JP4387076B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 131
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 63
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 42
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 8
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
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- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置と電子装置に関し、主にBGA(Ball Grid Array)構造の半導体装置とそれが搭載される電子装置の電源供給技術に利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
本願発明を成した後の公知例調査において、本願発明と関連するものと考えられるものとして特開平9−22977号(以下、文献1とう)と特開2001−144212号公報(以下、文献2という)の存在が報告された。文献1では、信号パッド、グランドパッド及び電源パッドを交互に配置し、ワイヤをほぼ平行、ほぼ同じ長さにしてノイズ等を少なくするBGA構造が提案されている。電源、グランド配線は内部端子から外部端子の間で集約して外部端子数を減らすようにしている。文献2では、チップ上に再配線層を用いてプレーン層を形成し、プレーン層を用いて配線を統合し、半導体チップ上のフリップチップバンプの数を低減している。
【0003】
また、上記半導体チップに設けられた電源供給用電極に対して外部電源端子を減らす技術として、DRAM等で用いられたリードフレームにより構成されたバスバーの技術がある。このバスバーの技術では、半導体チップに複数の電源供給用のパッドを設け、それぞれをボンデイングワイヤにより1本のリードフレーム上にボンディングし外部電源端子数を低減している。つまり、上記リードフレームを電源配線の一部として利用するものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
半導体装置では、それが実装基板に搭載されたときに出力端子に付加される比較的大きな寄生容量等の負荷を高速に駆動するために比較的大きな電流駆動能力を必要とする。このような大きな電流を流す出力回路を設けた場合、出力回路の電源端子に大きなノイズが発生することが知られている。このような大きなノイズの発生を低減させるために、電源インピーダンスを低く抑えることが必要である。また、出力回路で発生した電源ノイズが他の回路に伝わらないようにするために、半導体チップ上で出力回路の電源供給線と、入力回路や内部回路の電源供給線を分離し、それぞれに対応して電源パッドが設けられる。
【0005】
BGA構造のパッケージにおいては、多数の外部端子を設けることが可能であり、上記半導体チップに設けられる電源供給用のパッドと一対一に対応させて外部端子を割り当てることについて格別な問題意識は存在しなかった。逆にいうならば、半導体チップに設けられる電源供給用のパッドと一対一に対応させて外部端子を割り当てることによって、実装基板から上記外部端子を介して半導体チップのそれぞれの電源供給用のパッドに電圧を伝え、上記ノイズの原因となる寄生インダクタンス成分の大幅な軽減によってノイズの発生を抑制し、合わせて内部回路や入力回路に出力回路側からのノイズが伝わるのを防止することが優先されるものである。
【0006】
例えば、電源ノイズの観点からみれば、前記のようなバスバーを用いたものでは外部端子数は低減できるものの寄生インダクタンスは逆に大きく増加してしまう。DRAMのパッケージでは、ボンディングワイヤのインダクタンス成分は、ほぼ1nH程度である。これに対しリードフレームのインダクタンス成分は、4nH程度である。例えば、1つのバスバーに対して半導体チップにグランドパッドが5個存在したとすると、ボンディングワイヤ部分での合成のインダクタンスは、1/5nHに低減できるが、リードフレームは1本で共通化するので、リードフレームのインダクタンス4nHがそのまま存在するため、トータルのインダクタンスは、1/5+4=4.2nHのように改善されない。これに対して、上記半導体チップのグランドパッドに一対一に対応してリード及び外部端子を設けた場合には、(1+4)/5=1nHのように小さくできるのである。
【0007】
しかしながら、素子の微細化が進むに従い、1つの半導体チップに形成される回路規模が大きくなり、それに伴い外部端子数も増大する傾向にある。この外部端子数の増大は、半導体チップ側においては素子の微細化等によりそれほど問題にならないが、それが搭載されるパッケージ基板においては上記外部端子数の増大に対応して大きなサイズのものを用いることが必要となり、パッケージ基板のコストの増大、及び半導体装置そのもののサイズも大きくなって電子装置の小型化を妨げる要因になるという問題が生じる。前記文献1や文献2では、電源供給経路での寄生インダクタンス成分についての配慮、出力回路で発生するノイズについての配慮を全く欠くものであり、前記電源ノイズの問題を解決する何等の示唆も与えるものではない。
【0008】
本発明の目的は、電源ノイズを抑制しつつ、外部電源端子数を削減した半導体装置を提供することにある。本発明の他の目的は、電源ノイズを抑制しつつ小型化を実現した半導体装置を提供することにある。本発明の更に他の目的は、バイパスコンデンサを効率よく搭載した電子装置を提供することにある。この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、内部回路で形成された信号を出力する複数の出力回路、上記内部回路に対して動作電圧を供給する第1電圧供給電極及び上記複数の出力回路に対して動作電圧を供給する複数の第2電圧供給電極を有する半導体チップを表面に搭載し、裏面に外部端子が設けられ、複数の配線層を有するパッケージ基板を備え、かかるパッケージ基板の表面に上記半導体チップの上記第1電圧供給電極に一端が接続される第1電極及び上記複数の第2電圧供給電極に一端がそれぞれ接続される複数の第2電極、上記表面配線層とは異なる配線層を含んで上記第2電極をそれぞれを共通に接続する第1配線手段、上記第1電極と上記裏面に設けられた上記外部端子の対応するものとを接続する第2配線手段、上記第1配線手段と上記裏面に設けられた上記第2電極よりも少ない数に集約された数の外部端子の複数とをそれぞれ接続する複数の第3配線手段を設ける。
【0010】
本願において開示される発明のうち他の代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、動作電圧を供給する複数の電源端子、回路の接地電位を供給する複数の接地端子を有する半導体装置が表面に搭載され、裏面にバイパスコンデンサが設けられる実装基板とを備え、かかる実装基板の表面に上記半導体装置の上記複数の電源端子一端がそれぞれ接続される複数の第1電極、上記半導体装置の上記複数の接地端子一端がそれぞれ接続される複数の第2電極、上記第1電極が形成される配線層とは異なる配線層を含み、上記第1電極を共通に接続する第1配線手段、及び上記第2電極を共通に接続する第2配線手段、上記第1配線手段と上記裏面に設けられた上記第1電極よりも少ない数に集約された数の第3電極とを接続する第3配線手段及び上記第2電極よりも少ない数に集約された数の第4電極を接続する第4配線手段、上記第3電極と第4電極間にバイパスコンデンサを設ける。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1には、この発明に係る半導体装置の一実施例のブロック図が示されている。この実施例の半導体装置は、フリップチップタイプのBGAパッケージに向けられており、一般的な半導体装置のブロック図と異なり、半導体チップ部により構成される電子回路の他に、PKG(パッケージ)部の配線部も合わせて示されている。
【0012】
上記半導体チップ(Chip)部は、コア(Core)回路1とI/O回路2とから構成される。コア回路1は内部回路を構成するものであり、論理回路等に構成される。一般的にいうとI/O回路2は、入出力回路を意味するものであるが、この実施例のI/O回路2は出力回路のことを指している。
【0013】
上記PKG部は、上記I/O回路2と外部端子との間を接続するPKG内部信号線3と、上記内部回路1及び上記I/O回路2に動作電圧を供給する電源供給系から構成される。上記電源供給系としては、特に制限されないが、内部回路1に対して1.8Vの動作電圧を供給するCore 用電源プレーン5と、I/O回路に対して3.3Vと2.5Vの動作電圧をそれぞれ供給するI/O用電源プレーン4と、上記内部回路1とI/O回路2に回路の接地電位GNDを供給するGND用電源プレーン6から構成される。
【0014】
この実施例の半導体装置では、電源として上記のように1.8Vコア回路用電源、3.3V及び2.5VのI/O用電源を有する。これらの電源ピンは、それぞれグランドピンGNDと対を成している。この実施例の3.3V及び2.5VのI/O用電源端子には、上記のように3.3Vと2.5Vとを供給しなければならないという意味ではない。例えば、半導体装置が3.3Vで動作する他の半導体装置等との間でデータの授受を行う場合には、上記2.5Vの端子に3.3Vを供給し、全てのI/O回路を3.3Vのインターフェイス回路として動作させてもよいし、逆に2.5Vで動作する他の半導体装置等との間でデータの授受を行う場合には、上記3.3Vの端子に2.5Vを供給し、全てのI/O回路を2.5Vのインターフェイス回路として動作させてもよい。
【0015】
上記のように3.3V及び2.5Vの2通りの電源系を用意しておけば、3.3Vと2.5Vとの2通りのインターフェイスを持つ2種類の半導体装置と組み合わせてシステムを構成できることの他、3.3V又は2.5Vに統一されたシステムを構成することができ、半導体装置の用途に柔軟性を持たせることができる。
【0016】
内部回路1は、素子の微細化や低消費電力化及び動作の高速化のために1.8Vのような低電圧で動作させられることが望ましいが、必ずしも上記I/O回路2と異なる電圧、つまりI/O回路2の電源電圧よりも低くする必要はなく、I/O回路2と同じ電圧が供給されてもよい。ただし、I/O回路2の出力動作のときに発生するノイズの影響を受けないようにするために、電源供給線及びそれに対応された電源パッド及びPKG内の配線(プレーン)や外部端子は、上記I/O回路2に対応した電源供給経路とは別々に設けられる。また、内部回路1において、上記のような1.8Vのような低電圧を用いる場合、上記I/O回路2用の電源電圧3.3V又は2.5Vを降圧して上記1.8Vのような降圧電圧を内部電源回路で形成するものであってもよい。
【0017】
図2には、この発明に係るBGA構成の半導体装置の一実施例の概略断面図が示されている。半導体チップは、搭載基板(パッケージ基板)の一方の主面側に搭載される。半導体装置の外部端子は、パッケージ基板の他方の主面側(裏面)に配置される。半導体チップは、いわゆるベアチップから構成され、パッケージ基板に面付け可能なような複数のバンプ電極を持つ。
【0018】
特に制限されないが、半導体チップは、必要に応じて、エリア・アレイ・パッドと称されるような技術、すなわち、素子及び配線が完成された半導体チップ上にポリイミド樹脂からなるような絶縁膜を介してパッド電極の再配置を可能とする配線を形成し、かかる配線にパッド電極を形成するような技術によって構成されてもよい。エリア・アレイ・パッド技術によって、半導体チップにおける外部端子としての数十μmないし100μmピッチのような比較的小さいピッチに配列されたパッド電極は、0.1mm〜0.2mmのような径とされ、かつ400μm〜600μmピッチのような比較的大きなピッチのパンプ電極配列に変換される。
【0019】
パッケージ基板は、ガラスエポキシもしくはガラスからなるような絶縁基板と、かかる絶縁基板上に形成された多層配線構成からなるような比較的微細な内部配線と、半導体チップのパンプ電極に電気的結合されるべき複数のランド(接続電極)と、複数の外部端子とを持つ。パッケージ基板は、より好適には半導体チップ搭載側の主面に、上記ランド上を除いて、有機レジスト材からなるような絶縁保護被覆が施される。
【0020】
外部端子は、絶縁基板に形成された孔を介して内部配線に電気接続されるようなバンプ電極から構成される。半導体チップにおけるバンプ電極がマイクロバンプと称されても良い比較的小さいサイズ、比較的小さいピッチとされるのに対して、パッケージ基板における外部端子としてのバンプ電極は比較的大きいサイズと比較的大きいピッチとされる。パッケージ基板上には上記半導体チップが面付け技術によって搭載される。面付けされた半導体チップとパッケージ基板との間には、いわゆるアンダーフィルと称される保護材が充填される。
【0021】
この実施例では、一対の電源供給経路が代表として例示的に示されている。半導体チップのグラング電極及び電源電極とは、パッケージ基板のグランド配線及び電源配線(ランド)に面付けされる。上記パッケージ表面に設けられたグランド配線は、コンタクトホール(ビア)を介してグランドプレーンに接続される。同様に、電源配線も、上記同様なビアを介して上記グランドプレーンとは異なる配線層で構成された電源プレーンに接続される。そして、かかるグランドプレーン及び電源プレーンと、上記パッケージ基板の裏面に設けられたグランドピン及び電源ピンとしてのパンプ電極とがそれぞれ上記コンタクトホールを介して接続される。
【0022】
図3には、この発明における電源ノイズを説明するための等価回路図が示されている。同図には、出力回路の貫通電流モードに向けられている。この実施例の半導体装置は、電源電圧と回路の接地電位との間に、電源電圧安定化のためのパスコンが設けられ、出力回路の出力端子には信号配線が接続され、そこには負荷(LOAD)としての寄生容量が存在する。
【0023】
電源電圧は前記電源プレーン導体上で共通化され同電位となる。半導体チップの出力回路には、この導体プレーンから前記のようなパッケージ基板上の配線、チップ電極及びチップ内配線を通して動作電圧が伝えられる。同様に、回路の接地電位も、前記グランドプレーン導体上で共通化され同電位され、半導体チップの出力回路には、この導体プレーンから前記のようなパッケージ基板上の配線、チップ電極及び内部配線を通して伝えられる。
【0024】
同図において、201は上記電源電圧供給経路での寄生インダクタンス成分であり、202は上記回路の接地電位供給経路での寄生インダクタンス成分である。これらの寄生インダクタンスに電流が流れることにより電源ノイズが発生する。同図において、貫通電流モードとは、出力回路の入力信号がロウレベルからハイレベル又はハイレベルからロウレベルに変化するときに、CMOS出力回路ではPチャンネル型MOSFETとNチャンネル型MOSFETとが同時にオン状態となって上記電源電圧と回路の接地電位との間に流れる電流のことをいう。
【0025】
図4には、上記貫通電流モードでの上記電源供給経路での実効インダクタンスの特性図が示されている。同図において、縦軸にはインダクタンス成分が、横軸にはパッケージ電源・グランド端子ペア数が示されている。つまり、同図においては、前記BGAパッケージの裏面に設けられる電源供給用のバンプ電極の数と、そのときの実効インダクタンスの関係を示している。
【0026】
端子対を1から4対のように増加するに従い、インダクタンス成分は低下する。しかしながら、5〜10対のように増加し、さらには20や30対のように増加させてもインダクタンス成分はそれほど低下しないことが判る。つまり、前記のような貫通電流モードでのノイズの低減のためには、外部端子数をそれほど増加させても意味がないことが判る。
【0027】
図5には、この発明における電源ノイズを説明するための等価回路図が示されている。同図には、出力回路の負荷充電モードに向けられている。負荷充電モードとは、入力信号のハイレベルからロウレベルへの変化に応答して、出力回路の出力がロウレベルからハイレベルに切り替わるときの電流経路を考慮したモードである。ノイズが発生する原因となるパッケージの実効インダクタンスは電源側インダクタンス201となる。
【0028】
図6には、上記負荷充電モードでの上記電源供給経路での実効インダクタンスの特性図が示されている。端子対を1から4対のように増加するに従い、インダクタンス成分は低下する。しかしながら、5〜10対のように増加し、さらには20や30対のように増加させてもインダクタンス成分はそれほど低下しないことが判る。つまり、前記のような負荷充電モードでのノイズの低減のためには、外部端子数をそれほど増加させても意味がないことが判る。
【0029】
図7には、この発明における電源ノイズを説明するための等価回路図が示されている。同図には、出力回路の負荷放電モードに向けられている。負荷放電モードとは、入力信号のロウレベルからハイレベルへの変化に応答して、出力回路の出力がハイレベルからロウレベルに切り替わるときの電流経路を考慮したモードである。ノイズが発生する原因となるパッケージの実効インダクタンスは接地電位側インダクタンス202となる。
【0030】
図8には、上記負荷放電モードでの上記電源供給経路での実効インダクタンスの特性図が示されている。端子対を1から4対のように増加するに従い、インダクタンス成分は低下する。しかしながら、5〜10対のように増加し、さらには20や30対のように増加させてもインダクタンス成分はそれほど低下しないことが判る。つまり、前記のような負荷充電モードでのノイズの低減のためには、外部端子数をそれほど増加させても意味がないことが判る。
【0031】
図9には、この発明に係る半導体装置の一実施例の概略裏面図が示されている。半導体装置101の裏面には、前記のようなバンプ電極からなる外部端子が設けられる。この実施例では、半導体チップに形成される前記出力回路に電源電圧と接地電位とを供給する電源ピン102とグランドピン103のペアを、特に制限されないが、チップの4つの辺のそれぞれの中央部内側に2対ずつ、合計8対の電源ピンを設けるようにする。つまり、前記説明したように、4対以上ではノイズの原因となるインダクタンス成分の減少率が極端に小さくなるので、外部端子数を無駄に増加させない範囲として上記のように8対を設けるようにするものである。
【0032】
なお、前記図1の実施例のように電源ピンとしては、前記のようなI/O回路用の電源の他に、内部回路(Core)用の電源ピンも設けられるが、これらの電源供給経路でノイズが発生することは少ないので同図では省略されている。つまり、内部回路では多数のゲート回路においてスイッチ動作するが、全体としてみたときの電流はほぼ直流電流とみなすことができる。それ故、内部回路における電源経路でのインダクタンス成分が、前記I/O回路の電源経路のインダクタンス成分に比べて大きくなっても、そこには上記のように直流電流とみなせるような電流しか流れないからノイズ発生の原因にはならない。
【0033】
LSI(大規模集積回路)のような半導体装置において、LSI消費電流の変動とパッケージのインダクタンスによる発生する電位変動、つまりは電源ノイズがLSI誤動作の原因となる。このため、従来のBGAパッケージにおける電源系の設計では、パッケージ自身のインダクタンスを低く抑えるように設計されている。つまり、半導体チップに設けられる電源系のパッドとほぼ一対一に対応して電源端子を設けるものである。この結果、BGAパッケージにおいては、全バンプ電極のうち電源電圧及びグランド端子が約3割も占める製品もある。
【0034】
電子部品の小型化や及び実装の高密度化が望まれる中で、上記BGAパッケージに占める電源、グラング端子の数が無視できない存在になりつつある。そこで、本願発明者においては、電源系の上記インダクタンスを貫通電流モード、負荷充電モード及び負荷放電モードのそれぞれについて詳細に検討し、最低でも4対あればほぼ問題ない程度に実効インダクタンス成分を抑えることができるという解を得たのである。
【0035】
例えば、前記図1に示したようなマイクロプロセッサCPUを構成する半導体装置において、半導体チップ側のパッド数(電極)は、信号用330、グランド用70、コアコア用電源8、2.5VのI/O用電源22、3.3VのI/O用電源27の合計457ピンである。これに対して、BGA側のパンプ電極(外部端子)数は、本願発明の適用によって最外周28ピン4列まわしの384ピンである。この内、信号用に330ピン、グランドは集約して16、コア用電源8、2.5VのI/O用電源は集約して4、3.3VのI/O用電源も集約して6ピン、他NCピンに構成できる。ピンピッチ1mmの時、パッケージサイズは、約29mm口に小型化できる。
【0036】
ちなみに、従来のBGAパッケージのように、バンプ電極数を半導体チップのパッド(電極)数である457個設ける構成とすると、4列回しの時、最外周33ピンとなり、1mmピッチの時には、パッケージサイズは、約34mm口となる。つまり、同等の性能を維持しつつ、本発明の技術を用いる事により、約5mmのパツケージサイズシュリンクが可能となる。
【0037】
ある導体に電流が密度j(r)で流れている場合、この導体を含む空間に蓄えられる磁気的エネルギーEmは、次式(1)となる。
【式1】
【0038】
図10には、この発明を説明するための電流経路の説明図が示されている。同図に示すように、任意の角度で離れた電流路▲1▼と▲2▼がある場合、式(1)は、式(2)のように電流路▲1▼に起因する成分と、電流路▲2▼に起因する成分及び電流路▲1▼−▲2▼間の相互作用成分に分けることができる。
【式2】
【0039】
電流路▲1▼及び▲2▼に同量の電流Iが流れている場合、磁場エネルギーは上記式(2)より表されることより、それぞれのインダクタンスは次式(3)で表される。
【式3】
ここで、i1、i2はそれぞれ電流路▲1▼、▲2▼の単位方向ベクトルを表す。
【0040】
図11には、この発明を説明するための電流経路の説明図が示されている。同図には、電流路▲1▼と▲2▼の角度Θが、1)としてΘ=90°、2)としてΘ<90°、3)として90°<Θ<270°のそれぞれ場合が示されている。
【0041】
1)のΘ=90°の場合、電流路▲1▼の方向ベクトルi(r1)と電流路▲2▼の方向ベクトルi(r2)の内積は常にゼロ(0)となる。すなわち、次式(4)の関係がある。
【式4】
【0042】
これにより、電流路▲1▼に起因するインダクタンスL1と、電流路▲2▼に起因するインダクタンスL2は互いに独立となる。すなわち、相互インダクタンスM12は0となる。これよりトータルのインダクタンスは式(5)となる。
【式5】
【0043】
2)のΘ<90°の場合、電流路▲1▼の方向ベクトルi(r1)と電流路▲2▼の方向ベクトルi(r2)の内積は常に>0となる。これより、相互インダクタンスM12は正となり、トータルのインダクタンスは式(6)となる。
【式6】
【0044】
3)の90°<Θ<270°の場合、電流路▲1▼の方向ベクトルi(r1)と電流路▲2▼の方向ベクトルi(r2)の内積は常に<0となる。これより、相互インダクタンスM12は負となり、トータルのインダクタンスは式(7)となる。
【式7】
式(7)より、Θ=90°の場合に比べて、インダクタンスは減少している。ただし、電流路間の距離が離れているためM12は小さい。
【0045】
以上をまとめると、BGAパッケージにおいて、0°→90°→180°→270°と電源ピンを4対まで設置した場合、90°及び270°では電流路間の相互インダクタンスが存在せず、180°においては電流路間の距離が離れているためM12は0とみなすことができため、設置したピン数に比例してインダクタンスは減少していく。ピン数が4対を超えると、角度Θ<90°となる電流路が存在するため、相互インダクタンスによりインダクタンスの減少はピン数に比例しなくなる。
【0046】
図12ないし図15は、この発明に係るパッケージ基板の一実施例の配線パターン図が示されている。この実施例は、前記図1に示した半導体装置に対応している。図12は半導体チップが搭載される第1層目、図13はGND(グランド)プレーンが形成される第2層目、図14は電源プレーンが形成される第3層目、図15はバンブ電極が設けられる裏面(第4層目)の各パターンが示されている。
【0047】
図12においては、図1のPKG内部信号3のパターンが示されており、半導体チップの各信号端子に接続される信号線が、ほぼ放射状にパッケージ基板の周辺部に向かって延びている。図13においては、全面がグラングGND用のプレーンとされる。回路の接地電位は、前記1.8V、2.5Vあるいは3.3Vの電源電圧に対して同じ0Vとされるので、1つのプレーンで形成される。それ故、同図に示されたのパターンは、スルーホール等のように接地電位に接続されない他の配線のパターンが示される。
【0048】
図14においては、前記のように1.8V、2.5V及び3.3Vの3通りの電源電圧を供給するために、これらの各電圧1.8V、2.5V及び3.3Vのそれぞれに対応した3つの電源プレーンからなる。内部回路用の電源1.8Vは、チップが搭載される位置に対応した中心部と、そこから8方向に伸びる配線パターンから構成される。I/O回路用の2.5V用の電源プレーンは、右上部に設けられ、I/O回路用の3.3V用の電源プレーンは、下半分から左上部にかけて設けられる。
【0049】
前記図13のようにグランドプレーンは、全面に設けられるから、前記図14の電源プレーンに対応して図15に設けられる1.8Vのバンプ電極は、グランドピンとを合わせて8対設けられる。同様に、2.5Vのバンプ電源は、2.5Vのプレーンに対応してほぼ均等に4対設けられ、3.3Vのバンプ電極は、3.3Vのプレーンに対応してほぼ均等に6対設けられる。また、信号線の一部が裏面に設けられる。つまり、図12に形成できない信号線が裏面を利用して形成される。
【0050】
本実施例では、外部端子は図15に示すように半導体チップの配置に対して外周部にのみ設けられる。この為、コア用の電源も外周ピンから取る必要が有る為、図14の第3層目パターンに示す通りにコア用電源パターンにより、I/O用電源パターンが分断されている。また、I/O用電源パターンも、3.3V用と2.5V用にほぼ2:1の割合で分断されている。
【0051】
半導体チップの全I/O用電源ピンに所望の電圧を供給するには、分断された1エリアに少なくとも1対のI/O用電源/グランドピンが必要であるが、上記のように分断されていることを考慮して、本発明の解析結果からインダクタンスを低減させるために、それぞれにI/O用電源ピンを最低でも2ピン程度あれば十分である。
【0052】
図16には、この発明を説明するための測定結果図が示されている。同図においては、LSIについて電源マージンの度合いを調査する為に、I/O用電源電圧と動作周波数を変化させ、LSIの動作を確認した実験結果の例である。このLSIでは、I/O用電源電圧は、3.3VがTypical値である。
【0053】
a)は初期状態である。31対電源・グランドピンがある場合であり、b)は同一のデバイスの電源・グランドピンを4対まで削除した場合の測定結果である。a)の場合、例えばI/O用電源電圧2.7Vの時、動作周波数が110MHzから112.5MHzに変化したときテストパターンが通らなくなる。即ち、グラフ左上のエリアでは、テスト不合格、その他のエリアでは、テスト合格である。
【0054】
このデバイスのI/O用電源ピンを削除し、4対のみ残し、同様のテストを行なった結果が、b)である。a)とb)を比較すると、テストパスの領域とテストNGの領域の境界線は変化が無い事がわかった。このことから、I/O用電源ピン数を削除しても、電源マージンに変化が無い事がわかり、電源ピン数削減の可能なことが実測結果からも確認された。
【0055】
図17ないし図20は、この発明に係るパッケージ基板の他の一実施例の配線パターン図が示されている。この実施例は、前記図1に示した半導体装置に対応している。図17は半導体チップが搭載される第1層目、図18はGND(グランド)プレーンが形成される第2層目、図19は電源プレーンが形成される第3層目、図20はバンブ電極が設けられる裏面(第4層目)の各パターンが示されている。バンプ電極における各電源ピンは、前記図15と同様である。
【0056】
本実施例では、パッケージ裏面の中央部において、センタピンを追加した場合が示されている。この実施例では、センタピンにコア用電源ピンとそれと対を成すグランドピンが設けられる。このため、コア用電源(1.8V)は、上記センタピンから供給する事ができるので、図19の第3層目のI/O用電源プレーンがコア用電源パターンにより分割する必要はない。上記センタピンは、コア用電源ピンとそれと対をなすグランドピンのみからなることが望ましい。
【0057】
図21には、この発明に係るBGA構成の半導体装置の他の一実施例の概略断面図が示されている。半導体チップは、パッケージ基板の一方を主面側に搭載される。半導体装置の外部端子は、パッケージ基板の他方の主面側(裏面)に配置される。半導体チップの電極と、基板パッケージの電極とは、ボンディングワイヤにより接続される。つまり、ワイヤボンディングタイプのBGAパッケージに向けられている。パッケージ基板側は、上記ボンディングワイヤが設けられる部分を除いて、前記図2の実施例と同様であるので、その説明を省略する。
【0058】
図22には、上記ボンディングワイヤの一実施例のパターン図が示されている。半導体チップの電極とパッケージ基板の電極とは、同図の示すようなパターンによりボンディングワイヤにより接続される。
【0059】
図23ないし図26は、上記図22の実施例に対応したパッケージ基板の一実施例の配線パターン図が示されている。図23は半導体チップが搭載される第1層目、図24はGND(グランド)プレーンが形成される第2層目、図25は電源プレーンが形成される第3層目、図26はバンブ電極が設けられる裏面(第4層目)の各パターンが示されている。バンプ電極における各電源ピンは、前記図15と同様である。
【0060】
この実施例の半導体チップ上のパッド数は、及びBGA側のピン数は、前記図の実施例と同じである。本実施例より、ワイヤボンディングタイプのLSIにも適用可能であることがわかる。
【0061】
図27には、この発明に係るBGA構成の半導体装置の更に他の一実施例の概略断面図が示されている。この実施例の半導体装置は、マルチチップモジュール(Multi Chip Module)に向けられている。このマルチチップモジュールは、ベアチップと称されるような著しく小型の形態にされた複数の半導体チップを一つのパッケージの形態の半導体装置とするものである。
【0062】
特に制限されないが、2つの半導体チップ702は、パッケージ基板の一方を主面側に搭載される。半導体装置701の外部端子(バンプ電極)709,710は、パッケージ基板の他方の主面側(裏面)に配置される。半導体チップ702の電極と、基板パッケージの電極704とは、ボンディングワイヤ703により接続される。つまり、ワイヤボンディングタイプのBGAパッケージにより構成される。
【0063】
図28には、上記図27に示した半導体装置の一実施例の上面図が示されている。図29には、上記図27に示した半導体装置の一実施例の裏面図が示されている。図28及び図29においては、出力回路(I/O回路)に動作電圧を供給する電源系が代表として例示的に示されている。
【0064】
図28に示すように、半導体チップ702のそれぞれにおいて、電源/グランドピンは、4つの辺においてそれぞれ2対ずつの2つの半導体チップ702により合計8対あるのに対し、図29に示すように外部端子の電源/グランドビンは4対のように集約される。この実施例では、上記出力回路は、3.3V又は2.5Vのような一種類の電源電圧にされるが、前記実施例のように2種類を用意する場合には、それぞれに対応して増加させられる。ただし、半導体チップ702に設けられる電源供給用電極よりは少なくなるように集約させられる。この実施例のように、最大の電源/グランド対数を有するチップの電源/グランドピン数の半分以下でも、本発明によるノイズ低減の効果は得られる。
【0065】
図30には、この発明により得られた半導体装置を実装基板に搭載した場合の一実施例の概略断面図が示されている。実装基板の表面には、前記BGAパッケージのLSIが搭載され、実装基板に形成された配線に接続される。このうち、電源経路としては、前記パッケージ基板と同様に内部にGNDプレーンと電源プレーンが設けられて、LSIの対応する電源ピンと接続される。この実施例では、上記GNDプレーンと電源プレーンを介在させて、実装基板の裏面側に集約させられた電源端子が設けられ、そこに電源安定化のたのパスコン(バイパスコンデンサ)が接続される。
【0066】
図31には、上記実装基板の表面部の一実施例のパターン図が示されている。同図において、〇で示した電極が前記バンブ電極と接続される接続端(BGA受けランド)であり、それから信号線や電源線を構成する配線が延びている。
【0067】
図32には、実装基板の裏面部の一実施例のパターン図が示されている。この実施例のように、実装基板の裏面側で電源グランド対を少ない数に集約すると、バイパスコンデンサを1対の電源/グランド対に1つ設置する事ができる。この為、電源/グランド対数と同数の少ない数のバイパスコンデンサの実装とすることができる。
【0068】
上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りである。
(1) 内部回路で形成された信号を出力する複数の出力回路、上記内部回路に対して動作電圧を供給する第1電圧供給電極及び上記複数の出力回路に対して動作電圧を供給する複数の第2電圧供給電極を有する半導体チップを表面に搭載し、裏面に外部端子が設けられ、複数の配線層を有するパッケージ基板を備え、かかるパッケージ基板の表面に上記半導体チップの上記第1電圧供給電極に一端が接続される第1電極及び上記複数の第2電圧供給電極に一端がそれぞれ接続される複数の第2電極、上記表面配線層とは異なる配線層を含んで上記第2電極をそれぞれを共通に接続する第1配線手段、上記第1電極と上記裏面に設けられた上記外部端子の対応するものとを接続する第2配線手段、上記第1配線手段と上記裏面に設けられた上記第2電極よりも少ない数に集約された数の外部端子の複数とをそれぞれ接続する複数の第3配線手段を設けることにより、電源ノイズを抑制しつつ、外部電源端子数を削減しあるいは小型化を実現した半導体装置を得ることができるという効果が得られる。
【0069】
(2) 上記に加えて、上記パッケージ基板に上記第1及び第2電極が形成される配線層とは異なる配線層を含んで上記半導体チップの内部回路及び複数の出力回路に対して回路の接地電位を共通に与える第4配線手段及びこれらの第4配線手段を介して接続される複数の外部端子を設けることより、簡単な構成で上記電源用端子とペアの接地端子を配置することがきるという効果が得られる。
【0070】
(3) 上記に加えて、上記第2電極よりも少ない数に集約された数を4以上とし、これら4以上の外部端子を上記裏面に外部端子が形成される領域を4等分した領域に分散して配置させることにより、電源ノイズを低減しつつ効果的に外部端子数を減らすことができるという効果が得られる。
【0071】
(4) 上記に加えて、上記第2電極をそれぞれを共通に接続する第1配線手段を電気的に分離して2以上の組に分割し、それぞれの組に対して外部端子から異なる動作電圧の供給を可能とすることにより、柔軟なシステム構成に向けた半導体装置を得ることができるという効果が得られる。
【0072】
(5) 上記に加えて、上記半導体チップと上記パッケージ基板の対応する電極同士の接続をフリップチップ構成とすることにより、小型化が可能になるという効果が得られる。
【0073】
(6) 上記に加えて、上記半導体チップと上記パッケージ基板の対応する電極同士の接続をワイヤボンディング構成にすることにより組み立てを簡単に行うことができるという効果が得られる。
【0074】
(7) 上記に加えて、上記半導体チップが搭載された位置に対応した裏面の内側に上記内部回路に動作電圧を供給する外部端子を設け、上記半導体チップが搭載された位置に対応した裏面の外側に上記出力回路に動作電圧を供給する外部端子及び信号の入力又は出力用の外部端子を設けることにより、出力回路用の電源プレーンの分離が無くなり、実効インダクタンスを低減させることができるという効果が得られる。
【0075】
(8) 上記に加えて、上記半導体チップを2以上とすることにより、高性能の半導体装置あるいはシステムの小型化を実現できるという効果が得られる。
【0076】
(9)動作電圧を供給する複数の電源端子、回路の接地電位を供給する複数の接地端子を有する半導体装置が表面に搭載され、裏面にバイパスコンデンサが設けられる実装基板とを備え、かかる実装基板の表面に上記半導体装置の上記複数の電源端子一端がそれぞれ接続される複数の第1電極、上記半導体装置の上記複数の接地端子一端がそれぞれ接続される複数の第2電極、上記第1電極が形成される配線層とは異なる配線層を含み、上記第1電極を共通に接続する第1配線手段、及び上記第2電極を共通に接続する第2配線手段、上記第1配線手段と上記裏面に設けられた上記第1電極よりも少ない数に集約された数の第3電極とを接続する第3配線手段及び上記第2電極よりも少ない数に集約された数の第4電極を接続する第4配線手段、上記第3電極と第4電極間にバイパスコンデンサを設けることにより、効率よくバイパスコンデンサを効率よく搭載しすることができるという効果が得られる。
【0077】
以上本発明者よりなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、前記図14において、コア用の電圧1.8Vは、前記のようにほぼ直流電流した流れないから、端子削減を優先させるなら2個程度まで削減することも可能である。I/O用の電源は1種類でもよし、3種類以上に増加させてもよい。上記パッケージ基板を構成する材料は、種々の実施形態を採ることができる。マルチチップ構成の半導体装置は、パッケージ基板上に第1半導体チップを搭載し、その上に第2半導体チップを搭載する構成のものであってもよい。また、外部端子と、チップ表面が同方向にあるキャビティダウンタイプのBGAパッケージにも適用可能である。この発明は、半導体装置及び電子装置として広く利用できるものである。
【0078】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである。内部回路で形成された信号を出力する複数の出力回路、上記内部回路に対して動作電圧を供給する第1電圧供給電極及び上記複数の出力回路に対して動作電圧を供給する複数の第2電圧供給電極を有する半導体チップを表面に搭載し、裏面に外部端子が設けられ、複数の配線層を有するパッケージ基板を備え、かかるパッケージ基板の表面に上記半導体チップの上記第1電圧供給電極に一端が接続される第1電極及び上記複数の第2電圧供給電極に一端がそれぞれ接続される複数の第2電極、上記表面配線層とは異なる配線層を含んで上記第2電極をそれぞれを共通に接続する第1配線手段、上記第1電極と上記裏面に設けられた上記外部端子の対応するものとを接続する第2配線手段、上記第1配線手段と上記裏面に設けられた上記第2電極よりも少ない数に集約された数の外部端子の複数とをそれぞれ接続する複数の第3配線手段を設けることにより、電源ノイズを抑制しつつ、外部電源端子数を削減しあるいは小型化を実現した半導体装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る半導体装置の一実施例を示すブロック図である。
【図2】この発明に係るBGA構成の半導体装置の一実施例を示す概略断面図である。
【図3】この発明における電源ノイズを説明するための等価回路図である。
【図4】上記図3の貫通電流モードでの上記電源供給経路での実効インダクタンスの特性図である。
【図5】この発明における電源ノイズを説明するための等価回路図である。
【図6】図5の負荷充電モードでの上記電源供給経路での実効インダクタンスの特性図である。
【図7】この発明における電源ノイズを説明するための等価回路図である。
【図8】図7の負荷放電モードでの上記電源供給経路での実効インダクタンスの特性図である。
【図9】この発明に係る半導体装置の一実施例を示す概略裏面図である。
【図10】この発明を説明するための電流経路の説明図である。
【図11】この発明を説明するための電流経路の説明図である。
【図12】この発明に係るパッケージ基板の第1層目(表面)の一実施例を示す配線パターン図である。
【図13】この発明に係るパッケージ基板の第2層目の一実施例を示す配線パターン図である。
【図14】この発明に係るパッケージ基板の第3層目の一実施例を示す配線パターン図である。
【図15】この発明に係るパッケージ基板の第4層目(裏面)の一実施例を示す配線パターン図である。
【図16】この発明を説明するための半導体装置の測定結果図である。
【図17】この発明に係るパッケージ基板の第1層目(表面)の他の一実施例を示す配線パターン図である。
【図18】この発明に係るパッケージ基板の第2層目の他の一実施例を示す配線パターン図である。
【図19】この発明に係るパッケージ基板の第3層目の他の一実施例を示す配線パターン図である。
【図20】この発明に係るパッケージ基板の第4層目(裏面)の他の一実施例を示す配線パターン図である。
【図21】この発明に係るBGA構成の半導体装置の他の一実施例を示す概略断面図である。
【図22】図21のボンディングワイヤの一実施例を示すパターン図である。
【図23】図22の実施例に対応したパッケージ基板の第1層目(表面)の一実施例を示す配線パターン図である。
【図24】図22の実施例に対応したパッケージ基板の第2層目の一実施例を示す配線パターン図である。
【図25】図22の実施例に対応したパッケージ基板の第3層目の一実施例を示す配線パターン図である。
【図26】図22の実施例に対応したパッケージ基板の第4層目(裏面)の一実施例を示す配線パターン図である。
【図27】この発明に係るBGA構成の半導体装置の更に他の一実施例を示す概略断面図である。
【図28】図27に示した半導体装置の一実施例を示す上面図である。
【図29】図27に示した半導体装置の一実施例を示す裏面図である。
【図30】この発明を電子装置を構成する実装基板に適用した場合の一実施例を示す概略断面図である。
【図31】図30の実装基板の表面部の一実施例を示すパターン図である。
【図32】図30の実装基板の裏面部の一実施例を示すパターン図である。
【符号の説明】
1…内部回路、2…I/O回路、3…PKG内信号線、4…I/O用電源プレーン、5…内部回路用電源プレーン、6…GND用電源プレーン。
Claims (5)
- 半導体チップと、
上記半導体チップが搭載され、複数の第1外部端子、複数の第2外部端子及び複数の第3外部端子を含む複数の外部端子とそれに接続される複数の配線層を有するパッケージ基板とを備え、
上記半導体チップは、
内部回路と、
上記内部回路と上記外部端子との間で信号の入出力を行う入出力回路と、
上記内部回路に対して動作電圧を供給する複数の第1電圧供給電極及び回路の接地電位を供給する複数の第1接地電位供給電極と、
上記入出力回路に対して動作電圧を供給する複数の第2電圧供給電極及び回路の接地電位を供給する複数の第2接地電位供給電極とを備え、
上記パッケージ基板は、
上記半導体チップの搭載面に設けられ、上記半導体チップの上記複数の第1電圧供給電極と電気的に接続される複数の第1電極、上記複数の第1接地電位供給電極と電気的に接続される複数の第2電極及び上記半導体チップの上記複数の第2電圧供給電極と電気的に接続される複数の第3電極、上記複数の第2接地電位供給電極と電気的に接続される複数の第4電極を有する第1配線層と、
上記半導体チップの上記内部回路の複数の第1接地電位供給電極と電気的に接続され及び上記入出力回路の複数の第2接地電位供給電極と電気的に接続されたグランド用プレーンを有する第2配線層と、
上記複数の第1電極と電気的に接続される上記内部回路用の第1電源用プレーン及び上記複数の第3電極と電気的に接続され、かつ上記第1電源用プレーンと電気的に分離された第2電源用プレーンを有する第3配線層と、
上記第1電源用プレーンと電気的に接続される上記複数の第1外部端子、上記第2電源プレーンと電気的に接続される上記複数の第2外部端子及び上記グランド用プレーンと電気的に接続される上記複数の第3外部端子が設けられる第4配線層とを備え、
上記複数の第1外部端子は、上記複数の第1電極よりも少ない数に集約されて上記第1電源用プレーンに対応して分散して配置され、
上記複数の第2外部端子は、上記第3電極よりも少ない数に集約されて上記第2電源用プレーンに対応して分散して配置され、
上記複数の第3外部端子は、上記第2電極及び第4電極の総数よりも少ない数に集約されて上記グランド用プレーンに対応して分散して配置され、
上記第2電源用プレーンは、電気的に分離して2以上の組に分割され、それぞれの組に対して外部端子から異なる動作電圧の供給を可能とすることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1において、
上記半導体チップと上記パッケージ基板の対応する電極同士の接続は、フリップチップ構成にされるものであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1において、
上記半導体チップと上記パッケージ基板の対応する電極同士の接続は、ワイヤボンディング構成にされるものであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項2において、
上記半導体チップが搭載された位置に対応した裏面の内側に、上記内部回路に動作電圧を供給する上記複数の第1外部端子が設けられ、
上記半導体チップが搭載された位置に対応した裏面の外側に、上記入出力回路に動作電圧を供給する上記複数の第2外部端子及び信号の入力又は出力用の外部端子が設けられるものであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1において、
上記半導体チップは、2以上からなり、上記パッケージ基板上の表面にそれぞれが搭載されるものであることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001320554A JP4387076B2 (ja) | 2001-10-18 | 2001-10-18 | 半導体装置 |
TW091123439A TW586211B (en) | 2001-10-18 | 2002-10-11 | Semiconductor device and electronic device |
US10/268,700 US6803659B2 (en) | 2001-10-18 | 2002-10-11 | Semiconductor device and an electronic device |
KR1020020063624A KR100929620B1 (ko) | 2001-10-18 | 2002-10-17 | 반도체장치와 전자장치 |
US10/939,491 US7095117B2 (en) | 2001-10-18 | 2004-09-14 | Semiconductor device and an electronic device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001320554A JP4387076B2 (ja) | 2001-10-18 | 2001-10-18 | 半導体装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006154886A Division JP2006245613A (ja) | 2006-06-02 | 2006-06-02 | 半導体装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003124383A JP2003124383A (ja) | 2003-04-25 |
JP2003124383A5 JP2003124383A5 (ja) | 2005-06-16 |
JP4387076B2 true JP4387076B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=19137927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001320554A Expired - Fee Related JP4387076B2 (ja) | 2001-10-18 | 2001-10-18 | 半導体装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6803659B2 (ja) |
JP (1) | JP4387076B2 (ja) |
KR (1) | KR100929620B1 (ja) |
TW (1) | TW586211B (ja) |
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-
2001
- 2001-10-18 JP JP2001320554A patent/JP4387076B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-10-11 TW TW091123439A patent/TW586211B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-10-11 US US10/268,700 patent/US6803659B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-17 KR KR1020020063624A patent/KR100929620B1/ko not_active IP Right Cessation
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2004
- 2004-09-14 US US10/939,491 patent/US7095117B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11081439B2 (en) | 2018-11-26 | 2021-08-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Integrated circuit and electronic circuit comprising the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20030032878A (ko) | 2003-04-26 |
JP2003124383A (ja) | 2003-04-25 |
KR100929620B1 (ko) | 2009-12-03 |
US20050029648A1 (en) | 2005-02-10 |
TW586211B (en) | 2004-05-01 |
US20030080353A1 (en) | 2003-05-01 |
US6803659B2 (en) | 2004-10-12 |
US7095117B2 (en) | 2006-08-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040914 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040914 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060406 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060602 |
|
A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071105 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20080208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090909 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131009 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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