JPH0372423B2 - - Google Patents
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- JPH0372423B2 JPH0372423B2 JP59129773A JP12977384A JPH0372423B2 JP H0372423 B2 JPH0372423 B2 JP H0372423B2 JP 59129773 A JP59129773 A JP 59129773A JP 12977384 A JP12977384 A JP 12977384A JP H0372423 B2 JPH0372423 B2 JP H0372423B2
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- thin plate
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- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 210000002445 nipple Anatomy 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
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- Jigs For Machine Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は半導体ウエーハやガラスマスクなど
の薄板体を真空吸着して保持する真空吸着台に関
するものである。
の薄板体を真空吸着して保持する真空吸着台に関
するものである。
半導体装置を製造する際に用いられるレジスト
膜成膜装置、スピンドライヤー、マスクアライナ
ー、パターン検査装置などには、半導体ウエーハ
やガラスマスクなどの薄板体を真空吸着して保持
する真空吸着台が使用されている。
膜成膜装置、スピンドライヤー、マスクアライナ
ー、パターン検査装置などには、半導体ウエーハ
やガラスマスクなどの薄板体を真空吸着して保持
する真空吸着台が使用されている。
第1図Aは従来の真空吸着台の一例を示す平面
図、第1図Bは第1図AのB−B線での断面
図である。
図、第1図Bは第1図AのB−B線での断面
図である。
図において、1は真空吸着台の台座であり、こ
の従来例では台板、1aは円形状の横断面形状を
有し台板1の一方の主面部に設けられ薄板体を吸
着している時にその内部が真空室となる凹部、2
は円形状の板状体からなり一方の主面側が凹部1
aの開口端部側を覆うように台板1に固着され真
空吸着すべき薄板体(図示せず)が他方の主面上
に載置される吸着板、2aは1mm程度の直径を有
し吸着板2を貫通するように互いに直交するX方
向およびY方向に複数個形成され吸着板2の主面
上に載置された薄板体(図示せず)を真空吸着す
るための吸着孔、3は一方の端部が凹部1aの側
壁を貫通してこの側壁に固着され他方の端部が真
空装置(図示せず)に接続されるニツプルであ
る。
の従来例では台板、1aは円形状の横断面形状を
有し台板1の一方の主面部に設けられ薄板体を吸
着している時にその内部が真空室となる凹部、2
は円形状の板状体からなり一方の主面側が凹部1
aの開口端部側を覆うように台板1に固着され真
空吸着すべき薄板体(図示せず)が他方の主面上
に載置される吸着板、2aは1mm程度の直径を有
し吸着板2を貫通するように互いに直交するX方
向およびY方向に複数個形成され吸着板2の主面
上に載置された薄板体(図示せず)を真空吸着す
るための吸着孔、3は一方の端部が凹部1aの側
壁を貫通してこの側壁に固着され他方の端部が真
空装置(図示せず)に接続されるニツプルであ
る。
次に、この従来例の動作を第2図AおよびBに
示す断面図について説明する。
示す断面図について説明する。
第2図Aに示すように、吸着板2の主面上に全
部の吸着孔2aをふさぐことができる横断面形状
を有する薄板体50aが載置された場合には、凹
部1a内をニツプル3を通して真空にすることが
できるので、吸着板2の主面上に薄板体50aを
真空吸着して保持することができる。
部の吸着孔2aをふさぐことができる横断面形状
を有する薄板体50aが載置された場合には、凹
部1a内をニツプル3を通して真空にすることが
できるので、吸着板2の主面上に薄板体50aを
真空吸着して保持することができる。
しかし、第2図Bに示すように、吸着板2の主
面上に全部の吸着孔2aをふさぐことができない
横断面面状を有する薄板体50bが載置された場
合には、薄板体50bによつてふさがれていない
吸着孔2aを通して外気が凹部1a内に流入し、
凹部1a内の真空状態が悪くなるので、吸着板2
の主面上に載置された薄板体50bを真空吸着し
て保持するのが不可能であるという欠点があつ
た。
面上に全部の吸着孔2aをふさぐことができない
横断面面状を有する薄板体50bが載置された場
合には、薄板体50bによつてふさがれていない
吸着孔2aを通して外気が凹部1a内に流入し、
凹部1a内の真空状態が悪くなるので、吸着板2
の主面上に載置された薄板体50bを真空吸着し
て保持するのが不可能であるという欠点があつ
た。
この発明は、かかる欠点を除去するためになさ
れたもので、吸着孔の全部をふさぐことができな
い横断面形状を有する薄板体であつても真空吸着
により保持できる真空吸着台を提供することを目
的としている。
れたもので、吸着孔の全部をふさぐことができな
い横断面形状を有する薄板体であつても真空吸着
により保持できる真空吸着台を提供することを目
的としている。
この発明に係る真空吸着台は、薄板体を真空吸
着する吸着板の吸着孔の全部にそれぞれ吸着孔に
連通し吸着孔が薄板体によつてふさがれている時
には開放状態になり、ふさがれていない時には吸
着孔を通して流入する外気によつて閉鎖状態にな
る弁を設けるようにしたもので、これにより、薄
板体によつてふさがれていない吸着孔からの無駄
な外気が流入して吸着台内の真空状態が悪くなる
ことが防止され、吸着孔の全部をふさぐことがで
きない横断面形状を有する薄板体を真空吸着して
保持することが可能となるものである。
着する吸着板の吸着孔の全部にそれぞれ吸着孔に
連通し吸着孔が薄板体によつてふさがれている時
には開放状態になり、ふさがれていない時には吸
着孔を通して流入する外気によつて閉鎖状態にな
る弁を設けるようにしたもので、これにより、薄
板体によつてふさがれていない吸着孔からの無駄
な外気が流入して吸着台内の真空状態が悪くなる
ことが防止され、吸着孔の全部をふさぐことがで
きない横断面形状を有する薄板体を真空吸着して
保持することが可能となるものである。
第3図はこの発明による真空吸着台の一実施例
を示す第1図AのB−B線に対応する線での
断面図である。
を示す第1図AのB−B線に対応する線での
断面図である。
図において、第1図に示した符号と同一符号は
同等部分を示す。20は第1図に示した吸着板2
に対応する吸着板、20aは第1図に示した吸着
孔2aに対応する吸着孔、21は弁支持体であ
り、この実施例では吸着板20の裏面に吸着板2
0と重なり合うように固着され吸着孔20aの全
部にそれぞれ吸着孔20aに連通し吸着孔20a
を通して流入する外気によつて閉鎖状態になるボ
ール弁が形成されるボール弁形成板、22は貫通
流路であり、この実施例ではボール弁形成板21
の吸着板20と接する表面部に形成され吸着孔2
0aの外側に吸着孔20aの軸線に沿う軸線を有
し吸着孔20aの直径より長い半径の円筒状の第
1の凹部22aと、第1の凹部22aに連続して
形成され第1の凹部22aの軸線を軸線にし第1
の凹部22aの半径より短かい半径を有する円筒
状の第2の凹部22bと、第2の凹部22bに連
続して形成され第2の凹部22bの軸線を軸線に
し、第2の凹部22bの半径より短かい半径を有
する貫通孔22cとからなり内部にボール弁が構
成される弁室、23は弁であり、このの実施例で
は第1の凹部22aの底面上に第2の凹部22b
を閉鎖しないように設けられた弁座であるOリン
グ23aと、第1の凹部22a内に挿入されOリ
ング23aに当接して第2の凹部22bを閉鎖で
きる弁体であるボール23bと、一方の端部がボ
ール23bに当接し他方の端部がOリング23a
の内側を通つて第2の凹部22bの底面に当接し
ボール23bを押し上げてOリング23aとボー
ル23bとの間にすき間ができるようにするばね
であるスプリング23cとで構成されたボール弁
であり、このボール弁は、第3図から明らかなよ
うに吸着板20の下部に設けられており、ボール
弁が半導体ウエハなどの薄板体50に接触しない
ようになつている。ここで、ボール23bと第1
の凹部22aの隙間Dは0.1〜0.15mm程度にして
おく。なお、ボール弁形成板21の貫通孔22c
側の外周部が台板1の凹部1aの側壁の開口側の
端部に固着されている。
同等部分を示す。20は第1図に示した吸着板2
に対応する吸着板、20aは第1図に示した吸着
孔2aに対応する吸着孔、21は弁支持体であ
り、この実施例では吸着板20の裏面に吸着板2
0と重なり合うように固着され吸着孔20aの全
部にそれぞれ吸着孔20aに連通し吸着孔20a
を通して流入する外気によつて閉鎖状態になるボ
ール弁が形成されるボール弁形成板、22は貫通
流路であり、この実施例ではボール弁形成板21
の吸着板20と接する表面部に形成され吸着孔2
0aの外側に吸着孔20aの軸線に沿う軸線を有
し吸着孔20aの直径より長い半径の円筒状の第
1の凹部22aと、第1の凹部22aに連続して
形成され第1の凹部22aの軸線を軸線にし第1
の凹部22aの半径より短かい半径を有する円筒
状の第2の凹部22bと、第2の凹部22bに連
続して形成され第2の凹部22bの軸線を軸線に
し、第2の凹部22bの半径より短かい半径を有
する貫通孔22cとからなり内部にボール弁が構
成される弁室、23は弁であり、このの実施例で
は第1の凹部22aの底面上に第2の凹部22b
を閉鎖しないように設けられた弁座であるOリン
グ23aと、第1の凹部22a内に挿入されOリ
ング23aに当接して第2の凹部22bを閉鎖で
きる弁体であるボール23bと、一方の端部がボ
ール23bに当接し他方の端部がOリング23a
の内側を通つて第2の凹部22bの底面に当接し
ボール23bを押し上げてOリング23aとボー
ル23bとの間にすき間ができるようにするばね
であるスプリング23cとで構成されたボール弁
であり、このボール弁は、第3図から明らかなよ
うに吸着板20の下部に設けられており、ボール
弁が半導体ウエハなどの薄板体50に接触しない
ようになつている。ここで、ボール23bと第1
の凹部22aの隙間Dは0.1〜0.15mm程度にして
おく。なお、ボール弁形成板21の貫通孔22c
側の外周部が台板1の凹部1aの側壁の開口側の
端部に固着されている。
次に、この実施例の動作を第4図AおよびBに
示す要部拡大断面図について説明する。
示す要部拡大断面図について説明する。
第4図Aに示すように、吸着板20の主面上に
載置された薄板体50によつて吸着孔20aがふ
さがれている場合には、ボール23bにスプリン
グ23cのばね圧にさからつて押し下げる力が作
用しないので、貫通孔22c、Oリング23aと
ボール23bとの間のすき間および吸着孔20a
を通して薄板体50を真空吸着することができ
る。一方、第4図Bに示すように、吸着板20の
主面上に載置された薄板体50によつて吸着孔2
0aがふさがれていない場合には、吸着孔20a
を通して第1の凹部22a内へ流入した外気は、
第1の凹部22aとボール23bの隙間Dを通じ
て第2の凹部22b、貫通孔22cの順に流入す
る。この時、第1の凹部22aとボール23bの
隙間Dは0.1〜0.15mm程度と小さいため、流入し
た外気の圧力によりボール23bがOリング23
aへ押し付けられて外気の流路を閉鎖するので、
第3図に示した台板1の凹部1a内の真空状態が
悪くなることはない。またこの時、第1の凹部2
2aに流入した外気の圧力より、スプリング23
cのバネの強度を弱く調整しておくことは、言う
までもない。
載置された薄板体50によつて吸着孔20aがふ
さがれている場合には、ボール23bにスプリン
グ23cのばね圧にさからつて押し下げる力が作
用しないので、貫通孔22c、Oリング23aと
ボール23bとの間のすき間および吸着孔20a
を通して薄板体50を真空吸着することができ
る。一方、第4図Bに示すように、吸着板20の
主面上に載置された薄板体50によつて吸着孔2
0aがふさがれていない場合には、吸着孔20a
を通して第1の凹部22a内へ流入した外気は、
第1の凹部22aとボール23bの隙間Dを通じ
て第2の凹部22b、貫通孔22cの順に流入す
る。この時、第1の凹部22aとボール23bの
隙間Dは0.1〜0.15mm程度と小さいため、流入し
た外気の圧力によりボール23bがOリング23
aへ押し付けられて外気の流路を閉鎖するので、
第3図に示した台板1の凹部1a内の真空状態が
悪くなることはない。またこの時、第1の凹部2
2aに流入した外気の圧力より、スプリング23
cのバネの強度を弱く調整しておくことは、言う
までもない。
従つて、この実施例では、吸着板20の主面上
に全部の吸着孔20aをふさぐことができない横
断面形状を有する薄板体が載置された場合におい
ても、この薄板体を真空吸着して保持することが
できる。
に全部の吸着孔20aをふさぐことができない横
断面形状を有する薄板体が載置された場合におい
ても、この薄板体を真空吸着して保持することが
できる。
なお、この実施例では、ボール弁23を用いる
場合について述べたが、この発明はこれに限ら
ず、ニードル弁などのその他の弁を用いる場合に
も適用することができる。
場合について述べたが、この発明はこれに限ら
ず、ニードル弁などのその他の弁を用いる場合に
も適用することができる。
以上説明したように、この発明の真空吸着台で
は、薄板体を真空吸着する吸着板の吸着孔の全部
にそれぞれ吸着孔に連通し吸着孔が薄板体によつ
てふさがれている時には開放状態になり、ふさが
れていない時には吸着孔を通して流入する外気に
よつて閉鎖状態になる弁を設けたので、吸着孔の
全部をふさぐことができない横断面形状を有する
薄板体を真空吸着することができる。また、弁
は、薄板体に接触しないように設けられているの
で、薄板体が弁によつて押圧されて変形したり、
破損するおそれもない。
は、薄板体を真空吸着する吸着板の吸着孔の全部
にそれぞれ吸着孔に連通し吸着孔が薄板体によつ
てふさがれている時には開放状態になり、ふさが
れていない時には吸着孔を通して流入する外気に
よつて閉鎖状態になる弁を設けたので、吸着孔の
全部をふさぐことができない横断面形状を有する
薄板体を真空吸着することができる。また、弁
は、薄板体に接触しないように設けられているの
で、薄板体が弁によつて押圧されて変形したり、
破損するおそれもない。
第1図Aは従来の真空吸着台の一例を示す平面
図、第1図Bは第1図AのB−B線での断面
図、第2図はこの従来例の動作を説明するための
断面図、第3図はこの発明による真空吸着台の一
実施例を示す第1図AのB−B線に対応する
線での断面図、第4図はこの実施例の動作を説明
するための要部拡大断面図である。 図において、20は吸着板、20aは吸着孔、
23は弁、23a,23bおよび23cはそれぞ
れ弁23を構成する弁座、弁体およびばね、5
0,50aおよび50cは薄板体である。なお、
図中同一符号はそれぞれ同一または相当部分を示
す。
図、第1図Bは第1図AのB−B線での断面
図、第2図はこの従来例の動作を説明するための
断面図、第3図はこの発明による真空吸着台の一
実施例を示す第1図AのB−B線に対応する
線での断面図、第4図はこの実施例の動作を説明
するための要部拡大断面図である。 図において、20は吸着板、20aは吸着孔、
23は弁、23a,23bおよび23cはそれぞ
れ弁23を構成する弁座、弁体およびばね、5
0,50aおよび50cは薄板体である。なお、
図中同一符号はそれぞれ同一または相当部分を示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 薄板体を真空吸着する複数個の吸着孔が形成
された吸着板と、 この吸着板を表面に密接し上記吸着孔に対応し
て配設された貫通流路のそれぞれに弁を内蔵する
弁支持体と、 この弁支持体と密接することにより上記弁支持
体の貫通流路それぞれと連通する真空室を構成す
る台座とを備えると共に、 上記弁は弁体と弁座とばねとを有し、弁座とば
ねとは弁体より貫通流路それぞれの真空吸引側に
配置され、かつ弁体は上記吸着孔の閉塞を回避す
るようにばねにより保持されつつ上記吸着板表面
より貫通流路側に配置された真空吸着台。 2 弁がボール弁であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の真空吸着台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12977384A JPS618250A (ja) | 1984-06-23 | 1984-06-23 | 真空吸着台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12977384A JPS618250A (ja) | 1984-06-23 | 1984-06-23 | 真空吸着台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS618250A JPS618250A (ja) | 1986-01-14 |
JPH0372423B2 true JPH0372423B2 (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=15017852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12977384A Granted JPS618250A (ja) | 1984-06-23 | 1984-06-23 | 真空吸着台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS618250A (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5993939A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-30 | Toyota Motor Corp | 内燃機関のノツキング制御装置 |
JPH0621759Y2 (ja) * | 1986-04-30 | 1994-06-08 | マックス株式会社 | 吸引保持装置 |
SE465191B (sv) * | 1989-12-14 | 1991-08-05 | Asea Atom Ab | Braenslepatron foer en kaernreaktor av kokarvattentyp |
JP2501366B2 (ja) * | 1990-05-17 | 1996-05-29 | 株式会社 エフエスケー | 物体の保持装置 |
JPH0490946U (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-07 | ||
JP2999570B2 (ja) * | 1991-03-07 | 2000-01-17 | 貞行 上羽 | 超音波モータの駆動制御方法 |
JPH04125536U (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-16 | 株式会社エフエスケー | 真空チヤツク |
JPH081464A (ja) * | 1992-06-17 | 1996-01-09 | Shibayama Kikai Kk | ユニバーサルチャック機構の自動切換装置 |
JP2008260071A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Kurenooton Kk | 真空吸着盤 |
CN102862014A (zh) * | 2012-09-26 | 2013-01-09 | 张家港市江城冶化科技有限公司 | 不锈钢阴极板自动焊机用阴极板固定装置 |
JP6189727B2 (ja) * | 2013-11-26 | 2017-08-30 | コマツNtc株式会社 | ユニバーサルチャック装置 |
JP2018079545A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | 株式会社 動研 | 吸着機能を備えた載置テーブル |
KR102339079B1 (ko) * | 2017-09-28 | 2021-12-14 | 가부시키가이샤 신가와 | 흡착 스테이지 |
CN111015308B (zh) * | 2019-12-10 | 2021-11-02 | 首都航天机械有限公司 | 一种数控机床用自动柔性镜像装夹减振装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50125895U (ja) * | 1974-03-29 | 1975-10-15 |
-
1984
- 1984-06-23 JP JP12977384A patent/JPS618250A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS618250A (ja) | 1986-01-14 |
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