JP4090416B2 - 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置 - Google Patents

粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4090416B2
JP4090416B2 JP2003340757A JP2003340757A JP4090416B2 JP 4090416 B2 JP4090416 B2 JP 4090416B2 JP 2003340757 A JP2003340757 A JP 2003340757A JP 2003340757 A JP2003340757 A JP 2003340757A JP 4090416 B2 JP4090416 B2 JP 4090416B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive tape
wafer
holding
tape
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003340757A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005109157A (ja
Inventor
雅之 山本
安治 金島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2003340757A priority Critical patent/JP4090416B2/ja
Priority to SG200405524A priority patent/SG110174A1/en
Priority to US10/925,964 priority patent/US20050067097A1/en
Priority to KR1020040073289A priority patent/KR101075320B1/ko
Priority to TW093129333A priority patent/TWI246125B/zh
Priority to CNB2004100834743A priority patent/CN100483640C/zh
Publication of JP2005109157A publication Critical patent/JP2005109157A/ja
Priority to US11/545,493 priority patent/US7406759B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4090416B2 publication Critical patent/JP4090416B2/ja
Priority to US12/134,807 priority patent/US7987888B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/18Handling of layers or the laminate
    • B32B2038/1891Using a robot for handling the layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10S156/934Apparatus having delaminating means adapted for delaminating a specified article
    • Y10S156/941Means for delaminating semiconductive product
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1126Using direct fluid current against work during delaminating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/17Surface bonding means and/or assemblymeans with work feeding or handling means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1922Vibrating delaminating means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1928Differential fluid pressure delaminating means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1928Differential fluid pressure delaminating means
    • Y10T156/1944Vacuum delaminating means [e.g., vacuum chamber, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1978Delaminating bending means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T279/00Chucks or sockets
    • Y10T279/11Vacuum
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49998Work holding
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/53Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53191Means to apply vacuum directly to position or hold work part

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Adhesive Tape Dispensing Devices (AREA)

