである。
ここで電荷輸送性とは、導電性と同義であり、正孔輸送性、電子輸送性、正孔及び電子の両電荷輸送性のいずれかを意味する。本発明の電荷輸送性ワニスは、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、ワニスを使用して得られる固体膜に電荷輸送性があるものでもよい。
スプレー法は基材に電荷輸送性ワニスをスプレーし、基材に着液するまでの過程で、電荷輸送性ワニスが3つの最適な液物性を取ることが好ましい。スプレー法の3つの液物性とは1)スプレーする前のタンク内に充填するワニスの液物性、2)スプレー霧中の液物性、3)基材へ着液した後のワニスの液物性である。
具体的に示すと、1)はスプレー塗布性を良好にするために動的粘度(以下、粘度と略す。)が低いことが好ましい。スプレー塗布性とは、スプレー条件に依存するが、スプレーヘッドから排出されるスプレー霧の粒径を安定に且つ、一定に規格する特性である。スプレー塗布性の低下は、ある任意の窒素量で粉砕し難いワニスで見られる傾向であり、粘度が高いワニスは窒素で粉砕後に均一で粒径分布の狭い細粒化されたスプレー霧とならない。一方、粘度が低い電荷輸送性ワニスはある任意の窒素量で粉砕後に均一で粒径分布の狭いスプレー霧となる。3)は基材に着液後の細粒化されたワニスのレベリング性が良好であることが好ましい。そのためには、ワニスに適度な粘度が必要となる。特に単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基板の露出したITOあるいはIZOなどの電極部分に電荷輸送性薄膜を作製する場合、ワニスの粘度が低いと構造物間で液の流動が生じることが多く、構造物間で均一に、且つ平坦な電荷輸送性薄膜を得ることが困難になる。一方、ワニスの粘度が高いと、着液後のワニスのレベリング性が悪く、均一な成膜面とならず、モヤムラやゆず肌ムラを生じやすい。さらに、ワニスの粘度が高いと、レベリングに要する放置時間を長くとる必要性があり、タクトタイムの面で優位性が低くなる。
すなわち、1)の液物性のために、少なくとも1種類の揮発性貧溶媒を含み、2)の液物性のために、少なくとも1種類の揮発性貧溶媒が蒸発している過程を含み、3)の液物性のために、レベリング性を向上させる少なくとも1種類の高レベリング性貧溶媒を含み、且つ、揮発性貧溶媒を含まないことが、本発明において3種の有機溶媒混合系を採用するコンセプトである。
スプレー塗布時におけるスプレー霧中の良溶媒の蒸発は、スプレー塗布条件、例えば、1)窒素量を増やす、2)薬液量を減らす、3)ギャップを上げる、4)ピッチを上げる、5)XYスキャン範囲を広くするなどの条件に依存する場合が多いが、スプレー塗布条件は基本的にスプレー霧中の良溶媒が蒸発しない条件を選択することが好ましい。
ワニスに使用する溶媒全体に対する良溶媒の含有割合は、良溶媒によって基質が溶解する限り特に限定されないが、通常、1〜90重量%の割合である。
これらの高レベリング性貧溶媒の中でも、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、γ−ブチルラクトンが好ましく、プロピレングリコール、シクロヘキサノール、2,3−ブタンジオールがより好ましい。
ワニスに使用する溶媒全体に対する高レベリング性貧溶媒の含有割合は、特に限定されないが、通常、1〜90重量%の割合である。
揮発性貧溶媒は、スプレー塗布前の電荷輸送性ワニスの粘度を下げることでスプレー塗布性を良好にし、スプレー霧中から蒸発することでワニスが濃縮される効果を有している。スプレー塗布性は、スプレー条件に依存するが、スプレーヘッドから排出されるスプレー霧の粒径を安定に且つ、一定に規格する特性である。ワニスの濃縮は、揮発性貧溶媒を加える分量と蒸発する量に依存するが、均一で且つ平坦化性が高い有機薄膜の膜厚を一定に規定する、あるいは変更するパラメーターである。
本発明における揮発性貧溶媒は一般的な揮発性溶媒とはその意義が異なる。一般的な揮発性溶媒は任意の温度、圧力時における蒸気圧、若しくは相対蒸気圧で規定されることが多いが、本発明における揮発性貧溶媒は、温度、圧力が規定できても粒子のサイズや、基材への着液距離、着液速度など位置エネルギー、運動エネルギーに依存する場合がある。
これらの揮発性貧溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール、ノーマルプロパノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、エチレングリコールモノブチルエーテルが好ましく、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール、エチレングリコールモノブチルエーテルがより好ましい。
ワニスに使用する溶媒全体に対する揮発性貧溶媒の含有割合は、特に限定されないが、通常、1〜90重量%、好ましくは1〜50重量%の割合である。
これらの溶媒組成の中でも、DMIとシクロヘキサノールとイソブタノール、DMIとシクロヘキサノールとエタノール、DMIと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、DMIと2,3−ブタンジオールとエタノール、NMPとシクロヘキサノールとイソブタノール、NMPとシクロヘキサノールとエタノール、DMIとシクロヘキサノールとエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましく、DMIとシクロヘキサノールとイソブタノール、DMIと2,3−ブタンジオールとエタノール、DMIと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、DMIとシクロヘキサノールとエチレングリコールモノブチルエーテルがより好ましい。
本発明で用いる電荷輸送性モノマー及び電荷輸送性オリゴマーも、溶媒に溶解するものであれば、特に限定されないが、少なくとも一種類の共役単位が連続した構造であることが望ましい。
ここで上記共役単位の置換基の具体例としては、それぞれ独立して水素、水酸基、ハロゲン基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、一価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基及びスルホン基等が挙げられ、これらの官能基に対してさらにいずれかの官能基が置換されていてもよい。
オルガノオキシ基の具体例としては、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基などが挙げられ、これらのアルキル基、アルケニル基、アリール基としては、先に例示した基と同様のものが挙げられる。
