JP2003174077A - 吸着保持装置 - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハ等の対象物を吸着面から取り除く際に
おける対象物の反り変形に起因する割れ傷を防止するこ
と。 【解決手段】 ウェハ保持体Ｈが載置されるテーブル２
４と、このテーブル２４に繋がる吸引側管路２５とを備
えて吸着保持装置１０が構成されている。テーブル２４
は、吸着孔２７が多数形成された上面側の吸着面２８
と、吸着孔２７に通じるチャンバ３２とを備えている。
このチャンバ３２は、相互に隔離された複数の隔室３
７，３８，３９に分割され、ウェハ保持体Ｈを吸着面２
８から取り除く際に、各隔室３７〜３９に独立して空気
が供給されるとともに、テーブル２４の外側から内側に
向かって順番に空気が供給されるようになっている。
おける対象物の反り変形に起因する割れ傷を防止するこ
と。 【解決手段】 ウェハ保持体Ｈが載置されるテーブル２
４と、このテーブル２４に繋がる吸引側管路２５とを備
えて吸着保持装置１０が構成されている。テーブル２４
は、吸着孔２７が多数形成された上面側の吸着面２８
と、吸着孔２７に通じるチャンバ３２とを備えている。
このチャンバ３２は、相互に隔離された複数の隔室３
７，３８，３９に分割され、ウェハ保持体Ｈを吸着面２
８から取り除く際に、各隔室３７〜３９に独立して空気
が供給されるとともに、テーブル２４の外側から内側に
向かって順番に空気が供給されるようになっている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は吸着保持装置に係
り、更に詳しくは、吸着面から対象物を取り除く際に、
当該対象物の反り変形を防止することのできる吸着保持
装置に関する。
り、更に詳しくは、吸着面から対象物を取り除く際に、
当該対象物の反り変形を防止することのできる吸着保持
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、略円盤状の半導体ウェハ（以
下、単に「ウェハ」という）の表面側となる回路面に貼
着された保護シートを自動的に剥離する剥離装置が知ら
れている。この剥離装置は、リングフレームの内側に表
出するダイシングテープにウェハの裏面が貼合されてな
るウェハ保持体を吸着保持装置で吸着保持し、その状態
で前記保護シートを剥離した後、ウェハ保持体を吸着し
て吸着保持装置側から取り出すようになっている。
下、単に「ウェハ」という）の表面側となる回路面に貼
着された保護シートを自動的に剥離する剥離装置が知ら
れている。この剥離装置は、リングフレームの内側に表
出するダイシングテープにウェハの裏面が貼合されてな
るウェハ保持体を吸着保持装置で吸着保持し、その状態
で前記保護シートを剥離した後、ウェハ保持体を吸着し
て吸着保持装置側から取り出すようになっている。
【０００３】ここで、前記吸着保持装置としては、例え
ば、図１０（Ａ）に示される吸着保持装置７０が知られ
ている。この吸着保持装置７０は、保護シートＳが貼着
されたウェハＷを保持するウェハ保持体Ｈが載置される
テーブル７１と、このテーブル７１に繋がる図示しない
真空発生装置と、前記テーブル７１に空気を供給するコ
ンプレッサー等の空気供給装置（図示省略）とを備えて
構成されている。テーブル７１は、吸着孔７４が多数形
成された上面側の吸着面７５と、吸着孔７４に通じる一
室のチャンバ７７と、このチャンバ７７の内部と前記真
空発生装置とを繋ぐ一本の吸引側管路７８と、チャンバ
７７の内部と前記空気供給装置とを繋ぐ給気側管路８０
及び給気制御弁８１を備えている。
ば、図１０（Ａ）に示される吸着保持装置７０が知られ
ている。この吸着保持装置７０は、保護シートＳが貼着
されたウェハＷを保持するウェハ保持体Ｈが載置される
テーブル７１と、このテーブル７１に繋がる図示しない
真空発生装置と、前記テーブル７１に空気を供給するコ
ンプレッサー等の空気供給装置（図示省略）とを備えて
構成されている。テーブル７１は、吸着孔７４が多数形
成された上面側の吸着面７５と、吸着孔７４に通じる一
室のチャンバ７７と、このチャンバ７７の内部と前記真
空発生装置とを繋ぐ一本の吸引側管路７８と、チャンバ
７７の内部と前記空気供給装置とを繋ぐ給気側管路８０
及び給気制御弁８１を備えている。
【０００４】ところで、保護シートＳが剥離された後の
ウェハ保持体Ｈは、図１０（Ｂ）に示されるように、リ
ングフレームＲ部分に吸着パッドＰを吸着させた上で当
該吸着パッドＰの上昇によりテーブル７１から取り除か
れる。この際、チャンバ７７内の吸引が停止されるとと
もに、チャンバ７７内に残存する真空圧状態の破壊（以
下、「真空破壊」という。）を行うために、前記空気供
給装置から空気がチャンバ７７内に供給されて、その空
気が吸着孔７４から噴出するようになっている。
ウェハ保持体Ｈは、図１０（Ｂ）に示されるように、リ
ングフレームＲ部分に吸着パッドＰを吸着させた上で当
該吸着パッドＰの上昇によりテーブル７１から取り除か
れる。この際、チャンバ７７内の吸引が停止されるとと
もに、チャンバ７７内に残存する真空圧状態の破壊（以
下、「真空破壊」という。）を行うために、前記空気供
給装置から空気がチャンバ７７内に供給されて、その空
気が吸着孔７４から噴出するようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記吸
着保持装置７０にあっては、チャンバ７７が一室で構成
されているため、真空破壊時にチャンバ７７内に供給さ
れた空気は、空気の抜け易いウェハ保持体Ｈの外周縁側
に多く流れ、ウェハ保持体Ｈの中央付近まで行き渡り難
くなるという不都合がある。その結果、ウェハ保持体Ｈ
をテーブル７１から取り除く際に、ウェハ保持体Ｈの中
央付近においては、テーブル７１側への吸引力が依然と
して残り、図１０（Ｂ）に示されるように、吸着パッド
Ｐの上昇に伴って、ウェハＷの外周側が中央側よりも上
方に湾曲する反り変形が発生し易くなる。特に、近時の
ウェハＷは、厚みが従来の３５０μｍ〜２００μｍ程度
から１００μｍ〜３０μｍ程度に極薄化しており、この
ような極薄のウェハＷでは、前述した反り変形が発生す
ると、ウェハＷに割れや傷が発生し易くなるという不都
合がある。
着保持装置７０にあっては、チャンバ７７が一室で構成