Description

本発明は、所定の工程処理後の粘着テープ付ワークを吸着保持する保持部材から離脱する粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置に関する。
パターン形成処理の済んだ半導体ウエハは、予め半導体ウエハ表面に表面保護テープを貼り付けると共に、半導体ウエハ外周からはみ出た表面保護テープを半導体ウエハ外周縁に沿って切り抜き、半導体ウエハ表面全体が表面保護テープで保護された状態で裏面研磨され、半導体ウエハの薄型加工が施されている(例えば、特許文献1参照。)。
裏面研磨処理が完了した半導体ウエハは、チップへの切断(ダイシング)のための保持テープ(ダイシング用粘着テープ)の貼り付け(ウエハマウント)が行われ、その後に表面保護テープを剥離するために、いわゆるマウント剥離処理が施される(例えば、特許文献2参照。)このマウント剥離時は、半導体ウエハが薄いため、多孔質材料等で形成されている保持部材上で、ダイシング用粘着テープの背面部分を広範囲で吸着保持して行われるのが一般的である。
特開平6−302569号公報 特開2003−209082号公報
しかしながら、多孔質材料等で形成されている保持部材上で、ダイシング用粘着テープ背面を吸着保持することで、その離脱時に保持領域での離脱遅延が発生して、ダイシング用粘着テープの変形を介して半導体ウエハが割れるなど、破損してしまう問題がある。
また、マウント剥離において、表面保護テープの剥離を容易にするため、通常、保持部材を加温した状態で使用するため、ダイシング用粘着テープが、より変形することから、保持部材の吸着孔等の中に入り込みやすく、半導体ウエハが破損し易くなる。
本発明は、裏面研磨処理が完了し、チップへ切断(ダイシング)するために貼り付けたダイシング用粘着テープ面を吸着保持する保持部材に載置保持した後に半導体ウエハ表面の表面保護テープを剥離する、いわゆるマウント剥離処理が施された後のダイシング粘着テープが貼り付けられている半導体ウエハ、即ち粘着テープ付ワークを、吸着保持する保持部材から離脱する際に半導体ウエハ等のワークの破損等を防止する粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置を提供することを目的とする。
本発明は、前述の課題を解決するためになされたものであり、即ち、本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱方法は、粘着テープ付ワークを吸着保持する保持部材から前記粘着テープ付ワークを離脱する離脱方法であって、前記粘着テープ付ワークを真空吸着したまま当該粘着テープ付ワークと前記保持部材との間であり、かつ、保持部材の中央部より外側にかけて気体を順次供給し、保持部材の保持力を低下させ、粘着テープ付ワークを保持部材から離脱することを特徴とするものである。
保持部材の保持力を低下させるように気体を供給することによって、保持部材の吸着孔等に入り込んだ粘着テープを吸着孔から確実に出すことができ、粘着テープと保持部材間の残留圧力もなくすことが可能となる。また、離脱が容易になることから、半導体ウエハやリードフレーム等の物品である粘着テープ付ワークの割れ等の破損を抑制することができる。
また、気体を中央部より外側に順次供給していくことで、粘着テープ付ワークの離脱をスムースに行うことが可能となり、ワークの破損等を確実に防止することができる。
さらに、粘着テープ付ワークを真空吸着状態で気体を供給するため、真空吸着による保持力を調整することが可能となる。これにより、粘着テープの種類によって、真空吸着による保持力を調整することが可能となるため、粘着テープが真空吸着の際に変形することを防ぐことができる。
また、本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱方法は、前記気体を前記粘着テープ付ワークと前記保持部材との間の前記粘着テープ付ワークが保持されている全域にわたって供給することが好ましい。
粘着テープ付ワークが保持されている全域にわたって気体を供給することで、粘着テープ付ワークの離脱を確実に行うことができる。
また、本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱方法は、前記気体を、2箇所以上の気体供給口から供給することが好ましい。
気体を2箇所以上の気体供給口から供給するため、真空吸着の保持力を調整する気体以外にも、気体の流れを形成することが可能となる。このため、粘着テープ付ワークの離脱時にワークに作用する応力を緩和しつつ離脱することができる。
また、本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱装置は、粘着テープ付ワークを載置保持する保持部材を有する保持テーブルと、前記保持テーブルに設けられ、前記粘着テープ付ワークを吸着保持する保持手段と、前記保持部材と前記粘着テープ付ワークとの間に気体を供給する気体供給手段と、前記保持手段によって前記粘着テープ付ワークを真空吸着しつつ、前記気体供給手段によって保持部材の中央部より外側にかけて気体を順次供給するように制御する制御手段と、を備えてなるものである。
このような構成によると、保持部材の吸着孔等に入り込んだ粘着テープを吸着孔から確実に出すことができ、粘着テープと保持部材間の残留圧力もなくすことが可能となる。また、離脱処理を一連の工程で行うことが可能になるとともに、離脱が容易になることから、半導体ウエハ等の物品粘着テープ付ワークを割れ等の破損を抑制することができる。
また、本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱装置は、前記保持部材が、多孔質材料で形成されてなるものである。
保持部材が多孔質材料で形成されているため、粘着テープ付ワークを吸着する吸着手段を設けることが容易であると共に、多孔質材料を通じて気体を供給することが可能となるため、粘着テープ付ワークと保持部材との間に気体を容易に供給することができる。
本発明は、保持部材と粘着テープ付ワークとの密着性を緩和することができるため、粘着テープ付ワークの保持部材からの離脱を確実に行うことができる。また、粘着テープを保持した後の残留圧力が保持部材に残ることがなくなるため、粘着テープ付ワークをより確実に離脱できる。更に、離脱が容易に行えることから、ワークの破損等を予防することができる効果を奏する。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態の一例について説明する。図1は、本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱装置の実施形態の一例を有する半導体ウエハマウント装置の一例の要部を示す斜視概略図である。
図1に示すように、本実施形態例における半導体ウエハマウント装置1は、バックグラインド処理が完了した半導体ウエハ(以下、ウエハと略す。)Wを積層収納したカセットが装填されるウエハ供給部2と、屈曲回動するロボットアームが装備されたウエハ搬送機構3と、反ったウエハを平面に矯正するウエハ押圧機構4と、位置合わせするアライメントステージ5と、表面保護テープに紫外線を照射する紫外線照射ユニット6と、ウエハWを吸着保持するウエハチャックテーブル7と、リングフレーム8が装填されるリングフレーム供給部9と、リングフレーム8を移載するリングフレーム搬送機構10と、ダイシング用テープ11を供給するダイシング用テープ供給部12と、ダイシング用テープ11を貼付するダイシング用テープ貼付ユニット13と、ダイシング用テープ11をカットするダイシング用テープカット部14と、カット後のダイシング用テープを回収するダイシング用テープ回収部15と、ダイシング用テープ11が貼り付けられたリングフレーム8を昇降するリングフレーム昇降機構16と、ウエハWをリングフレーム8に貼り付けられたダイシング用テープ11に貼り合わせるウエハマウント機構17と、ウエハマウントフレームを移載するウエハマウントフレーム搬送機構18と、離脱装置を構成するウエハマウントフレームを吸着保持して表面保護テープ20を剥離する剥離テーブル19と、剥離テーブル19上のウエハマウントされたウエハWに剥離テープ21を貼り付ける剥離テープ貼付ユニット22と、貼り付けた剥離テープ21を剥離する剥離テープ剥離ユニット23と、剥離された処理済の剥離テープを巻き取り回収するテープ回収部24と、ウエハマウントフレームを収納するウエハマウントフレーム収納機構25と、処理済のウエハマウントフレームを積層収納するためのカセットが装填されるウエハマウントフレーム回収部26と、で構成されている。
ウエハ供給部2は、保護テープが貼り付けられた表面を上向きにした水平姿勢のウエハWを、上下に適当な間隔を持った状態でカセットに差し込み収納して、カセット台に装填するようになっている。ウエハマウントフレーム回収部26も、保護テープ剥離処理のすんだウエハWがウエハマウントされたリングフレーム8を、上下に適当な間隔を持った状態でリングフレームカセットに差し込み収納して、カセット台に装填するようになっている。
ウエハ搬送機構3のロボットアームは、水平進退及び旋回可能に構成されており、ウエハ供給部2からのウエハWの取り出し、アライメントステージ5へのウエハWの供給を行う。
ウエハ押圧機構4は、アライメントステージ5に供給されたウエハWが反りにより真空吸着保持ができない場合にウエハW上面側より押圧することにより平面に矯正し、アライメントステージ5に吸着保持させる。
アライメントステージ5は、ウエハWのオリエンテーションフラットやノッチ等の検出に基づいて、ウエハWの位置合わせを行う。ウエハW表面に貼り付けられた表面保護テープ20が紫外線硬化型粘着テープの場合は、アライメントステージ5上方に配置してある紫外線照射ユニットにより紫外線照射を行う。
その後、ウエハWは、平面に矯正された状態のままアライメントステージ5よりウエハチャックテーブル7へ受け渡しを行う。
一方、リングフレーム供給部9は、一定方向に位置決めされたリングフレーム8をワゴンに積層収納するようになっている。また、リングフレーム搬送機構18は、リングフレーム8を真空吸着保持して移載を行う。
ダイシング用テープ供給部12は、原反ロールから導出したダイシング用テープ11をリングフレーム8の下方を通ってダイシング用テープ貼付ユニット13及びダイシング用テープ回収部15にまで導くように構成されている。なお、ダイシング用テープ11は、リングフレーム8の径よりも幅広のものが使用される。