オルガノアミノ基の具体例としては、フェニルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ラウリルアミノ基等のアルキルアミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基等のジアルキルアミノ基;シクロヘキシルアミノ基、モルホリノ基などが挙げられる。
オルガノシリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリブチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘキシルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基などが挙げられる。
オルガノチオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、ラウリルチオ基などのアルキルチオ基が挙げられる。
アシル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
アルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基、アルキルアミノ基、オルガノシロキシ基、オルガノシリル基などにおける炭素数は特に限定されるものではないが、一般に炭素数1〜20、好ましくは1〜8である。
共役単位が連結して形成される共役鎖は、環状である部分を含んでいてもよい。
電荷輸送性オリゴマーの数平均分子量は、材料の揮発の抑制及び電荷輸送性発現のために、下限として通常200以上、好ましくは400以上であり、また溶解性向上のために、上限として通常5000以下、好ましくは2000以下である。さらに、好ましくは、分子量分布のない電荷輸送性オリゴマーであり、その分子量は材料の揮発の抑制及び電荷輸送性発現という点から、下限として通常200以上、好ましくは400以上であり、また溶解性向上という点から、上限として通常5000以下、好ましくは2000以下である。
なお、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(ポリスチレン換算)による測定値である。
さらに分子内のπ共役系をなるべく拡張させた方が、得られる電荷輸送性薄膜の電荷輸送性が向上することから、特に、一般式(4)で表されるオリゴアニリン誘導体、又はその酸化体であるキノンジイミン誘導体を用いることが好ましい。
これらの電荷輸送物質は1種類のみを使用してもよく、また2種類以上の物質を組み合わせて使用しても良い。
このような化合物の具体例としては、フェニルテトラアニリン、フェニルペンタアニリン、テトラアニリン(アニリン4量体)、オクタアニリン(アニリン8量体)等の有機溶媒に可溶なオリゴアニリン誘導体が挙げられる。
ここで、電荷受容性ドーパント物質としては、正孔輸送性物質に対しては電子受容性ドーパント物質を、電子輸送性物質に対しては正孔受容性ドーパント物質を用いることができ、いずれも高い電荷受容性を有することが望ましい。
さらに、電荷輸送性オリゴアニリンが一般的に正孔輸送性を示すことから、電荷受容性ドーパント物質としては、電子受容性ドーパント物質を用いることが好ましい。
電子受容性ドーパントの具体例としては、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、カンファスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸のような有機強酸、7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)のような酸化剤が挙げられるが、これに限定されるものではない。
これらの電子受容性ドーパント物質は1種類のみを使用してもよく、また2種類以上の物質を組み合わせて使用しても良い。
特に、電荷輸送物質又は電荷受容性ドーパント物質の少なくとも一方が、結晶性固体の場合、少なくとも一方の物質はランダムな分子間相互作用を有する物質であることが好ましく、電荷受容性ドーパントとして低分子化合物を使用する場合、例えば、同一分子内に3種類以上の異なった極性官能基を持つ化合物が良い。
溶媒の蒸発法としては、特に限定されるものではないが、ホットプレート、プロキシミティホットプレートやオーブンなどを用いて、適切な雰囲気下、即ち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中で蒸発を行い、均一な成膜面を有する薄膜が得られる。
特にスプレー法に特化した場合の蒸発法として、スプレー塗布時に基材へ着液するまでの細粒化されたスプレー液滴が自然落下により蒸発していく過程は、単純若しくは複雑なパターンで構成された構造物が形成されている基板の露出したITOあるいはIZOなどの電極部分に選択的、且つ、平坦に成膜するときの非常に重要なファクターである。
焼成温度としては、溶媒を蒸発できる温度であれば、特に限定されないが、40〜250℃が好ましい。また、薄膜の高平坦化性及び高均一性を発現させるため、又は基材上で反応を進行させるために、成膜時に2段階以上の温度変化をつけてもよい。
使用する電極基板は、洗剤、アルコール、純水等による液体洗浄を予め行って浄化しておき、陽極基板では使用直前にオゾン処理、酸素−プラズマ処理等の表面処理を行うことが好ましい。ただし陽極材料が有機物を主成分とする場合、表面処理は行わなくともよい。
すなわち、正孔輸送性ワニスを上記の塗布方法により陽極基板に塗布し、陽極上に正孔輸送性薄膜を作製する。これを真空蒸着装置内に導入し、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極金属を順次蒸着してOLED素子とする。発光領域をコントロールするために任意の層間にキャリアブロック層を設けてもよい。
陽極材料としては、ITOやIZOに代表される透明電極が挙げられ、平坦化処理を行ったものが好ましい。高電荷輸送性を有するポリチオフェン誘導体や、ポリアニリン類を用いることもできる。
電子注入層を形成する材料としては、例えば、酸化リチウム(Li2O)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al2O3)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、Liq、Li(acac)、酢酸リチウム、安息香酸リチウム等が挙げられる。
陰極材料としては、例えば、アルミニウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウム−リチウム合金、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。
