JPH1064798A - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液残りを抑えることで薄膜の有効領域の破壊
や生産性の低下を防止して、角形基板の端縁に形成され
た不要薄膜を良好に除去する。 【解決手段】 角形基板１の角部付近の端面に液残りが
発生したとしても、吸引口が基板端縁に対向して配設さ
れた上下の吸引ノズル２６，３１で、角形基板１の角部
付近の端面に付着した液残りを吸引するので、従来のよ
うに角形基板１の主面に形成された薄膜の有効領域を液
残りが破壊することはなく、角形基板１の端縁に形成さ
れた不要薄膜を良好に除去することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置および液晶表示基板製造装置などに用いられ、特
に、フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カ
ラーフィルタ用染色剤などの薄膜が表面に形成された液
晶表示器用ガラス基板やフォトマスク用ガラス基板など
の端縁に所定の洗浄液を供給して上記薄膜を部分的に除
去する基板端縁洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体装置や液晶表示装置の製造
工程においては、液晶表示器用ガラス基板などの基板上
に、例えば所定のレジスト液を塗布して薄膜を形成した
薄膜形成工程の後、基板の端縁部に付着した不要な薄膜
を洗浄液で除去する端縁処理が行われている。さらに、
この基板に乾燥処理を施した乾燥工程の後に露光する露
光工程を経て、さらに現像液を供給する現像処理で薄膜
に所定形状のパターンを形成させるパターニングが行わ
れている。

【０００３】このような端縁処理を行う基板端縁洗浄装
置は、特開平７−１４０４５３号公報に開示されている
ように、基板保持部に保持された基板端縁に沿って、溶
剤ノズルおよびガスノズルを備えた基板端縁洗浄部材を
移動させつつ、溶剤ノズルから溶剤を基板端縁に向けて
吐出して不要な薄膜を溶解すると共に、この基板端縁洗
浄部材が角形基板の角部近傍の所定範囲内に移動したと
きにのみガスノズルから気体を基板端縁から外側に向け
て噴射して、溶剤により溶解された溶解物を基板端縁か
ら外側に吹き飛ばして角形基板の端縁を洗浄するもので
あった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来、図１１（ａ）お
よび図１１（ｂ）に示すように角形基板５１の角部付近
の端面に溶剤を含む溶解物５２が残る液残りが発生す
る。これを防止するために、基板端縁洗浄部材が角形基
板の角部近傍の所定範囲内に移動したときにガスノズル
から窒素ガスによるスポットブローを噴射していた。と
ころが、上記従来の構成では、ガスノズルから噴射され
たスポットブローによって、角形基板５１の角部付近の
端面に付着した溶剤を含む溶解物５２が、図１１（ｃ）
に示すように角形基板５１の主面に形成された薄膜の有
効領域５３の方向に押しやられて拡がって溶解物５２ａ
となり、その有効領域５３の角部のレジスト膜に対して
にじみ込むことで、その有効領域５３を破壊してしま
い、その有効領域５３の角部のレジスト膜が洗浄境界面
で盛り上がったり、図１１（ｄ）に示すようにレジスト
と洗浄液が混じり合って、乾燥後に汚れ５２ｂとなって
しまうという問題があった。

【０００５】また、この液残りを抑えるために、角形基
板５１の端縁に沿って繰り返し吸引スキャンを行うこと
も考えられるが、基板１枚当たりの処理時間が長くなっ
て生産性が低下するという問題があった。

【０００６】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、液残りを抑えることで薄膜の有効領域の破壊や生産
性の低下を防止して、角形基板の端縁に形成された不要
薄膜を良好に除去することができる基板端縁洗浄装置を
提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の基板端縁洗浄装
置は、基板の端縁に付着した不要な薄膜を除去する基板
端縁洗浄装置において、主面に薄膜が形成された角形基
板を保持する保持手段と、この保持手段で保持された角
形基板の端縁に向けて洗浄液を供給する洗浄液供給手段
と、吸引口が角形基板の端縁に対向して配設され、角形
基板の端縁に付着した不要物を吸引する吸引手段と、洗
浄液供給手段および吸引手段を角形基板の端縁に沿うよ
うに、洗浄液供給手段および吸引手段と角形基板とを相
対的に移動させる移動手段とを有することを特徴とする
ものである。この吸引手段は、特に、角形基板の上側端
面に付着した不要物を吸引する。

【０００８】この構成により、角形基板の角部付近の端
面に液残りが発生したとしても、吸引口が基板端縁に対
向して配設された吸引手段で、角形基板の角部付近の端
面に付着した液残りを吸引することができるので、従来
のように角形基板の主面に形成された薄膜の有効領域を
液残りが破壊するようなことはなくなり、角形基板の端
縁に形成された不要薄膜が良好に除去されることにな
る。また、このようにして、基板角部の液残りを抑える
ことで、不要薄膜を除去するためのスキャンとは別の吸
引スキャンを行う必要もなくなり、生産性の低下も防止
される。

【０００９】また、本発明の基板端縁洗浄装置は、基板
の端縁に付着した不要な薄膜を除去する基板端縁洗浄装
置において、主面に薄膜が形成された角形基板を保持す
る保持手段と、この保持手段で保持された角形基板の端
縁に向けてノズル部から洗浄液を供給する洗浄液供給手
段と、排気口を介して周辺雰囲気を排気する排気手段
と、ノズル口が角形基板の端縁に対向して配設され、角
形基板の端縁に付着した不要物を吸引する吸引手段と、
洗浄液供給手段および吸引手段を角形基板の端縁に沿う
ように、洗浄液供給手段および吸引手段と角形基板とを
相対的に移動させる移動手段とを有し、洗浄液供給手段
および吸引手段のノズル部のうち洗浄液供給手段のノズ
ル部のみその側部が排気口に対向して配設され、吸引手
段のノズル部は移動手段による移動方向に対して洗浄液
供給手段のノズル部の両側に配設されていることを特徴
とするものである。

【００１０】この構成により、吸引手段のノズル部を排
気手段の排気口に対向した位置から外れた位置に配設し
ているので、排気口からの吸引力に大きく影響されて吸
引手段の吸引効率が低下するようなことがない。

【００１１】さらに、好ましくは、本発明の基板端縁洗
浄装置における吸引手段は、角形基板の角部近傍位置に
移動したときにのみ吸引動作を行うものである。

【００１２】この構成により、液残りが発生し易い角形
基板の角部付近の端面でのみ吸引手段による吸引動作を
行うので、基板角部の液残りに照準を合わせてこれを確
実に取り除くことが可能となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板端縁洗浄
装置の実施形態について図面を参照して説明する。

【００１４】図１は本発明の一実施形態における基板端
縁洗浄装置を含む基板処理装置の概略構成を示す正面図
であり、図２は図１の基板処理装置の平面図である。

【００１５】図１および図２において、この基板処理装
置は、角形基板１の表面にフォトレジスト液の薄膜を均
一に形成するスピンコータ２と、このスピンコータ２で
薄膜が形成された角形基板１の端縁から不要薄膜を除去
する基板端縁洗浄装置３と、この基板端縁洗浄装置３に
よる処理の後に角形基板１を乾燥させるオーブン４とを
有している。これらのスピンコータ２と基板端縁洗浄装
置３との間および、基板端縁洗浄装置３とオーブン４と
の間には、角形基板１を保持してこれらの間を搬送する
ための搬送ロボット５，６がそれぞれ配設されている。

【００１６】この基板端縁洗浄装置３は、図３および図
４に示すように、表面に薄膜が形成された角形基板１を
載置して真空吸着する基板保持部７と、この基板保持部
７の周囲にそれぞれ４個所に配置された基板端縁洗浄部
８と、各基板端縁洗浄部８を水平移動自在に支持する固
定フレーム９と、各基板端縁洗浄部８を水平方向に同期
して移動させる水平駆動機構１０とを有している。

【００１７】この基板保持部７は、角形基板１よりも周
囲が若干小さい４角形状であり、角形基板１の端縁近傍
位置まで下方から水平に支持している。また、基板端縁
洗浄部８は、Ｌ型支持アーム１１に支持されている。こ
のＬ型支持アーム１１は、上下一対のガイドレール１２
に移動自在に支持されている。これらのガイドレール１
２は、固定フレーム９の内壁に配設され水平方向に延設
されている。

【００１８】また、基板端縁洗浄部８は、図５に示すよ
うに、角形基板１の端面に対して接近または離間させて
調整可能なように支持アーム１１上に締結されたノズル
取付ブラケット１３と、このノズル取付ブラケット１３
に上下方向に調整可能に締結された排気ブロック１４
と、この排気ブロック１４の基板側上部に取り付けられ
た上側ノズルブロック１５と、排気ブロック１４の基板
側下部の側面に取り付けられ、上側ノズルブロック１５
と対向して締結された下側ノズルブロック１６とを有し
ている。

【００１９】このノズル取付ブラケット１３はＬ字状に
構成され、その基板側と反対側には中継マニホールド１
７が取り付けられている。また、排気ブロック１４は、
内部に排気孔１８が上下に延びて形成された略直方体形
状のブロック本体１９と、このブロック本体１９の上部
を封止すると共に排気口２０の上部を形成する蓋部材２
１とを有している。このブロック本体１９の基板側には
排気口２０の下部が形成されており、この下部と蓋部材
２１によって排気口２０が形成されている。この排気口
２０は、基板保持部７に保持された角形基板１の端面に
対向し得るように開口しており、ブロック本体１９の排
気孔１８に連通している。

【００２０】また、図６〜図８に示すように、上側ノズ
ルブロック１５は、蓋部材２１の上部の基板端縁側に締
結されている。この上側ノズルブロック１５の下面部に
は、角形基板１の表面側の端縁に向けて処理液としての
溶剤などの洗浄液を吐出する８本の溶剤吐出ノズル２２
が一列に等間隔毎に並んで配設されている。この溶剤吐
出ノズル２２は、溶剤供給管２３さらに中継マニホール
ド１７を介して溶剤タンク（図示せず）に接続されてい
る。また、下側ノズルブロック１６は、ブロック本体１
９の基板側の側面部に締結されている。この下側ノズル
ブロック１６の場合にも上側ノズルブロック１５と同様
に、下側ノズルブロック１６の上面部には、角形基板１
の裏面側の端縁に向けて溶剤などの洗浄液を吐出する８
本の溶剤吐出ノズル２４が一列に等間隔毎に並んで配設
されている。これらの溶剤吐出ノズル２４は、溶剤供給
管２５さらに中継マニホールド１７を介して溶剤タンク
（図示せず）に接続されている。これらの下側の各溶剤
吐出ノズル２４はそれぞれ移動方向に沿って一列に並ん
でおり、上側の各溶剤吐出ノズル２２とそれぞれ対向す
るように配設されている。以上により洗浄液供給手段が
構成され、基板保持部７で保持された角形基板１の表裏
面の端縁にそれぞれ向けて溶剤吐出ノズル２２，２４か
らそれぞれ溶剤などの洗浄液を供給する構成である。

【００２１】また、この上側ノズルブロック１５の側面
両端部には、吸引ノズル２６が配設された上側ノズルブ
ロック３３がそれぞれ設けられており、吸引ノズル２６
のノズル口（吸引口）は角形基板１の端縁に対向するよ
うに配設され、このノズル口を介して角形基板１の端縁
に付着した溶剤を含む溶解物などの不要物を吸引するも
のである。この吸引ノズル２６は、吸引管２７さらに中
継マニホールド１７を介して、図９に示すエアー弁２
８、エゼクタ２９さらにドレインボックス３０に接続さ
れている。また、この下側ノズルブロック１６の側面両
端部には、吸引ノズル３１が配設された下側ノズルブロ
ック３４がそれぞれ設けられており、吸引ノズル３１の
ノズル口（吸引口）は角形基板１の端縁に対向するよう
に配設され、このノズル口を介して角形基板１の端縁に
付着した不要物を吸引するものである。この吸引ノズル
３１は、吸引管３２さらに中継マニホールド１７を介し
て、図９に示すエアー弁２８、エゼクタ２９さらにドレ
インボックス３０に接続されている。以上により吸引手
段が構成され、吸引ノズル２６，３１の吸引口がそれぞ
れ角形基板１の表裏面の端縁に対向してそれぞれ配設さ
れ、角形基板１の端縁に付着した不要物を吸引ノズル２
６，３１の吸引口を介してそれぞれ吸引する構成であ
る。

【００２２】以上の吸引ノズル２６，３１の吸引口と角
形基板１の主面との距離は０．２ｍｍ〜１ｍｍの範囲内
であり、吸引口と角形基板１の主面との距離が０．２ｍ
ｍ以下になると吸引口と角形基板１の主面と当たる可能
性が生じ、吸引口と角形基板１の主面との距離が１ｍｍ
以上になると、吸引効果が大幅に低下することになる。
また、その吸引口は角形基板１の主面に平行な円形（円
形の他に角形などがある）であってその直径は０．１ｍ
ｍ〜５ｍｍの範囲内であり、その直径が０．１ｍｍ以下
であれば基板角部の液残りを良好に吸引することができ
ず、薄膜の有効領域との関係上その直径が５ｍｍ以下と
なっている。また、吸引手段は、角形基板１の角部近傍
位置にその吸引口が移動したときにのみ吸引動作を行っ
て、移動しつつ基板角部の液残りを吸引するように構成
されている。

【００２３】さらに、ブロック本体１９の排気孔１８
は、図３および図４に示す接続チューブ４０の上端部が
接続されている。これらの接続チューブ４０の下端はそ
れぞれドレインタンク（図示せず）を介して真空発生源
（図示せず）に接続されており、排気口２０から吸引し
た溶剤および溶解物をドレインタンク（図示せず）に回
収可能である。以上により排気手段が構成され、排気口
２０を介してその周辺雰囲気を排気する構成である。ま
た、この排気口２０は、角形基板１の端面側に開口して
おり、溶剤吐出ノズル２２，２４の側部と対向して配設
されているが、溶剤吐出ノズル２２，２４の両側の吸引
ノズル２６，３１の側部とはその対向位置が外れている
ので、排気口２０からの吸引力に大きく影響されて吸引
ノズル２６，３１からの吸引効率が低下するようなこと
がない。

【００２４】さらに、水平駆動機構１０は固定フレーム
９の１つの角部側に配置された電動モータ４１を有して
いる。この電動モータ４１はブラケット４２に固定され
ている。この電動モータ４１の駆動軸には駆動プーリ４
３が連結されている。この電動モータ４１の設置位置側
の固定フレーム９には１個の従動プーリ４４が、他の３
個所の角部に対応する固定フレーム９には２個ずつ従動
プーリ４４がそれぞれ設けられている。これらの駆動プ
ーリ４３と従動プーリ４４には、上下一対の環状ワイヤ
４５が巻き架けられている。この環状ワイヤ４５の所定
の４個所には、支持アーム１１がそれぞれ連結されてお
り、電動モータ４１の正逆転により、支持アーム１１が
ガイドレール１２に沿って往復移動し、基板端縁洗浄部
８がそれぞれ角形基板１の端縁に沿って水平にそれぞれ
同一速度で同期して往復移動するように構成されてい
る。

【００２５】上記構成により、まず、スピンコータ２で
フォトレジスト液が角形基板１の表面に塗布され、角形
基板１上にフォトレジストの薄膜が形成される。このと
き、角形基板１の表面から裏面にフォトレジスト液が流
れて裏面側端縁にも不要薄膜が形成されることになる。

【００２６】次に、このフォトレジストの薄膜が形成さ
れた角形基板１は、基板搬送ロボット５により基板端縁
洗浄装置３の基板保持部７に載置され、真空吸着されて
固定される。その後、駆動モータ４１が回転駆動を開始
する。このとき、基板端縁洗浄装置３の基板端縁洗浄部
８は、図１０（ａ）に示す位置に予めそれぞれ配置され
ている。なお、図１０（ｂ）〜図１０（ｄ）において、
基板端縁洗浄部８の所定ブロックを黒塗りにしているの
は、黒塗りしたブロックが駆動している場合であり、例
えば溶剤吐出ノズル２２，２４から溶剤が吐出されてい
る場合や、吸引ノズル２６，３１による吸引がなされて
いる場合である。

【００２７】さらに、駆動モータ４１の回転駆動力は環
状ワイヤ４５に伝えられ、この環状ワイヤ４５に取り付
けられた支持アーム１１がガイドレール１２に沿って移
動し、４個の基板端縁洗浄部８がそれぞれ同期して各矢
印方向Ｂ１〜Ｂ４に水平に移動する。このとき、基板端
縁洗浄部８の溶剤吐出ノズル２２，２４が角形基板１の
長辺部を挾んで上下に配置される直前で溶剤吐出ノズル
２２，２４から溶剤が吐出されると共に、排気孔１８内
を負圧にして排気口２０を介して排気を開始し、図１０
（ｂ）に示すように、角形基板１の端縁部がそれぞれス
キャンされることになる。このようにして、上下の溶剤
吐出ノズル２２，２４から吐出された溶剤が基板端縁の
表裏面に形成された不要なフォトレジストの薄膜を溶解
する。この溶解物と溶剤とは排気口２０から排気孔１８
側に吸引される。

【００２８】さらに、図１０（ｃ）に示すように、角形
基板１の短辺側端縁部をスキャンしていた前後の基板端
縁洗浄部８はそれぞれ薄膜溶解動作を続けた後に角形基
板１の角部にさしかかり、基板端縁洗浄部８の溶剤吐出
ノズル２２，２４が角形基板１の端縁角部端を通過した
直後に、溶剤吐出ノズル２２，２４からの溶剤の吐出が
停止されると共に、排気口２０を介して行う排気も停止
され、かつ、角形基板１の端縁を挾み込んだ、後方にあ
る上下の吸引ノズル２６，３１の吸引口を介して角形基
板１の端縁角部上の液残りを吸引する。

【００２９】さらに、図１０（ｄ）に示すように、角形
基板１の長辺側縁部をスキャンしていた左右の基板端縁
洗浄部８もそれぞれ薄膜溶解動作を続けた後に角形基板
１の角部にさしかかり、基板端縁洗浄部８の溶剤吐出ノ
ズル２２，２４が角形基板１の端縁角部端を通過した直
後に、溶剤吐出ノズル２２，２４からの溶剤の吐出が停
止されると共に、排気口２０を介して行う排気も停止さ
れ、かつ、角形基板１の端縁を挾み込んだ、後方にある
上下の吸引ノズル２６，３１の吸引口を介して角形基板
１の端縁角部上の液残りを吸引する。このとき、角形基
板１の短辺側端縁部のスキャンを完了した前後の基板端
縁洗浄部８はそれぞれ、そのままその方向に移動した
後、所定の折り返し位置で待機状態となり、さらに、角
形基板１の長辺側端縁部のスキャンを完了した左右の基
板端縁洗浄部８もそれぞれ、そのままその方向に移動し
た後、所定の折り返し位置に達することになる。

【００３０】この後、前後および左右の基板端縁洗浄部
８はそれぞれ、所定の折り返し位置から、上記図１０
（ａ）〜図１０（ｄ）とは逆方向に駆動されて角形基板
１の端縁部をそれぞれスキャンすることになって、上記
図１０（ａ）〜図１０（ｄ）と同様の処理がなされて、
上記図１０（ａ）に示す基板端縁洗浄部８の配置状態に
戻ることになる。

【００３１】さらに、基板保持部７による角形基板１の
真空吸着を解除し、基板搬送ロボット６により角形基板
１をオーブン４に搬送する。このオーブン４にて加熱処
理をして薄膜を乾燥させて次工程に搬送する。

【００３２】したがって、角形基板１の角部付近の端面
に液残りが発生したとしても、吸引口が基板端縁に対向
して配設された上下の吸引ノズル２６，３１で、角形基
板１の角部付近の端面に付着した液残りを吸引するの
で、基板角部での液残りを完全になくすことができ、角
形基板１の主面に形成された薄膜の有効領域が破壊され
ることなく、角形基板１の端縁に形成された不要薄膜を
良好に除去することができる。また、吸引スキャン動作
のスキャン回数を少なくすることができ、１枚の角形基
板１に対する処理時間を短縮させることができて生産性
を向上させることができる。さらに、排気口２０の手前
両側の排気口２０から外れた位置において、基板コーナ
部に残る洗浄液を吸引する吸引ノズル２６，３１を設け
たので、排気口２０からの吸引力に大きく影響されるこ
となく吸引手段の吸引効率が低下することがない。

【００３３】なお、本実施形態では、液残りなどの不要
物を吹き飛ばすガスノズルを設けなかったがガスノズル
を設けてもよく、例えば、上側の吸引ノズル２６のさら
に両側にガスノズルをそれぞれその下端部が角形基板の
外方に向けて設け、また、下側の吸引ノズル３２のさら
に両側にガスノズルをそれぞれその下端部が角形基板の
外方に向けて設けることができる。これらのガスノズル
から、基板端縁に向けて窒素ガスなどの気体をスポット
状に噴出することで、溶剤および溶解物などの液残りを
基板端縁側から外方に吹き飛ばすことができる。

【００３４】また、本実施形態では、吸引ノズル２６，
３１の円形の吸引口は角形基板１の主面と平行になるよ
うにカットした構成であるが、この吸引口は傾斜したカ
ットとしてもよい。

【００３５】さらに、本実施形態では、吸引ノズル２
６，３１の吸引口が角形基板１の角部近傍位置に移動し
たときにのみ吸引動作を行うように構成したが、溶剤を
供給するノズルスキャン動作時に常時、吸引動作を行う
ように構成してもよい。

【００３６】さらに、本実施形態では、吸引ノズル２６
を角形基板１の表面の端縁に対向させ、吸引ノズル３１
を角形基板１の裏面の端縁に対向させるように構成した
が、吸引ノズル２６を角形基板１の表面の端縁に対向さ
せるだけの構成としてもよい。

【００３７】さらに、本実施形態では、上下の吸引ノズ
ル２６，３１を４辺同時スキャン装置に用いたが、これ
に限らず、これらの吸引ノズル２６，３１を２辺同時ス
キャン装置に用いてもよい。

【００３８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ノズル口
である吸引口が基板端縁に対向して配設された吸引手段
で、角形基板の角部付近の端面に付着した液残りを吸引
するため、従来のように角形基板の主面に形成された薄
膜の有効領域を液残りが破壊することはなく、角形基板
の端縁に形成された不要薄膜を良好に除去することがで
きる。

【００３９】また、この吸引手段を排気手段の排気口に
対向した位置に配設していないため、排気口からの吸引
力に大きく影響されることなく吸引手段の吸引効率が低
下することがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における基板端縁洗浄装置
を含む基板処理装置の概略構成を示す正面図である。

【図２】図１の基板処理装置の平面図である。

【図３】図１の基板端縁洗浄装置の縦断面図である。

【図４】図１の基板端縁洗浄装置の平面図である。

【図５】図４の基板端縁洗浄部の一部縦断面図である。

【図６】図４の基板端縁洗浄部の一部拡大側面図であ
る。

【図７】図６の基板端縁洗浄部の正面図である。

【図８】図７の基板端縁洗浄部における上側ノズルブロ
ックの裏面図である。

【図９】図４の基板端縁洗浄部における吸引手段の制御
構成図である。

【図１０】図４の基板端縁洗浄部のスキャン動作を示す
模式図であって、（ａ）は動作開始時点の図、（ｂ）は
基板短辺側および長辺側のスキャン動作時点の図、
（ｃ）は短辺側のスキャン動作終了時点の図、（ｄ）は
長辺側のスキャン動作終了時点の図である。

【図１１】従来の角形基板の主面に形成された薄膜の有
効範囲を示すと共に角部の液残りを示す平面図であっ
て、（ａ）は全体図、（ｂ）は（ａ）のＡ部拡大図、
（ｃ）は液残りが拡がったことを示す図、（ｄ）は
（ｃ）の状態で乾燥したときの図である。

【符号の説明】

１ 角形基板 ３ 基板端縁洗浄装置 ７ 基板保持部 ８ 基板端縁洗浄部 １０ 水平駆動機構 １５，３３ 上側ノズルブロック １６，３４ 下側ノズルブロック ２０ 排気口 ２２，２４ 溶剤吐出ノズル ２６，３１ 吸引ノズル ４１ 電動モータ ４３ 駆動プーリ ４４ 従動プーリ ４５ 環状ワイヤ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の端縁に付着した不要な薄膜を除去
   する基板端縁洗浄装置において、 主面に薄膜が形成された角形基板を保持する保持手段
   と、この保持手段で保持された角形基板の端縁に向けて
   洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、吸引口が前記角形
   基板の端縁に対向して配設され、前記角形基板の端縁に
   付着した不要物を吸引する吸引手段と、前記洗浄液供給
   手段および吸引手段を前記角形基板の端縁に沿うよう
   に、前記洗浄液供給手段および吸引手段と前記角形基板
   とを相対的に移動させる移動手段とを有することを特徴
   とする基板端縁洗浄装置。
2. 【請求項２】 基板の端縁に付着した不要な薄膜を除去
   する基板端縁洗浄装置において、 主面に薄膜が形成された角形基板を保持する保持手段
   と、この保持手段で保持された角形基板の端縁に向けて
   ノズル部から洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、排気
   口を介して周辺雰囲気を排気する排気手段と、ノズル口
   が前記角形基板の端縁に対向して配設され、前記角形基
   板の端縁に付着した不要物を吸引する吸引手段と、前記
   洗浄液供給手段および吸引手段を前記角形基板の端縁に
   沿うように、前記洗浄液供給手段および吸引手段と前記
   角形基板とを相対的に移動させる移動手段とを有し、 前記洗浄液供給手段および吸引手段のノズル部のうち前
   記洗浄液供給手段のノズル部のみその側部が前記排気口
   に対向して配設され、前記吸引手段のノズル部は前記移
   動手段による移動方向に対して前記洗浄液供給手段のノ
   ズル部の両側に配設されていることを特徴とする基板端
   縁洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記吸引手段は、前記角形基板の角部近
   傍位置に移動したときにのみ吸引動作を行うことを特徴
   とする請求項１または２記載の基板端縁洗浄装置。