ダイシング用テープ貼付ユニット13は、リングフレーム8にダイシング用テープ11の貼付を行い、次いで、ダイシング用テープカット部14によりダイシング用テープをリングフレーム上でカットするようになっている。ダイシング用テープ回収部15は、カット後のダイシング用テープ11の回収を行う。
リングフレーム昇降部16は、ダイシング用テープ11が貼り付けられたリングフレーム8を昇降するように構成されている。そして、ウエハW裏面をダイシング用テープ11が貼り付けられたリングフレーム8と貼り合わせてウエハマウントを行う。
ウエハマウントフレーム搬送機構18は、ウエハマウントフレーム29を真空吸着保持して移載する。
離脱装置を構成する剥離テーブル19は、図2に示すように、粘着テープ付ワークであるダイシング用テープ11が貼り付けられたリングフレーム8とで構成されるウエハマウントフレーム29を載置保持する保持部材30を有する保持テーブル31と、保持テーブル31に設けられ、ウエハマウントフレーム29を吸着保持する保持手段32と、保持部材30とウエハマウントフレーム29との間に気体を供給する気体供給手段33と、を備えてなる。
保持部材30は、粘着テープ付ワークを吸着保持できるように、粘着テープ付ワーク(ウエハマウントフレーム29)よりも小さくなるように形成されるとともに、酸化アルミニウム等の無機材料等の多孔質材料で形成されて、保持テーブル31内に設置されている。保持テーブル31は、保持部材30を介してウエハマウントフレーム29を吸着保持できる保持手段32及び保持部材30と、ウエハマウントフレーム29との間に気体を供給する気体供給手段33とが連設されている。
保持手段32は、保持テーブル31に形成された気体の排気、供給用の通路28と、通路28に連結された排気用配管37と、保持テーブル31内に形成された通路28内の圧力を測定する圧力計36と、この圧力計36と真空ポンプ等の真空排気手段34との間に設けられ、制御部38からの信号によって開閉し、通路28内の圧力調整をする電磁バルブ等の圧力調節手段35と、で構成されている。
一方、ウエハマウントフレーム29と、保持部材30との間に気体を供給する気体供給手段33は、保持テーブル31内に形成された通路28に連結された供給用配管43と、この供給用配管43に連結された電磁バルブ等の圧力調整手段40と、流量計41と、圧力計42とで構成されている。そして、圧力調整手段40は、制御部38に連結され、排気用配管37に設けられている圧力計36の圧力からの信号によって開閉させられ、圧力調整するようになっている。なお、図2においては、保持テーブル31内に設けられている気体の供給、排気用の通路28は、1本しか図示していないが、気体の供給用と、排気用の通路28をそれぞれ別経路となるように別途設けるようにしても良い。
また、これら通路28は、保持テーブル31内で粘着テープ付ワーク(ウエハマウントフレーム29)の略全域にわたるように分岐されているが、保持テーブル31の外部において分岐させるようにすることもできる。そして、各分岐させた通路のそれぞれには、制御部38からの信号によって開閉する開閉バルブ等が設けられていることが好ましい。これによって、気体を確実に保持部材の中央部より外側に順次供給、排気することができるようになる。
また、気体の通路28を上述のように、保持テーブル31の内外部において分岐する以外に、供給用配管43と通路28との連結部である気体供給口44を、2個以上形成し、そして、各気体供給口44に連結する通路をそれぞれ保持テーブル31内に形成することによって、保持部材30の保持力をより確実に調整することができる。
ここで、供給手段33により供給する気体としては、例えば、圧縮空気、窒素ガス、アルゴンガス等、保持部材30と粘着テープ付ワークとの密着性を低下させることができる気体であればいかなるものでも適用可能である。
以上の剥離テーブル19では、図1に示すように、ウエハマウントフレーム29を真空吸着保持し、剥離テープ貼付ユニット22によってウエハW上の表面保護テープ20に剥離テープ21の貼付を行う。そして、テープ剥離ユニット22は、貼り付けた剥離テープ21と表面保護テープ20を一体で剥離するようになっている。テープ回収部24は、剥離された処理済の剥離テープ21を回収する。表面保護テープ20の剥離時には、保持テーブル31内に設けられているヒータ39(図2参照)によってウエハマウントフレーム29は加温され、表面保護テープ20の剥離を容易なものとしている。ところが、このとき、ダイシング用テープ11も加温されるため、ダイシング用テープ11も軟化し、変形しやすい状態となり、保持部材30の孔内に入り込みやすくなる。しかしながら、本実施形態例に示すように、保持部材30と、ダイシング用テープ11との間に気体を供給することによって、保持部材30の孔内に入り込んだダイシング用テープ11も保持部材30の表面に追い出すことが可能となり、ウエハマウントフレーム29の離脱が容易となる。
ウエハマウントフレーム収納機構25は、ウエハマウントフレームを真空吸着保持して移載してウエハマウントフレーム回収部26への収納準備を行う。
