JP2006278449A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 半導体装置において設計自由度及び耐ノイズ性の向上を図ることにある。
【解決手段】 半導体装置は、集積回路12が形成された半導体チップ10と、半導体チップ10上に配列された複数の電極20と、半導体チップ10が実装され、配線パターン32を有する配線基板30と、を含む。配線パターン32は、半導体チップ10の複数の電極20に電気的に接続される複数のIC用接続部40と、複数の外部用接続部60と、IC用接続部40及び外部用接続部60を電気的に接続する配線部50と、を有する。複数の電極20における互いに隣接しない少なくとも第1及び第2の電極22,24は、配線部50により、複数の外部用接続部60におけるいずれか1つの共通外部用接続部62に電気的に接続されている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体装置に関する。
半導体装置において耐ノイズ性の向上が求められている。ノイズは、半導体チップの電源の寄生インピーダンス等が原因でトランジスタのスイッチング時の過渡的な電流変化に伴い生ずる。
例えば、特定の電源端子を半導体チップの端部に配置した場合、電源端子が配置された側とそれとは反対側とにおいて電流密度にばらつきが生じ、これによりノイズが発生しやすくなる。改善のため、複数の電源端子を半導体チップ上にバランス良く配列することが考えられるが、半導体装置の小型化を追求すると、外部端子の個数を減少せざるを得ず、それに伴い電源端子の個数が減り、例えば電源端子が1つとなると電流密度のばらつきを改善することは困難である。
また、ノイズ対策として、電源端子に電気的に接続するベタ状の導電箔を設けることが知られているが、ベタ状の導電箔は所定の面積が必要となるため、半導体装置の設計が制約される場合がある。
特開平7−153869号公報
本発明の目的の1つは、半導体装置において設計自由度及び耐ノイズ性の向上を図ることにある。
(1)本発明に係る半導体装置は、
集積回路が形成された半導体チップと、
前記半導体チップ上に配列された複数の電極と、
前記半導体チップが実装され、配線パターンを有する配線基板と、
を含み、
前記配線パターンは、前記半導体チップの複数の前記電極に電気的に接続される複数のIC用接続部と、複数の外部用接続部と、前記IC用接続部及び前記外部用接続部を電気的に接続する配線部と、を有し、
複数の前記電極における互いに隣接しない少なくとも第1及び第2の電極は、前記配線部により、複数の前記外部用接続部におけるいずれか1つの共通外部用接続部に電気的に接続されている。本発明によれば、半導体チップ上の少なくとも第1及び第2の電極が1つの共通外部用接続部に電気的に接続されている。そのため、例えば共通外部用接続部に流れる電流が半導体チップの内部の電流密度のばらつきを引き起こす場合、共通外部用接続部に電気的に接続する電極を第1及び第2の電極に分割して配置することにより、半導体チップ10の内部の電流密度のばらつきを緩和することが可能になる。また、設計制約上、第1及び第2の電極を半導体チップの内部配線により電気的に接続できない場合であっても、共通外部用接続部を介してそれらを電気的に接続することができるため、設計自由度の向上を図ることができる。
(2)この半導体装置において、
複数の前記外部用接続部は、前記半導体チップにオーバーラップして配列され、
前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記共通外部用接続部を基準として対称な位置に配置されていてもよい。これにより、半導体チップの内部の電流密度の均一化を図り、耐ノイズ性の向上を図ることができる。
(3)この半導体装置において、
前記配線部は、前記第1の電極及び前記共通外部電極を電気的に接続する第1の配線部と、前記第2の電極及び前記共通外部電極を電気的に接続する第2の配線部と、を含み、
前記第1及び第2の配線部は、互いにほぼ対称な配線形状をなしていてもよい。これにより、配線部の寄生インピーダンス等も考慮して耐ノイズ性の向上を図ることができる。
(4)本発明に係る半導体装置は、
集積回路が形成された半導体チップと、
前記半導体チップ上に配列された複数の電極と、
複数のボンディング部を有するリードと、
前記電極及び前記リードの前記ボンディング部を電気的に接続するワイヤと、
を含み、
複数の前記電極における互いに隣接しない少なくとも第1及び第2の電極は、前記ワイヤにより、複数の前記ボンディング部におけるいずれか1つの共通ボンディング部に電気的に接続されている。本発明によれば、半導体チップ上の少なくとも第1及び第2の電極が1つの共通ボンディング部に電気的に接続されている。そのため、例えば共通ボンディング部に流れる電流が半導体チップの内部の電流密度のばらつきを引き起こす場合、共通ボンディング部に電気的に接続する電極を第1及び第2の電極に分割して配置することにより、半導体チップ10の内部の電流密度のばらつきを緩和することが可能になる。また、設計制約上、第1及び第2の電極を半導体チップの内部配線により電気的に接続できない場合であっても、共通ボンディング部を介してそれらを電気的に接続することができるため、設計自由度の向上を図ることができる。
(5)この半導体装置において、
前記ボンディング部は、配線基板の表面に形成されたIC用接続部であってもよい。
(6)この半導体装置において、
前記ボンディング部は、リードフレームのインナーリードであってもよい。
(7)この半導体装置において、
前記第1及び第2の電極は、電源端子であってもよい。
(8)この半導体装置において、
複数の前記電極は、前記第1及び第2の電極を複数グループ有し、
第1のグループに属する前記第1及び第2の電極は、第1の電源端子であり、
第2のグループに属する前記第1及び第2の電極は、前記第1の電源端子とは異なるレベルの電圧を供給する第2の電源端子であってもよい。
(9)この半導体装置において、
複数の前記電極は、前記第1及び第2の電極を複数グループ有し、
前記複数グループのそれぞれのグループに属する前記第1及び第2の電極は、それぞれ異なるレベルの電圧を供給する電源端子であってもよい。
(10)この半導体装置において、
前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記半導体チップの対向する辺側に配置されていてもよい。これにより、半導体チップの内部の電流密度の均一化を図り、耐ノイズ性の向上を図ることができる。
(11)この半導体装置において、
前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記半導体チップの隣接する辺側に配置されていてもよい。
(12)この半導体装置において、
前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記半導体チップの同一辺側に配置されていてもよい。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の平面図であり、図2は、図1のII−II線断面図である。なお、図1では、配線基板における半導体チップ搭載領域面を示すものである。半導体装置は、いわゆるCSP(Chip Scale/Size Package)又はBGA(Ball Grid Array)であってもよいが、この形態に限定されるものではない。
半導体装置は、半導体基板(半導体チップ10)を含む。半導体チップ10は、直方体(平面において長方形)になっていてもよい。半導体チップ10は、内部に集積回路12が形成された集積回路チップ(ICチップ)である。集積回路12は、複数の能動素子(MOSトランジスタなど)を有する。また、半導体チップ10上には、複数の電極20が配列されている。複数の電極20は、半導体チップ10の表面(集積回路12側の面)の端部に配列されていてもよい。複数の電極20は、図1に示すように半導体チップ10の4辺のそれぞれに沿って配列されていてもよいし、対向する2辺のそれぞれに沿って配列されていてもよい。複数の電極20は、半導体チップ10の内部配線(図示しない)により集積回路12に電気的に接続されている。複数の電極20は、集積回路12の外側の領域上に形成されていてもよいし、集積回路12の内側の領域上に形成されていてもよい。電極20は、パッド(例えばAlパッド)を含む。図2に示すように半導体チップ10がフェースダウン実装される場合には、電極20はパッドの表面に形成されるバンプ(例えばAuバンプ)をさらに含んでいてもよい。なお、半導体チップ10の表面には、複数の電極20を避ける領域にパッシベーション膜14(SiO,SiN)が形成されている。
配線基板30は、ベース基板と、ベース基板に形成された配線パターン32を有する。ベース基板は、有機系材料(例えばポリイミド樹脂、エポキシ樹脂)、無機系材料(例えばガラス、セラミック)又はそれらの複合構造からなるものであってもよい。配線基板30は、半導体パッケージのインターポーザであってもよい。配線パターン32がスルーホール又はビアホールを有し、配線基板30が多層構造をなしていてもよい。
配線パターン32は、半導体チップ10の複数の電極20に電気的に接続される複数のIC用接続部40と、複数の外部用接続部60と、IC用接続部40及び外部用接続部60を電気的に接続する配線部50と、を有する。IC用接続部40、配線部50及び外部用接続部60は、Cuなどの金属により一体的に形成されている。また、例えば、IC用接続部40は、配線部50の一方の端部に設けられ、外部用接続部60は、配線部50の他方の端部に設けられている。図2に示す例では、IC用接続部40は配線基板30の一方の面に形成され、外部用接続部60は配線基板30の他方の面に形成され、両者が配線部50の一部であるスルーホールを介して電気的に接続されている。IC用接続部40又は外部用接続部60は、配線部50よりも幅が大きくなっていてもよい。なお、配線基板30の表面には、IC用接続部40及び外部用接続部60を避ける領域に保護膜34(例えばソルダレジスト)が設けられていてもよい。
複数のIC用接続部40は、半導体チップ10の複数の電極20の配列形態に対して面対称となる配列形態を有してもよい。すなわち、複数のIC用接続部40は、半導体チップ10の搭載外形の4辺のそれぞれに沿って配列されていてもよいし、対向する2辺のそれぞれに沿って配列されていてもよい。複数の外部用接続部60は、左右対称となる配列形態を有していてもよく、例えば複数行複数列(図1では3行3列)に配列されている。複数の外部用接続部60は、配線部50(及びIC用接続部40)により複数の電極20に電気的に接続されている。
半導体チップ10は、配線基板30に実装されている。図2に示す例では、半導体チップ10は、配線基板30にフェースダウン実装されている。すなわち、半導体チップ10の電極20の形成面と、配線基板30のIC用接続部40の形成面とが向き合っている。電極20及びIC用接続部40の電気的接続形態には、導電粒子を含有する異方性導電材料(例えばACF(Anisotoropic Conductive Film))による接続のほか、絶縁樹脂接合(例えばNCP(Non Conductive Paste)やNCF(Non Conductive Film)等を使用した接合)、合金接合(例えばAu−Au又はAu−Sn接合等)、ハンダ接合等の既知の接続方法のいずれを適用してもよい。半導体チップ10と配線基板30との間には、アンダーフィル材36(例えば樹脂材)が設けられていてもよい。アンダーフィル材36は、少なくとも電極20及びIC用接続部40の両者の電気的接続部を被覆する。
外部用接続部60上には外部端子70が設けられていてもよい。外部端子70は、導電性部材(例えばハンダ)により形成され、例えばハンダボールであってもよい。図1に示す例では、複数の外部端子70(外部用接続部60)が半導体チップ10とオーバーラップして配列されている、いわゆるファンイン構造をなしている。なお、変形例として、複数の外部端子70が半導体チップ10とオーバーラップしない外側のみに設けられている、いわゆるファンアウト構造をなしていてもよいし、それらの複合のファンイン・アウト構造をなしていてもよい。
本実施の形態では、図1に示すように、複数の電極20における互いに隣接しない第1及び第2の電極22,24が、配線部50(詳しくは第1及び第2の配線部52,54)により、複数の外部用接続部60におけるいずれか1つの共通外部用接続部62に電気的に接続されている。すなわち、図1に示す例では、電極:外部用接続部の接続個数の関係が2:1となっている。なお、共通外部用接続部62上には、外部端子70として共通外部端子72が設けられている。
これによれば、例えば共通外部用接続部62に流れる電流が半導体チップ10の内部の電流密度のばらつきを引き起こす場合、共通外部用接続部62に電気的に接続する電極を第1及び第2の電極22,24に分割して配置することにより、半導体チップ10の内部の電流密度のばらつきを緩和することが可能になる。また、設計制約上、第1及び第2の電極22,24を半導体チップ10の内部配線により電気的に接続できない場合であっても、共通外部用接続部62を介してそれらを電気的に接続することができるため、設計自由度の向上を図ることができる。
ここで、第1及び第2の電極22,24が隣接しないとは、複数の電極20の配列方向(半導体チップ10の各辺に沿った方向)において第1及び第2の電極22,24が連続して並ぶことがないことを意味する。言い換えれば、複数の電極20の配列方向において第1及び第2の電極22,24の間には、少なくとも1つの他の電極20が設けられている。
第1及び第2の電極22,24は、電源端子であってもよい。例えば第1及び第2の電極22,24は、電源電圧VDDを供給するための電極であってもよいし、電源電圧VSS(グランド電圧VSS)を供給するための電極であってもよい。これによれば、電源に起因する電流密度のばらつきを少なくし、ノイズの発生を防止することができる。あるいは、第1及び第2の電極22,24は、入出力端子(信号端子)であってもよい。これによれば、設計制約上、第1及び第2の電極22,24を半導体チップ10の内部配線により電気的に接続できない場合であっても、共通外部用接続部62を介してそれらを電気的に接続することができるため、設計自由度の向上を図ることができる。
図1に示すように、ファンイン構造の場合、第1及び第2の電極22,24のそれぞれは、共通外部用接続部62を基準として対称な位置に配置されていてもよい。対称とは、図1に示すように共通外部用接続部62の中心線(例えば辺10aと平行な方向の仮想線)に対して線対称であってもよいし、あるいは共通外部用接続部62の中心点に対して点対称であってもよいことを意味する。また、対称となる配線長に多少の長短があっても良い。これによれば、第1及び第2の電極22,24が半導体チップ10の平面視においてバランス良く配置されるので、半導体チップ10の内部の電流密度の均一化を図ることができる。
第1及び第2の電極22,24のそれぞれは、半導体チップ10の異なる辺側(例えば対向する辺側又は隣接する辺側)に配置されていてもよい。図1に示す例では、第1の電極22は、半導体チップ10の所定の辺10a側に配置され、第2の電極24は、半導体チップ10の辺10aと対向する辺10b側に配置されている。これによって、半導体チップ10の両端部において内部の電流密度の均一化を図ることができる。
なお、変形例として、第1及び第2の電極22,24は、半導体チップ10の同一辺側であって、少なくとも1つの電極を挟む両側に配置されていてもよい。
共通外部用接続部62は、複数行複数列の中央の行(又は列)に属していてもよい。詳しくは、中央の行(又は列)とは、奇数行(又は奇数列)である場合の中央の1行(又は1列)であってもよいし、偶数行(又は偶数列)である場合の中央の2行(又は2列)のいずれかであってもよい。例えば、図1に示すように、第1及び第2の電極22,24が半導体チップ10の対向する2辺側に配置されている場合、共通外部用接続部62は、第1及び第2の電極22,24に挟まれた複数行の中央に属していてもよい。
第1の電極22は、第1の配線部52により共通外部用接続部62に電気的に接続され、第2の電極24は、第2の配線部54により共通外部用接続部62に電気的に接続されている。そして、第1及び第2の配線部52,54は、互いにほぼ対称な配線形状をなしていてもよい。詳しくは、上述したように第1及び第2の電極22,24が共通外部用接続部62を基準として対称な位置に配置されている場合、第1及び第2の配線部52,54が互いにほぼ対称な配線形状をなしていてもよい。これにより、配線部50の寄生インピーダンス等も考慮して耐ノイズ性の向上を図ることができる。
図1に示すように、複数の電極20は、第1及び第2の電極を複数グループ有していてもよい。例えば、複数の電極20は、第1のグループに属する上述した第1及び第2の電極22,24と、第2のグループに属する第1及び第2の電極26,28と、を有する。第2のグループに属する第1及び第2の電極26,28は、互いに隣接することなく配置され、配線部50(詳しくは第1及び第2の配線部56,58)により、他の共通外部用接続部64に電気的に接続されている。この場合、第1のグループに属する第1及び第2の電極22,24が第1の電源端子(例えば電源電圧VDDを供給する端子)であり、第2のグループに属する第1及び第2の電極26,28が第2の電源端子(例えば電源電圧VSSを供給する端子)であってもよい。第2の電源端子は、第1の電源端子とは異なるレベルの電圧を供給するものである。これによれば、それぞれの異なる電圧を供給する電源端子に基づいて電流密度の均一化を図ることができるので、さらなる耐ノイズ性の向上を図ることができる。なお、共通外部用接続部64には、他の共通外部端子74が設けられている。
また、変形例として、複数の電極は、上述した第1及び第2の電極を含む3つ以上のグループを有していてもよく、その場合もそれぞれのグループごとに第1及び第2の電極22,24が異なるレベルの電圧を供給する電源端子となっていてもよい。
第1及び第2の電極26,28、第1及び第2の配線部56,58、並びに共通外部用接続部64のその他の詳細は、上述した内容を適用することができる。
本発明に係る半導体装置によれば、上述したように半導体チップ10の内部の電流密度のばらつきを緩和(好ましくは均一化)することができるので、耐ノイズ性の向上を図ることができる。したがって、ノイズ発生に起因する半導体装置の誤動作を低減することができる。さらに、設計制約上、第1及び第2の電極22,24を半導体チップ10の内部配線により電気的に接続できない場合であっても、共通外部用接続部62を介してそれらを電気的に接続することができるため、設計自由度の向上を図ることができる。また、ベタ状の導電箔を形成することによる設計制約もなく、その点からも設計自由度が高いことがわかる。
図3は、本実施の形態の変形例を示す図である。図3に示す変形例では、半導体チップ10はフェースアップ実装されている。すなわち、半導体チップ10の電極20とは反対側の面と、配線基板30のIC用接続部40の形成面とが向き合っている。電極20及びIC用接続部40の電気的接続形態は、ワイヤボンディングであってもよい。すなわち、第1の電極22がワイヤ82によりIC用接続部40に電気的に接続され、第2の電極24がワイヤ84によりIC用接続部40に電気的に接続されている。配線基板30の表面には封止材38(モールド樹脂又はポッティング樹脂)が設けられていてもよい。封止材38は、半導体チップ10及びワイヤ82,84等を封止する。本変形例のその他の詳細は上述した内容を適用することができる。
他の変形例として、電極:外部用接続部の接続個数の関係がn:1(nは3以上の自然数)であってもよい。その場合であっても、共通外部用接続部に電気的に接続するn個の電極をバランス良く配置することにより、効果的に耐ノイズ性の向上を図ることができる。なお、本実施の形態は、1つの外部用接続部を基準として複数の電極が電気的に接続されていればよく、1つの電極が2以上の外部用接続部に電気的に接続する形態を含むことができる。
なお、本実施の形態に係る半導体装置は、COB(Chip On Board)実装、COF(Chip On Film)実装又はTAB(Tape Automated Bonding)実装により製造されるデバイスに適用することもできる。
(第2の実施の形態)
図4は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体装置を示す図である。本実施の形態では、互いに隣接しない第1及び第2の電極22,24がワイヤ(詳しくは第1及び第2のワイヤ92,94)により、リード132の複数のボンディング部におけるいずれか1つの共通ボンディング部134に電気的に接続されている。
図4に示す例では、リード132は、配線基板130の一部である。リード132は、半導体チップ10の複数の電極20に電気的に接続される複数のボンディング部(共通ボンディング部134を含む)と、複数の外部用接続部138と、ボンディング部及び外部用接続部138を電気的に接続する配線部136と、を有する。図4に示す例では、リード132は、上述した配線パターンの内容を適用することができる。その場合、ボンディング部は、配線基板130の表面に形成されたIC用接続部である。ただし、複数のボンディング部は、半導体チップ10の外側の領域に形成されている。外部用接続部138上には、外部端子140が設けられていてもよく、その詳細も第1の実施の形態で説明した通りである。なお、配線基板130の表面には封止材38が設けられている。
半導体チップ10は、配線基板130にフェースアップ実装され、電極20とリード132のボンディング部との電気的接続形態としてワイヤボンディングが適用されている。なお、半導体チップ10、複数の電極20(第1及び第2の電極22,24を含む)の詳細は、第1の実施の形態で説明した通りである。
図4に示す例では、第1の電極22が第1のワイヤ92を介して共通ボンディング部134に電気的に接続され、第2の電極24が第2のワイヤ94を介して共通ボンディング部134に電気的に接続されている。すなわち、共通ボンディング部134に電気的に接続される電極が、ワイヤによって第1及び第2の電極22,24に分割されている。したがって、本実施の形態においても第1の実施の形態で説明したように、耐ノイズ性及び設計自由度の向上を図ることができる。
第1及び第2の電極22,24の配列形態は、第1の実施の形態の内容を適用することができる。また、共通ボンディング部134は、例えば第1及び第2の電極22,24のいずれかが配置される辺側(図4では第2の電極24が配置される辺側)に設けられていてもよい。これにより、第1及び第2のワイヤ92,94のいずれか一方のワイヤ長を最短にすることができる。
第1の実施の形態で説明したように、第1及び第2の電極22,24は、電源端子であってもよいし、入出力端子(信号端子)であってもよい。また、複数の電極20は、第1及び第2の電極22,24を含む2つ以上のグループを有していてもよく、その場合、それぞれのグループごとに第1及び第2の電極22,24が異なるレベルの電圧を供給する電源端子となっていてもよい。
上述とは別に、電極:ボンディング部の接続個数の関係がn:1(nは3以上の自然数)であってもよい。その場合であっても、共通ボンディング部に電気的に接続するn個の電極をバランス良く配置することにより、効果的に耐ノイズ性の向上を図ることができる。なお、本実施の形態は、1つのボンディング部を基準として複数の電極が電気的に接続されていればよく、1つの電極が2以上のボンディング部に電気的に接続する形態を含むことができる。
図5は、本実施の形態の変形例に係る半導体装置を示す図である。本変形例に示すように、上述した構造をリードフレームタイプの半導体装置に適用してもよい。この半導体装置は、半導体チップ10と、リード152と、を含む。
半導体チップ10は、ダイパッド150に搭載されている。例えば、半導体チップ10は、ダイパッド150に接着材料162(樹脂材料又は金属ペースト材料)により固定することができる。ダイパッド150は、半導体チップ10よりもわずかに大きい相似形をなしていてもよく、ダイパッド150に向けてリード152の一方の端部が延出されている。ダイパッド150及びリード152は、リードフレームの一部である。リードフレームは、Cuなどの金属により形成されている。リード152は、半導体チップ10の複数の電極20に電気的に接続される複数のボンディング部(共通ボンディング部154を含む)を含む。本変形例では、ボンディング部はリードフレームのインナーリードである。インナーリードとは、封止材160により封止されたリード152の先端部を指す。また、リード152の他方の端部には、アウターリード158が設けられている。アウターリード158は、外部の部品(例えばマザーボード)に電気的に接続するための外部端子である。
なお、本実施の形態におけるその他の詳細は、すでに説明した内容を適用することができるので省略する。
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の平面図である。 図2は、図1のII−II線断面図である。 図3は、本発明の第1の実施の形態の変形例を示す図である。 図4は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。 図5は、本発明の第2の実施の形態の変形例を示す図である。
符号の説明
10…半導体チップ 12…集積回路 14…パッシベーション膜 20…電極
22,26…第1の電極 24,28…第2の電極 30…配線基板
32…配線パターン 34…保護膜 36…アンダーフィル材 38…封止材
40…IC用接続部 50…配線部 52,56…第1の配線部
54,58…第2の配線部 60…外部用接続部 62,64…共通外部用接続部
70…外部端子 72,74…共通外部端子 82,84…ワイヤ
92.94…第1のワイヤ 130…配線基板 132…リード
134…共通ボンディング部 136…配線部 138…外部用接続部
140…外部端子 150…ダイパッド 152…リード
154…共通ボンディング部 158…アウターリード 160…封止材

Claims (12)

  1. 集積回路が形成された半導体チップと、
    前記半導体チップ上に配列された複数の電極と、
    前記半導体チップが実装され、配線パターンを有する配線基板と、
    を含み、
    前記配線パターンは、前記半導体チップの複数の前記電極に電気的に接続される複数のIC用接続部と、複数の外部用接続部と、前記IC用接続部及び前記外部用接続部を電気的に接続する配線部と、を有し、
    複数の前記電極における互いに隣接しない少なくとも第1及び第2の電極は、前記配線部により、複数の前記外部用接続部におけるいずれか1つの共通外部用接続部に電気的に接続されている半導体装置。
  2. 請求項1記載の半導体装置において、
    複数の前記外部用接続部は、前記半導体チップにオーバーラップして配列され、
    前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記共通外部用接続部を基準として対称な位置に配置されている半導体装置。
  3. 請求項1又は請求項2記載の半導体装置において、
    前記配線部は、前記第1の電極及び前記共通外部電極を電気的に接続する第1の配線部と、前記第2の電極及び前記共通外部電極を電気的に接続する第2の配線部と、を含み、
    前記第1及び第2の配線部は、互いにほぼ対称な配線形状をなしている半導体装置。
  4. 集積回路が形成された半導体チップと、
    前記半導体チップ上に配列された複数の電極と、
    複数のボンディング部を有するリードと、
    前記電極及び前記リードの前記ボンディング部を電気的に接続するワイヤと、
    を含み、
    複数の前記電極における互いに隣接しない少なくとも第1及び第2の電極は、前記ワイヤにより、複数の前記ボンディング部におけるいずれか1つの共通ボンディング部に電気的に接続されている半導体装置。
  5. 請求項4記載の半導体装置において、
    前記ボンディング部は、配線基板の表面に形成されたIC用接続部である半導体装置。
  6. 請求項4記載の半導体装置において、
    前記ボンディング部は、リードフレームのインナーリードである半導体装置。
  7. 請求項1から請求項6のいずれかに記載の半導体装置において、
    前記第1及び第2の電極は、電源端子である半導体装置。
  8. 請求項1から請求項6のいずれかに記載の半導体装置において、
    複数の前記電極は、前記第1及び第2の電極を複数グループ有し、
    第1のグループに属する前記第1及び第2の電極は、第1の電源端子であり、
    第2のグループに属する前記第1及び第2の電極は、前記第1の電源端子とは異なるレベルの電圧を供給する第2の電源端子である半導体装置。
  9. 請求項1から請求項6のいずれかに記載の半導体装置において、
    複数の前記電極は、前記第1及び第2の電極を複数グループ有し、
    前記複数グループのそれぞれのグループに属する前記第1及び第2の電極は、それぞれ異なるレベルの電圧を供給する電源端子である半導体装置。
  10. 請求項1から請求項9のいずれかに記載の半導体装置において、
    前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記半導体チップの対向する辺側に配置されている半導体装置。
  11. 請求項1から請求項9のいずれかに記載の半導体装置において、
    前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記半導体チップの隣接する辺側に配置されている半導体装置。
  12. 請求項1から請求項9のいずれかに記載の半導体装置において、
    前記第1及び第2の電極のそれぞれは、前記半導体チップの同一辺側に配置されている半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110416181A (zh) * 2018-04-27 2019-11-05 拉碧斯半导体株式会社 电子设备以及布线基板

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