JPS60146674A - チヤツク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体回路パターンが形成されるウェハー等
の被加工物をチャック本体上の正しい位置に載せられた
かどうかを検知する手段を有するチャック装置に関する
。

従来、この柚の装置は、ウェハーチャック本体に同心円
状に複数の吸着用の溝が形成され、谷溝はウェハーチャ
ック本体内で共通の管路に連結されていた。そのため、
ウェハーがウェハーチャック本体上の正確な位置に載せ
られてなく、ウェハーの位置がわずかにずれた場合、吸
着溝の吸着部はわずかに開放されるだけなので、吸着溝
から真空ポンプ迄連通して〜）る管路の真空度の変化は
わずかであった。そのため、管路に真空ｄ１を取り伺け
ても、その検知量の変化は非常にわずかであり、真空ポ
ンプの負荷の変動による真空度の変化やウェハーがフラ
ットでない為の真空度のバラツキ等を考慮に入れるとそ
の検知量の変化は、誤差範囲内にあり、事実上検知出来
なかった。

ところで、最近ステッパーと呼ばれる半導体用の露光装
置があり、この種の装置としてウニノー−の表面位置を
自動焦点装置Ｗで検知して、ウェハーの位置決めを行な
うものが多い。ウニノ・−がウェハーチャック本体上の
適切な位置にない場合、ウェハーチャック本体面の誤っ
た位置で自動焦点動作を行ない、この動作に伴ないウェ
ハーと装置〆ｔのレンズ鏡筒とを衝突させ、装置あるい
はウェハーに損傷を与えることが多々あった。

本発明は上記の点に鑑み、上記欠点を解消するためにな
されたもので、真空吸着を利用したチャック装置に於て
、チャック本体に被加工物の輪郭より若干内側でその輪
郭に沿った形の溝もしくは複数の穴等の吸着部を設け、
前記溝もしくは前記穴の真空度を検知する検知手段を４
Ｊｆｉ“；え、被加工物がチャック本体上に正しく位置
づげられてな（・時、この検知手段の信号あるいは表示
により操作者はこのことを知ることができ、被加工物を
チャック本体上の適切な位Ｕ装置くことのできるチャッ
ク装置を提供することを目的とする。

以下、本発明に係るチャック装置の実施例を図面に従っ
て説明する。

！＠１図（ａ）は、本発明のウェハーチャック本体をウ
ェハー吸着部側より見た上視図であり、第１図（ｂ）　
＆ｕ、第１図に示したウェハーチャック本体と管路及び
真空計との関係を示す、側方断面図である。

１はウェハーチャック本体で、吸着溝２ａ、２ｂ１２Ｃ
１２ｄを鳴し、内側３つの吸着溝２ａ、２ｂ　、　２（
！ば１つの管路６に共通に連通され、最外周の吸着溝２
ｄは他の管路５に連通されている。これらの管路５．６
は夫々不図示の真空ポンプに接続されており、管路５に
は真空計４が取付けられている。

３はウェハーチャック本体ｌ上の正しい位置に載置され
たと仮定してのウェハーであり、吸着溝２ｄはウェハー
３の外形より若干内側にその外形に沿った形で設けられ
ており、その吸着部はウェハー３により全て覆われてい
る。

この様に最外周の吸着溝２ｄはウェハー３の外形に沿っ
た形でウェハー３の少し内側にあり、他の吸着溝２ａ、
２ｂ１２ｃ　とは関係なく独立して管路５を介して不図
示の真空ポンプで排気されているため、ウェハーがウェ
ハーチャック本体１に対して所定の位置かられずかな変
化をもって載せられ、吸着溝２ｄの吸着部がウェハーに
より全て稼ゎれていない場合、即ち、ウェハーがウェハ
ーチャック本体ｌ上の正しい位置に載せられていない場
合、それによって空気が吸着溝２ｄ内にわずかに流入す
ることによる真空度の変化を真空計４により検知するこ
とができる。即ち、この変化はウニノー−の湾曲等によ
る他の吸着溝２ａ１２ｂ、２Ｃとウニノ・−との隙間に
よる空気流入の影響は関係ないので、ウェハーの位置ズ
レにより真空度が変化したことと同じである。なお、本
実施例の場合、オリエンテーションフラットのウニノ１
−を用いるので、吸着溝２ｄの外形がその形状に似てい
るが、吸着溝２ｄは特にこの形状ばかりでなくてもよい
。

なお、吸着溝２ｄ内が十分な真空度とならない場合、ウ
ェハーはウェハーチャックｌ上の適切な位置に配置され
ていないのであるから、真空吸引をやめてｔｆ３：Ｉｋ
！Ｌウエノウニをウェハ−チャック本体ｌ上の適切な位
置に載せ直して真空吸引すればよい。

第２図は本発明に係るチャック装置の他の実施例である
。１はウニノ・−チャック本体、７ａ、７ｂ。

７Ｃは夫々円形状に配列された多数の穴で、不図示の１
つの管路にて共通に連通され、７ｄはウニノ１−の外形
に沿って、その若干内側に設けられた最外周の多数の穴
で、不図示の他の管路に共通に連通され、穴７ｄ内の真
空度の変化を不図示の真空計により知ることによりウェ
ハーがウニノ１〜チャック本体１上に正しく載されてい
るかどうかを知ることができる。

なお、真空度を検知してウェハーがウニノ・−チャック
本体上で位置ズレしているかどうかを知るための真空計
の代りにダイヤフラムと通常のスイッチを利用した真空
スイッチを用いてもよい。又、この真空計を見る代りに
真空スイッチを利用して音、光等の警告手段を設け、こ
れによりウェハーの位置ズレを警告してもよ（・。

又、実施例の説明は集積回路製造のためのパターン焼料
転写あるいは他の加工処理の際にシリコン・ウェハーを
吸着する場合を想定しているが、シリコン・ウェハーに
限らず他の被加工物の保持にも１史用できる。

以上本発明について説明したように、チャック上に設け
られたウェー・−等の被加工物の正確な位置を検知を行
なうことができるので、必らずウェハー等の被加工物を
チャック本体上の正しい位置に置きこのウェハー等の被
加工物の表面上に自動焦点を行うことができ、ウニノ・
−等の被加工物と半導体用露光装置のレンズ鏡筒との衝
突を防止でき、それらを損傷することがなくなった。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）は本発明に係るチャック装置の本体の一実
施例の上視図、第１図（ｂ）は第１１Ｊのウニノ・−チ
ャックの側方断面図、第２図は本発明に係るチャック装
置のウェハーチャック本体他の実施例の上視図である。 １はウェハーチャック本体、２ａ　、　２ｂ　、２ｃ　
、２ｄは吸着溝、４は真空計、５．６は管路、。・７ａ
　１７ｂ　。 ７ｃ　、　７ｄは（多数の）穴である。 特許出願人　キャノン株式会社 （ａ） 第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 被加工物を真空吸着するための真空吸着手段を有するチ
   ャック本体を備えたチャック装置に於て、前記被加工物
   の輪郭より若干内側で且つ前記輪郭に沿って前記チャッ
   ク本体に設けられた溝もしくは複数の穴と、前記被加工
   物を吸着している時、前記溝□もしくは複数の穴の中の
   空気を排気するために前記真空吸着手段とは別個に設け
   られた排気手段と、前記溝もしくは複数の穴の真空度を
   検知する検知手段とを備えたことを特徴とするチャック
   装置。