されているため、真空破壊時にチャンバ７７内に供給さ
れた空気は、空気の抜け易いウェハ保持体Ｈの外周縁側
に多く流れ、ウェハ保持体Ｈの中央付近まで行き渡り難
くなるという不都合がある。その結果、ウェハ保持体Ｈ
をテーブル７１から取り除く際に、ウェハ保持体Ｈの中
央付近においては、テーブル７１側への吸引力が依然と
して残り、図１０（Ｂ）に示されるように、吸着パッド
Ｐの上昇に伴って、ウェハＷの外周側が中央側よりも上
方に湾曲する反り変形が発生し易くなる。特に、近時の
ウェハＷは、厚みが従来の３５０μｍ〜２００μｍ程度
から１００μｍ〜３０μｍ程度に極薄化しており、この
ような極薄のウェハＷでは、前述した反り変形が発生す
ると、ウェハＷに割れや傷が発生し易くなるという不都
合がある。
【０００６】
【発明の目的】本発明は、このような不都合に着目して
案出されたものであり、その目的は、ウェハ等の対象物
を吸着面から取り除く際における対象物の反り変形に起
因する割れ傷を防止することができる吸着保持装置を提
供することにある。
案出されたものであり、その目的は、ウェハ等の対象物
を吸着面から取り除く際における対象物の反り変形に起
因する割れ傷を防止することができる吸着保持装置を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、吸着面に通じるチャンバを備え、前記吸
着面に所定の対象物を吸着保持可能に設けられた吸着保
持装置において、前記チャンバは、相互に隔離された複
数の隔室に分割され、前記対象物を前記吸着面から取り
除く際に、前記各隔室に独立して空気が供給され、前記
各隔室の空気の供給は、吸着面の外周側に位置する隔室
から前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって順番
に開始される、という構成を採っている。このような構
成によれば、チャンバが相互に隔離された複数の隔室に
分割され、対象物を吸着面から取り除く際に、各隔室に
独立して空気が供給されるため、チャンバ内の真空破壊
を略全域で確実に行うことができ、対象物を吸着面から
取り除く際における対象物の反り変形を防止することが
できる。しかも、前記吸着面の外周側に位置する隔室か
ら前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって順番に
空気が供給されるため、逆方向に空気を供給した場合に
発生する反り変形、すなわち、対象物の中央部分が吸着
面から浮上する皿状の反り変形を防止することもでき
る。
め、本発明は、吸着面に通じるチャンバを備え、前記吸
着面に所定の対象物を吸着保持可能に設けられた吸着保
持装置において、前記チャンバは、相互に隔離された複
数の隔室に分割され、前記対象物を前記吸着面から取り
除く際に、前記各隔室に独立して空気が供給され、前記
各隔室の空気の供給は、吸着面の外周側に位置する隔室
から前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって順番
に開始される、という構成を採っている。このような構
成によれば、チャンバが相互に隔離された複数の隔室に
分割され、対象物を吸着面から取り除く際に、各隔室に
独立して空気が供給されるため、チャンバ内の真空破壊
を略全域で確実に行うことができ、対象物を吸着面から
取り除く際における対象物の反り変形を防止することが
できる。しかも、前記吸着面の外周側に位置する隔室か
ら前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって順番に
空気が供給されるため、逆方向に空気を供給した場合に
発生する反り変形、すなわち、対象物の中央部分が吸着
面から浮上する皿状の反り変形を防止することもでき
る。
【０００８】また、本発明におけるチャンバは、前記吸
着面の外周側から中央側に向かって仕切られる、という
構成を採ることが好ましい。このように構成することに
より、空気の抜け易い対象物の外周側の隔室と、空気の
抜け難い対象物の中央側の隔室との間で独立して空気の
供給を制御することができ、前記対象物の反り変形を一
層確実に防止することができる。
着面の外周側から中央側に向かって仕切られる、という
構成を採ることが好ましい。このように構成することに
より、空気の抜け易い対象物の外周側の隔室と、空気の
抜け難い対象物の中央側の隔室との間で独立して空気の
供給を制御することができ、前記対象物の反り変形を一
層確実に防止することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
【００１０】図１には、本実施例に係る吸着保持装置１
０が適用された剥離装置２０の概略側面図が示されてい
る。また、図２には、前記剥離装置２０に適用される対
象物としてのウェハ保持体Ｈの概略斜視図が示されてお
り、図３には、図２の拡大縦断面図が示されている。こ
れらの図において、ウェハ保持体Ｈは、表面側が回路面
となる略円盤状のウェハＷと、このウェハＷの回路面に
貼着された保護シートＳと、ウェハＷの裏面側に貼着さ
れるダイシングテープＴと、このダイシングテープＴの
外周縁部分に沿って貼着されるリングフレームＲとによ
り構成されている。
０が適用された剥離装置２０の概略側面図が示されてい
る。また、図２には、前記剥離装置２０に適用される対
象物としてのウェハ保持体Ｈの概略斜視図が示されてお
り、図３には、図２の拡大縦断面図が示されている。こ
れらの図において、ウェハ保持体Ｈは、表面側が回路面
となる略円盤状のウェハＷと、このウェハＷの回路面に
貼着された保護シートＳと、ウェハＷの裏面側に貼着さ
れるダイシングテープＴと、このダイシングテープＴの
外周縁部分に沿って貼着されるリングフレームＲとによ
り構成されている。
【００１１】前記剥離装置２０は、ダイシング工程前の
ウェハＷから保護シートＳを自動的に剥離する装置であ
る。すなわち、剥離装置２０は、ウェハ保持体Ｈを吸着
保持する吸着保持装置１０と、この吸着保持装置１０に
吸着保持されたウェハ保持体ＨのウェハＷから保護シー
トＳを剥離する剥離手段２２とを備えて構成されてい
る。
ウェハＷから保護シートＳを自動的に剥離する装置であ
る。すなわち、剥離装置２０は、ウェハ保持体Ｈを吸着
保持する吸着保持装置１０と、この吸着保持装置１０に
吸着保持されたウェハ保持体ＨのウェハＷから保護シー
トＳを剥離する剥離手段２２とを備えて構成されてい
る。
【００１２】前記吸着保持装置１０は、図４及び図５に
示されるように、ウェハ保持体Ｈが載置される略円盤状
のテーブル２４と、このテーブル２４に繋がる公知の図
示しない真空発生機器又は装置と、コンプレッサー等の
空気供給装置とを備えて構成されている。
示されるように、ウェハ保持体Ｈが載置される略円盤状
のテーブル２４と、このテーブル２４に繋がる公知の図
示しない真空発生機器又は装置と、コンプレッサー等の
空気供給装置とを備えて構成されている。
【００１３】前記テーブル２４は、吸着孔２７が多数形
成された上面側の吸着面２８と、この吸着面２８の外周
縁側に連なる周面２９と、この周面２９の下端側に位置
する底面３０と、これら吸着面２８、周面２９、及び底
面３０の内側に形成されるとともに、前記吸着孔２７に
通じるチャンバ３２とを備えて構成されている。
成された上面側の吸着面２８と、この吸着面２８の外周
縁側に連なる周面２９と、この周面２９の下端側に位置
する底面３０と、これら吸着面２８、周面２９、及び底
面３０の内側に形成されるとともに、前記吸着孔２７に
通じるチャンバ３２とを備えて構成されている。
【００１４】前記チャンバ３２内には、吸着面２８の周
方向に沿って延びる環状の隔壁３４，３５が設けられて
おり、これによって、チャンバ３２が吸着面２８の外周
側から中央側に向かって仕切られ、チャンバ３２は、相
互に隔離された三つの隔室３７，３８，３９に分割され
ることになる。なお、以下においては、最も外側に位置
する平面視略環状の隔室３７を第１の隔室３７、その内
側に位置する平面視略環状の隔室３８を第２の隔室３
８、当該第２の隔室３８の内側に位置する平面視略円形
状の隔室３９を第３の隔室３９と称することとする。
方向に沿って延びる環状の隔壁３４，３５が設けられて
おり、これによって、チャンバ３２が吸着面２８の外周
側から中央側に向かって仕切られ、チャンバ３２は、相
互に隔離された三つの隔室３７，３８，３９に分割され
ることになる。なお、以下においては、最も外側に位置
する平面視略環状の隔室３７を第１の隔室３７、その内
側に位置する平面視略環状の隔室３８を第２の隔室３
８、当該第２の隔室３８の内側に位置する平面視略円形
状の隔室３９を第３の隔室３９と称することとする。
【００１５】前記第１、第２及び第３の隔室３７，３
８，３９内には、前記真空発生機器又は装置（図示省
略）に繋がる吸引側管路２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃが接続
されており、その途中に各吸引側管路２５Ａ，２５Ｂ，
２５Ｃの空気の流れを制御する第１，第２及び第３の真
空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃが設けられている。更
に、前記第１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９内
には、前記空気供給装置（図示省略）に繋がる給気側管
路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃが接続されており、その途中
に各給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃの空気の流れを
制御する第１，第２及び第３の給気制御弁（真空破壊バ
ルブ）４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃが設けられている。これ
によって、前記真空発生機器又は装置と空気供給装置と
の作動により、第１、第２及び第３の隔室３７，３８，
３９内でそれぞれ独立した空気の吸引及び供給制御が行
われる。すなわち、ウェハ保持体Ｈを吸着面２８に吸着
保持するときには、前記真空発生機器又は装置に繋がる
真空制御弁４２Ａ〜４２Ｃの作動により、第３の隔室３
９，第２の隔室３８、第１の隔室３７の順で内側から外
側に向かって空気を吸引し、当該第１、第２及び第３の
隔室３７，３８，３９内を真空圧状態とし、吸着孔２７
に吸引力を発生させるようになっている。この際、第３
の隔室３９，第２の隔室３８、第１の隔室３７の順に内
側から外側に向かって真空圧状態となるため、吸着面２
８の内側領域とウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと
の間に空気が残存せずに、当該ウェハ保持体Ｈを吸着面
２８に吸着保持することができる。この一方、ウェハ保
持体Ｈを吸着面２８から取り除くときには、前記空気の
吸引を停止して、前記空気供給装置により供給される圧
縮空気の流れを制御する第１，第２及び第３の給気制御
弁４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃの作動により、後述するタイ
ミングで第１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９内
に空気をそれぞれ送り込み、当該空気を吸着孔２７から
噴出させることで、前記真空破壊を行うようになってい
る。
８，３９内には、前記真空発生機器又は装置（図示省
略）に繋がる吸引側管路２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃが接続
されており、その途中に各吸引側管路２５Ａ，２５Ｂ，
２５Ｃの空気の流れを制御する第１，第２及び第３の真
空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃが設けられている。更
に、前記第１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９内
には、前記空気供給装置（図示省略）に繋がる給気側管
路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃが接続されており、その途中
に各給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃの空気の流れを
制御する第１，第２及び第３の給気制御弁（真空破壊バ
ルブ）４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃが設けられている。これ
によって、前記真空発生機器又は装置と空気供給装置と
の作動により、第１、第２及び第３の隔室３７，３８，
３９内でそれぞれ独立した空気の吸引及び供給制御が行
われる。すなわち、ウェハ保持体Ｈを吸着面２８に吸着
保持するときには、前記真空発生機器又は装置に繋がる
真空制御弁４２Ａ〜４２Ｃの作動により、第３の隔室３
９，第２の隔室３８、第１の隔室３７の順で内側から外
側に向かって空気を吸引し、当該第１、第２及び第３の
隔室３７，３８，３９内を真空圧状態とし、吸着孔２７
に吸引力を発生させるようになっている。この際、第３
の隔室３９，第２の隔室３８、第１の隔室３７の順に内
側から外側に向かって真空圧状態となるため、吸着面２
８の内側領域とウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと
の間に空気が残存せずに、当該ウェハ保持体Ｈを吸着面
２８に吸着保持することができる。この一方、ウェハ保
持体Ｈを吸着面２８から取り除くときには、前記空気の
吸引を停止して、前記空気供給装置により供給される圧
縮空気の流れを制御する第１，第２及び第３の給気制御
弁４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃの作動により、後述するタイ
ミングで第１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９内
に空気をそれぞれ送り込み、当該空気を吸着孔２７から
噴出させることで、前記真空破壊を行うようになってい
る。
【００１６】なお、前記テーブル２４には、図１に示さ
れるように、剥離手段２２による保護シートＳの剥離時
にテーブル２４を所定方向に移動させる移動機構４６が
設けられている。この移動機構４６は、テーブル２４を
略水平方向に移動可能にする公知の構造、例えば、各種
レール構造体、モータ、送りねじ軸、及びシリンダ等を
含んだ構成となっている。また、テーブル２４の形状
は、図示例に限定されず、矩形状等の他の形状にするこ
ともできる。
れるように、剥離手段２２による保護シートＳの剥離時
にテーブル２４を所定方向に移動させる移動機構４６が
設けられている。この移動機構４６は、テーブル２４を
略水平方向に移動可能にする公知の構造、例えば、各種
レール構造体、モータ、送りねじ軸、及びシリンダ等を
含んだ構成となっている。また、テーブル２４の形状
は、図示例に限定されず、矩形状等の他の形状にするこ
ともできる。
【００１７】前記剥離手段２２は、図６に模式的に示さ
れるように、保護シートＳの一端側に、当該保護シート
ＳのウェハＷへの粘着力よりも強い接着力を有する剥離
テープＡを該保護シートＳに接着し、当該剥離テープＡ
の一端側を把持しながらその他端側に向かってウェハＷ
と相対移動させることにより、保護シートＳをウェハＷ
から剥離できるように設定されたものである。すなわ
ち、図１に示される剥離手段２２は、本出願人によって
既に提案された構造（特願２０００−１０６８２７号等
参照）が採用されており、保護シートＳの一端側に剥離
テープＡを接着するテープ接着切断手段４８（図１参
照）と、剥離テープＡの端部を把持可能な剥がしヘッド
部４９Ａ（図４，図６参照）を含む把持手段４９とを備
えて構成されている。これらテープ接着切断手段４８及
び把持手段４９は、本発明の要旨ではないためここでは
説明を省略する。
れるように、保護シートＳの一端側に、当該保護シート
ＳのウェハＷへの粘着力よりも強い接着力を有する剥離
テープＡを該保護シートＳに接着し、当該剥離テープＡ
の一端側を把持しながらその他端側に向かってウェハＷ
と相対移動させることにより、保護シートＳをウェハＷ
から剥離できるように設定されたものである。すなわ
ち、図１に示される剥離手段２２は、本出願人によって
既に提案された構造（特願２０００−１０６８２７号等
参照）が採用されており、保護シートＳの一端側に剥離
テープＡを接着するテープ接着切断手段４８（図１参
照）と、剥離テープＡの端部を把持可能な剥がしヘッド
部４９Ａ（図４，図６参照）を含む把持手段４９とを備
えて構成されている。これらテープ接着切断手段４８及
び把持手段４９は、本発明の要旨ではないためここでは
説明を省略する。
【００１８】次に、剥離装置２０の作用について説明す
る。
る。
【００１９】先ず、図４に示されるように、ウェハ保持
体Ｈは、図示しないロボット等の駆動によって移動可能
な複数の吸着パッドＰにリングフレームＲの上面部分が
吸着された上で、テーブル２４上に搬送される。そし
て、吸着パッドＰがウェハ保持体Ｈよりも離れて上方に
退避し、図示しない真空発生機器又は装置が作動すると
ともに、吸引側管路２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃにそれぞれ
接続する真空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃが切換作動
することにより、第１、第２及び第３の隔室３７，３
８，３９を真空圧状態としてウェハ保持体Ｈを吸着面２
８に吸着保持させる。この状態から、ウェハＷに貼着さ
れている保護シートＳの外周側に剥離テープＡを熱溶着
した上で、剥離テープＡの端部を剥がしヘッド部４９Ａ
で把持し、当該剥がしヘッド部４９Ａを矢印Ａ方向（図
４）に移動させるとともに、テーブル２４を剥がしヘッ
ド部４９Ａと離反する方向（矢印Ｂ方向）に移動させ、
保護シートＳをウェハＷから剥離する。
体Ｈは、図示しないロボット等の駆動によって移動可能
な複数の吸着パッドＰにリングフレームＲの上面部分が
吸着された上で、テーブル２４上に搬送される。そし
て、吸着パッドＰがウェハ保持体Ｈよりも離れて上方に
退避し、図示しない真空発生機器又は装置が作動すると
ともに、吸引側管路２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃにそれぞれ
接続する真空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃが切換作動
することにより、第１、第２及び第３の隔室３７，３
８，３９を真空圧状態としてウェハ保持体Ｈを吸着面２
８に吸着保持させる。この状態から、ウェハＷに貼着さ
れている保護シートＳの外周側に剥離テープＡを熱溶着
した上で、剥離テープＡの端部を剥がしヘッド部４９Ａ
で把持し、当該剥がしヘッド部４９Ａを矢印Ａ方向（図
４）に移動させるとともに、テーブル２４を剥がしヘッ
ド部４９Ａと離反する方向（矢印Ｂ方向）に移動させ、
保護シートＳをウェハＷから剥離する。
【００２０】そして、保護シートＳがウェハＷから剥離
された後は、各真空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃの吸
引側ポートを閉塞し、各排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３
が開放するように切り換え、第１、第２及び第３の隔室
３７，３８，３９内を大気開放状態にする。その後、各
排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３も閉塞した状態で、吸着
パッドＰが再びリングフレームＲの上面部分を吸着保持
する。この状態で、第１、第２及び第３の隔室３７，３
８，３９内に、給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃの給
気制御弁４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ（真空破壊バルブ）の
切り換えにより、給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃか
ら第１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９内に、空
気が送り込まれて真空破壊が行われる。この際、外周側
から中央側、すなわち、第１の給気側管路２６Ａ、第２
の給気側管路２６Ｂ、第３の給気側管路２６Ｃの順番で
圧縮空気の供給が開始されるようになっており、前記第
１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９への所定のタ
イミングによる圧縮空気の供給（真空破壊）に合わせて
吸着パッドＰが上昇し（図７，図８，図９）、これに伴
って、保護シートＳが剥離されたウェハＷを含むウェハ
保持体Ｈがテーブル２４から所定の持ち上げ高さＳ１，
Ｓ２，Ｓ３順に持ち上げられる。すなわち、図７に示さ
れるように、外側となる第１の隔室３７内のみに、給気
制御弁４３Ａの作動により圧縮空気が供給されながら、
前記第１の隔室３７部分のウェハ保持体Ｈのダイシング
テープＴとテーブル２４の吸着面２８との真空破壊が行
われた後、吸着パッドＰにより持ち上げ高さＳ１に持ち
上げられて、先ずウェハ保持体Ｈの外周側が吸着面２８
から離れる。次に、図８に示されるように、第２の隔室
３８内に、給気制御弁４３Ｂの作動により圧縮空気が供
給され、ウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと吸着面
２８との真空破壊がされた後、吸着パッドＰがテーブル
２４から持ち上げ高さＳ２に更に持ち上げられて、ウェ
ハ保持体Ｈが内側に向かって吸着面２８の前記第２の隔
室３８部分から離れる。そして、次に、図９に示される
ように、第３の隔室３９内に給気制御弁４３Ｃの作動に
より、圧縮空気が供給され、前記第３の隔室３９部分の
ウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと密着しているテ
ーブル２４の吸着面２８から持ち上げ高さＳ３に更に持
ち上げられて、ウェハ保持体Ｈ全体が吸着面２８から完
全に切り離されることになる。テーブル２４の吸着面２
８より完全に離れたウェハ保持体Ｈは、その後、ウェハ
Ｗを賽の目状に切断するダイシング工程を行う次工程の
ダイサー等に搬送される。なお、前記持ち上げ高さＳ
１，Ｓ２，Ｓ３は、ウェハＷに割れ傷等のストレスを与
えない程度の反り変形を許容する高さであれば良く、ウ
ェハＷの厚みに応じて定められるものであって、特に限
定されるものではない。また、ウェハ保持体Ｈのテーブ
ル２４からの持ち上げ高さを変化させずに、各隔室３７
〜３９への圧縮空気の供給開始タイミングを前述のよう
に外側から内側に向かって順番に変化させることも可能
である。
された後は、各真空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃの吸
引側ポートを閉塞し、各排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３
が開放するように切り換え、第１、第２及び第３の隔室
３７，３８，３９内を大気開放状態にする。その後、各
排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３も閉塞した状態で、吸着
パッドＰが再びリングフレームＲの上面部分を吸着保持
する。この状態で、第１、第２及び第３の隔室３７，３
８，３９内に、給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃの給
気制御弁４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ（真空破壊バルブ）の
切り換えにより、給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃか
ら第１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９内に、空
気が送り込まれて真空破壊が行われる。この際、外周側
から中央側、すなわち、第１の給気側管路２６Ａ、第２
の給気側管路２６Ｂ、第３の給気側管路２６Ｃの順番で
圧縮空気の供給が開始されるようになっており、前記第
１、第２及び第３の隔室３７，３８，３９への所定のタ
イミングによる圧縮空気の供給（真空破壊）に合わせて
吸着パッドＰが上昇し（図７，図８，図９）、これに伴
って、保護シートＳが剥離されたウェハＷを含むウェハ
保持体Ｈがテーブル２４から所定の持ち上げ高さＳ１，
Ｓ２，Ｓ３順に持ち上げられる。すなわち、図７に示さ
れるように、外側となる第１の隔室３７内のみに、給気
制御弁４３Ａの作動により圧縮空気が供給されながら、
前記第１の隔室３７部分のウェハ保持体Ｈのダイシング
テープＴとテーブル２４の吸着面２８との真空破壊が行
われた後、吸着パッドＰにより持ち上げ高さＳ１に持ち
上げられて、先ずウェハ保持体Ｈの外周側が吸着面２８
から離れる。次に、図８に示されるように、第２の隔室
３８内に、給気制御弁４３Ｂの作動により圧縮空気が供
給され、ウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと吸着面
２８との真空破壊がされた後、吸着パッドＰがテーブル
２４から持ち上げ高さＳ２に更に持ち上げられて、ウェ
ハ保持体Ｈが内側に向かって吸着面２８の前記第２の隔
室３８部分から離れる。そして、次に、図９に示される
ように、第３の隔室３９内に給気制御弁４３Ｃの作動に
より、圧縮空気が供給され、前記第３の隔室３９部分の
ウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと密着しているテ
ーブル２４の吸着面２８から持ち上げ高さＳ３に更に持
ち上げられて、ウェハ保持体Ｈ全体が吸着面２８から完
全に切り離されることになる。テーブル２４の吸着面２
８より完全に離れたウェハ保持体Ｈは、その後、ウェハ
Ｗを賽の目状に切断するダイシング工程を行う次工程の
ダイサー等に搬送される。なお、前記持ち上げ高さＳ
１，Ｓ２，Ｓ３は、ウェハＷに割れ傷等のストレスを与
えない程度の反り変形を許容する高さであれば良く、ウ
ェハＷの厚みに応じて定められるものであって、特に限
定されるものではない。また、ウェハ保持体Ｈのテーブ
ル２４からの持ち上げ高さを変化させずに、各隔室３７
〜３９への圧縮空気の供給開始タイミングを前述のよう
に外側から内側に向かって順番に変化させることも可能
である。
【００２１】従って、このような実施例によれば、チャ
ンバ３２が、相互に隔離された第１，第２及び第３の隔
室３７，３８，３９に分割されているとともに、テーブ
ル２４上のウェハ保持体Ｈを取り除く際に、第１，第２
及び第３の隔室３７，３８，３９の順に所定のタイミン
グで空気の抜け易い外周側から順番に空気を供給し、残
圧により密着しているウェハ保持体Ｈのダイシングテー
プＴとテーブル２４の吸着面２８の亜真空状態をテーブ
ル２４の外側より真空破壊する構成となっているため、
吸着孔２７から噴出される圧縮空気の逃げ道がウェハＷ
の外周側から中央側に向かって次第に確保され、ウェハ
Ｗの反り変形を殆ど生じさせずにウェハ保持体Ｈをテー
ブル２４から取り除くことができるという効果を得る。
ンバ３２が、相互に隔離された第１，第２及び第３の隔
室３７，３８，３９に分割されているとともに、テーブ
ル２４上のウェハ保持体Ｈを取り除く際に、第１，第２
及び第３の隔室３７，３８，３９の順に所定のタイミン
グで空気の抜け易い外周側から順番に空気を供給し、残
圧により密着しているウェハ保持体Ｈのダイシングテー
プＴとテーブル２４の吸着面２８の亜真空状態をテーブ
ル２４の外側より真空破壊する構成となっているため、
吸着孔２７から噴出される圧縮空気の逃げ道がウェハＷ
の外周側から中央側に向かって次第に確保され、ウェハ
Ｗの反り変形を殆ど生じさせずにウェハ保持体Ｈをテー
ブル２４から取り除くことができるという効果を得る。
【００２２】なお、前記実施例においては、流速等が相
互に略同一となる空気の供給開始タイミングをずらした
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ウェハＷ
の反り変形を殆ど生じさせずにウェハ保持体Ｈをテーブ
ル２４から取り除くことができる限りにおいて、種々の
供給手法を採用することができる。例えば、第１，第２
及び第３の隔室３７，３８，３９に圧縮空気を供給する
タイミングを略同一とし、第１，第２及び第３の隔室３
７，３８，３９の順に供給する空気の流量や流速等の条
件を大から小になるように変えることで調整してもよ
い。
互に略同一となる空気の供給開始タイミングをずらした
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ウェハＷ
の反り変形を殆ど生じさせずにウェハ保持体Ｈをテーブ
ル２４から取り除くことができる限りにおいて、種々の
供給手法を採用することができる。例えば、第１，第２
及び第３の隔室３７，３８，３９に圧縮空気を供給する
タイミングを略同一とし、第１，第２及び第３の隔室３
７，３８，３９の順に供給する空気の流量や流速等の条
件を大から小になるように変えることで調整してもよ
い。
【００２３】また、各第１，第２及び第３の隔室３７〜
３９で構成されるチャンバ３２は、前述の効果が得られ
る限りにおいて、前記実施例のような分割態様を除く別
の分割態様を採用することもできる。
３９で構成されるチャンバ３２は、前述の効果が得られ
る限りにおいて、前記実施例のような分割態様を除く別
の分割態様を採用することもできる。
【００２４】更に、前記吸着保持装置１０は、ウェハＷ
から保護シートＳを剥離する剥離装置２０に適用されて
いるが、本発明はこれに限らず、単独で用い、或いは、
ウェハＷ或いはその他の薄板部材等の対象物を吸着保持
する必要のある他の装置に適用することもできる。
から保護シートＳを剥離する剥離装置２０に適用されて
いるが、本発明はこれに限らず、単独で用い、或いは、
ウェハＷ或いはその他の薄板部材等の対象物を吸着保持
する必要のある他の装置に適用することもできる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
チャンバを相互に隔離された複数の隔室に分割し、対象
物を吸着面から取り除く際に、前記各隔室に独立して吸
着面の外側から内側に向かって順番に空気を供給し、前
記対象物を上昇可能な構成としたから、密着する対象物
と吸着面との真空破壊を略全域で確実に実行することが
でき、対象物を吸着面から取り除く際における極薄ウェ
ハ等の対象物の大きな反り変形を防止することができ、
極薄ウェハの割れ傷を防止できる。
チャンバを相互に隔離された複数の隔室に分割し、対象
物を吸着面から取り除く際に、前記各隔室に独立して吸
着面の外側から内側に向かって順番に空気を供給し、前
記対象物を上昇可能な構成としたから、密着する対象物
と吸着面との真空破壊を略全域で確実に実行することが
でき、対象物を吸着面から取り除く際における極薄ウェ
