JP6752305B2 - 有機el発光素子及びその製造方法 - Google Patents
有機el発光素子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6752305B2 JP6752305B2 JP2019006018A JP2019006018A JP6752305B2 JP 6752305 B2 JP6752305 B2 JP 6752305B2 JP 2019006018 A JP2019006018 A JP 2019006018A JP 2019006018 A JP2019006018 A JP 2019006018A JP 6752305 B2 JP6752305 B2 JP 6752305B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- organic
- insulating bank
- light emitting
- organic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 130
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 126
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 115
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 71
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 43
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 15
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 8
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 7
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019015 Mg-Ag Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- APQXWKHOGQFGTB-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-9h-carbazole Chemical group C12=CC=CC=C2NC2=C1C=CC=C2C=C APQXWKHOGQFGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXYHZIYEDDINQH-UHFFFAOYSA-N C1=CNC2=C3C=NN=C3C=CC2=C1 Chemical group C1=CNC2=C3C=NN=C3C=CC2=C1 UXYHZIYEDDINQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical group N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 and the like Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical group C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002755 pyrazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical group C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- JLZUZNKTTIRERF-UHFFFAOYSA-N tetraphenylethylene Chemical group C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JLZUZNKTTIRERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
(1)本発明の第一の実施形態に係る有機EL発光素子は、基板と、前記基板の表面の上に設けられた第1電極と、前記第1電極の少なくとも一部を取り囲むべく形成された絶縁バンクと、前記絶縁バンクによって取り囲まれた第1電極の上に形成された有機層と、前記有機層の上に形成された第2電極とを備え、前記絶縁バンクが、順テーパ形状または前記絶縁バンクの側壁が前記第1電極に対して略垂直である形状であり、かつ、前記絶縁バンクの表面が親水性に形成されており、前記有機層が、有機材料のオリゴマーを含む塗布型の有機層である。
22 第1電極
23 絶縁バンク
23a 開口
25 塗膜
25a 塗布液
26 有機層
27 第2電極
28 保護膜
31 ノズル
Claims (9)
- 基板と、
前記基板の表面の上に設けられた第1電極と、
前記第1電極の少なくとも一部を取り囲むべく形成された絶縁バンクと、
前記絶縁バンクによって取り囲まれた第1電極の上に形成された一層または複数層の有機層と、
前記有機層の上に形成された透光性を有する第2電極と
を備え、
前記絶縁バンクが、順テーパ形状または前記絶縁バンクの側壁が前記第1電極に対して略垂直である形状であり、かつ、前記絶縁バンクの表面が親水性に形成されており、前記絶縁バンクの表面の水との接触角が、15°以上、60°以下であり、
全ての有機層が分子量300以上、5000以下の有機材料のオリゴマーからなる塗布型の有機層であり、かつ、前記有機層が発光層を含み、
前記第2電極の膜厚が、5nm以上、30nm以下であり、
前記第2電極が形成された面の側から光を取り出す方式である、トップエミッション型有機EL発光素子。 - 前記絶縁バンクは順テーパ形状であり、その側壁の、前記第1電極に対する角度が、10°以上、80°以下である、請求項1に記載のトップエミッション型有機EL発光素子。
- 前記絶縁バンクの表面が、5〜30nmの算術平均粗さを有する改質表面である、請求項1または2に記載のトップエミッション型有機EL発光素子。
- 前記有機層と前記絶縁バンクの側壁との接点である、有機層のピニング位置が、前記有機層の最薄部の高さよりも高い位置にある、請求項1〜3のいずれか1項に記載のトップエミッション型有機EL発光素子。
- 前記絶縁バンクによって取り囲まれた前記第1電極の面積が、100μm2以上、850μm2以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のトップエミッション型有機EL発光素子。
- 基板の表面の上に、第1電極を形成する工程と、
前記第1電極の少なくとも一部を取り囲むように、絶縁バンクを形成する工程と、
前記絶縁バンクで取り囲まれた領域の前記第1電極の上に、発光層を含む、一層または複数層の分子量300以上、5000以下の有機材料のオリゴマーからなる有機層を形成する工程であって、全ての有機層が塗布型の有機層として形成される工程と、
前記有機層の上に、透光性を有する第2電極を形成する工程と、
を含み、
前記有機層を形成する前に、前記絶縁バンクの開口内表面の水との接触角を、15°以上、60°以下にする改質処理を行うことを含み、
前記第2電極の膜厚が、5nm以上、30nm以下になるように前記第2電極を形成し、
前記有機層の形成を、前記有機層の有機材料のオリゴマーを含む液状組成物をインクジェット法によって1滴当たり0.05pL以上、1pL以下の滴下量で滴下することによって行う、前記第2電極が形成された面の側から光を取り出す方式であるトップエミッション型有機EL発光素子の製造方法。 - 前記改質処理を、前記絶縁バンクの表面の再硬化または可溶溶媒への暴露によって前記絶縁バンクの表面の算術平均粗さを改質することで行う、請求項6に記載の製造方法。
- 前記改質処理を、プラズマ照射、UV照射及びオゾン処理のいずれかによって、前記絶縁バンクの表面に極性官能基を導入して行う、請求項6に記載の製造方法。
- 前記絶縁バンクによって取り囲まれる前記第1電極の面積が100μm2以上、850μm2以下になるように前記絶縁バンクを形成する、請求項6〜8のいずれか1項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019006018A JP6752305B2 (ja) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | 有機el発光素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019006018A JP6752305B2 (ja) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | 有機el発光素子及びその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018533847A Division JP6470475B1 (ja) | 2017-11-28 | 2017-11-28 | 有機el発光素子及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019102820A JP2019102820A (ja) | 2019-06-24 |
JP6752305B2 true JP6752305B2 (ja) | 2020-09-09 |
Family
ID=66974143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019006018A Expired - Fee Related JP6752305B2 (ja) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | 有機el発光素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6752305B2 (ja) |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004127933A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
US7291970B2 (en) * | 2002-09-11 | 2007-11-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus with improved bank structure |
JP4626391B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2011-02-09 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を使用した装置 |
WO2007049631A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | スプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス |
JP5040395B2 (ja) * | 2006-03-27 | 2012-10-03 | 凸版印刷株式会社 | 印刷物及び印刷物の製造方法 |
GB0618698D0 (en) * | 2006-09-22 | 2006-11-01 | Cambridge Display Tech Ltd | Molecular electronic device fabrication methods and structures |
JP4827771B2 (ja) * | 2007-03-08 | 2011-11-30 | キヤノン株式会社 | オリゴフルオレン化合物を用いた有機発光素子及び表示装置 |
JP4811314B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2011-11-09 | セイコーエプソン株式会社 | 有機elデバイス |
US8083956B2 (en) * | 2007-10-11 | 2011-12-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing display device |
JP2009266580A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 色変換フィルタの製造方法 |
JP2012204202A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法 |
JP6142191B2 (ja) * | 2011-05-19 | 2017-06-07 | 株式会社Joled | 表示装置および電子機器 |
JP2016001581A (ja) * | 2014-06-12 | 2016-01-07 | 株式会社リコー | 発光素子及び発光素子の製造方法並びに画像形成装置及び画像形成装置の製造方法 |
KR102643183B1 (ko) * | 2015-07-15 | 2024-03-04 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 유기 반도전성 화합물들을 포함하는 조성물 |
-
2019
- 2019-01-17 JP JP2019006018A patent/JP6752305B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019102820A (ja) | 2019-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6470475B1 (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
US7897211B2 (en) | Method for forming film pattern and method for manufacturing an organic EL device, a color filter substrate and a liquid crystal display device | |
US20210226185A1 (en) | Organic el light-emitting element and manufacturing method thereof | |
US10418427B2 (en) | Method for manufacturing organic EL display panel | |
JP6407499B1 (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
JP2003282244A (ja) | 薄膜、薄膜の製造方法、薄膜製造装置、有機el装置、有機el装置の製造方法、有機el装置の製造装置、及び電子機器 | |
WO2013179362A1 (ja) | 有機発光素子、有機el表示パネル、有機el表示装置、および塗布型デバイスと、これらの製造方法 | |
JP2007242592A (ja) | 発光装置、発光装置の製造方法、露光装置、及び電子機器 | |
JP2004355913A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 | |
JP2009064793A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
JP2010192215A (ja) | 有機エレクトロルミネセンス表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法 | |
JP6752305B2 (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
JP6755344B2 (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
JP6470477B1 (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
JP6966607B2 (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
JP2005322656A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP2004087508A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP2019102466A (ja) | 有機el発光素子及びその製造方法 | |
JP2005259716A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
JP2010102892A (ja) | 有機el表示パネルの製造方法および装置 | |
JP2004087509A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP2011060442A (ja) | 光学装置、および光学装置の製造方法 | |
JP2005353528A (ja) | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 | |
JP2014104408A (ja) | 塗工装置及び塗工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200728 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200818 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6752305 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |