JP4761381B2 - 薄膜除去装置及び薄膜除去方法 - Google Patents
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Description
10 チャック(基板保持手段)
20 助走ステージ
22 載置台
23 平坦助走部
30 除去ノズル(レジスト膜除去ノズル、薄膜除去手段)
31b 吸引口
34a,34b ノズル孔
39a,39b N2ガス供給孔
40 移動機構
80 CPU(制御手段)
90,90A〜90C ガス噴射手段
91 吐出通路
91a 吐出口
91b 供給口
92 吐出通路の一部(鋭角部)
94 N2ガス供給源(ガス供給源)
95 ノズル
97 隆起部
98 切欠部
99 吐出通路
99a 第1の通路
99b 第2の通路
100 吸引手段
101 吸引通路
101a 吸入口
101b 吸引口
103 真空ポンプ(吸引装置)
Claims (9)
- 塗布液の薄膜が形成された角形状の基板の周縁部に溶剤を吹き付けて基板表面の周縁部の不要な薄膜を除去する薄膜除去装置であって、
上記基板を載置する載置台と、
上記載置台に載置された基板の周縁部に近接して配設されると共に、基板表面と略同一平面の平坦助走部を有する助走ステージと、
上記載置台に載置された基板の周縁部に向かって溶剤を噴射すると共に、溶解物を吸引する薄膜除去手段と、
上記薄膜除去手段を、上記基板の周縁部及びこれに近接する上記助走ステージに沿って移動する移動機構と、
上記助走ステージにおける平坦助走部の基板側の側端面と基板の角部側端面との間の隙間の基板から離れる方向にガスを噴射するガス噴射手段と、
上記隙間内に残留するガス,ミスト等を吸引する吸引手段と、
を具備することを特徴とする薄膜除去装置。 - 請求項1記載の薄膜除去装置において、
上記ガス噴射手段は、平坦助走部の基板側の側端面に開口する吐出口と、上記平坦助走部の基板側と反対側の側端面に開口する供給口と、これら吐出口と供給口とを連通する吐出通路と、上記供給口に接続するガス供給源と、を具備することを特徴とする薄膜除去装置。 - 請求項2記載の薄膜除去装置において、
上記吐出通路の一部が上記吐出口側に向かって鋭角に形成されている、ことを特徴とする薄膜除去装置。 - 請求項1記載の薄膜除去装置において、
上記ガス噴射手段は、上記隙間と平行なノズルと、このノズルに接続するガス供給源と、を具備することを特徴とする薄膜除去装置。 - 請求項1記載の薄膜除去装置において、
上記平坦助走部における基板側の側端面に、基板の周縁部に近接する隆起部を残して基板の角部側に切欠部を形成し、
上記ガス噴射手段は、上記隆起部の切欠部側の側端面に開口する吐出口と、上記平坦助走部の基板側と反対側の側端面に開口する供給口と、上記吐出口に連通すると共に上記隙間と平行に延びる第1の通路と、この第1の通路と上記供給口とを連通する第2の通路からなる吐出通路と、上記供給口に接続するガス供給源と、を具備することを特徴とする薄膜除去装置。 - 請求項1記載の薄膜除去装置において、
上記ガス噴射手段は、平坦助走部の基板側の側端面に開口する吐出口と、上記平坦助走部の基板側と反対側の側端面に開口する供給口と、これら吐出口と供給口とを連通する吐出通路と、上記供給口に接続するガス供給源と、を具備し、
上記吸引手段は、上記平坦助走部の基板側の側端面における上記吐出口より基板内方側に開口する吸入口と、上記平坦助走部の基板側と反対側の側端面に開口する吸引口と、これら吸入口と吸引口とを連通する吸引通路と、上記吸引口に接続する吸引装置と、を具備することを特徴とする薄膜除去装置。 - 請求項1記載の薄膜除去装置において、
上記載置台との間で基板を受け渡しする基板保持手段を更に具備し、
上記基板保持手段を昇降可能及び水平方向に少なくとも90度回転可能に形成してなる、ことを特徴とする薄膜除去装置。 - 塗布液の薄膜が形成された角形状の基板の周縁部に溶剤を吹き付けて基板表面の周縁部の不要な薄膜を除去する薄膜除去方法であって、
上記基板を載置台上に載置する基板載置工程と、
上記載置台に載置された基板と、基板表面と略同一平面の平坦助走部を有する助走ステージとを近接する助走ステージ近接工程と、
薄膜除去手段を、上記基板の周縁部及び助走ステージに沿って移動させつつ基板の周縁部に向かって溶剤を噴射すると共に、溶解物を吸引する薄膜除去工程と、
ガス噴射手段から噴射されるガスを、上記助走ステージにおける平坦助走部の基板側の側端面と基板の角部側端面との間の隙間の基板から離れる方向に向かって噴射して、隙間内への塗布液の回り込みを阻止すると共に、この際同時に、吸引手段によって上記隙間内に残留するガス,ミスト等を吸引する液回り込み阻止工程と、
を有することを特徴とする薄膜除去方法。 - 塗布液の薄膜が形成された角形状の基板の周縁部に溶剤を吹き付けて基板表面の周縁部の不要な薄膜を除去する薄膜除去方法であって、
上記基板を載置台上に載置する第1の基板載置工程と、
上記載置台に載置された基板と、基板表面と略同一平面の平坦助走部を有する助走ステージとを近接する第1の助走ステージ近接工程と、
薄膜除去手段を、上記基板の周縁部及び助走ステージに沿って移動させつつ基板の周縁部に向かって溶剤を噴射すると共に、溶解物を吸引する第1の薄膜除去工程と、
ガス噴射手段から噴射されるガスを、上記助走ステージにおける平坦助走部の基板側の側端面と基板の角部側端面との間の隙間の基板から離れる方向に向かって噴射して、隙間内への塗布液の回り込みを阻止すると共に、この際同時に、吸引手段によって上記隙間内に残留するガス,ミスト等を吸引する第1の液回り込み阻止工程と、
上記基板を上記載置台の上方へ移動して、水平方向に90度回転させて基板の姿勢を変換する基板姿勢変換工程と、
姿勢変換された基板を載置台上に載置する第2の基板載置工程と、
上記載置台に載置された基板と上記助走ステージとを近接する第2の助走ステージ近接工程と、
薄膜除去手段を、上記基板の周縁部及び助走ステージに沿って移動させつつ基板の周縁部に向かって溶剤を噴射すると共に、溶解物を吸引する第2の薄膜除去工程と、
ガス噴射手段から噴射されるガスを、上記助走ステージにおける平坦助走部の基板側の側端面と基板の角部側端面との間の隙間の基板から離れる方向に向かって噴射して、隙間内への塗布液の回り込みを阻止すると共に、この際同時に、吸引手段によって上記隙間内に残留するガス,ミスト等を吸引する第2の液回り込み阻止工程と、
を有することを特徴とする薄膜除去方法。
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