ハ等の対象物の大きな反り変形を防止することができ、
極薄ウェハの割れ傷を防止できる。
【００２６】また、前記吸着面の外周側から中央側に向
かって前記チャンバを仕切る構成としたから、空気の抜
け易い対象物の外周側の隔室と、空気の抜け難い対象物
の中央側の隔室との間で独立して空気の供給を制御する
ことができ、前記対象物の反り変形を一層確実に防止す
ることができる。
かって前記チャンバを仕切る構成としたから、空気の抜
け易い対象物の外周側の隔室と、空気の抜け難い対象物
の中央側の隔室との間で独立して空気の供給を制御する
ことができ、前記対象物の反り変形を一層確実に防止す
ることができる。
【００２７】更に、前記吸着面の外周側に位置する隔室
から前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって順番
に、前記空気の供給を開始する構成としたから、前記対
象物の反り変形を効果的に防止することができる。
から前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって順番
に、前記空気の供給を開始する構成としたから、前記対
象物の反り変形を効果的に防止することができる。
【図１】本実施例に係る吸着保持装置が適用された剥離
装置の全体構成を示す側面図。
装置の全体構成を示す側面図。
【図２】前記剥離装置に適用されるウェハ保持体の概略
斜視図。
斜視図。
【図３】図２のＡ−Ａ矢視拡大縦断面図。
【図４】本実施例の吸着保持装置の要部拡大断面図。
【図５】前記吸着保持装置の平面視による半断面図。
【図６】前記剥離装置による剥離作業を模式的に示した
概略斜視図。
概略斜視図。
【図７】前記吸着保持装置からウェハ保持体を取り除く
際における第１の隔室の真空破壊状態を示す拡大断面
図。
際における第１の隔室の真空破壊状態を示す拡大断面
図。
【図８】図７の後の第２の隔室の真空破壊状態を示す拡
大断面図。
大断面図。
【図９】図８の後の第３の隔室の真空破壊状態を示す拡
大断面図。
大断面図。
【図１０】（Ａ）は、従来例における吸着保持装置の要
部断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の吸着保持装置による
不都合を説明するための要部断面図である。
部断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の吸着保持装置による
不都合を説明するための要部断面図である。
１０ 吸着保持装置
２０ 剥離装置
２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ 吸引側管路
２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ 給気側管路
２７ 吸着孔
２８ 吸着面
３２ チャンバ
３７ 第１の隔室
３８ 第２の隔室
３９ 第３の隔室
４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃ 真空制御弁（真空バルブ）
４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ 給気制御弁（真空破壊バル
ブ） Ｈ ウェハ保持体（対象物） Ｗ ウェハ
ブ） Ｈ ウェハ保持体（対象物） Ｗ ウェハ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１４年１２月５日（２００２．１２．
５）
５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２０】そして、保護シートＳがウェハＷから剥離
された後は、各真空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃの吸
引側ポートを閉塞し、各排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３
が開放するように切り換え、第１、第２及び第３の隔室
３７，３８，３９内を大気開放状態にする。その後、各
排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３も閉塞した状態で、吸着
パッドＰが再びリングフレームＲの上面部分を吸着保持
する。給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃの給気制御弁
４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ（真空破壊バルブ）の切り換え
により、給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃから第１、
第２及び第３の隔室３７，３８，３９内に、空気が送り
込まれて真空破壊が行われる。この際、外周側から中央
側、すなわち、第１の給気側管路２６Ａ、第２の給気側
管路２６Ｂ、第３の給気側管路２６Ｃの順番で圧縮空気
の供給が開始されるようになっており、前記第１、第２
及び第３の隔室３７，３８，３９への所定のタイミング
による圧縮空気の供給（真空破壊）に合わせて吸着パッ
ドＰが上昇し（図７，図８，図９）、これに伴って、保
護シートＳが剥離されたウェハＷを含むウェハ保持体Ｈ
がテーブル２４から所定の持ち上げ高さＳ１，Ｓ２，Ｓ
３順に持ち上げられる。すなわち、図７に示されるよう
に、外側となる第１の隔室３７内のみに、給気制御弁４
３Ａの作動により圧縮空気が供給されながら、前記第１
の隔室３７部分のウェハ保持体ＨのダイシングテープＴ
とテーブル２４の吸着面２８との真空破壊が行われた
後、吸着パッドＰにより持ち上げ高さＳ１に持ち上げら
れて、先ずウェハ保持体Ｈの外周側が吸着面２８から離
れる。次に、図８に示されるように、第２の隔室３８内
に、給気制御弁４３Ｂの作動により圧縮空気が供給さ
れ、ウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと吸着面２８
との真空破壊がされた後、吸着パッドＰがテーブル２４
から持ち上げ高さＳ２に更に持ち上げられて、ウェハ保
持体Ｈが内側に向かって吸着面２８の前記第２の隔室３
８部分から離れる。そして、次に、図９に示されるよう
に、第３の隔室３９内に給気制御弁４３Ｃの作動によ
り、圧縮空気が供給され、前記第３の隔室３９部分のウ
ェハ保持体ＨのダイシングテープＴと密着しているテー
ブル２４の吸着面２８から持ち上げ高さＳ３に更に持ち
上げられて、ウェハ保持体Ｈ全体が吸着面２８から完全
に切り離されることになる。テーブル２４の吸着面２８
より完全に離れたウェハ保持体Ｈは、その後、ウェハＷ
を賽の目状に切断するダイシング工程を行う次工程のダ
イサー等に搬送される。なお、前記持ち上げ高さＳ１，
Ｓ２，Ｓ３は、ウェハＷに割れ傷等のストレスを与えな
い程度の反り変形を許容する高さであれば良く、ウェハ
Ｗの厚みに応じて定められるものであって、特に限定さ
れるものではない。また、ウェハ保持体Ｈのテーブル２
４からの持ち上げ高さを変化させずに、各隔室３７〜３
９への圧縮空気の供給開始タイミングを前述のように外
側から内側に向かって順番に変化させることも可能であ
る。
された後は、各真空制御弁４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃの吸
引側ポートを閉塞し、各排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３
が開放するように切り換え、第１、第２及び第３の隔室
３７，３８，３９内を大気開放状態にする。その後、各
排気側ポートＥ１，Ｅ２，Ｅ３も閉塞した状態で、吸着
パッドＰが再びリングフレームＲの上面部分を吸着保持
する。給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃの給気制御弁
４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ（真空破壊バルブ）の切り換え
により、給気側管路２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃから第１、
第２及び第３の隔室３７，３８，３９内に、空気が送り
込まれて真空破壊が行われる。この際、外周側から中央
側、すなわち、第１の給気側管路２６Ａ、第２の給気側
管路２６Ｂ、第３の給気側管路２６Ｃの順番で圧縮空気
の供給が開始されるようになっており、前記第１、第２
及び第３の隔室３７，３８，３９への所定のタイミング
による圧縮空気の供給（真空破壊）に合わせて吸着パッ
ドＰが上昇し（図７，図８，図９）、これに伴って、保
護シートＳが剥離されたウェハＷを含むウェハ保持体Ｈ
がテーブル２４から所定の持ち上げ高さＳ１，Ｓ２，Ｓ
３順に持ち上げられる。すなわち、図７に示されるよう
に、外側となる第１の隔室３７内のみに、給気制御弁４
３Ａの作動により圧縮空気が供給されながら、前記第１
の隔室３７部分のウェハ保持体ＨのダイシングテープＴ
とテーブル２４の吸着面２８との真空破壊が行われた
後、吸着パッドＰにより持ち上げ高さＳ１に持ち上げら
れて、先ずウェハ保持体Ｈの外周側が吸着面２８から離
れる。次に、図８に示されるように、第２の隔室３８内
に、給気制御弁４３Ｂの作動により圧縮空気が供給さ
れ、ウェハ保持体ＨのダイシングテープＴと吸着面２８
との真空破壊がされた後、吸着パッドＰがテーブル２４
から持ち上げ高さＳ２に更に持ち上げられて、ウェハ保
持体Ｈが内側に向かって吸着面２８の前記第２の隔室３
８部分から離れる。そして、次に、図９に示されるよう
に、第３の隔室３９内に給気制御弁４３Ｃの作動によ
り、圧縮空気が供給され、前記第３の隔室３９部分のウ
ェハ保持体ＨのダイシングテープＴと密着しているテー
ブル２４の吸着面２８から持ち上げ高さＳ３に更に持ち
上げられて、ウェハ保持体Ｈ全体が吸着面２８から完全
に切り離されることになる。テーブル２４の吸着面２８
より完全に離れたウェハ保持体Ｈは、その後、ウェハＷ
を賽の目状に切断するダイシング工程を行う次工程のダ
イサー等に搬送される。なお、前記持ち上げ高さＳ１，
Ｓ２，Ｓ３は、ウェハＷに割れ傷等のストレスを与えな
い程度の反り変形を許容する高さであれば良く、ウェハ
Ｗの厚みに応じて定められるものであって、特に限定さ
れるものではない。また、ウェハ保持体Ｈのテーブル２
４からの持ち上げ高さを変化させずに、各隔室３７〜３
９への圧縮空気の供給開始タイミングを前述のように外
側から内側に向かって順番に変化させることも可能であ
る。
Claims (2)
- 【請求項１】 吸着面に通じるチャンバを備え、前記吸
着面に所定の対象物を吸着保持可能に設けられた吸着保
持装置において、 前記チャンバは、相互に隔離された複数の隔室に分割さ
れ、前記対象物を前記吸着面から取り除く際に、前記各
隔室に独立して空気が供給され、 前記各隔室の空気の供給は、吸着面の外周側に位置する
隔室から前記吸着面の中央側に位置する隔室に向かって
順番に開始されることを特徴とする吸着保持装置。 - 【請求項２】 前記チャンバは、前記吸着面の外周側か
ら中央側に向かって仕切られていることを特徴とする請
求項１記載の吸着保持装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001370045A JP2003174077A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 吸着保持装置 |
| SG200207303A SG99413A1 (en) | 2001-12-04 | 2002-11-28 | Suction holding device |
| EP02026827A EP1321968A3 (en) | 2001-12-04 | 2002-11-28 | Suction holding device |
| TW091134952A TW200300739A (en) | 2001-12-04 | 2002-12-02 | Suction holding device |
| US10/308,076 US20030102682A1 (en) | 2001-12-04 | 2002-12-03 | Suction holding device |
| KR1020020076461A KR20030045653A (ko) | 2001-12-04 | 2002-12-04 | 흡착유지장치 |
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