CN110085655B - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。所述显示面板包括：层叠在衬底基板上的第一界定层、反射层、平坦层和像素单元层，所述像素单元层包括：多个像素单元，每个像素单元包括至少两个亚像素；所述第一界定层用于在所述衬底基板上限定出多个界定区域；所述反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影。本申请提高了显示面板的出光效率。本申请用于显示图像。

Description

显示面板及其制造方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode；简称：OLED)显示装置得到了广泛的应用。

相关技术中，OLED显示装置至少包括阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层和阳极层。通常的，发光层的的两侧通常具有其他有机膜层，例如，阴极层与电子传输层之间还具有电子注入层。并且，发光层发出的光经过该多个有机膜层时，由于全反射的问题，会造成光的损失。例如，发光层发出的20％光能够从OLED显示装置的出光面射入到空气中，而发光层发出的80％的光会损失，导致OLED显示装置的出光效率低。

发明内容

本申请提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置，可以解决相关技术中显示装置的出光效率低的问题，所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：层叠在衬底基板上的第一界定层、反射层、平坦层和像素单元层，所述像素单元层包括：多个像素单元，每个像素单元包括至少两个亚像素；

所述第一界定层用于在所述衬底基板上限定出多个界定区域；

所述反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影。

可选地，所述反射层在每个界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影的几何中心与所述亚像素在所述衬底基板上的正投影的几何中心重合。

可选地，所述第一界定层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影位于所述第一界定层靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内。

可选地，所述显示面板还包括：位于所述第一界定层和所述反射层之间的凹陷层；

所述凹陷层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凹陷层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影。

可选地，所述第一界定层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影与所述凹陷层在所述衬底基板上的正投影不重叠。

可选地，所述第一界定层具有亲水性。

第二方面，提供了一种显示面板的制造方法，所述方法包括：

采用亲水材料在衬底基板上形成第一界定层，所述第一界定层在所述衬底基板上限定出多个界定区域；

采用反光材料在形成有所述第一界定层的衬底基板上形成反射层，所述反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状；

在形成有所述反射层的衬底基板上形成平坦层；

在形成有所述平坦层的衬底基板上形成像素单元层，所述像素单元层包括：多个像素单元，每个像素单元包括至少两个亚像素，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影。

可选地，所述采用反光材料在形成有所述第一界定层的衬底基板上形成反射层，包括：

采用溶液制程法在形成有第一界定层的衬底基板上形成凹陷层，所述凹陷层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凹陷层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影；

采用反光材料在形成有所述凹陷层的衬底基板上形成所述反射层。

可选地，所述在形成有所述平坦层的衬底基板上形成像素单元层，包括：

在所述平坦层上形成第二界定层，所述第二界定层用于限定出多个像素区域；

在所述像素区域中形成所述亚像素，得到所述像素单元层。

第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：第一方面所述的显示面板。

本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

本申请提供的显示面板及其制造方法、显示装置，该显示面板包括第一界定层和用于反射光的反射层，且反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，相较于相关技术，当亚像素发出的光发射至反射层时，该反射层可以对光进行反射，一方面可以改变光的发射角度，可以减少发生全反射的光的量，另一方面，由于反射层能够将发射至反射层表面的光反射至显示面板的出光侧，可以增加亚像素发出的光中从显示面板的出光侧射出的光的量，进而提高了显示面板的出光效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种相关技术中的OLED显示装置的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图4是图5中的结构在XX’位置处的截面示意图；

图5是本发明实施例提供的再一种显示面板的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；

图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的制造方法的流程图；

图9是本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成第一界定层后的结构示意图；

图10是本发明实施例提供的一种在形成有第一界定层的衬底基板上形成凹陷层后的结构示意图；

图11是本发明实施例提供的一种在形成有凹陷层的衬底基板上形成反射层后的结构示意图；

图12是本发明实施例提供的一种在形成有反射层的衬底基板上形成平坦层后的结构示意图；

图13是本发明实施例提供的一种在形成有平坦层的衬底基板上形成第二界定层后的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

图1为本发明实施例提供的一种相关技术中的OLED显示装置的示意图，如图1所示，该OLED显示装置包括层叠在衬底基板01上的阴极层02、电子传输层03、发光层04、空穴传输层05和阳极层06。其中，电子传输层03和空穴传输层05的材料通常为有机材料，该有机材料的折射率约为1.7。衬底基板01的材料主要为二氧化硅，折射率约为1.5。空气的折射率约为1。当光由折射率较高的介质射入折射率较低的介质中时，较容易发生全反射，因此，当发光层04发出的光在由有机膜层或衬底基板射入空气中时，会有一部分光(如图1中的光L1)发生全反射，导致该部分光无法从OLED显示装置射出，进而导致从OLED显示装置发射至空气中的光(如图1中的光L2)较少，导致该OLED显示装置的出光效率较低。

本发明实施例提供了一种显示面板，具有较高的出光效率。如图2所示，显示面板1可以包括：层叠在衬底基板11上的第一界定层12、反射层13、平坦层14和像素单元层15。其中，像素单元层15可以包括：多个像素单元，每个像素单元可以包括至少两个亚像素。该至少两个亚像素发出光的颜色不同。

第一界定层12用于在衬底基板11上限定出多个界定区域。

反射层13用于用于对照射至该反射层的光进行反射，反射层13在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且亚像素在衬底基板11上的正投影覆盖反射层13位于界定区域中的部分在衬底基板11上的正投影。

综上所述，本发明实施例提供的显示面板，该显示面板包括第一界定层和用于反射光的反射层，且反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，相较于相关技术，当亚像素发出的光发射至反射层时，该反射层可以对光进行反射，一方面可以改变光的发射角度，可以减少发生全反射的光的量，另一方面，由于反射层能够将发射至反射层表面的光反射至显示面板的出光侧，可以增加亚像素发出的光中从显示面板的出光侧射出的光的量，进而提高了显示面板的出光效率。

并且，由于亚像素在衬底基板11上的正投影覆盖反射层13位于界定区域中的部分在衬底基板11上的正投影，使得反射层13位于每个界定区域中的部分与一个亚像素对应，反射层位于每个界定区域中的部分用于反射对应的亚像素发出的光，且其他亚像素发出的光无法发射至当前界定区域中，减小了该亚像素发出的光与其他亚像素发出的光发生串扰的几率，能够保证显示面板发光的色纯度，提高了显示面板的显示效果。

进一步地，反射层在每个界定区域中的部分在衬底基板上的正投影具有第一几何中心，亚像素在衬底基板上的正投影具有第二几何中心，该第一几何中心可以与该第二几何中心重合。并且，反射层在界定区域中的部分在衬底基板上的正投影和亚像素在衬底基板上的正投影可以具有相同的对称轴。这样一来，亚像素发出的光能够较多的发射至对应的反射层在界定区域中的部分，降低了该亚像素发出的光发射至反射层在其他界定区域中的部分的几率，进而降低了该亚像素发出的光与其他亚像素发出的光发生串扰的几率。

示例地，像素单元可以包括两个亚像素，该两个亚像素可以为红色亚像素和绿色亚像素，或者，像素单元可以包括三个亚像素，该三个亚像素可以为红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素，本发明实施例对此不做限定。亚像素在衬底基板11上的正投影与反射层13位于界定区域中的部分在衬底基板11上的正投影可以重合，此时，在相邻的两个亚像素发出的光不发生串扰的前提下，反射层13在界定区域中的部分具有较大的表面面积，能够增加被该部分反射的光量，进一步增加了亚像素发出的光中从显示面板的出光侧射出的光的量。

如图2所示，第一界定层12远离衬底基板11的表面B1在衬底基板11上的正投影可以位于第一界定层12靠近衬底基板11的表面B2在衬底基板11上的正投影内。此时，第一界定层12的侧面(例如图2中的侧面C)可以相对于衬底基板11倾斜设置，当采用溶液制程法形成反射层时，用于制造反射层13的溶液较容易附着在第一界定层12的侧面，使得形成的反射层13在每个界定区域中的表面呈凹陷状。或者，第一界定层12的侧面也可以相对于衬底基板11垂直设置，本发明实施例对此不做限定。

进一步地，第一界定层可以具有亲水的特性。例如，第一界定层的材料可以为亲水材料，如聚酰亚胺等材料。且在形成第一界定层后，可以对第一界定层进行亲水处理，以增强第一界定层的亲水性能。例如，可以对第一界定层进行离子轰击处理。或者，显示面板还可以包括亲水处理层，该亲水处理层为涂覆在第一界定层的表面的亲水膜，且该亲水膜的亲水性能优于第一界定层的亲水性能。当该亲水处理层的制造材料成本较高时，通过在该第一界定层表面涂覆亲水处理层的实现方式能够有效降低显示面板的制造成本。

可选地，第一界定层可以为网格状结构，每个网格用于限定出一个界定区域。

第一界定层为网格状结构，使得当采用溶液制程法形成反射层时，用于形成反射层的溶液与第一界定层可以具有较大的接触面积，增多了附着在第一界定层上的溶液的量，使得形成的反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状。示例地，如图3和图4所示，网格状结构122限定出了四个界定区域。其中，图4是图3中的结构在XX’位置处的截面示意图。

需要说明的是，呈网格状的第一界定层12可以为一体结构，且该呈网格状的第一界定层12为在制造过程中可以通过一次构图工艺制造得到。

可选地，如图5所示，显示面板1还可以包括：位于第一界定层12和反射层13之间的凹陷层16。其中，凹陷层16在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且亚像素151在衬底基板11上的正投影覆盖凹陷层16位于界定区域中的部分在衬底基板11上的正投影。这样一来，当在该凹陷层16上形成反射层13时，亚像素在衬底基板11上的正投影能够覆盖形成的反射层13位于界定区域中的部分在衬底基板11上的正投影，以减小该亚像素发出的光与其他亚像素发出的光发生串扰的几率。

进一步地，如图6所示，第一界定层12远离衬底基板11的表面在衬底基板11上的正投影E与凹陷层16在衬底基板11上的正投影F可以不重叠。此时，反射层13与第一界定层12远离衬底基板11的表面直接接触，一方面可以降低显示面板的整体厚度，有利于显示面板的轻薄化，另一方面可以减少形成凹陷层时所需的源材料。

再进一步地，当凹陷层16在每个界定区域中的表面呈凹陷状时，可以采用常用的成膜工艺(如蒸镀的方式)在凹陷层16上形成反射层13，可以降低形成反射层13的工艺难度。并且，由于凹陷层16主要用于支撑反射层13，因此对凹陷层16的制造材料的选材要求较低，例如可以为有机材料或无机材料等，使得可以选用多种成膜工艺形成凹陷层16，对形成凹陷层16的工艺要求较低。

可选地，可以采用溶液制程法形成凹陷层。例如，采用喷墨打印的方式形成凹陷层，其形成过程可以为：先向每个界定区域内喷射溶解有凹陷层材料的溶液，然后，对该溶液进行干燥，使得该溶液中的溶剂被蒸发，而溶液中的凹陷层材料沉积在第一界定层的侧面和衬底基板上，进而形成凹陷层。

并且，溶解有凹陷层材料的溶液在干燥的过程中，受表面张力、毛细作用及马兰哥尼对流作用等因素的影响，未干燥的溶液较容易向已经干燥的溶液所在的区域流动。且由于位于第一界定层侧面的溶液较薄，使得位于第一界定层侧面的溶液的溶剂干燥的较快，进而使得未干燥的液体更倾向于向第一界定层的侧面流动，使得在靠近第一界定层侧面处留下较多溶质，即靠近第一界定层侧面处的膜层厚度较厚，远离第一界定层侧面处的膜层厚度较薄，使得形成的凹陷层在界定区域中呈现较明显的凹面形状。其中，凹陷层在界定区域中表现为该形状的现象通常称为咖啡环现象。

当显示面板1包括凹陷层16时，由于凹陷层16在每个界定区域中的表面呈凹陷状，可以在凹陷层16上形成一层具有一定厚度反射层13。其中，反射层13的厚度可以根据反射层材料的透光性进行设置，以确保反射层不透光，避免发射至反射层的光透过反射层。可选地，反射层13的材料可以为无机材料或有机材料，且当反射层13的材料为无机材料时，反射层13的材料可以为铝或铜等金属材料。

请参考图5或图6，显示面板1还可以包括：第二界定层17。其中，第二界定层17位于平坦层14远离衬底基板11的一侧，且第二界定层17用于限定出多个像素区域，每个亚像素151位于一个像素区域中，且每个亚像素151可以包括：层叠设置的阳极层、发光层和阴极层等。

综上所述，本发明实施例提供的显示面板，该显示面板包括第一界定层和用于反射光的反射层，且反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，相较于相关技术，当亚像素发出的光发射至反射层时，该反射层可以对光进行反射，一方面可以改变光的发射角度，可以减少发生全反射的光的量，另一方面，由于反射层能够将发射至反射层表面的光反射至显示面板的出光侧，可以增加亚像素发出的光中从显示面板的出光侧射出的光的量，进而提高了显示面板的出光效率。