次に、以上の構成の本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱装置の実施形態の一例を有する半導体ウエハマウント装置の基本的な工程を説明する。
まず、ウエハ搬送機構3のロボットアームがウエハ供給部2のカセットからウエハWを1枚吸着保持して取り出してアライメントステージ5上に移載し、ウエハ押圧機構4によりウエハWを平面に矯正した状態で吸着保持される。ここで、ウエハWのオリエンテーションフラットやノッチ等の検出に基づいて、ウエハWの位置合わせが行われる。その後、ウエハWに貼り付けられている表面保護テープ20が紫外線硬化型の場合には、アライメントステージ5上で紫外線照射処理が行われる。
位置合わせが行われたウエハWは、アライメントステージ5がウエハチャックテーブル7の下方まで移動して、ウエハチャックテーブル7への平面の状態を保持したまま受け渡しが行われる。
一方、リングフレーム8は、積層されているリングフレーム供給部9の上方より1枚ずつ吸着保持して取り出してダイシング用テープ11の貼付位置まで移載される。
ここで、ダイシング用テープ11の貼付が行われ、その後、リングフレーム8上でダイシング用テープ11のカットが行われる。カット後の不要となったダイシング用テープ11の巻き取りが行われてダイシング用テープ11の貼り付けられたリングフレーム8が作製される。
その後、リングフレーム8は上方に移載されて、リングフレーム8下方の端よりマウントローラーでリングフレーム8に貼り付けられたダイシング用テープとウエハとの貼り合わせ(ウエハマウント)が行われる。
次いで、ウエハマウントフレーム29は、ウエハW上の表面保護テープ20を剥離するために剥離テーブル19へ移載されて、吸着保持される。吸着保持は、真空ポンプ34によって保持テーブル31内に形成された通路28内の気体を排気することで行われる。そして、剥離テープ21をウエハW上に貼り付けられた表面保護テープ20上に貼り付けて、剥離テープ21を剥離することで表面保護テープを剥離していく。このように、ウエハW上の表面保護テープ20を剥離したマウント剥離後に、剥離テーブル19とウエハマウントフレーム29との間に供給手段33によって気体をウエハマウントフレーム29の中央部から外側に向けて順次供給していく。これにより、ウエハマウントフレーム29と剥離テーブル19との密着性を低下させて、剥離テーブル19からのウエハマウントフレーム29の離脱を容易にする。その後、ウエハマウントフレーム29は、ウエハマウントフレーム回収部26に1枚づつ収納される。
本発明は、以上のように構成されており、裏面研磨処理が完了し、チップへ切断(ダイシング)するために貼り付けたダイシング用粘着テープ面を吸着保持する保持部材に載置保持した後に半導体ウエハ表面の表面保護テープを剥離する、いわゆるマウント剥離処理が施された後のダイシング粘着テープが貼り付けられている半導体ウエハ、即ち粘着テープ付ワークを、吸着保持する多孔質材料の保持部材から離脱する際に、粘着テープ付ワークと保持部材との間に、保持部材の保持力を低下させるように気体を供給しながら粘着テープ付ワークを保持部材から離脱することで、半導体ウエハ等のワークの破損等を防止することができる。
また、粘着テープ付ワークを離脱する際に、粘着テープ付ワークを真空吸着した状態で、気体を供給するようにすることもできる。粘着テープ付ワークを真空吸着した状態で気体を供給することによって、真空吸着による保持力を調整することが可能となる。これにより、粘着テープの種類によって、真空吸着による保持力を調整することが可能となるため、粘着テープが真空吸着の際に変形することを防ぐことができる。また、ワークがウエハのように、薄くもろい材料であっても、吸着保持時に必要以上の保持力で吸着することがないため、ウエハの破損等を防止することができる。
なお、粘着テープ付ワークとして、上記実施形態例では、ウエハを例にとって説明したが、ワークは、多孔質材料で形成される保持部材上に保持された粘着テープ付のものであれば、ウエハに限定されるものではない。
本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱装置の実施形態の一例を有する半導体ウエハマウント装置の一例の要部を示す斜視概略図である。 本発明に係る粘着テープ付ワークの離脱装置の一例の要部を示す断面概略図である。
符号の説明
1 半導体ウエハマウント装置
2 ウエハ供給部
3 ウエハ搬送機構
4 ウエハ押圧機構
5 アライメントステージ
6 紫外線照射ユニット
7 ウエハチャックテーブル
8 リングフレーム
9 リングフレーム供給部
10 リングフレーム搬送機構
11 ダイシング用テープ
12 ダイシング用テープ供給部
13 ダイシング用テープ貼付ユニット
14 ダイシング用テープカット部
15 ダイシング用テープ回収部
16 リングフレーム昇降機構
17 ウエハマウント機構
18 ウエハマウントフレーム搬送機構
19 剥離テーブル
20 表面保護テープ
21 剥離テープ
22 剥離テープ貼付ユニット
23 剥離テープ剥離ユニット
24 テープ回収部
25 ウエハマウントフレーム収納機構
26 ウエハマウントフレーム回収部
29 粘着テープ付ワーク
30 保持部材
31 保持テーブル
32 保持手段
33 気体供給手段



Claims (4)

  1. 粘着テープ付ワークを吸着保持する保持部材から前記粘着テープ付ワークを離脱する離脱方法であって、
    前記粘着テープ付ワークを真空吸着したまま当該粘着テープ付ワークと前記保持部材との間であり、かつ、保持部材の中央部より外側にかけて気体を順次供給し、保持部材の保持力を低下させ、粘着テープ付ワークを保持部材から離脱することを特徴とする粘着テープ付ワークの離脱方法。
  2. 前記気体を、1箇所以上の気体供給口から供給することを特徴とする請求項1に記載の粘着テープ付ワークの離脱方法。
  3. 粘着テープ付ワークを載置保持する保持部材を有する保持テーブルと、
    前記保持テーブルに設けられ、前記粘着テープ付ワークを吸着保持する保持手段と、
    前記保持部材と前記粘着テープ付ワークとの間に気体を供給する気体供給手段と、
    前記保持手段によって前記粘着テープ付ワークを真空吸着しつつ、前記気体供給手段によって保持部材の中央部より外側にかけて気体を順次供給するように制御する制御手段と、
    を備えてなる粘着テープ付ワークの離脱装置。
  4. 前記保持部材が、多孔質材料で形成されてなる請求項3に記載の粘着テープ付ワークの離脱装置。
JP2003340757A 2003-09-30 2003-09-30 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置 Expired - Fee Related JP4090416B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003340757A JP4090416B2 (ja) 2003-09-30 2003-09-30 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置
SG200405524A SG110174A1 (en) 2003-09-30 2004-08-13 Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape
US10/925,964 US20050067097A1 (en) 2003-09-30 2004-08-26 Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape
KR1020040073289A KR101075320B1 (ko) 2003-09-30 2004-09-14 점착테이프 부착 가공물의 이탈방법 및 이탈장치
TW093129333A TWI246125B (en) 2003-09-30 2004-09-29 Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape
CNB2004100834743A CN100483640C (zh) 2003-09-30 2004-09-29 具有粘胶带的工件的解开方法和解开设备
US11/545,493 US7406759B2 (en) 2003-09-30 2006-10-11 Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape
US12/134,807 US7987888B2 (en) 2003-09-30 2008-06-06 Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003340757A JP4090416B2 (ja) 2003-09-30 2003-09-30 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005109157A JP2005109157A (ja) 2005-04-21
JP4090416B2 true JP4090416B2 (ja) 2008-05-28

Family

ID=34373417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003340757A Expired - Fee Related JP4090416B2 (ja) 2003-09-30 2003-09-30 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置

Country Status (6)

Country Link
US (3) US20050067097A1 (ja)
JP (1) JP4090416B2 (ja)
KR (1) KR101075320B1 (ja)
CN (1) CN100483640C (ja)
SG (1) SG110174A1 (ja)
TW (1) TWI246125B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014022555A (ja) * 2012-07-18 2014-02-03 Lintec Corp シート貼付装置および装置の大型化防止方法

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7019819B2 (en) * 2002-11-13 2006-03-28 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for modulating shapes of substrates
KR100480628B1 (ko) * 2002-11-11 2005-03-31 삼성전자주식회사 에어 블로잉을 이용한 칩 픽업 방법 및 장치
JP4090416B2 (ja) * 2003-09-30 2008-05-28 日東電工株式会社 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置
US8359895B2 (en) * 2003-10-15 2013-01-29 Modern Body Engineering Corporation Machine cell with vacuum nest for holding a metal panel during a forming operation
US7636999B2 (en) * 2005-01-31 2009-12-29 Molecular Imprints, Inc. Method of retaining a substrate to a wafer chuck
US7798801B2 (en) * 2005-01-31 2010-09-21 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for nano-manufacturing
US7635263B2 (en) * 2005-01-31 2009-12-22 Molecular Imprints, Inc. Chucking system comprising an array of fluid chambers
JP2007201179A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハマウント装置及びウェーハマウント方法
JP2007214357A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Nitto Denko Corp ワーク貼付け支持方法およびこれを用いたワーク貼付け支持装置
US8232183B2 (en) * 2007-05-04 2012-07-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Process and apparatus for wafer-level flip-chip assembly
JP2010010207A (ja) * 2008-06-24 2010-01-14 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 剥離装置および剥離方法
KR101036605B1 (ko) * 2008-06-30 2011-05-24 세메스 주식회사 기판 지지 유닛 및 이를 이용한 매엽식 기판 연마 장치
JP5210060B2 (ja) * 2008-07-02 2013-06-12 東京応化工業株式会社 剥離装置および剥離方法
US8336188B2 (en) * 2008-07-17 2012-12-25 Formfactor, Inc. Thin wafer chuck
CN102481774A (zh) * 2009-09-02 2012-05-30 积水技术成型株式会社 片材结构体的制造装置及片材结构体的制造方法
JP5417131B2 (ja) * 2009-11-20 2014-02-12 日東電工株式会社 粘着テープ貼付け装置および粘着テープ貼付け方法
JP5547954B2 (ja) * 2009-12-14 2014-07-16 日東電工株式会社 粘着テープ剥離方法およびその装置
JP5600943B2 (ja) * 2010-01-20 2014-10-08 大日本印刷株式会社 シートチャックおよびそれを用いたマイクロコンタクトプリント法
JP5414602B2 (ja) * 2010-03-31 2014-02-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ 検査装置
JP2012129471A (ja) * 2010-12-17 2012-07-05 Tatsumo Kk 基板処理装置
US9919509B2 (en) * 2011-01-07 2018-03-20 Tokyo Electron Limited Peeling device, peeling system and peeling method
JP5649125B2 (ja) * 2011-07-01 2015-01-07 Necエンジニアリング株式会社 テープ貼付装置
US8960686B2 (en) * 2011-09-30 2015-02-24 Electro Scientific Industries, Inc. Controlled surface roughness in vacuum retention
JP2013191756A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 保持装置及び基板処理装置
JP6099118B2 (ja) * 2012-04-26 2017-03-22 Necエンジニアリング株式会社 シート貼付システム及びシート貼付方法
JP5914206B2 (ja) * 2012-06-20 2016-05-11 リンテック株式会社 シート貼付装置
JP2014027015A (ja) * 2012-07-24 2014-02-06 Lintec Corp シート貼付装置および貼付方法
KR20140107982A (ko) * 2013-02-28 2014-09-05 삼성전자주식회사 다이 이젝터 및 다이 분리 방법
US9227261B2 (en) * 2013-08-06 2016-01-05 Globalfoundries Inc. Vacuum carriers for substrate bonding
EP2905807B1 (en) * 2014-02-11 2019-03-13 Suss MicroTec Lithography GmbH Method and apparatus for preventing the deformation of a substrate supported at its edge area
JP6319687B2 (ja) * 2014-05-26 2018-05-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 プラズマ処理装置及び方法
JP6464818B2 (ja) * 2015-02-27 2019-02-06 株式会社東京精密 ダイシング装置及びダイシング装置用のテーブル
KR101673031B1 (ko) 2015-07-31 2016-11-07 그래핀스퀘어 주식회사 그래핀 필름의 제조 장치 및 방법
EP3211662A1 (en) * 2016-02-23 2017-08-30 Nokia Technologies Oy An apparatus and associated methods
JP6815138B2 (ja) * 2016-09-06 2021-01-20 株式会社ディスコ 吸引保持システム
JP6990038B2 (ja) 2017-04-26 2022-01-12 日東電工株式会社 基板の離脱方法および基板の離脱装置
IT201700091338A1 (it) * 2017-08-07 2019-02-07 Samec S P A Piano di lavoro a depressione per un pantografo
JP2020102569A (ja) * 2018-12-25 2020-07-02 東レエンジニアリング株式会社 保持テーブル
JP7186356B2 (ja) * 2019-01-16 2022-12-09 株式会社東京精密 ウェーハチャック及びウェーハ保持装置
KR102700207B1 (ko) * 2019-03-12 2024-08-28 삼성전자주식회사 칩 이젝팅 장치
KR102226270B1 (ko) * 2019-04-03 2021-03-09 세메스 주식회사 기판지지 모듈
JP2020181887A (ja) * 2019-04-25 2020-11-05 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
JP7485523B2 (ja) * 2020-03-13 2024-05-16 株式会社東京精密 チャックテーブル
JP2022012849A (ja) * 2020-07-02 2022-01-17 株式会社ディスコ 加工装置
JP2022062986A (ja) * 2020-10-09 2022-04-21 富士電機株式会社 半導体検査装置および半導体ウエハの検査方法
US11764098B2 (en) * 2021-04-16 2023-09-19 Asmpt Singapore Pte. Ltd. Detaching a die from an adhesive tape by air ejection

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US77879A (en) * 1868-05-12 Jesse haven s
US121614A (en) * 1871-12-05 Improvement in signs for street-lamps
US4721462A (en) * 1986-10-21 1988-01-26 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Active hold-down for heat treating
JP2911997B2 (ja) * 1989-10-20 1999-06-28 日本電気株式会社 半導体ウェハーへのテープ貼付装置
JP3325650B2 (ja) 1993-04-15 2002-09-17 株式会社ディスコ ウェーハの研磨方法
JPH0758191A (ja) * 1993-08-13 1995-03-03 Toshiba Corp ウェハステージ装置
US5423716A (en) * 1994-01-05 1995-06-13 Strasbaugh; Alan Wafer-handling apparatus having a resilient membrane which holds wafer when a vacuum is applied
US5695600A (en) * 1994-10-03 1997-12-09 Goin; Bobby Gene Vacuum table for decal weeding
TW524873B (en) * 1997-07-11 2003-03-21 Applied Materials Inc Improved substrate supporting apparatus and processing chamber
US6173648B1 (en) * 1997-10-24 2001-01-16 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal display element and manufacturing apparatus of the same
US6032997A (en) * 1998-04-16 2000-03-07 Excimer Laser Systems Vacuum chuck
JP3560823B2 (ja) * 1998-08-18 2004-09-02 リンテック株式会社 ウェハ転写装置
US6202292B1 (en) * 1998-08-26 2001-03-20 Micron Technology, Inc. Apparatus for removing carrier film from a semiconductor die
JP3504543B2 (ja) * 1999-03-03 2004-03-08 株式会社日立製作所 半導体素子の分離方法およびその装置並びに半導体素子の搭載方法
US6491083B2 (en) * 2001-02-06 2002-12-10 Anadigics, Inc. Wafer demount receptacle for separation of thinned wafer from mounting carrier
JP4482243B2 (ja) * 2001-03-13 2010-06-16 株式会社新川 ダイのピックアップ方法及びピックアップ装置
JP3761444B2 (ja) * 2001-10-23 2006-03-29 富士通株式会社 半導体装置の製造方法
JP2003174077A (ja) * 2001-12-04 2003-06-20 Lintec Corp 吸着保持装置
US7341087B2 (en) * 2002-01-02 2008-03-11 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Apparatus for applying discrete parts to a moving web
JP2003209082A (ja) 2002-01-15 2003-07-25 Nitto Denko Corp 保護テープの貼付方法およびその装置並びに保護テープの剥離方法
JP4090416B2 (ja) * 2003-09-30 2008-05-28 日東電工株式会社 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置
JP4761381B2 (ja) * 2006-08-01 2011-08-31 東京エレクトロン株式会社 薄膜除去装置及び薄膜除去方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014022555A (ja) * 2012-07-18 2014-02-03 Lintec Corp シート貼付装置および装置の大型化防止方法
CN103579045A (zh) * 2012-07-18 2014-02-12 琳得科株式会社 片材粘贴装置及装置的大型化防止方法
TWI623971B (zh) 2012-07-18 2018-05-11 Lintec Corp Sheet sticking device and method for preventing enlargement of the device
CN103579045B (zh) * 2012-07-18 2019-02-15 琳得科株式会社 片材粘贴装置及片材粘贴装置的大型化防止方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20080230183A1 (en) 2008-09-25
US7406759B2 (en) 2008-08-05
CN1604283A (zh) 2005-04-06
US7987888B2 (en) 2011-08-02
KR101075320B1 (ko) 2011-10-19
JP2005109157A (ja) 2005-04-21
KR20050031886A (ko) 2005-04-06
US20050067097A1 (en) 2005-03-31
TWI246125B (en) 2005-12-21
SG110174A1 (en) 2005-04-28
TW200514156A (en) 2005-04-16
CN100483640C (zh) 2009-04-29
US20070034331A1 (en) 2007-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4090416B2 (ja) 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置
KR100901040B1 (ko) 반도체 웨이퍼 반송방법 및 그것을 이용한 반도체 웨이퍼반송장치
KR100639587B1 (ko) 보호테이프의 접착방법 및 그것을 사용한 장치 및보호테이프의 박리방법 및 그것을 사용한 장치
JP5324319B2 (ja) ウエハマウント方法とウエハマウント装置
KR101429283B1 (ko) 기판 접합 방법 및 이를 이용한 장치
TWI417987B (zh) 黏著帶貼附方法及利用該方法的黏著帶貼附裝置
JP5733300B2 (ja) 基板分離方法、半導体装置の製造方法、基板分離装置、ロードロック装置、及び、基板貼り合わせ装置
US7520309B2 (en) Method for adhering protecting tape of wafer and adhering apparatus
KR20110035904A (ko) 보호 테이프 박리 방법 및 그 장치
CN100459091C (zh) 将粘性带贴附到半导体晶片背面上的方法和设备
JP2003152058A (ja) ウェハ転写装置
JP2000068293A (ja) ウェハ転写装置
KR20080012186A (ko) 반도체 웨이퍼로의 점착 테이프 부착 방법 및 반도체웨이퍼로부터의 보호 테이프 박리 방법 및 이들을 이용한장치
JP2009044008A (ja) ウエハの保護テープ剥離方法及び装置
JP4995796B2 (ja) 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置
TWI690038B (zh) 半導體晶片的拾取裝置、半導體晶片的封裝裝置
JP2018186194A (ja) 基板の離脱方法および基板の離脱装置
JP4549172B2 (ja) ウエハマウント方法およびこれを用いたウエハマウント装置
JP2008177600A (ja) 半導体ウエハ裏面への粘着テープ貼付方法及び粘着テープ貼付装置
JP2005033119A (ja) 半導体ウエハ搬送方法および搬送装置
JP4243990B2 (ja) 半導体ウエハ搬送方法および搬送装置
JP2022090671A (ja) 基板搬送キャリア、基板準備装置、成膜システム
JP2003163177A (ja) ウェハの保護テープ剥離装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070605

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070720

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070731

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20070731

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070831

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20070831

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080226

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4090416

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140307

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees