JP4278220B2 - アルデヒドの製造法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はアルデヒドの製造法、より詳細には、1,2−ジオール(vic−ジオール)の酸化開裂により対応するアルデヒドを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
1,2−ジオールの酸化開裂により対応するアルデヒドを生成させる方法として、過ヨウ素酸や四酢酸鉛を用いる方法が知られている。しかし、過ヨウ素酸を用いる方法は、酸化剤が有機溶媒に不溶であるため適用範囲が狭い。また、上記方法では、ヨウ素又は鉛を含む化合物を多量に用いるため、後処理が煩雑となるだけでなく、資源及び環境上の観点からも好ましくない。
一方、ハロゲン化合物や金属化合物を多量に用いることなく基質を酸化する方法として、酸素を酸化剤として利用する触媒的な酸化方法が行われている。しかし、1,2−ジオールを酸素により酸化開裂させて対応するアルデヒドを効率よく得る方法はほとんどない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、酸素により1,2−ジオールを酸化開裂させて対応するアルデヒドを効率よく得る方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、ルテニウム化合物を担体に担持させた触媒を用いると、1,2−ジオールが酸化開裂して対応するアルデヒドが効率よく生成することを見いだし、本発明を完成した。
【0005】
すなわち、本発明は、ホスフィン類を配位子として有する有機ルテニウム錯体が活性炭に担持された担体担持型ルテニウム触媒の存在下、下記式(1′)
【化2】
(式中、R a 、R b は、同一又は異なって、水素原子、C 1-10 アルキル基、C 2-10 アルケニル基、C 2-10 アルキニル基、C 3-15 シクロアルキル基、C 6-10 芳香族炭化水素基、C 3-12 シクロアルキル−C 1-4 アルキル基、C 7-14 アラルキル基を示す。R a 、R b は、互いに結合して、隣接する2つの炭素原子と共に3〜20員の非芳香族性炭素環又は非芳香族性複素環を形成していてもよい)
で表される1,2−ジオールを酸素と反応させて、ヒドロキシル基が結合している2つの炭素原子間を酸化的に開裂させ、対応するアルデヒドを生成させるアルデヒドの製造法を提供する。なお、本明細書では、上記発明に限らず、担体担持型ルテニウム触媒の存在下、1,2−ジオールを酸素と反応させて、ヒドロキシル基が結合している2つの炭素原子間を酸化的に開裂させ、対応するアルデヒドを生成させるアルデヒドの製造法についても説明する。
【0006】
【発明の実施の形態】
[担体担持型ルテニウム触媒]
担体担持型ルテニウム触媒としては、ルテニウム化合物が担体に担持された触媒であれば特に限定されない。なお、本明細書では、ルテニウム単体もルテニウム化合物に含まれるものとする。前記ルテニウム化合物には、例えば、金属ルテニウム、酸化ルテニウム、硫化ルテニウム、水酸化ルテニウム、フッ化ルテニウム、塩化ルテニウム、臭化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硫酸ルテニウム、ルテニウム酸又はその塩(例えば、ルテニウム酸アンモニウムなど)、過ルテニウム酸又はその塩(例えば、過ルテニウム酸テトラプロピルアンモニウムなど)、無機ルテニウム錯体[例えば、ヒドロキシハロゲン化ルテニウム(ヒドロキシ塩化ルテニウムなど)、ヘキサアンミンルテニウムハロゲン化物(ヘキサアンミンルテニウム塩化物など)、ルテニウムニトロシル、ヘキサハロルテニウム酸又はその塩(ヘキサクロロルテニウム酸ナトリウムなど)]などの無機化合物;シアン化ルテニウム、有機ルテニウム錯体[例えば、ドデカカルボニル三ルテニウム(0)、ジカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)、ジアセタトジカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)、ジヒドリドテトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)ビス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)、ルテノセンなど]などの有機化合物が挙げられる。
【0007】
ルテニウムの価数は0〜8の何れであってもよい。好ましいルテニウムの価数は0〜4価であり、特に2価が好ましい。
好ましいルテニウム化合物には、金属ルテニウム、過ルテニウム酸又はその塩及びルテニウム錯体が含まれる。これらの中でも、金属ルテニウム及びルテニウム錯体が好ましい。さらに好ましくは、有機ルテニウム錯体、特に、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類を配位子として有する有機ルテニウム錯体[例えば、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)など]である。ルテニウム化合物は単独で又は2以上を混合して使用することができる。
【0008】
前記担体としては、触媒担持用の慣用の担体、例えば、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、ゼオライト、チタニア、マグネシアなどの無機の金属酸化物や活性炭などが挙げられる。なかでも、触媒活性の点で活性炭が好ましい。活性炭としては、種々の原料(例えば、植物系、鉱物系、樹脂系等)から得られる活性炭を使用できる。活性炭はガス賦活炭及び薬品賦活炭の何れであってもよい。担体の比表面積は、例えば10〜3000m2/g程度、好ましくは50〜3000m2/g程度である。
【0009】
ルテニウム化合物の担持量は、担体に対して、例えば0.1〜50重量%、好ましくは1〜20重量%、さらに好ましくは2〜10重量%程度である。触媒の調製は、慣用の方法、例えば、含浸法、沈殿法、イオン交換法などにより行うことができる。
【0010】
担体担持型ルテニウム触媒の使用量は、ルテニウム化合物として、基質である1,2−ジオール1モルに対して、例えば0.001〜1モル、好ましくは0.01〜0.6モル、さらに好ましくは0.02〜0.4モル程度である。
【0011】
本発明では、助触媒として塩基を用いることができる。塩基を併用すると、反応速度や反応の選択性が向上する場合がある。特に、環状1,2−ジオールを酸化する場合には、塩基により反応速度が著しく速くなる。前記塩基として、アルカリ金属(例えば、ナトリウム、カリウムなど)の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、アルカリ土類金属(例えば、マグネシウム、カルシウムなど)の水酸化物、炭酸塩などの無機塩基;トリエチルアミン、ピペリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、N,N−ジメチルアニリンなどのアミン、ピリジン、キノリンなどの芳香族性含窒素複素環化合物などの有機塩基が挙げられる。好ましい塩基には、アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩、アルカリ土類金属の炭酸塩が含まれ、特に、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩が好ましい。
【0012】
前記塩基の使用量は、基質である1,2−ジオール1モルに対して、例えば0.001〜1モル、好ましくは0.005〜0.2モル、さらに好ましくは0.01〜0.1モル程度である。
【0013】
[1,2−ジオール]
反応成分(基質)として用いる1,2−ジオール(vic−ジオール)には、末端vic−ジオール、鎖状内部vic−ジオール、環状vic−ジオールが含まれる。このような1,2−ジオールとして、例えば、下記式(1)
【化1】
(式中、Ra、Rbは、同一又は異なって、水素原子、炭化水素基又は複素環式基を示す。Ra及びRbは、互いに結合して、隣接する2つの炭素原子と共に環を形成していてもよい)
で表される化合物が挙げられる。
【0014】
前記式(1)中、Ra、Rbにおける炭化水素基には、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらの結合した基が含まれる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ドデシル基などの炭素数1〜20(好ましくは1〜10)程度のアルキル基;ビニル、アリル、1−ブテニル基などの炭素数2〜20(好ましくは2〜10)程度のアルケニル基;エチニル、プロピニル基などの炭素数2〜20(好ましくは2〜10)程度のアルキニル基などが挙げられる。
【0015】
脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル基などの3〜20員(好ましくは3〜15員、さらに好ましくは5〜8員)程度のシクロアルキル基;シクロペンテニル、シクロへキセニル基などの3〜20員(好ましくは3〜15員、さらに好ましくは5〜8員)程度のシクロアルケニル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチル基などの炭素数6〜14(好ましくは6〜10)程度の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【0016】
脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した炭化水素基には、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル基などのシクロアルキル−アルキル基(例えば、C3-20シクロアルキル−C1-4アルキル基など)などが含まれる。また、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した炭化水素基には、アラルキル基(例えば、C7-18アラルキル基など)、アルキル置換アリール基(例えば、1〜4個程度のC1-4アルキル基が置換したフェニル基又はナフチル基など)などが含まれる。
【0017】
好ましい炭化水素基には、C1-10アルキル基、C2-10アルケニル基、C2-10アルキニル基、C3-15シクロアルキル基、C6-10芳香族炭化水素基、C3-15シクロアルキル−C1-4アルキル基、C7-14アラルキル基等が含まれる。
上記炭化水素基は、種々の置換基、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基(例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基など)、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、複素環式基などを有していてもよい。
【0018】
Ra、Rbにおける複素環式基を構成する複素環には、芳香族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。このような複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環(例えば、フラン、テトラヒドロフラン、オキサゾール、イソオキサゾールなどの5員環、4−オキソ−4H−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホリンなどの6員環、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、4−オキソ−4H−クロメン、クロマン、イソクロマンなどの縮合環など)、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環(例えば、チオフェン、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾールなどの5員環、4−オキソ−4H−チオピランなどの6員環、ベンゾチオフェンなどの縮合環など)、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環(例えば、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾールなどの5員環、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジンなどの6員環、インドール、インドリン、キノリン、アクリジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリンなどの縮合環など)などが挙げられる。上記複素環式基には、前記炭化水素基が有していてもよい置換基のほか、アルキル基(例えば、メチル、エチル基などのC1-4アルキル基など)、シクロアルキル基、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル基など)などの置換基を有していてもよい。