本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法，用于制造上述实施例中的显示面板，如图7所示，该显示面板的制造方法包括：

步骤901、采用亲水材料在衬底基板上形成第一界定层，第一界定层在衬底基板上限定出多个界定区域。

步骤902、采用反光材料在形成有第一界定层的衬底基板上形成反射层，反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状。

步骤903、在形成有反射层的衬底基板上形成平坦层。

步骤904、在形成有平坦层的衬底基板上形成像素单元层，像素单元层包括：多个像素单元，每个像素单元包括至少两个亚像素，且亚像素在衬底基板上的正投影覆盖反射层位于界定区域中的部分在衬底基板上的正投影。

综上所述，本发明实施例提供显示面板的制造方法，制作得到的显示面板包括：第一界定层和用于反射光的反射层，且反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，相较于相关技术，当亚像素发出的光发射至反射层时，该反射层可以对光进行反射，一方面可以改变光的发射角度，可以减少发生全反射的光的量，另一方面，由于反射层能够将发射至反射层表面的光反射至显示面板的出光侧，可以增加亚像素发出的光中从显示面板的出光侧射出的光的量，进而提高了显示面板的出光效率。

可选地，本发明实施例以制作图6所示的显示面板为例，对显示面板的制造方法进行说明。

图8为本发明实施例提供的另一种显示面板的制造方法的流程图，如图8所示，该显示面板的制造方法包括：

步骤1001、采用亲水材料在衬底基板上形成第一界定层，第一界定层在衬底基板上限定出多个界定区域。

可以采用磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhancedchemical vapor deposition，PECVD)等方法在衬底基板上沉积一层具有亲水特性的亲水材料，得到亲水材料层，然后通过一次构图工艺对该亲水材料层进行图案化处理得到第一界定层。其中，一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。示例地，该亲水材料可以为聚酰亚胺等材料。

可选地，第一界定层可以包括阵列排布的多个界定结构，此时，每个界定结构与相邻界定结构的连线在衬底基板上限定出界定区域。或者，第一界定层为网格状结构，每个网格用于限定出一个界定区域。进一步地，第一界定层远离衬底基板的表面在衬底基板上的正投影可以位于第一界定层靠近衬底基板的表面在衬底基板上的正投影内。

进一步地，反射层在每个界定区域中的部分在衬底基板上的正投影具有第一几何中心，亚像素在衬底基板上的正投影具有第二几何中心，该第一几何中心可以与该第二几何中心重合。并且，反射层在界定区域中的部分在衬底基板上的正投影和亚像素在衬底基板上的正投影可以具有相同的对称轴。这样一来，亚像素发出的光能够较多的发射至对应的反射层在界定区域中的部分，降低了该亚像素发出的光发射至反射层在其他界定区域中的部分的几率，进而降低了该亚像素发出的光与其他亚像素发出的光发生串扰的几率。

示例地，在执行完步骤1001之后，可以得到如图9所示的结构。如图9所示，第一界定层12远离衬底基板11的表面B1在衬底基板11上的正投影位于第一界定层12靠近衬底基板11的表面B2在衬底基板11上的正投影内。

步骤1002、对第一界定层进行离子轰击处理。

在衬底基板上形成第一界定层后，可以对第一界定层的表面进行离子轰击处理，以增强第一界定层的亲水能力，使得在采用溶液制程法在第一界定层上形成凹陷层时，用于制作凹陷层的溶液能够更好的附着在第一界定层上，以便于在每个界定区域中形成表面呈凹陷状的凹陷层。

需要说的是，对第一界定层进行离子轰击处理是为了增强第一界定层的亲水性。但增强第一界定层亲水性的实现方式不限于该离子轰击处理方式，还可以有其他实现方式。例如，显示面板还可以包括亲水处理层，该亲水处理层为涂覆在第一界定层的表面的亲水膜，且该亲水膜的亲水性能优于第一界定层的亲水性能。并且，当该亲水处理层的制造材料成本较高时，通过在该第一界定层表面涂覆亲水处理层的实现方式能够有效降低显示面板的制造成本。

步骤1003、采用溶液制程法在形成有第一界定层的衬底基板上形成凹陷层，凹陷层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且亚像素在衬底基板上的正投影覆盖凹陷层位于界定区域中的部分在衬底基板上的正投影。

在对第一界定层离子轰击处理后，可以采用溶液制程法在形成有第一界定层的衬底基板上形成凹陷层。其中，采用溶液制程法形成凹陷层的过程可以为：先在界定区域中注入溶解有凹陷层材料的溶液，然后对该溶液进行干燥，使得该溶液中的溶剂被蒸发，溶液中的凹陷层材料沉积在第一界定层的侧面和衬底基板上，进而形成凹陷层。

由于第一界定层具有亲水的特征，使得一部分溶解有凹陷层材料的溶液可以附着在第一界定层的侧面，另一部分溶解有凹陷层材料的溶液位于衬底基板的表面上。此时，在对该溶液进行干燥时，能够在每个界定区域中形成表面呈凹陷状的凹陷层。并且，由于溶液制程法的工艺简单，采用溶液制程法形成凹陷层能够降低显示面板的制造难度。

可选地，溶液制程法的可实现方式可以有多种，如喷墨打印的方式。采用喷墨打印的方式形成凹陷层的过程可以为先向每个界定区域内喷射溶解有凹陷层材料的溶液，然后，对该溶液进行干燥，使得该溶液中的溶剂被蒸发，而溶液中的凹陷层材料沉积在第一界定层的侧面和衬底基板上，进而形成凹陷层。其中，由于第一界定层具有亲水的特性，使得界定区域中的溶液较容易附着在第一界定层上。

并且，溶解有凹陷层材料的溶液在干燥的过程中，受表面张力、毛细作用及马兰哥尼对流作用等因素的影响，未干燥的溶液较容易向已经干燥的溶液所在的区域流动。第一界定层侧面的溶液的溶剂干燥的较快，进而使得未干燥的液体更倾向于向第一界定层的侧面流动，使得在靠近第一界定层侧面处留下较多溶质，即靠近第一界定层侧面处的膜层厚度较厚，远离第一界定层侧面处的膜层厚度较薄，使得形成的凹陷层在界定区域中呈现较明显的凹面形状。其中，凹陷层在界定区域中表现为该形状的现象通常称为咖啡环现象。

可选地，第一界定层远离衬底基板的表面在衬底基板上的正投影与凹陷层在衬底基板上的正投影可以不重叠；或者，凹陷层可以完全覆盖在第一界定层的表面上。

示例地，在执行完步骤1003之后，可以得到如图10所示的结构。如图10所示，凹陷层16在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且凹陷层16在衬底基板11上的正投影与第一界定层12远离衬底基板11的表面在衬底基板上的正投影与不重叠。

步骤1004、采用反光材料在形成有凹陷层的衬底基板上形成反射层，反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状。

可以采用蒸镀的方式在形成有凹陷层的衬底基板上形成具有一定厚度的反射层材料，以得到反射层。该反射层的厚度可以根据实际需要进行设置。例如，反射层的厚度可以根据反射层材料的透光性进行设置，以确保反射层不透光，避免发射至反射层的光透过反射层。

示例地，在执行完步骤1004后，可以得到如图11所示的结构。如图11所示，反射层13在每个界定区域中的表面呈凹陷状，且该凹陷状的的形状与凹陷层16在每个界定区域中的表面的形状为相似形状。并且，反射层13与第一界定层12远离衬底基板11的表面直接接触，一方面可以降低显示面板的整体厚度，有利于显示面板的轻薄化，另一方面可以减少形成凹陷层16时所需的源材料。

该制造反射层的方法，相较于相关技术通过对金属片压平、去氧化、抛光、压印和转印等方法形成具有凹陷形状的反射结构的实现方式，降低了反射层的制造难度。

步骤1005、在形成有反射层的衬底基板上形成平坦层。

可以采用磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有反射层的衬底基板上沉积一层具有一定厚度的平坦层材料，得到平坦材质层，然后通过一次构图工艺对平坦材质层进行图形化处理得到平坦层。可选地，该平坦层材料和该平坦层的厚度可以根据实际需要进行设置。

示例地，在执行完步骤1005后，可以得到如图12所示的结构。如图12所示，平坦层14靠近衬底基板11的一侧的形状与反射层13远离衬底基板11的一侧的形状互补，平坦层14远离衬底基板11的一侧为一平面。

步骤1006、在平坦层上形成第二界定层，第二界定层用于限定出多个像素区域。

可以采用磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有平坦层的衬底基板上沉积一层具有一定厚度的第二界定层材料，得到第二界定材质层，然后通过一次构图工艺对第二界定材质层进行图形化处理得到第二界定层，第二界定层用于第二界定层用于限定出多个像素区域，像素区域中用于设置一个亚像素。其中，第二界定层的结构可以如图13所示。可选地，该第二界定层材料和该第二界定层的厚度可以根据实际需要进行设置。示例的，该第二界定层材料可以为有机材料。

步骤1007、在像素区域中形成亚像素，得到像素单元层。

可选地，每个亚像素可以包括：层叠设置的阳极层、发光层和阴极层。此时，可以采用构图工艺在像素区域中依次形成阳极层、发光层和阴极层，以形成亚像素，进而得到像素单元层。其中，亚像素或像素单元层的结构可以如图8所示。亚像素中的发光层至少可以包括：空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层和电子注入层等，且各膜层的厚度可以根据实际需要进行设置。

需要说明的是，亚像素中的阳极层可以在形成第二界定层之前形成，也可以在之后形成，本发明实施例对此不做限定。

综上所述，本发明实施例提供显示面板的制造方法制作的显示面板，包括：第一界定层和用于反射光的反射层，且反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状，相较于相关技术，当亚像素发出的光发射至反射层时，该反射层可以对光进行反射，一方面可以改变光的发射角度，可以减少发生全反射的光的量，另一方面，由于反射层能够将发射至反射层表面的光反射至显示面板的出光侧，可以增加亚像素发出的光中从显示面板的出光侧射出的光的量，进而提高了显示面板的出光效率。

需要说明的是，本发明实施例提供的显示面板的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。

本发明实施例提供的一种显示装置，该显示装置可以包括：上述实施例中的任一显示面板。可选地，该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、有机发光二极管(英文：organiclight-emitting diode，简称：OLED)面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的装置或部件。

以上所述仅为本申请的可选实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：层叠在衬底基板上的第一界定层、反射层、平坦层和像素单元层，所述像素单元层包括：多个像素单元，每个像素单元包括至少两个亚像素；

所述第一界定层用于在所述衬底基板上限定出多个界定区域，所述第一界定层为网格状结构，每个网格限定出一个界定区域，所述第一界定层为一体结构，且通过一次构图工艺制造得到；

所述反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状且为弧面，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影；

所述显示面板还包括：位于所述第一界定层和所述反射层之间的凹陷层；

所述凹陷层在每个界定区域中的表面呈凹陷状且为弧面，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凹陷层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影，所述第一界定层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影与所述凹陷层在所述衬底基板上的正投影不重叠，以使所述反射层与所述第一界定层远离所述衬底基板的表面直接接触。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反射层在每个界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影的几何中心与所述亚像素在所述衬底基板上的正投影的几何中心重合。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述第一界定层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影位于所述第一界定层靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内。

4.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述第一界定层具有亲水性。

5.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

采用亲水材料通过一次构图工艺在衬底基板上形成第一界定层，所述第一界定层在所述衬底基板上限定出多个界定区域，所述第一界定层为网格状结构，每个网格限定出一个界定区域，且所述第一界定层为一体结构；

采用反光材料在形成有所述第一界定层的衬底基板上形成反射层，所述反射层在每个界定区域中的表面呈凹陷状且为弧面；

在形成有所述反射层的衬底基板上形成平坦层；

在形成有所述平坦层的衬底基板上形成像素单元层，所述像素单元层包括：多个像素单元，每个像素单元包括至少两个亚像素，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影；

其中，所述采用反光材料在形成有所述第一界定层的衬底基板上形成反射层，包括：

采用溶液制程法在形成有第一界定层的衬底基板上形成凹陷层，所述凹陷层在每个界定区域中的表面呈凹陷状且为弧面，且所述亚像素在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凹陷层位于所述界定区域中的部分在所述衬底基板上的正投影，所述第一界定层远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影与所述凹陷层在所述衬底基板上的正投影不重叠；

采用反光材料在形成有所述凹陷层的衬底基板上形成所述反射层，所述反射层与所述第一界定层远离所述衬底基板的表面直接接触。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述平坦层的衬底基板上形成像素单元层，包括：

在所述平坦层上形成第二界定层，所述第二界定层用于限定出多个像素区域；

在所述像素区域中形成所述亚像素，得到所述像素单元层。

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