JP2013191756A - 保持装置及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】保持装置100は、基板1をダイシングテープ2側から吸引して保持する吸引部11における、基板1を保持したときに基板1の下側に位置する内周部11aと、内周部11aの外側の外周部11bとの少なくとも一方には、貫通孔が形成されているので、吸引部11に基板1が食い込まず、離脱時に基板を破損させることがない。
【選択図】図1
Description
以下、図1を参照して、本発明の一実施形態について、詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る保持装置を示す概略の断面図である。図1に示すように、保持装置100は、基板1を保持するものである。基板1は、その外縁部分が基板1の外縁部分よりも外側にはみ出すように形成されたダイシングテープ(粘着テープ)2が、その片面に貼着されている。ダイシングテープ2の外縁部分には、ダイシングフレーム3が取り付けられていてもよい。本実施形態において、保持装置100は、基板1、ダイシングテープ2及びダイシングフレーム3から構成される積層体10を保持する。
本発明に係る基板処理装置は、本発明に係る保持装置を備えている。すなわち、上述した保持装置100は、本発明に係る基板処理装置が備える保持装置の一実施形態であるため、本発明に係る基板処理装置の説明は、保持装置100の説明に準じる。
2 ダイシングテープ(粘着テープ)
3 ダイシングフレーム
10 積層体
11 吸引部
11a 内周部
11b 外周部
13 減圧手段
14 送入手段
100 保持装置
Claims (5)
- その外縁部分が基板の外縁部分よりも外側にはみ出すように形成された粘着テープが貼着されている基板を保持する保持装置であって、
上記基板を上記粘着テープ側から吸引して保持する吸引部を備え、
上記吸引部における、上記基板を保持したときに上記基板の下側に位置する内周部と、当該内周部の外側の外周部との少なくとも一方には、貫通孔が形成されていることを特徴とする保持装置。 - 上記貫通孔の孔径は、40μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
- 上記貫通孔を介して、上記吸引部と上記粘着テープとの間に気体を送入する送入手段をさらに備えていることを特徴とする請求項2に記載の保持装置。
- 上記基板は、上記吸引部に吸引される前に薄化工程に供された基板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の保持装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の保持装置を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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