キャリアブロック層を形成する材料としては、例えば、PBD、TAZ、BCP等が挙げられる。
すなわち、電子輸送性ワニスを上記の塗布方法により陰極基板に塗布し、陰極基板上に電子輸送性薄膜を作製する。これを真空蒸着装置内に導入し、上記と同様の材料を用いて電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層を形成した後、陽極材料をスパッタリング等の方法により成膜してOLED素子とする。
OLED素子作製で行った正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の真空蒸着操作の代わりに、発光性電荷輸送性高分子層を形成することで、本発明の電荷輸送性ワニスからなる電荷輸送性薄膜を含むPLED素子を作製することができる。
具体的には、OLED素子と同様の方法で陽極基板上に正孔輸送性薄膜を作製し、その上部に発光性電荷輸送性高分子層を形成し、さらに陰極電極を蒸着してPLED素子とする。
あるいは、OLED素子と同様の方法により陰極基板上に電子輸送性薄膜を作製し、その上部に発光性電荷輸送性高分子層を形成し、さらに、スパッタリング、蒸着、スピンコート等の方法により陽極電極を作製してPLED素子とする。
発光性電荷輸送性高分子層の形成法としては、発光性電荷輸送性高分子材料又はこれに発光性ドーパントを加えた材料に対し、溶媒を加えて溶解又は分散し、正孔注入層を予め形成した電極基板に塗布した後に、溶媒を蒸発させて成膜する方法が挙げられる。
発光性電荷輸送性高分子材料としては、例えば、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)等のポリフルオレン誘導体、ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)等のポリフェニレンビニレン誘導体、ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)などのポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等が挙げられる。
塗布方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、インクジェット法、スプレー法、刷毛塗り等が挙げられ、窒素、アルゴン等の不活性ガス下で塗布することが望ましい。
溶媒の蒸発法としては、例えば、不活性ガス下又は真空中、オーブン又はホットプレートで加熱する方法が挙げられる。
式(10)に示すフェニルテトラアニリン(以下PTAと略す)は、ブレティン・オブ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical Society of Japan)、1994年、第67巻、p.1749−1752に従って、p−ヒドロキシジフェニルアミンとp−フェニレンジアミンとから合成した(収率85%)。
構造物付きITO基板は、ポジ型感光性ポリイミドワニスを用いて、以下のように作製した。
国際公開第2003/029899号パンフレットの実施例1に記載の方法により、ポジ型感光性ポリイミドワニスを合成した。
得られたポリイミドの数平均分子量は46400(繰り返し単位換算でn=70)分子量分布1.66であった。尚、数平均分子量は(株)センシュー科学社製GPCシステムSSC−7200により測定した。
50×50mm、厚みが0.7mmのITOベタ基板に、得られたポジ型感光性ポリイミドワニスを滴下し、スピンコート法によって成膜した。スピンコーターは、ミカサ株式会社製スピンコーター 1H−DX2を使用した。成膜後80℃で5minプリベークした。次いで、凸版印刷株式会社製のフォトマスクを使用して、紫外線照射装置(キャノン社製PLA−501)を28秒間(150mJ/cm2)照射した。その後、アルカリ現像液(東京応化社製NMD−3)を用いて30sec現像後、純水で2min流水洗浄した。さらに、大気下、ホットプレート上で200℃10min焼成した。得られたパターンは膜厚が700±10nm、Line(ポリイミドの幅)が30μm、スペース(構造物間)が50μmであり、純水の接触角が85.5°のポリイミド構造物を得た。なお、感光性ポリイミド構造物の作製はクラス1000のクリーンルーム内で全工程を行った。
感光性ポリイミド構造物(構造物付きITO基板)の形状及び現像で抜いた部分のITOの平坦化性を、株式会社小坂研究所製 高精度微細形状測定器 SUREFCORDER ET4000Aを使用して測定した。測定条件は、測定範囲を0.4mm、送り速さを0.01mm/sec、測定力である触針圧を10μNとした。
図1に構造物付きITO基板の形状を測定した結果を示す。
図2に構造物付き基材のITO部分を測定した結果を示す。現像で抜いた部分のITOの平坦化性は、最大ラフネスが10nmであった。
参考例1で合成したPTA 0.0637g(0.1439mmol)と、式(11)に示す5−スルホサリチル酸(5−SSA)(和光純薬社品)0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)1.2410gに完全に溶解させた。
得られたワニスは、株式会社藤森技術研究所製スプレー塗布装置 NVD−200を用いて、参考例2で作製した構造物付きのITO基板にスプレー塗布した。スプレー塗布装置の塗布条件は、膜厚が30nm狙い、X及びYスキャン方向が240mm、X及びYオフセットが0mm、スキャンピッチが10mm、ギャップが150mm、ノズル速度が500mm/sec、窒素量が10L/min、薬液量が1mL/min、塗布待機時間が15sec、タクトタイムが60secとした。塗布後、空気中、ホットプレート上で180℃2h焼成を行い、電荷輸送性薄膜を作製した。
図3に実施例1の電荷輸送性薄膜の膜厚分布を測定した結果を示す。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。
得られた溶液にIBA 9.9280gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
図4に比較例1の電荷輸送性薄膜の膜厚分布を測定した結果を示す。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。
得られた溶液にCHA 9.9280gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 12.4100gに完全に溶解させ、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にシクロヘキサノール(CHA)1.2410g、次いでイソブタノール(IBA)9.9280gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 2.4820g、次いでIBA 8.6870gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 3.7230g、次いでIBA 7.4460gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 4.9640g、次いでIBA 6.2050gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 7.4460g、次いでIBA 3.7230gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 8.6870g、次いでIBA 2.4820gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 9.9280g、次いでIBA 1.2410gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.8720gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 9.3600g、次いでIBA 7.4880gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.0%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 0.9255gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 4.6275g、次いでIBA 3.7020gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分2.0%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 0.7362gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 3.6810g、次いでIBA 2.9448gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分2.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 0.6100gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 3.0500g、次いでIBA 2.4400gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分3.0%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、NMP 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでIBA 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 2.4820gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 3.7230g、次いでエタノール(EtOH) 6.2050gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
アクセプターである5−SSAを式(12)記載のナフタレンジスルホン酸オリゴマー(NSO−2)に変更して、以下のようにワニスを調製した。
PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、式(12)に示すNSO−2 0.5601g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 8.1926gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 12.2889g、次いでエタノール(EtOH) 20.4814gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
アクセプターである5−SSAを式(13)記載のベンゾジオキサンスルホン酸オリゴマー(BDSO−3)に変更して、以下のようにワニスを調製した。
PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、式(13)に示すBDSO−3 0.5647g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 8.2530gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 12.3795g、次いでエタノール(EtOH) 20.6324gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
ホストであるPTAをポリアニリン(Pani)に変更して、以下のようにワニスを調製した。
Pani 0.0637gと5−SSA 0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 2.4820gに溶解させたが完全に溶解せず、有機溶媒分散液となった。得られた分散溶液にCHA 3.7230g、次いでエタノール(EtOH) 6.2050gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(理想固形分1.5%)。なお、ポリアニリンは、Aldrich社製 エメラルディンベース Mw ca.50000を使用した。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸水溶液(PEDOT;PSS)(Bayer社製)を、実施例1に記載の方法でスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にプロピレングリコール 6.2050g、次いでIBA 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液に2,3−ブタンジオール 6.2050g、次いでIBA 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 2.0683gに完全に溶解させた。得られた溶液にプロピレングリコール 10.3417gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMAc 2.0683gに完全に溶解させた。得られた溶液に2,3−ブタンジオール 10.3417gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでアセトン 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでエタノール 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでメチルエチルケトン 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでイソプロピルアルコール 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでブタノール 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いで2−メチル−1−プロパノール 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでシクロヘキサノン 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソロブ) 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
得られたワニスは、株式会社藤森技術研究所製 スプレー塗布装置 NVD−200を用いて、参考例2で作製した構造物付きのITO基板にスプレー塗布した。スプレー塗布装置の塗布条件は、膜厚が30nm狙い、X及びYスキャン方向が240mm、X及びYオフセットが0mm、スキャンピッチが10mm、ギャップが150mm、ノズル速度が500mm/sec、窒素量が10L/min、薬液量が0.8mL/min、塗布待機時間が15sec、タクトタイムが60secとした。塗布後、空気中、ホットプレート上で180℃2h焼成を行い、電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでγ−ブチルラクトン 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでフタル酸ジメチル 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例26に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、DMI 1.2410gに完全に溶解させた。得られた溶液にCHA 6.2050g、次いでプロピレングリコール 4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
実施例1に記載の方法で、該ワニスをスプレー塗布し電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)1.2410gに完全に溶解させた。
得られた溶液にシクロヘキサノール(CHA)6.2050g、次いでイソブタノール(IBA)4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
得られたワニスはスピンコート法によって膜厚30nm狙いで塗布した。
塗布後、空気中、ホットプレート上で180℃2h焼成を行い、電荷輸送性薄膜を作製した。
実施例1と同様に、PTA 0.0637g(0.1439mmol)と、5−SSA0.1256g(0.5757mmol)とを窒素雰囲気下、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)1.2410gに完全に溶解させた。
得られた溶液にシクロヘキサノール(CHA)6.2050g、次いでイソブタノール(IBA)4.9640gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した(固形分1.5%)。
得られたワニスはオフセット印刷法によって膜厚30nm狙いで塗布した。
印刷機はナカン株式会社製 簡易印刷機 S−15型を使用し、APR版(400メッシュ)を用いて印刷した。押し込み圧は0.25mmとし、空印刷を2回、捨てITO基板へ3回塗布後に構造物付き基板へ印刷した。
印刷後、空気中、ホットプレート上で180℃2h焼成を行い、電荷輸送性薄膜を作製した。
目視観察は、フナテック株式会社製 干渉稿検査ランプ FNA−35型を使用した。干渉稿検査ランプは目視で観察する際に、微細な塗布ムラを目視でも確実に確認できる。評価の基準として、○、△及び×として評価を行ったが、○は均一な成膜面が得られた場合、△は塗布ムラ等が生じて○よりも若干劣る成膜面が得られた場合、×は均一な成膜面が得られていない場合を指す。
表面張力は、協和界面科学社製 自動表面張力計 CBVP−Z型を使用して測定した。
固形分は、次のように測定した。測定する対象のワニスを容量が23mL、φ上部51mm、φ下部45mm、深さ12mmのAl規格パンに約2gを秤量し、予め160℃に保持しておいた減圧乾燥機に入れ、23mmHgまで10分かけて減圧後、60分間乾燥させた。乾燥機から湿度が50RH%に保持したデシケータ中に移し変え5分間静置後、固形分を秤量した。
粘度は、東機産業社製 E型粘度計を使用して測定した。スプレー塗布において、着液時のワニスの粘度は実際に成膜する条件でスプレー塗布を行い、ステージにシャーレを置いて、ワニスを収集し、粘度を測定した。
表1のように、実施例1はスプレー塗布前の粘度が8.8mPa・sであったがIBAがスプレー中に蒸発したため、基板着液時の粘度は17.6mPa・sにまで増加し、2倍も粘度が増加するワニスである。表面張力はIBAが蒸発したことで、若干増加するものの、スプレー時(29.6mN/m)と基板着液時(33.8mN/m)の表面張力をコントロールできることが分かった。また、IBAが蒸発したことで基板に着液した時のワニス固形分は増加し、1.5wt%から2.4wt%まで増加することが分かった。
電荷輸送性薄膜の成膜面を評価する方法は、2種類の評価法で行った。一つは膜厚ムラであり、50μmの構造物間の膜厚分布から確認するミクロな成膜面の評価である。他方は塗布ムラであり、電荷輸送性薄膜の成膜面を目視で観察したマクロな成膜面の評価である。
成膜面の観察においても、干渉稿検査ランプで目視確認できてしまうような、塗布ムラ(成膜面観察の△あるいは×)は、該電荷輸送性薄膜をEL素子に組み入れて発光させたときに、塗布ムラが発光ムラとして目視できてしまう。
比較例1は、良溶媒としてDMI、揮発性貧溶媒としてIBAで構成されている2種の有機溶媒混合系ワニスであり、高レベリング性貧溶媒を除いた系である。スプレー塗布時と基材着液時の液物性が変化する電荷輸送性ワニスであるが、スプレー中に残存するレベリング性を向上させる高レベリング性貧溶媒を除いたために、塗布ムラが生じた。
比較例2は、良溶媒としてDMI、高レベリング性貧溶媒としてCHAで構成されている2種の有機溶媒混合系ワニスであり、揮発性貧溶媒を除いた系である。スプレー塗布時と基材着液時の液物性は変化せず、スプレー塗布時の粘度が25.4mPa・sと高いため、窒素でワニスを粉砕し難く、霧が均一に出来づらい状態となり、成膜面に塗布ムラが生じたと考えられる。
比較例3は、良溶媒のDMIのみで構成されているワニスであり、揮発性貧溶媒及び高レベリング性貧溶媒を除いた系である。スプレー塗布時と基材着液時の液物性は変化せず、着液時の粘度が7.2mPa・sと低く、レベリング性を向上させる高レベリング性貧溶媒も含まれていないことから、塗布ムラが発生したと考えられる。
実施例2〜8のワニスは、固形分を1.5wt%に固定し、良溶媒にDMI、高レベリング性貧溶媒にCHA、揮発性貧溶媒にIBAを固定し、溶媒組成比率のみを変更させたワニスである。
スプレー塗布時と基材着液時の粘度は、実施例2が4.8mPa・sから11.2mPa・s(2.3倍)、実施例3が5.0mPa・sから12.5mPa・s(2.5倍)、実施例4が5.4mPa・sから14.5mPa・s(2.7倍)、実施例5が6.7mPa・sから16.6mPa・s(2.5倍)、実施例1が8.8mPa・sから17.6mPa・s(2.0倍)、実施例6が11.7mPa・sから22.5mPa・s(1.9倍)、実施例7が15.2mPa・sから26.0mPa・s(1.7倍)、実施例8が19.5mPa・sから31.8mPa・s(1.6倍)と1.6〜2.7倍まで粘度を増加させることが可能であることが分かった。
また、実施例1〜8の電荷輸送性薄膜の膜厚分布は30±6nm以下であり、膜厚ムラが発光ムラに影響しない程度の膜厚ムラに抑制できていることが分かった。
さらに、成膜面観察の結果、実施例1〜実施例8の電荷輸送性薄膜は一様に塗布ムラが確認できなかった。
実施例1及び実施例9〜12のワニスは、良溶媒にDMI、高レベリング性貧溶媒にCHA、揮発性貧溶媒にIBAを固定し、溶媒組成比率を10:50:40に固定し、固形分を変更させたワニスである。
スプレー塗布時と基材着液時の粘度は、実施例9が8.4mPa・sから16.7mPa・s(2.0倍)、実施例1が8.8mPa・sから17.6mPa・s(2.0倍)、実施例10が9.2mPa・sから18.4mPa・s(2.0倍)、実施例11が9.7mPa・sから19.3mPa・s(2.0倍)、実施例12が10.0mPa・sから20.0mPa・s(2.0倍)と約2.0倍まで粘度を増加させることが可能であることが分かった。
また、実施例9〜12の電荷輸送性薄膜の膜厚分布は30±5nm程度であり、膜厚ムラが発光ムラに影響しない程度に抑制されていることが分かった。
さらに、成膜面観察の結果、実施例9〜12の電荷輸送性薄膜は一様に塗布ムラが確認されず、均一な成膜面であることが分かった。
ワニスの固形分の変更は膜厚をコントロールする際の指標となる。
実施例1及び実施例13のワニスは、高レベリング性貧溶媒にCHA、揮発性貧溶媒にIBAを固定し、溶媒組成比率を良溶媒:CHA:IBA=10:50:40に固定し、固形分を1.5wt%に固定し、良溶媒を変更させたワニスである。
良溶媒にNMPを使用した実施例13の電荷輸送性ワニスに関しても、構造物間に非常に良好な電荷輸送性薄膜を形成することができた。
実施例14のワニスは、実施例1と同様の溶質を含み溶媒組成比率を良溶媒:CHA:EtOH=20:30:50に変更したワニスである。
実施例15及び実施例16のワニスは、溶媒組成比率を良溶媒:CHA:EtOH=20:30:50に固定し、固形分を1.5wt%に固定し、ドーパントの種類を変更したワニスである。
比較例4及び比較例5のワニスは、ホストとしてポリマーを使用したワニスである。比較例4のワニスは有機溶媒系分散のワニスであり、比較例5のワニスは水系分散のワニスである。
スプレー塗布時と基材着液時の表面張力は、実施例14が30.1mN/mから35.1mN/m、実施例15が29.8mN/mから34.9mN/m、実施例16が29.2mN/mから34.5mN/mと変化し、表面張力をコントロールできることが分かった。表面張力のコントロールが可能であることは、基材の表面エネルギーに合わせて最適な液物性を選択することができる点が非常に有用である。
また、実施例14〜16の膜厚分布は30±6nm以下であり、膜厚ムラが発光ムラに影響しない程度に抑制されていることが分かった。
一方、比較例4及び比較例5はスプレー塗布時と基材着液時の表面張力の粘度、表面張力が変化するものの(但し比較例5のスプレー塗布時と基材着液時の表面張力は誤差範囲)、膜厚分布において、比較例4が15±30nm、比較例5が10±30nmとなり、膜厚ムラが非常に大きいことが分かった。さらに、比較例4及び比較例5は成膜面のラフネスが非常に大きく、塗布ムラの他に異物に起因するゆず肌ムラ、基板中央付近の海島構造、基板エッジ部分のシュリンク等が確認された。
各ワニスに含まれる高レベリング性貧溶媒は、実施例1及び比較例2がCHA、実施例17及び比較例6がプロピレングリコール(PG)、実施例18及び比較例7が2,3−ブタンジオール(2,3−BD)である。
ここで、比較例2,6及び7のワニスは、揮発性貧溶媒を含まないワニスである。
一方、比較例2,6及び7のスプレー塗布時と基材着液時の粘度は、スプレー塗布時の粘度と変わらず、17.6mPa・s、30.6mPa・s、44.0mPa・sであった。
一方、比較例2,6及び7のスプレー塗布時と基材着液時の表面張力は、スプレー塗布時の表面張力と変わらず、33.8mN/m、33.2mN/m、33.5mN/mであった。
一方、比較例2,6及び7のスプレー塗布時と基材着液時の固形分は、スプレー塗布時の固形分と変わらず、2.4wt%、2.4wt%、2.4wt%であった。
また、実施例1,17及び18の膜厚分布は30±6nm程度であり、膜厚ムラが発光ムラに影響しない程度に抑制されていることが分かった。
さらに、成膜面観察の結果、実施例1,17及び18は一様に塗布ムラが確認されず、均一な成膜面であることが確認された。
一方、比較例6及び比較例7の膜厚分布は25±12nm、25±11nmとなり、膜厚ムラが非常に大きいことが分かった。
さらに、成膜面観察の結果、比較例2,6及び7は成膜面で塗布ムラが確認できた。
実施例1,19〜26の各ワニスに含まれる揮発性貧溶媒は、実施例1がイソブタノール(IBA)、実施例19がアセトン(ACE)、実施例20がエタノール(EtOH)、実施例21がメチルエチルケトン(MEK)、実施例22がイソプロピルアルコール(IPA)、実施例23がブタノール(BuOH)、実施例24が2−メチル−1−ペンタノール(2Me1PeOH)、実施例25がシクロヘキサノン(CHN)、実施例26がエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)である。
比較例8〜10の各ワニスでは、揮発性貧溶媒の代わりに、γ−ブチルラクトン(γ−BL)(比較例8)、フタル酸ジメチル(比較例9)、プロピレングリコール(比較例10)を使用した。
実施例1,19〜26の膜厚分布は30±6nm程度であり、膜厚ムラが発光ムラに影響しない程度に抑制されていることが分かった。
一方、比較例8〜10はそれぞれ30±18nm、30±19nm、30±15nmとなり、膜厚ムラが非常に大きいことが分かった。
さらに、成膜面観察の結果、実施例1,19〜26は一様に塗布ムラが確認されず、均一な成膜面を確認した。
一方、比較例8〜10は成膜面で塗布ムラが確認できた。
実施例1はスプレー法、比較例11はスピンコート法、比較例12はオフセット印刷法によって実施例1のワニスを使用し、評価を行った。
比較例11のスピンコート法は膜厚分布が30±10nmとなり、成膜性は良好であるものの、膜厚ムラが大きい結果となった。この膜厚ムラは粘度が8.8mPa・s程度のワニスをスピンコート法で成膜すると構造物間での流動が生じることに起因すると考えられる。
また、比較例12のオフセット印刷法は膜厚分布が28±12nmとなり、膜厚ムラが大きく、成膜性も塗布ムラが観察された。粘度が8.8mPa・s程度であると、印刷法における最適粘度としては低く、APR版になじまず上手く転写されないことが考えられる。さらに、印刷法はAPR版が構造物に直接接触するため、印刷面のエッジ部分などの摩擦が発生し易い部分で微細な構造物が破壊されてしまうことも確認できた。
実施例1で作製した電荷輸送性薄膜を、真空蒸着装置内に導入し、α−NPD、Alq3、LiF、及びAlを順次蒸着した。膜厚は、それぞれ40nm、60nm、0.5nm、100nmとして、それぞれ8×10-4Pa以下の圧力となってから蒸着操作を行った。その際の蒸着レートはLiF以外の材料については0.3〜0.4nm/s、またLiFについては0.02〜0.04nm/sとした。一連の蒸着操作は全ての層を蒸着するまで真空下で行った。
比較例2の電荷輸送性ワニスを使用した以外は、実施例27と同様にして、OLED素子を作製し、特性を評価した。
表9に実施例27及び比較例13のOLED素子の特性、Ipを示す。OLED素子の特性は、発光開始電圧あるいは10mA/cm2及び50mA/cm2を閾値とした時の電圧、輝度、発光効率を示した。
なお、OLED素子の特性は、有機EL発光効率測定装置(EL1003、プレサイスゲージ社製)を使用して測定した。Ipは理研計器社製 光電子分光装置 AC−2を使用して測定した。
また、実施例27のOLED素子の発光面は面発光が均一であったが、比較例13のOLED素子は面発光のエッジ部分が明るく、中央部が暗いコントラストがついて不均一発光であった。
したがって、本発明の電荷輸送性ワニスを用いることにより、EL素子の発光開始電圧の低下、電流効率の向上、素子の長寿命化が達成され、安価で生産効率の高いEL素子を歩留まり良く、作製することが可能である。
Claims (20)
- 電荷輸送性モノマー、又は数平均分子量200〜5000の電荷輸送性オリゴマーからなる電荷輸送物質及び電子受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料と、良溶媒と、高レベリング性貧溶媒と、揮発性貧溶媒とを含有し、
前記良溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、及びN−シクロヘキシル−2−ピロリジノンから選ばれる少なくとも1種であり、
前記高レベリング性貧溶媒が、スチレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、1−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、シクロヘキサノール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、γ−ブチルラクトン、及びジプロピレングリコールから選ばれる少なくとも1種であり、
前記揮発性貧溶媒が、p−キシレン、o−キシレン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルノーマルブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピルケトン、酢酸ノーマルプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ノーマルブチル、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール、アリルアルコール、ノーマルプロパノール、2−メチル−2−ブタノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−1−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−1−ペンタノール、2−エチルヘキサノール、1−メトキシ−2−ブタノール、ジアセトンアルコール、イソプロピルエーテル、及び1,4−ジオキサンから選ばれる少なくとも1種であり、
前記電子受容性ドーパント物質が、一般式(7)で表されるアリールスルホン酸誘導体であることを特徴とするスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記良溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、及び1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンから選ばれる少なくとも1種である請求項1記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記良溶媒が、N−メチルピロリドン、及び1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンから選ばれる少なくとも1種である請求項2記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記高レベリング性貧溶媒が、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、γ−ブチルラクトン、及びジプロピレングリコールから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれか1項記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記高レベリング性貧溶媒が、シクロヘキサノール、2,3−ブタンジオール及びプロピレングリコールから選ばれる少なくとも1種である請求項4記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記揮発性貧溶媒が、メチルエチルケトン、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール、ノーマルプロパノール、イソブタノール、ノーマルブタノール、及びエチレングリコールモノブチルエーテルから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜5のいずれか1項記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記揮発性貧溶媒が、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール、及びエチレングリコールモノブチルエーテルから選ばれる少なくとも1種である請求項6記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記良溶媒と、少なくとも1種類以上の高レベリング性貧溶媒と、少なくとも1種類以上の揮発性貧溶媒との組み合わせが、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエチレングリコールモノブチルエーテル、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとイソブタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとエタノール、N,N−ジメチルアセトアミドとシクロヘキサノールとイソブタノール、N,N−ジメチルアセトアミドとシクロヘキサノールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとエタノール、N−メチルピロリドンと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、N−メチルピロリドンと2,3−ブタンジオールとエタノール、N,N−ジメチルアセトアミドと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、N,N−ジメチルアセトアミドと2,3−ブタンジオールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとジプロピレングリコールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとジプロピレングリコールとエタノール、N−メチルピロリドンとジプロピレングリコールとイソブタノール、N−メチルピロリドンとジプロピレングリコールとエタノール、N,N−ジメチルアセトアミドとジプロピレングリコールとイソブタノール、又はN,N−ジメチルアセトアミドとジプロピレングリコールとエタノールである請求項1記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記良溶媒と、少なくとも1種類以上の高レベリング性貧溶媒と、少なくとも1種類以上の揮発性貧溶媒との組み合わせが、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとイソブタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと2,3−ブタンジオールとエタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとイソブタノール、N−メチルピロリドンとシクロヘキサノールとエタノール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとシクロヘキサノールとエチレングリコールモノブチルエーテルである請求項1記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記電荷輸送物質が、共役単位を有する電荷輸送性モノマー又は共役単位を有する数平均分子量200〜5000の電荷輸送性オリゴマーであり、かつ、単一の前記共役単位が連続している、又は相異なる2種以上の前記共役単位が任意の順序の組み合わせで連続している請求項1〜9のいずれか1項記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記共役単位が、置換若しくは非置換、かつ、2〜4価の、アニリン、チオフェン、ジチイン、フラン、ピロール、エチニレン、ビニレン、フェニレン、ナフタレン、アントラセン、イミダゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、キノキザリン、シロール、シリコン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、フェニレンビニレン、フルオレン、カルバゾール、トリアリールアミン、金属−若しくは無金属−フタロシアニン、及び金属−若しくは無金属−ポルフィリンから選ばれる少なくとも1種である請求項10記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 前記電荷輸送物質が、一般式(1)で表されるオリゴアニリン誘導体、又は一般式(1)の酸化体であるキノンジイミン誘導体である請求項11記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス。
- 請求項1〜13のいずれか1項記載のスプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニスを使用して作製されることを特徴とする電荷輸送性薄膜。
- スプレー法により作製されることを特徴とする請求項14記載の電荷輸送性薄膜。
- 請求項14又は15記載の電荷輸送性薄膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層又は正孔輸送層である請求項16記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項1〜13のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニスを基材上にスプレー又はインクジェット法により塗布し、溶媒を蒸発させることを特徴とする電荷輸送性薄膜の作製方法。
- スプレー法により塗布することを特徴とする請求項18記載の電荷輸送性薄膜の作製方法。
- 請求項14又は15記載の電荷輸送性薄膜を用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
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