【0019】
Ra及びRbが互いに結合して隣接する2つの炭素原子と共に形成してもよい環としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロオクタン、シクロドデカン環などの3〜20員(好ましくは3〜15員、さらに好ましくは5〜12員)程度の非芳香族性炭素環(シクロアルカン環又はシクロアルケン環);オキソラン、オキサン、アゾリジン、ペルヒドロアジン、チオラン、チアン環などの3〜20員(好ましくは3〜12員、さらに好ましくは3〜8員)程度の非芳香族性複素環(特に、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を含む非芳香族性複素環)が挙げられる。これらの環は前記置換基を有していてもよく、また他の環(非芳香族性環又は芳香族性環)が縮合していてもよい。
【0020】
好ましいRa、Rbには、水素原子、C1-10アルキル基、C2-10アルケニル基、C2-10アルキニル基、C3-15シクロアルキル基、C6-10芳香族炭化水素基、C3-12シクロアルキル−C1-4アルキル基、C7-14アラルキル基などが含まれる。また、Ra、Rbが互いに結合して隣接する2つの炭素原子と共に3〜20員程度の非芳香族性炭素環又は非芳香族性複素環を形成するのも好ましい。
【0021】
式(1)で表される1,2−ジオールの代表的な例として、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−ペンタンジオール、2,3−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、2,3−ヘキサンジオール、3,4−ヘキサンジオール、1,2−ヘプタンジオール、1,2−オクタンジオール、2,3−オクタンジオール、3,4−オクタンジオール、1,2−ノナンジオール、1,2−デカンジオール、1−フェニル−1,2−エタンジオール、3−フェニル−1,2−プロパンジオール、1−(2−ピリジル)−1,2−エタンジオール、1−シクロヘキシル−1,2−エタンジオール、多価アルコール(例えば、キシリトール、ソルビトール、マンニトールなどのアルジトール類など、又はそれらの誘導体)などの鎖状1,2−ジオール;1,2−シクロペンタンジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロオクタンジオール、シクリトール類(例えば、イノシトールなど、又はそれらの誘導体)、糖類(例えば、リボース、キシロース、グルコース、マンノース、フルクトース、セルロース、デンプン、アミノ糖など、又はそれらの誘導体)などの環状1,2−ジオールが挙げられる。
【0022】
[酸素]
酸素は分子状の酸素及び発生機の酸素の何れであってもよい。分子状酸素としては、純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素を使用してもよい。操作性及び安全性のみならず経済性などの点から、空気を使用するのが好ましい。
酸素の使用量は、基質の種類に応じて適宜選択できるが、通常、基質1モルに対して、0.5モル以上(例えば、1モル以上)、好ましくは1〜100モル、さらに好ましくは2〜50モル程度である。基質に対して過剰モルの酸素を使用する場合が多い。
【0023】
[反応]
反応は液相及び気相の何れで行うこともできる。液相反応の場合、反応は、通常、有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン(トリフルオロトルエン)、クロロベンゼン、アニソール、ベンゾニトリル、ニトロベンゼン、安息香酸エチルなどの、ベンゼン環がハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換オキシカルボニル基などで置換されていてもよいベンセン誘導体;ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンなどのハロアルカン;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド;アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの鎖状または環状エーテル;酢酸などの有機酸などが挙げられる。好ましい溶媒には、ベンゼン、トルエン、トリフルオロメチルベンゼンなどの前記ベンゼン誘導体、1,2−ジクロロエタンなどのハロアルカン、酢酸エチルなどのエステルなどが含まれる。なかでも、トリフルオロメチルベンゼンなどのベンゼン環がハロアルキル基で置換されたベンゼン誘導体が好ましい。これらの溶媒は一種で又は二種以上混合して用いられる。
【0024】
反応温度は、1,2−ジオールの種類などに応じて適宜選択でき、例えば、0〜200℃、好ましくは10〜150℃、さらに好ましくは30〜120℃程度である。反応は常圧で行ってもよく、加圧下(例えば、1〜100atm)に行ってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式などの何れの方法で行ってもよい。
【0025】
本発明の方法では、反応により、温和な条件であっても、1,2−ジオールにおいてヒドロキシル基が結合している2つの炭素原子間が酸化的に開裂し、対応するアルデヒドが生成する。例えば、前記式(1)で表される1,2−ジオールを反応に付すと、下記式(2)及び/又は式(3)
RaCHO (2)
RbCHO (3)
(式中、Ra、Rbは前記に同じ)
で表されるアルデヒドが生成する。なお、式(1)で表される化合物において、Ra及びRbが、互いに結合して、隣接する2つの炭素原子と共に環を形成している場合には、反応により、前記2つの炭素原子間の結合が酸化的に開裂し、末端に2つのホルミル基を有する対応するジアルデヒドが生成する。
【0026】
反応終了後、反応生成物は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により、容易に分離精製できる。
【0027】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、特定の触媒を用いるため、酸素により1,2−ジオールが酸化開裂し、対応するアルデヒドが効率よく生成する。
【0028】
【実施例】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【0029】
実施例1
4重量%Ru(PPh3)3Cl2[ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)]/C 0.1ミリモル(ルテニウム化合物として)、1,2−オクタンジオール5ミリモル及びトリフルオロメチルベンゼン25mlからなる混合液を、酸素雰囲気下(1気圧)、60℃で15時間攪拌した。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して分離したところ、ヘプタナールが収率71%で得られた。なお、4−ヘプチル−2−ヘキシルジオキソランが収率9%で生成していたが、対応するカルボン酸は全く生成していなかった。
【0030】
比較例1
4重量%Ru(PPh3)3Cl2/Cに代えて、担体無担持のRu(PPh3)3Cl2を0.1ミリモル用いた以外は実施例1と同様の操作を行ったところ、ヘプタナールが収率13%で得られた。
【0031】
実施例2
4重量%Ru(PPh3)3Cl2/C 0.1ミリモル(ルテニウム化合物として)、1−フェニル−1,2−エタンジオール5ミリモル及びトリフルオロメチルベンゼン25mlからなる混合液を、酸素雰囲気下(1気圧)、60℃で15時間攪拌した。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して分離したところ、ベンズアルデヒドが収率85%で得られた。
【0032】
実施例3
4重量%Ru(PPh3)3Cl2/C 0.1ミリモル(ルテニウム化合物として)、2,3−オクタンジオール5ミリモル及びトリフルオロメチルベンゼン25mlからなる混合液を、酸素雰囲気下(1気圧)、60℃で15時間攪拌した。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して分離したところ、ヘキサナールが収率61%で得られた。
【0033】
実施例4
4重量%Ru(PPh3)3Cl2/C 0.1ミリモル(ルテニウム化合物として)、炭酸カリウム0.15ミリモル、trans−1,2−シクロオクタンジオール5ミリモル及びトリフルオロメチルベンゼン25mlからなる混合液を、酸素雰囲気下(1気圧)、60℃で15時間攪拌した。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して分離したところ、オクタンジアールが収率62%で得られた。
Claims (1)
- ホスフィン類を配位子として有する有機ルテニウム錯体が活性炭に担持された担体担持型ルテニウム触媒の存在下、下記式(1′)
で表される1,2−ジオールを酸素と反応させて、ヒドロキシル基が結合している2つの炭素原子間を酸化的に開裂させ、対応するアルデヒドを生成させるアルデヒドの製造法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06244499A JP4278220B2 (ja) | 1999-03-09 | 1999-03-09 | アルデヒドの製造法 |
KR1020007012466A KR20010043429A (ko) | 1999-03-09 | 2000-02-22 | 알데히드의 제조법 |
EP00904081A EP1078907A4 (en) | 1999-03-09 | 2000-02-22 | PROCESS FOR THE PREPARATION OF ALDEHYDE |
PCT/JP2000/000987 WO2000053554A1 (fr) | 1999-03-09 | 2000-02-22 | Procede d'obtention d'aldehydes |
CN00800279A CN1296468A (zh) | 1999-03-09 | 2000-02-22 | 生产醛的方法 |
US09/700,021 US6506943B1 (en) | 1999-03-09 | 2000-02-22 | Process for producing aldehydes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06244499A JP4278220B2 (ja) | 1999-03-09 | 1999-03-09 | アルデヒドの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000256247A JP2000256247A (ja) | 2000-09-19 |
JP4278220B2 true JP4278220B2 (ja) | 2009-06-10 |
Family
ID=13200398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06244499A Expired - Fee Related JP4278220B2 (ja) | 1999-03-09 | 1999-03-09 | アルデヒドの製造法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6506943B1 (ja) |
EP (1) | EP1078907A4 (ja) |
JP (1) | JP4278220B2 (ja) |
KR (1) | KR20010043429A (ja) |
CN (1) | CN1296468A (ja) |
WO (1) | WO2000053554A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4659240B2 (ja) * | 2001-03-13 | 2011-03-30 | ダイセル化学工業株式会社 | ヒドロキシアルデヒドの製造方法 |
JP5854427B2 (ja) * | 2012-01-25 | 2016-02-09 | 日産自動車株式会社 | 水素吸蔵材料 |
JP5832930B2 (ja) * | 2012-02-20 | 2015-12-16 | 三洋化成工業株式会社 | 外用組成物 |
ES2537157B8 (es) * | 2013-12-02 | 2018-05-28 | Universidad De Burgos | Procedimiento para la ruptura oxidante de 1,2-dioles empleando dimetil sulfoxido como agente oxidante |
JP2020059671A (ja) * | 2018-10-10 | 2020-04-16 | 旭化成株式会社 | ジアルデヒドの製造方法 |
JP2020066594A (ja) * | 2018-10-24 | 2020-04-30 | 旭化成株式会社 | ジアルデヒドの製造方法 |
EP4115975A4 (en) * | 2020-03-03 | 2024-05-15 | Takasago International Corporation | ACTIVATED CARBON CATALYST WITH RUTHENIUM COMPLEX ADSORBED THEREOF AND METHOD FOR PRODUCING A REDUCTION PRODUCT USING THE SAME |
CN113788762B (zh) * | 2021-08-13 | 2024-06-07 | 山东京博农化科技股份有限公司 | 一种采用固定床反应器制备3-二正丙胺基丙烯醛的方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB312209A (en) | 1928-02-21 | 1929-05-21 | Bell Telephone Labor Inc | Improvements relating to cable telegraphy |
US2051266A (en) * | 1935-03-23 | 1936-08-18 | Shell Dev | Catalytic oxidation of polyhydric alcohols |
DE2027924A1 (de) | 1970-06-06 | 1971-12-16 | Henkel & Cie GmbH, 4000 Düsseldorf-Holthausen | Verfahren zur Herstellung von Aldehyden |
JPS55102528A (en) * | 1979-02-01 | 1980-08-05 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of carbonyl compound |
FR2460908A2 (fr) | 1979-07-11 | 1981-01-30 | Inst Francais Du Petrole | Preparation de derives carbonyles par oxydation d'alcools par l'oxygene moleculaire |
JPS57192326A (en) * | 1981-05-19 | 1982-11-26 | Sagami Chem Res Center | Preparation of unsaturated carbonyl compound |
DE4228487A1 (de) * | 1991-08-30 | 1993-03-04 | Kao Corp | Verfahren zur herstellung einer eine carbonyl- und/oder carboxylgruppe aufweisenden verbindung |
JPH05102528A (ja) | 1991-10-11 | 1993-04-23 | Omron Corp | 光半導体素子 |
JPH07192326A (ja) | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Canon Inc | 光磁気記録媒体 |
GB2312209A (en) * | 1996-04-19 | 1997-10-22 | Zeneca Ltd | A process for preparing an aldehyde or ketone from an alcohol |
JP4101346B2 (ja) | 1998-02-18 | 2008-06-18 | ダイセル化学工業株式会社 | 酸化触媒系及びそれを用いた酸化方法 |
-
1999
- 1999-03-09 JP JP06244499A patent/JP4278220B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-02-22 EP EP00904081A patent/EP1078907A4/en not_active Withdrawn
- 2000-02-22 CN CN00800279A patent/CN1296468A/zh active Pending
- 2000-02-22 WO PCT/JP2000/000987 patent/WO2000053554A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2000-02-22 US US09/700,021 patent/US6506943B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-02-22 KR KR1020007012466A patent/KR20010043429A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1078907A1 (en) | 2001-02-28 |
EP1078907A4 (en) | 2005-05-25 |
CN1296468A (zh) | 2001-05-23 |
JP2000256247A (ja) | 2000-09-19 |
KR20010043429A (ko) | 2001-05-25 |
WO2000053554A1 (fr) | 2000-09-14 |
US6506943B1 (en) | 2003-01-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |