CN107499937A - 吸附方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种吸附方法。上述的吸附方法包括：提供一玻璃基板；将玻璃基板放置于吸附平台上，其中，吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近吸附平台的中心；以及沿第1圈通孔至第N圈通孔的顺序进行抽真空。由于上述的吸附方法可以避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板的表面的变形量较小，从而玻璃基板较好地定位于吸附平台上，可以保证玻璃基板的涂胶、曝光和烘烤等工序的正常进行。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃基板制造的技术领域，特别是涉及一种吸附方法。
背景技术
玻璃基板的制备工艺包括涂胶、前烘烤、曝光和后烘烤等。在玻璃基板的制备过程中，玻璃基板需通过真空吸附方式贴附固定于设备平台上。
然而，由于玻璃基板的厚度较薄，传统的真空吸附方式为一次吸附，容易引起玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，造成玻璃基板容易破片，从而使玻璃基板的合格率较低；由于玻璃基板的表面的变形量较大，使玻璃基板容易滑动，从而使玻璃基板无法进行涂胶、曝光和烘烤等工序。
发明内容
基于此，有必要针对玻璃基板容易破片、合格率较低和容易滑动的问题，提供一种吸附方法。
一种吸附方法，包括：
提供一玻璃基板；
将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及
沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空。
上述的吸附方法，吸附平台上开设有N圈通孔，且第1圈通孔邻近吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近吸附平台的中心，吸附时，先将玻璃基板放置于吸附平台上，然后沿第1圈通孔至第N圈通孔的顺序进行依次抽真空，使玻璃基板的边缘至中心区域依次被吸附，避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板被吸附平台吸附时不易破片；由于上述的吸附方法可以避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板的表面的变形量较小，从而玻璃基板较好地定位于吸附平台上，可以保证玻璃基板的涂胶、曝光和烘烤等工序的正常进行。
在其中一个实施例中，在分别沿第1圈通孔至第N圈通孔的顺序进行抽真空的步骤之前还包括：
对所述N圈通孔进行吹气，在吸附玻璃基板的步骤之前先对N圈通孔进行吹气，使玻璃基板先调整至适当位置再抽真空，可以使玻璃基板较好地固定于吸附平台上。
在其中一个实施例中，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，使吸附平台能更好地吸附玻璃基板上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象；
或，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述N圈通孔为14圈通孔或15圈通孔，使玻璃基板可靠地吸附于吸附平台上。
一种吸附方法，包括：
提供一玻璃基板；
将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及
沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空。
上述的吸附方法，吸附平台上开设有N圈通孔，且第1圈通孔邻近吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近吸附平台的中心，吸附时，先将玻璃基板放置于吸附平台上，然后沿第N圈通孔至第1圈通孔的顺序进行依次抽真空，使玻璃基板的中心区域至边缘依次被吸附，避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板被吸附平台吸附时不易破片；由于上述的吸附方法可以避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板的表面的变形量较小，从而玻璃基板较好地定位于吸附平台上，可以保证玻璃基板的涂胶、曝光和烘烤等工序的正常进行。
在其中一个实施例中，在分别沿第N圈通孔至第1圈通孔的顺序进行抽真空的步骤之前还包括：
对所述N圈通孔进行吹气，在吸附玻璃基板的步骤之前先对N圈通孔进行吹气，使玻璃基板先调整至适当位置再抽真空，可以使玻璃基板较好地固定于吸附平台上。
在其中一个实施例中，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，使吸附平台能更好地吸附玻璃基板上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象；
或，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述N圈通孔为14圈通孔或15圈通孔，使玻璃基板可靠地吸附于吸附平台上。
附图说明
图1为一实施例的吸附方法的流程图；
图2为图1所示吸附方法的另一流程图；
图3为另一实施例的吸附方法的流程图；
图4为图3所示吸附方法的另一流程图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对吸附方法进行更全面的描述。附图中给出了吸附方法的首选实施例。但是，吸附方法可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对吸附方法的公开内容更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在吸附方法的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
例如，一种吸附方法包括：提供一所述玻璃基板；例如，将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N(N﹥1，且N为整数)圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；例如，以及沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空；例如，一种吸附方法包括：提供一所述玻璃基板；将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空。
如图1所示，一实施例的吸附方法用于吸附玻璃基板。吸附方法包括：
S101，提供一所述玻璃基板；
S103，将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及
S105，沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空。
例如，沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空包括：分别对每圈通孔中的各个通孔进行抽真空，先对第1圈通孔中的各个通孔进行顺序抽真空，接着对第2圈通孔中的各个通孔进行顺序抽真空，以此类推，最后对第N圈通孔进行顺序抽真空。又如，沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空包括：分别对每圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空，先对第1圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空，然后对第2圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空，以此类推，最后对第N圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空。
例如，沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空的步骤S105具体为：沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行逐圈抽真空，使吸附平台从玻璃基板的边缘至中心逐渐被吸附。又如，沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空的步骤S105具体为：沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行每n圈同时被抽真空，例如，n为1至N(含两端)中的任意自然数。例如，n＝2。沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行每2圈同时被抽真空，即第一次被抽真空的通孔圈数为第1圈通孔和第2圈通孔，第二次被抽真空的通孔圈数为第3圈通孔和第4圈通孔，以此类推，最后一次被抽真空的通孔圈数为第N-1圈通孔和第N圈通孔。可以理解，在其他实施例中，每次被同时被抽真空的通孔的圈数可以不均等。例如，第一次同时被抽真空的圈数的数目为n，第二次同时被抽真空的圈数的数目为n-1个，如此，第n次同时被抽真空的圈数的数目为1个。当然，每次同时被抽真空的圈数的数目不一定呈规律变化。例如，第n次和第n-1次同时被抽真空的圈数的数目相等，而第n-1次同时被抽真空的圈数的数目与第n-2次同时被抽真空的圈数的数目不相等。
上述的吸附方法，吸附平台上开设有N圈通孔，且第1圈通孔邻近吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近吸附平台的中心，吸附时，先将玻璃基板放置于吸附平台上，然后沿第1圈通孔至第N圈通孔的顺序进行依次抽真空，使玻璃基板的边缘至中心区域依次被吸附，避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板被吸附平台吸附时不易破片。由于上述的吸附方法可以避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板的表面的变形量较小，从而玻璃基板较好地定位于吸附平台上，可以保证玻璃基板的涂胶、曝光和烘烤等工序的正常进行。而传统的玻璃基板的吸附方式为一次吸附，玻璃基板容易形成中间被吸附而边缘发生翘曲甚至破片的现象，使玻璃基板的后续黄光生产工序无法进行。
如图2所示，在其中一个实施例中，在分别沿第1圈通孔至第N圈通孔的顺序进行抽真空的步骤S105之前还包括：
S104，对所述N圈通孔进行吹气，在吸附玻璃基板的步骤之前先对N圈通孔进行吹气，使吸附平台能够有效地将玻璃基板摊平并牢稳吸附，使玻璃基板先调整至适当位置再抽真空吸附，可以使玻璃基板较好地固定于吸附平台上。例如，对所述N圈通孔进行吹气，包括：分别对所述N圈通孔中的各个通孔进行吹气；或者，在整体上统一对所述N圈通孔中的各个通孔进行吹气。例如，分别对所述N圈通孔中的各个通孔进行吹气，包括：按顺序分别对所述N圈通孔中的各个通孔进行吹气，或者，分别对所述N圈通孔中的各个通孔同时进行吹气。
在其中一个实施例中，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，使吸附平台能更好地吸附玻璃基板上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
例如，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，使玻璃基板较牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。又如，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，且能更好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述N圈通孔为14圈通孔或15圈通孔，即N＝14或15，使玻璃基板可靠地吸附于吸附平台上。在本实施例中，所述N圈通孔为14圈。例如，吸附平台的尺寸为450mm*550mm，所述N圈通孔为14圈通孔。又如，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，且所述N圈通孔为14圈通孔，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。如图3所示，二实施例的吸附方法用于吸附玻璃基板。吸附方法包括：
S201，提供一所述玻璃基板；
S203，将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及
S205，沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空。
例如，沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空包括：分别对每圈通孔中的各个通孔进行抽真空，先对第N圈通孔中的各个通孔进行顺序抽真空，接着对第N-1圈通孔中的各个通孔进行顺序抽真空，以此类推，最后对第1圈通孔进行顺序抽真空。又如，沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空包括：分别对每圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空，先对第N圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空，然后对第N-1圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空，以此类推，最后对第1圈通孔中的各个通孔同时进行抽真空。
例如，沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空的步骤S205具体为：沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行逐圈抽真空，使吸附平台从玻璃基板的中心至边缘逐渐被吸附。又如，沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空的步骤S205具体为：沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行每n圈同时被抽真空，例如，n为1至N(含两端)中的任意自然数。例如，n＝2。沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行每2圈同时被抽真空，即第一次被抽真空的通孔圈数为第N圈通孔和第N-1圈通孔，第二次抽真空的通孔圈数为第N-2圈通孔和第N-3(N大于3)圈通孔，以此类推，最后一次抽真空的通孔圈数为第2圈通孔和第1圈通孔。可以理解，在其他实施例中，每次被同时抽真空的通孔的圈数可以不均等。例如，第一次同时被抽真空的圈数的数目为n个，第二次同时被抽真空的圈数的数目为n-1个，如此，第n次同时被抽真空的圈数的数目为1个。当然，每次同时被抽真空的圈数的数目不一定呈规律变化。例如，第n次和第n-1次同时被抽真空的圈数的数目相等，而第n-1次同时被抽真空的圈数的数目与第n-2次同时被抽真空的圈数的数目不相等。
上述的吸附方法，吸附平台上开设有N圈通孔，且第1圈通孔邻近吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近吸附平台的中心，吸附时，先将玻璃基板放置于吸附平台上，然后沿第N圈通孔至第1圈通孔的顺序进行依次抽真空，使玻璃基板的中心区域至边缘依次被吸附，避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板被吸附平台吸附时不易破片；由于上述的吸附方法可以避免了玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象，使玻璃基板的表面的变形量较小，从而玻璃基板较好地定位于吸附平台上，可以保证玻璃基板的涂胶、曝光和烘烤等工序的正常进行。而传统的玻璃基板的吸附方式为一次吸附，玻璃基板容易形成中间被吸附而边缘发生翘曲甚至破片的现象，使玻璃基板的后续黄光生产工序无法进行。
如图4所示，在其中一个实施例中，在分别沿第N圈通孔至第1圈通孔的顺序进行抽真空的步骤S205之前还包括：
S204，对所述N圈通孔进行吹气，在吸附玻璃基板的步骤之前先对N圈通孔进行吹气，使吸附平台能够有效地将玻璃基板摊平并牢稳吸附，使玻璃基板先调整至适当位置再抽真空吸附，从而使玻璃基板较好地固定于吸附平台上，这样，黄光生产中的涂胶、曝光和烘烤等工序可以顺利进行。
在其中一个实施例中，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，使吸附平台能更好地吸附玻璃基板上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。在本实施例中，所述通孔的直径为0.18mm。
在其中一个实施例中，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。在本实施例中，相邻两个所述通孔之间的距离为2mm。
在其中一个实施例中，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。在本实施例中，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离为2mm。
例如，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，使玻璃基板较牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。又如，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，且能更好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
在其中一个实施例中，所述N圈通孔为14圈通孔或15圈通孔，即N＝14或15，使玻璃基板可靠地吸附于吸附平台上。在本实施例中，所述N圈通孔为14圈。例如，吸附平台的尺寸为450mm*550mm，所述N圈通孔为14圈通孔。又如，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm，且所述N圈通孔为14圈通孔，使玻璃基板更牢固地吸附于吸附平台上，较好地避免玻璃基板的中间被吸附且边缘翘曲的现象。
各实施例中，所述通孔为圆柱形，为了较好地进行整体吸附，提升吸附效果，例如，各实施例中，所述通孔为圆台形，其朝向玻璃基板一侧的底面积小于其远离玻璃基板一侧的底面积，这样，一方面易于实现抽真空的操作，另一方面可以提供较大的吸附强度；又如，相邻两圈通孔中，其中一圈的通孔为圆柱形，另一圈的通孔为圆台形。又如，每圈通孔呈方形状或圆形状分布。在本实施例中，每圈通孔呈方形状分布。例如，每圈通孔的分布形状与玻璃基板的形状相适应。又如，每圈通孔的分布形状与玻璃基板的形状均为圆形。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种吸附方法，其特征在于，包括：
提供一玻璃基板；
将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及
沿所述第1圈通孔至所述第N圈通孔的顺序进行抽真空。
2.根据权利要求1所述的吸附方法，其特征在于，在分别沿第1圈通孔至第N圈通孔的顺序进行抽真空的步骤之前还包括：
对所述N圈通孔进行吹气。
3.根据权利要求1或2所述的吸附方法，其特征在于，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm；
或，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm。
4.根据权利要求1或2所述的吸附方法，其特征在于，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm。
5.根据权利要求1或2所述的吸附方法，其特征在于，所述N圈通孔为14圈通孔或15圈通孔。
6.一种吸附方法，其特征在于，包括：
提供一玻璃基板；
将所述玻璃基板放置于吸附平台上，其中，所述吸附平台上开设有N圈通孔，第1圈通孔邻近所述吸附平台的边缘处，第N圈通孔邻近所述吸附平台的中心；以及
沿所述第N圈通孔至所述第1圈通孔的顺序进行抽真空。
7.根据权利要求6所述的吸附方法，其特征在于，在分别沿第N圈通孔至第1圈通孔的顺序进行抽真空的步骤之前还包括：
对所述N圈通孔进行吹气。
8.根据权利要求6或7所述的吸附方法，其特征在于，所述通孔的直径为0.15mm～0.2mm；
或，相邻两个所述通孔之间的距离小于或等于3mm。
9.根据权利要求6或7所述的吸附方法，其特征在于，所述通孔与邻近所述通孔的所述吸附平台的边缘之间的距离小于或等于5mm。
10.根据权利要求6或7所述的吸附方法，其特征在于，所述N圈通孔为14圈通孔或15圈通孔。
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