JP3442069B2

JP3442069B2 - プラズマディスプレイパネル、その製造方法及び転写フィルム

Info

Publication number: JP3442069B2
Application number: JP2002151479A
Authority: JP
Inventors: 守男藤谷; 浩幸米原; 正樹青木; 圭介住田; 英樹芦田; 純一日比野
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-05-28
Filing date: 2002-05-24
Publication date: 2003-09-02
Anticipated expiration: 2022-05-24
Also published as: WO2002097846A1; JP2003051262A; TW583713B; KR20030097903A; JP2003203573A; US20040212305A1; CN1295735C; JP2007123292A; JP3957739B2; CN1529896A; US7453206B2; KR100859056B1; JP3957641B2

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるガス放電表示装置及びその製造方法、並びにそ
の製造に用いる転写フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年双方向情報端末として大画面、壁掛
けテレビへの期待が高まっている。そのため、液晶Ｔ
Ｖ、フィールドエミッションディスプレイ、エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイ等に代表されるディスプレ
イパネルが数多くあり、一部は市販され、一部は開発中
である。

【０００３】これらの中でもプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）は、自発光型で美しい画像表示ができ且つ
大画面化が容易であるといった、他のデバイスにはない
特徴を持っている。一般的に、ＰＤＰは、各色放電セル
がマトリックス状に配列された構成であって、交流面放
電型ＰＤＰでは、フロントガラス基板とバックガラス基
板とが、隔壁を介して平行に配され、フロントガラス基
板上には表示電極対（走査電極と維持電極）が平行に配
設され、その上を覆って誘電体ガラス層が形成され、バ
ックガラス基板上には走査電極と直交してアドレス電極
が配され、両プレート間における隔壁で仕切られた空間
内には、赤，緑，青の蛍光体層が配設され、放電ガスが
封入されることによって各色放電セルが形成されたパネ
ル構造となっている。

【０００４】そして、ＰＤＰを駆動する際には、駆動回
路で各電極に電圧を印加する。これによって、各放電セ
ル内で放電すると、紫外線が放出され、蛍光体層の蛍光
体粒子（赤，緑，青）がこの紫外線を受けて励起発光す
ることによって画像が表示される。このようなＰＤＰに
おいて、良好な画質を得るために、白色表示したときに
高い色温度が得られるように、各色セルの発光量を調整
する必要がある。一般的に、青色蛍光体は、他の２色に
比べての発光強度が弱いため、従来のＰＤＰでは、青色
セルにおける放電量が他の色のセルよりも大きくなるよ
うに駆動回路で調整することによって、各色の発光量バ
ランスをとっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ＰＤＰにお
いては、消費電力を低くすると共に、高輝度で画像表示
できるようにすることが望まれている。ＰＤＰを高輝度
で発光させるには、誘電体層の膜厚を薄く設定すること
によって、放電強度を増加させることも有効と考えられ
る。しかし、単に誘電体層を薄くするだけでは発光効率
は向上ぜず、むしろ、蛍光体層の発光効率は低くなる傾
向もある。

【０００６】本発明は、ＰＤＰにおいて、発光輝度と発
光効率とを向上させることを第１の目的とする。また、
ＰＤＰにおいて、駆動回路で調整しなくても、各色の発
光量バランスをとることによって、白色表示時において
高い色温度が得られるようにすることを第２の目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために、第１基板及び第２基板が間隔をおいて並設さ
れ、第１基板の対向面上に、対を成す表示電極と、当該
表示を覆う誘電体層とが形成され、第２基板の対向面上
に蛍光体層が形成され、対を成す表示電極に沿って、複
数の放電セルが形成されたＰＤＰにおいて、誘電体層の
表面に、各放電セル内に、２個以上の凹部を形成するこ
ととした。ここで、「誘電体層の表面」とは、誘電体層
における第２基板側の表面、すなわち放電空間に臨む側
の表面である。

【０００８】従来のＰＤＰにおいては、表示電極対の放
電ギャップ近傍に強い放電が集中しやすいため、放電ギ
ャップ近傍において蛍光体の輝度飽和が発生しやすい
が、この輝度飽和は、発光効率を低下させる要因であ
る。これに対して、上記本発明の構成によれば、誘電体
層の容量は各凹部において局所的に大きくなるので、表
示電極に電圧を印加したときに、各凹部には比較的大き
な電荷が形成される。従って、放電開始電圧が低くな
る。それと共に、各凹部を起点として放電が発生するの
で、放電ギャップ近傍だけでなく周辺にも強い放電が広
がり、それによって、蛍光体の輝度飽和は抑制される。

【０００９】このように、放電開始電圧が低下するだけ
でなく、放電領域内における放電の起点が分散されるの
で、発光輝度と発光効率を向上させることが可能とな
る。誘電体層の表面に凹部を形成する際に、以下のよう
な形態をとることが好ましい。誘電体層の表面をテクス
チャー構造とする。

【００１０】また、各放電セル内において、第１凹部と
第２凹部とを、放電セルの中央部を挟んで第１表示電極
側と第２表示電極側とに分散して配置する。ここで、誘
電体層の表面に、表示電極が伸長する方向に沿って、複
数の放電セルにまたがる第１溝及び第２溝を形成し、第
１溝及び第２溝の一部が第１凹部及び第２凹部となるよ
うにする。そして、第１溝及び第２溝を、各々波状また
はギザ状に形成する。

【００１１】あるいは、第１凹部及び第２凹部を、各放
電セル内で島状に形成する。ここで、第１凹部及び第２
凹部を、Ｕ字形またはＶ字形とし、端部もしくは頂部ど
うしが互いに向かい合うよう配置する。第１凹部と第２
凹部の間隔については、第１表示電極及び第２表示電極
が伸長する方向に対して、各放電セルの中央部と比べて
周辺部の方が大きくなるように設定する。

【００１２】各放電セル内で、第１凹部と第２凹部と
を、放電セルの中央部を挟んで、前記第１表示電極及び
第２表示電極が伸長する方向に分散して配置する。ここ
で、誘電体層の表面に、第１表示電極及び第２表示電極
が伸長する方向に対して直交する方向に沿って、複数の
放電セルにまたがる第１溝及び第２溝を形成し、第１溝
及び第２溝の一部が、第１凹部及び第２凹部となるよう
にする。

【００１３】あるいは、第１凹部及び第２凹部を、各放
電セル内で、島状に形成する。第１凹部及び第２凹部の
少なくとも一方について、その内部において深さが互い
に異なる領域を有するようにする。上記構成のＰＤＰに
おいて、放電セル内の蛍光体層の色ごとに凹部の形状を
異ならせることによって、第２の目的も達成することが
できる。

【００１４】具体的には、以下のような形態をとること
が好ましい。放電セル内に形成されている凹部の面積
を、その放電セル内に形成されている蛍光体層の色がＲ
ＧＢの順に大きくなるよう設定する。各放電セル内にお
ける第１凹部と第２凹部の間隔を、その放電セルに形成
されている蛍光体層の色がＲＧＢの順に大きくなるよう
設定する。

【００１５】上記第１の目的は、前面基板及び背面基板
が間隔をおいて並設され、前面基板の対向面上に、表示
電極対と、当該表示電極対を覆う誘電体層とが形成さ
れ、示電極対に沿って複数の放電セルが形成され、各放
電セルの前面基板側に、当該放電セルで発する可視光を
透過しやすい透過領域と当該可視光を透過しにくい遮蔽
領域とを有するＰＤＰにおいて、誘電体層の厚みを、放
電セルにおいて発生し遮蔽領域に向かう光束を透過領域
に屈折させるように、領域ごとに異ならせることによっ
ても達成できる。

【００１６】具体的には、誘電体層を、放電セルにおい
て発生する光を前記光遮蔽領域から光透過領域に集光さ
せるレンズ状に形成することが好ましい。本発明では、
上記のように誘電体層の表面に凹部が形成されたＰＤＰ
を製造する際に、少ない工程数で、歩留まりをよくする
ことによって低コスト化を実現することを第３の目的と
する。

【００１７】そのため複数対の表示電極が配された第
１基板上に、表示電極を覆って誘電体層を形成する工程
において、支持フイルム上に誘電体前駆体層を成形して
転写フイルムを作製する転写フィルム作製ステップと、
転写フィルムの誘電体前駆体層に凹部を形成する凹部形
成ステップと、凹部形成ステップの後に、転写フィルム
の誘電体前駆体層を第１基板上に転写する転写ステップ
とを設けることとした。

【００１８】あるいは、支持フイルム上に誘電体前駆体
層を成形して転写フイルムを作製する転写フィルム作製
ステップと、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板
上に転写する転写ステップと、第１基板上に転写された
誘電体前駆体層に凹部を形成する凹部形成ステップとを
設けることとした。ここで、「誘電体前駆体層に凹部を
形成する」というのは、誘電体前駆体層の膜厚を部分ご
とに変化させるという意味である。

【００１９】上記凹部形成ステップでは、転写フィルム
の表面に、凸形状を有する基体を押し付けることによっ
て凹部を形成することが好ましい。前記基体は、平板状
でもローラー状でもよいが、ローラ状の方が、連続的に
凹部を形成しやすく、誘電体前駆体層が偏肉していて
も、均一的な深さで凹部を形成できる点などで好まし
い。

【００２０】上記第３の目的は、ＰＤＰの誘電体層を形
成するのに用いられ、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体
前駆体から成る誘電体前駆体層が支持フィルム上に形成
された転写フィルムにおいて、誘電体前駆体層に、各放
電セルに相当する位置に合わせて凹部を形成しておくこ
とによっても達成できる。上記転写フィルムは、ガラス
粉末及び樹脂を含む誘電体組成物から成る誘電体前駆体
層を支持フィルム上に形成する誘電体前駆体層形成ステ
ップと、誘電体前駆体層に凹部を形成する凹部形成ステ
ップとを備えた製造方法によって製造することができ
る。

【００２１】上記ＰＤＰの製造方法において、誘電体層
を形成するための誘電体前駆体層を有する転写フィルム
を基板上にラミネートするラミネート装置であって、転
写フィルムの表面に凹部を形成するための突起を有する
ローラーが備え付けられているものを用いれば、誘電体
前駆体層に容易に凹部を形成できる。また、ＰＤＰの誘
電体層を形成するための誘電体前駆体層を支持フイルム
上に形成する転写フィルム作成装置において、膜形成材
料層の表面に凹部を形成するための突起を有するローラ
ーが備え付けられているものを用いることによっても、
誘電体前駆体層に容易に凹部を形成できる。

【００２２】あるいは、プラズディスプレイパネルの誘
電体層を形成するのに用いられ、ガラス粉末及び樹脂を
含む誘電体前駆体から成る誘電体前駆体層上を覆うフィ
ルムを取り除く装置において、誘電体前駆体層の表面に
凹部を作成するための突起を有するローラーを設けるこ
とによっても、誘電体前駆体層に容易に凹部を形成でき
る。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施の形態に
ついて図面を参照しながら説明する。本発明の以下に示
す実施の形態および図面は、例示を目的とし、本願発明
はこれらに限定されるものではない。図１は、実施の形
態に係るＡＣ面放電型ＰＤＰを示す要部斜視図である。

【００２４】このＰＤＰは、前面パネル１０１と背面パ
ネル１１１とが、互いに平行に間隔をおいて配されて構
成されている。前面パネル１０１は、前面ガラス基板１
０２の対向面上に、表示電極対（第１表示電極１０３
ａ，第２表示電極１０３ｂ）、誘電体層１０６、保護層
１０７が順に配されてなる。一方、背面パネル１１１
は、背面ガラス基板１１２の対向面上に第２電極として
のアドレス電極１１３、誘電体層１１４、隔壁１１５が
順に配され、隔壁１１５どうしの間に蛍光体層１１６が
配設されている。なお、蛍光体層１１６は、赤，緑，青
の順で繰返し並べられている。

【００２５】前面パネル１０１と背面パネル１１１と
は、周辺シール材（図示略）によって貼り合わせられ、
両パネル板の間隙は、ストライプ状の隔壁１１５で仕切
られることによって放電空間が形成され、当該放電空間
内には放電ガスが封入されている。図２は、表示電極対
１０３ａ，１０３ｂと、アドレス電極１１３及び隔壁１
１５が配置されている状態を示している。

【００２６】上記表示電極対１０３ａ，１０３ｂはマト
リクス表示の行方向に沿ってストライプ状に配されてい
る。なお、図中のラインＡは、表示電極対１０３ａ，１
０３ｂどうしの間隙（放電ギャップ）２０１の中央ライ
ンを表している。隔壁１１５とアドレス電極１１３は、
列方向に沿って、ストライプ状に配されている。

【００２７】そして、表示電極対１０３ａ，１０３ｂと
アドレス電極１１３とが交差するところに、赤，緑，青
の各色を発光する放電セル（単位発光領域）２０２が形
成されたパネル構成となっている。表示電極１０３ａ，
１０３ｂの各々は、抵抗の低い金属（例えばＣｒ／Ｃｕ
／ＣｒまたはＡｇなど）だけで形成することもできる
が、図２に示すように、ＩＴＯ，ＳｎＯ2，ＺｎＯ等の
導電性金属酸化物からなる幅広の透明電極１０４の上
に、この透明電極１０４よりも十分に幅が狭いバス電極
１０５を積層させた電極構成とすることもできる。表示
電極１０３に幅広の透明電極１０４を設けると、セル内
の放電面積を広く確保する上で好ましいが、精細なセル
構造の場合は、表示電極１０３ａ，１０３ｂの幅を小さ
く、例えば５０μｍ以下に設定する必要があるため、金
属電極だけで形成するのが適しているいうことができ
る。

【００２８】誘電体層１０６は、前面ガラス基板１０２
における表示電極１０３ａ，１０３ｂが配された表面全
体を覆って配設された誘電物質からなる層であって、一
般的に、鉛系低融点ガラスが用いられているが、ビスマ
ス系低融点ガラス、或は鉛系低融点ガラスとビスマス系
低融点ガラスの積層物で形成しても良い。保護層１０７
は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる薄層であっ
て、誘電体層１０６の放電空間に臨む表面全体を覆って
いる。

【００２９】一方、背面パネル１１１において、アドレ
ス電極１１３は銀電極膜で形成されている。誘電体層１
１４は、誘電体層１０６と同様のものであるが、可視光
を反射する反射層としての働きも兼ねるようにＴｉＯ₂
粒子が混合されている。隔壁１１５は、ガラス材料から
なり、背面パネル１１１の誘電体層１１４の表面上に突
設されている。

【００３０】蛍光体層１１６を構成する蛍光体材料とし
て、ここでは、青色蛍光体：ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ緑色蛍光体：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ赤色蛍光体：（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕを用いることとする。

【００３１】このＰＤＰの表示電極対１０３ａ，１０３
ｂ及びアドレス電極１１３に、駆動回路（不図示）が接
続されることによってＰＤＰ表示装置が構成される。そ
して、当該駆動回路で、表示電極１０３ａとアドレス電
極１１３とにアドレス放電パルスを印加することによっ
て、発光させようとするセルに壁電荷を蓄積し、その
後、表示電極対１０３ａ，１０３ｂに維持放電パルスを
印加することによって壁電荷が蓄積されたセルで維持放
電を行うという動作を繰り返すことによって、画像表示
を行う。

【００３２】上記誘電体層１０６は、その膜厚が部分ご
とに変化している。以下、実施の形態１〜３で詳しく説
明する。〔実施の形態１〕本実施形態では、誘電体層１０６にお
いて、各放電セル２０２内に、凹部１０８が複数形成さ
れている。そして、保護層１０７は、誘電体層１０６の
表面に沿ってこれを被覆しており、凹部１０８の内面も
覆っている。

【００３３】このように、誘電体層１０６の放電セル内
に凹部を形成することにより、誘電体層１０６の容量Ｃ
は凹部１０８において局所的に大きくなる。すなわち、
誘電体層において、凹部は、相対的に膜厚が小さいた
め、容量が大きくなる。従って、表示電極対１０３ａ，
１０３ｂ間に電圧を印加したときに、凹部には比較的大
きな電荷が形成される。

【００３４】このように局所的に大きな電荷が形成され
ると、表示電極に印加される電圧は比較的低くても、凹
部に形成された電荷が大きいので放電が開始される。更
に、本実施形態にかかる誘電体層１０６においては、各
放電セルの放電領域内に複数の凹部１０８が形成されて
いるが、これによって、発光効率を向上できる。

【００３５】すなわち、従来のＰＤＰにおいて、一般的
に、放電ギャップの近傍で放電が開始されるので、放電
ギャップ近傍に強い放電が集中しやすい。そのため、こ
の放電ギャップ近傍において蛍光体の輝度飽和（励起さ
れた蛍光体層が発光し切らないうちに次の放電による紫
外線が蛍光体層にあたり、紫外線が有効に利用されてい
ない。）が生じやすく、それが発光効率を低下させる原
因となる。

【００３６】ここで、誘電体層を全体的に薄く形成した
り、誘電体層の放電ギャップ近傍を薄く形成した場合、
放電開始電圧は低下するものの、強い放電が放電ギャッ
プ付近に集中するのを緩和することはできず、放電強度
も増加するので、蛍光体の輝度飽和はより発生しやすく
なる。これに対して、上記誘電体層１０６のように、各
放電セルの放電領域内に形成された複数の凹部１０８の
各々に、局所的に電荷量が多く形成され、各凹部１０８
を起点として放電が発生する。

【００３７】従って、放電の起点が放電領域内で分散さ
れるので、放電ギャップ２０１近傍に強い放電が集中す
るのが緩和され、よって蛍光体の輝度飽和が抑制され
る。このように、上記誘電体層１０６によれば、放電開
始電圧が低下するだけでなく、放電領域内における放電
の起点が分散するので、発光輝度及び発光効率を大きく
向上させることが可能となる。

【００３８】ところで、図２に示すように、隔壁１１５
は、表示電極対１０３ａ，１０３ｂの伸長方向に対して
直交する方向に配置され、放電セル２０２は隔壁１１５
の伸長方向に長い形状である。従って、放電セル２０２
内において、複数の凹部（第１凹部１０８ａ，第２凹部
１０８ｂ）を、中央ラインＡを挟んで、表示電極１０３
ａ側と表示電極１０３ｂ側とに分散して配置すれば、放
電セル２０２の長手方向に放電の起点が分散される点で
好ましい。

【００３９】（凹部を形成する形態について）以下、誘
電体層１０６の各放電セル２０２内に、複数の凹部を形
成する様々な形態について説明する。まず、図３に示す
ように誘電体層１０６の表面をテクスチャー構造（Text
urized surface）とする形態がある。

【００４０】一般的に「テクスチャー構造」は、ピラミ
ッド状の凹凸を持つ構造のことをいう。例えば、図４に
示すように誘電体層１０６の表面は、ピラミッド状の凸
部３０２がマトリックス状に配置され、凸部３０２どう
しの間に凹部３０１が形成された構造でもよいし、逆に
ピラミッド状の凹部がマトリックス状に配置され、その
凹部どうしの間に凸部が形成された構造でもよいし、両
者が混在していてもよい。

【００４１】なお、凸部や凹部の形状は、必ずしもピラ
ミッド状でなくてもよく、半球状等であってもよい。ま
た、凸部・凹部の大きさは必ずしも均一でなくてもよ
く、大きさがばらついていてもよい。凸部の高さ、ある
いは凹部の深さとしては、１μｍ〜３０μｍが望まし
く、中で５μｍ〜２０μｍ、更に５μｍ〜１０μｍが望
ましい。

【００４２】なお、図３に示す例では、誘電体層１０６
の表面全体にわたる連続した領域にテキスチャ構造が形
成されているが、各放電セル内の島状領域にだけテキス
チャ構造を形成してもよい。上記のように誘電体層１０
６の表面にテキスチャ構造を形成すると、放電セル２０
２内に放電開始点が多数分散して形成されることにな
る。

【００４３】従って、放電セル２０２内において、中央
部だけでなく周辺部でも分散して開始されると共に、一
旦放電が開始されると、凹部を伝ってすばやく放電が広
がる。従って、放電セル内の広範囲にわたって強い放電
が均一的に分布することになる。またこれらの効果は、
表示電極１０３ａ，１０３ｂと凹部３０１との位置関係
が多少ずれたとしても大きく損なわれることはないの
で、両者の位置合わせを厳密に行わなくてもよく、この
点で製造が容易である。

【００４４】次に、複数の放電セルにまたがって溝を形
成し、その溝の一部が凹部になっている形態について説
明する。図５（ａ）〜（ｅ）に、誘電体層１０６に、複
数の放電セルにまたがる溝４０１ａ，４０１ｂ〜４０５
ａ，４０５ｂが形成されている例を示す。図５に示す
（ａ）〜（ｅ）に示す溝４０１ａ，４０１ｂ〜４０５
ａ，４０５ｂは、いずれも表示電極１０３ａ，１０３ｂ
（行電極）に沿って伸長している。

【００４５】そして、溝４０１〜４０５の一部が、各放
電セル２０２の凹部１０８に相当することになる。ただ
し、図５（ａ）に示す溝４０１ａ，４０１ｂは、表示電
極１０３ａ，１０３ｂに平行な直線状である。従って、
放電セル２０２における行方向中央部２０２ａでも行方
向周辺部２０２ｂでも、溝４０１ａと溝４０１ｂ間の距
離は同じである。

【００４６】これに対して、図５（ｂ）〜（ｄ）に示す
溝４０２ａ，４０２ｂ〜４０５ａ，４０５ｂはいずれも
蛇行しているが、各々が以下の特徴を備えている。この
中、（ｂ）に示す溝４０２ａ，４０２ｂ及び（ｄ）に示
す溝４０４ａ，４０４ｂは、放電セルの行方向中央部２
０２ａでは互いに接近し、行方向周辺部２０２ｂでは互
いに離れている。

【００４７】この場合、放電ギャップの行方向中央部２
０２ａ近くで、溝どうしが互いに接近しているので、放
電の開始は行方向中央部２０２ａに近いところでなされ
るが、溝に沿って行方向周辺部２０２ｂにも強い放電が
広がる。一方、（ｃ）に示す溝４０３ａ，４０３ｂ及び
（ｅ）に示す溝４０５ａ，４０５ｂは、放電セルの行方
向中央部２０２ａでは溝どうしが互いに離れ、行方向周
辺部２０２ｂでは溝どうしが互いに接近している。

【００４８】この場合、放電ギャップの行方向中央部２
０２ａ近くでは、溝どうしが互いに離れているので、放
電が、行方向中央部２０２ａだけでなく行方向周辺部２
０２ｂでも分散して開始される。従って、放電セル内の
広い範囲にわたって放電の起点が分布することになる。
また、上記の中、（ｂ）に示す溝４０２ａ，４０２ｂ及
び（ｃ）に示す溝４０３ａ，４０３ｂは曲線的に変化す
る波状に形成されているが、（ｄ）に示す溝４０４ａ，
４０４ｂ及び（ｅ）に示す溝４０５ａ，４０５ｂはギザ
状に形成されている。

【００４９】なお、図５の（ａ）〜（ｅ）に示した各溝
は、中央部と周辺部と溝幅が同等（すなわち溝幅が均一
的）であるが、溝幅が中央部と周辺部とで異なっても
（すなわち溝幅が不均一であっても）よい。次に、図６
（ａ）〜（ｅ）を参照しながら、第１凹部５０１ａ，第
２凹部５０１ｂ〜第１凹部５０５ａ，第２凹部５０５ｂ
が、放電セル２０２ごとに独立して島状に形成されてい
る形態について説明する。この（ａ）〜（ｅ）では、各
々１つの放電セル２０２に相当する部分だけを示してい
る。

【００５０】図６（ａ）に示す凹部５０１ａ，５０１ｂ
は、表示電極１０３ａ，１０３ｂに平行な直線状であ
る。従って、上記の第１溝４０１ａ，第２溝４０１ｂと
同様に、放電セル２０２における行方向中央部２０２ａ
でも行方向周辺部２０２ｂでも、凹部５０１ａと凹部５
０１ｂ間の距離は同じである。これに対して、図６
（ｂ）〜（ｄ）に示す凹部５０２ａ，５０２ｂ〜５０５
ａ，５０５ｂは、Ｕ字形またはＶ字形であって、凹部間
の距離が場所によって異なっている。

【００５１】この中、（ｂ）に示す凹部５０２ａ，５０
２ｂ及び（ｄ）に示す凹部５０４ａ，５０４ｂは、Ｕ字
形状またはＶ字形状であって谷側を互いに向合わせて
（端部どうしを対向させて）、配置されている。この場
合、上記溝４０３ａ，４０３ｂ及び溝４０５ａ，４０５
ｂと同様に、放電セルの行方向中央部２０２ａでは互い
に離れ、行方向周辺部２０２ｂでは互いに接近している
ので、放電が、中央部だけでなく周辺部でも分散して開
始される。従って、放電セル内の広い範囲にわたって強
い放電が分布することになる。

【００５２】一方、（ｃ）に示す凹部５０３ａ，５０３
ｂ及び（ｅ）に示す凹部５０５ａ，５０５ｂは、Ｕ字形
状またはＶ字形状であって、山側（頂部）を互いに向合
わせて配置されている。この場合、上記溝４０２ａ，４
０２ｂ及び溝４０４ａ，４０４ｂと同様に、放電セルの
行方向中央部２０２ａでは互いに接近し、行方向周辺部
２０２ｂでは互いに離れているので、放電の開始は中央
部でなされるが、その後、溝に沿って周辺部に強い放電
が広がっていく。

【００５３】なお、図６では、凹部の形状が直線状，Ｕ
字形及びＶ字形である例を示したが、円形、楕円、三角
形、菱形、多角形、Ｙ字形、Ｔ字形等の形状とすること
もできる。また、第１凹部と第２凹部とは同一形状でな
くてもよい。また、以上の説明では、図２の第１凹部１
０８ａ，第２凹部１０８ｂに示されるように、第１表示
電極１０３ａ側と第２表示電極１０３ｂ側とに凹部を分
散させて配置したが、表示電極１０３ａ，１０３ｂが伸
長する方向に分散させて配置してもよい。この場合、放
電セル内で放電の起点が放電セル２０２の長手方向と直
交する方向に分散されるので、発光輝度及び発光効率の
向上効果をある程度奏する。

【００５４】また、上記図５，図６に示した例では、各
放電セル内に形成する凹部の数は２個であるが、３個以
上形成しても同様の効果を奏する。（凹部の深さについての考察）上記図５，６に示す形態
の凹部の深さに関しては、浅すぎると凹部に局所的に電
荷を形成する作用が得られず、一方深すぎるとアドレス
が難しくなる。その点を考慮して、適当な深さは５μ〜
５０μｍであり、中でも１０μｍ〜４０μｍの範囲が好
ましく、更に２０μｍ〜３０μｍの範囲が好ましい。

【００５５】また、放電セル内において各凹部の深さを
一様に設定してもよいが、深さを部分的に変えることに
よって、放電強度を変化させたり、放電の発生形態を制
御することができる。例えば、凹部の中の一部分を局所
的に深くすることによって、その部分で放電開始の種火
を容易に形成することもできる。

【００５６】〔実施の形態２〕本実施の形態では、誘電
体層１０６の表面に、ＲＧＢ各色セルごとに異なる形態
で凹部を形成している。図７（ａ）では、誘電体層１０
６に、表示電極１０３に平行に溝６０１ａ，６０１ｂを
形成しているが、この溝６０１ａ，６０１ｂの溝幅は、
赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青
色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定され
ている。図７（ｂ）では、島状の凹部６０２ａ，６０２
ｂの面積が、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル
２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるよ
うに設定されている。

【００５７】いずれも、凹部の面積（体積）が、赤色の
放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放
電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定されてい
る。表示電極１０３ａ，１０３ｂ間に電圧印加したとき
に各色放電セルで発生する放電の広がりは、凹部の面積
（体積）が大きいほど大きくなるので、上記のように凹
部の面積（体積）を調整することによって、放電の広が
りを赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２
Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくすることがで
きる。

【００５８】ＲＧＢ各色の中、ブルー（Ｂ）は、もっと
も短い波長であって、同じ強度でも最もエネルギーが大
きい。そのため、ＲＧＢ各色蛍光体に同様の条件で紫外
線を照射すると、Ｂ色の蛍光体では、他の色と比べて発
光強度が得られない。これに対して、上記図７（ａ），
（ｂ）に示すように、凹部の面積または体積を変化させ
ることによって、各色発光量のバランスを調整すること
ができる。

【００５９】すなわち、青色セルの発光量が少ないのを
補い、それによって白色表示時の色温度も高く調整する
ことができる。なお、ＲＧＢ各色の発光量バランスをと
るために、従来技術として、ＲＧＢのそれぞれの隔壁の
間隔（セルピッチ）を変更して色温度を高める方法など
が知られているが、上記のように凹部の面積（体積）を
調整すれば、各色セル幅（セルピッチ）を同等に設定し
ても、ＲＧＢ各色の発光量バランスをとることができ
る。

【００６０】図８に示す溝６０３ａ，６０３ｂにおいて
は、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２
Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に、溝６０３ａ，６０
３ｂどうし間隔が広がるように形成されている。この場
合、放電セル２０２Ｒにおいては、溝６０３ａ，６０３
ｂによって形成される凹部が放電ギャップ２０１から近
い位置にあるが、放電セル２０２Ｇ、放電セル２０２Ｂ
では、溝６０３ａ，６０３ｂによって形成される凹部が
放電ギャップ２０１から順次遠く離れている。

【００６１】凹部の位置が放電ギャップから遠くなるに
つれて、表示電極１０３ａ，１０３ｂ間に電圧を印加す
るときに放電が大きく広がるので、放電セル２０２Ｒ、
放電セル２０２Ｇ、放電セル２０２Ｂの順に放電規模が
大きくなる。従って、図７と同様に、各色発光量のバラ
ンスを調整することができる。なお、上記説明では、放
電の広がりがＲＧＢの順に大きくなるように凹部の形状
を調整することとしたが、放電の広がりは、必ずしもＲ
ＧＢの順ということではなく、蛍光体層における可視光
変換効率の大小に応じて調整すればよい。すなわち、蛍
光体層の可視光変換効率が小さい色の放電セルについ
て、放電の広がりが大きくなるように凹部の形状を調整
すればよい。

【００６２】〔実施の形態３〕本実施の形態では、光遮
蔽領域から光透過領域に集光させるように誘電体層の厚
みを変化させることによって、発光効率を向上させてい
る。一般的にＰＤＰにおいて、セル内で発生した可視光
が前面基板をとおって外部に放出されるが、前面基板に
おいては、この可視光が透過しやすい透過領域と、透過
しにくい遮蔽領域が存在する。

【００６３】図９に示すＰＤＰにおいて、具体的には、
遮蔽領域は、不透明な金属からなるバス電極１０５や、
ブラックストライプ７０１が存在する領域であり、透過
領域はそれ以外の領域である。図９において、白抜矢印
は、放電セル内で発生して前面ガラス基板１０２を通過
して外部に向かう可視光の光束を示している。

【００６４】このＰＤＰにおいて、誘電体層１０６の表
面は、遮蔽領域（バス電極１０５やブラックストライプ
７０１が配されている領域）に向かう光束７０２ａが、
透過領域の方に屈折するように曲折している。すなわ
ち、誘電体層１０６は、セル内で発生する可視光を、遮
蔽領域から透過領域に集光させるレンズ形状を有してい
る。

【００６５】保護層１０７は、誘電体層１０６の表面に
沿って曲折しながらこれを被覆している。誘電体層１０
６の表面が前面ガラス基板１０２と平行であるとすれ
ば、光束７０２ａは、バス電極１０５やブラックストラ
イプ７０１で遮蔽されてしまうが、上記のように光束７
０２ａが透過領域に屈折することによって、遮られる光
量が抑えられるので、発光効率を向上させることができ
る。

【００６６】〔ＰＤＰの製造方法について〕以下、上記
ＰＤＰの製造方法について説明する。まず、前面パネル
１０１を製造する方法について、特に誘電体層１０６を
形成する工程（転写フィルム作製工程、転写工程、焼成
工程）について説明する。電極形成工程：前面ガラス基板１０２として、フロート
法により製造されたガラス板を用いる。この前面ガラス
基板１０２上に、通常の薄膜形成法で透明電極１０４を
形成する。

【００６７】透明電極１０４上に、銀粉末、有機バイン
ダー、ガラスフリット、有機溶剤などを含む銀ペースト
を用いて、バス電極１０５の前駆体である銀電極前駆体
層を形成する。この銀ペーストを、スクリーン印刷法を
用いて、バス電極１０５のパターン形状に塗布し乾燥し
てもよいし、スクリーン印刷法やダイコート法などを用
いてベタで塗布し乾燥した後、フォトリソグラフィー法
（或はリフトオフ法）でパターニングを行っても良い。

【００６８】一方、銀電極転写フィルムを用いる場合、
上記銀ペーストと同様の成分をフィルム状に加工して銀
電極転写フィルムを作製し、当該フィルムを透明電極１
０４上にラミネートすることによって銀電極前駆体層を
形成する。銀電極前駆体層は、焼成せずに、次の誘電体
層を形成する工程で、誘電体前駆体層と同時に焼成す
る。ただし、電極前駆体を焼成し、次の誘電体層を形成
する工程に移ってもよい。

【００６９】なお、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ電極を形成する場
合は、薄膜を蒸着する方法を用いて形成する。転写フィルム作製工程：まず、誘電体前駆体層を有する
転写フィルムを以下のようにして作製する。ガラス粉
末、樹脂および溶剤を含有するペースト状のガラス粉末
含有組成物（ガラスペースト組成物）を調製する。

【００７０】ここで使用するガラス粉末としては、Ｐｂ
Ｏ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系、ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系、
ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃系、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ
₃−ＳｉＯ₂系などが挙げられ、軟化点が焼成温度付近の
ものを使用することが好ましい。樹脂としては、エチル
セルロース、アクリル樹脂等が挙げられる。溶剤として
は、酢酸ｎ−ブチル、ＢＣＡ、ターピネオールなどが挙
げられる。

【００７１】次に、このガラスペースト組成物を支持フ
ィルム上に塗布し、乾燥する。これによって、誘電体前
駆体からなる膜が形成され、転写フィルムが作製され
る。支持フィルムの材料となる材質としては、可撓性を
有する樹脂が好ましく、例えばポリエチレン，ポリプロ
ピレン，ポリスチレン，ポリイミド，ポリビニルアルコ
ール，ポリ塩化ビニルなどが挙げられ、支持フィルムの
厚さは例えば２０〜１００μｍである。

【００７２】この塗布に際しては、ローラーコーターに
よる塗布方法、ドクターブレードなどのブレードコータ
ーによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法な
どを用いることができる。誘電体前駆体層の表面上に、
可撓性を有する樹脂からなるカバーフィルムを圧着して
積層しておくことによって、転写フィルムの取り扱いが
しやすくなる。なお、支持フィルム及びカバーフィルム
は、転写時に容易に剥離できるように表面に離型処理を
施しておくことが好ましい。

【００７３】転写工程：このように作製した転写フィル
ムを用い、上記工程で電極前駆体が形成された前面ガラ
ス基板１０２上に、誘電体前駆体層を熱転写するが、こ
の転写の前または後で、誘電体前駆体層に型押しするこ
とによって凹部を形成する。ここで、「凹部を形成す
る」というのは、「層の厚みを部分ごとに変化させる」
という意であって、層に溝や凹部を形成するだけでな
く、テクスチャ構造を形成することや上記実施の形態３
のように層の厚みを変化させることも含んでいる。

【００７４】上記のように作製した転写フィルムの誘電
体前駆体層は、やわらかい粘土のような粘着性および適
度な形状保持性を有する。従って、この誘電体前駆体層
は、ガラス基板上に熱圧着することによって容易に熱転
写されるし、鋳型や突起を有する型を誘電体前駆体層に
圧着することにより、凹部を形成することができる。

【００７５】この型押しに際して、誘電体前駆体層に形
成しようとする凹部の形状と同形状の凸部を有する型を
用いる。ただし、誘電体前駆体層は、焼成することによ
って収縮し、凹部もそれに伴って収縮するので、誘電体
前駆体層に型押しで凹部の深さは、この収縮率を考慮し
て設定する。

【００７６】また、支持フィルムの上から誘電体前駆体
層を型押しをすることによって、凹部形成時に誘電体前
駆体層にダストが混入するのを防ぐことができる。ここ
で、支持フィルムも可撓性を有するので、支持フィルム
の上から誘電体前駆体層を型押ししても、誘電体前駆体
層に凹部を形成することができる。この転写並びに型押
し工程について、具体的に説明する。

【００７７】図１０（ａ），（ｂ）は、型押しと転写と
を合わせて行うラミネート装置の概略構成図である。こ
れらのラミネート装置には、加熱ローラ８１０の他に型
押しローラ８２０が備えられており、転写フィルム８０
０と、電極前駆体が形成された前面ガラス基板１０２が
送り込まれるようになっている。

【００７８】送り込まれる転写フィルム８００は、カバ
ーフィルムが剥離されたものであって、支持フィルム８
０１上に誘電体前駆体層８０２が形成されたものであ
る。そして、前面ガラス基板１０２の電極前駆体が形成
された表面に、誘電体前駆体層８０２の表面が接するよ
うに転写フィルム８００を重ね合わせながら、支持フィ
ルム８０１の上から加熱ローラ８１０により熱圧着する
ことによって、誘電体前駆体層８０２を基板１０２上に
転写する。

【００７９】熱転写の条件としては、例えば、加熱ロー
ラの表面温度が６０〜１２０℃、そのローラ圧が１〜５
ｋｇ／ｃｍ²、加熱ローラの移動速度が０．２〜１０．
０ｍ／分である。供給する基板１０２は、例えば４０〜
１００℃に予熱しておいてもよい。図１０（ａ）のラミ
ネート装置では、加熱ローラ８１０で誘電体前駆体層８
０２を転写した後、続いて、前面ガラス基板１０２上に
転写された誘電体前駆体層８０２に、型押しローラ８２
０を圧着することにより、誘電体前駆体層８０２の表面
に凹部を形成する。なお、この型押しローラ８２０は加
熱しなくても良い。

【００８０】図１１に示すように、型押しローラ８２０
には、誘電体前駆体層８０２の表面に形成しようとする
凹部と同形状の凸部８２２が形成されている。図１１に
示すものでは、円筒ローラ８２１の外周面上に、回転方
向に沿って環状の凸部８２２が形成されている。この型
押しローラ８２０を用いると、図５（ａ）に示すような
平行な溝を形成することができるが、凸部８２２を波状
あるいはギザ状に蛇行されることによって図５（ｂ）、
（ｃ）あるいは（ｄ）、（ｅ）に示すような形状の溝も
形成できる。また、凸部８２２を島状に形成することに
よって、図６に示すような島状の凹部を形成することが
できる。

【００８１】この型押しに際して、誘電体前駆体層６０
２に形成される凹部の位置と、表示電極１０３ａ，１０
３ｂとが、所定の位置関係となるように、凸部８２２が
誘電体前駆体層６０２を押圧する位置と、表示電極１０
３ａ，１０３ｂとの位置を合わせながら行う。なお、こ
の方法で凹部を形成する場合、図６のように島状の凹部
を形成するよりも、図５のように溝を形成する方が、型
押しで凹部を形成した後に型を抜くのが容易であるし、
位置合わせもしやすいので、製造上有利である。

【００８２】支持フィルム８０１の剥離については、型
押しの前で行っても後で行ってもよい。例えば、図１０
（ａ）に示すように、型押しローラ８２０による型押し
を支持フィルム８０１の上から行って、次の焼成工程の
直前に支持フィルム８０１の剥離を行ってもよく、この
場合、支持フィルム８０１によって誘電体前駆体層８０
２の表面が保護されるので、異物の影響を受けにくいと
いう利点がある。

【００８３】一方、転写された誘電体前駆体層８０２か
ら支持フィルム８０１を剥離した後に型押しローラ８２
０による型押しを行ってもよく、この場合、支持フィル
ム８０１を介さず直接型押しされるので、凹部の形状を
より精密に形成することができる。一方、図１０（ｂ）
に示すラミネート装置では、型押しローラ８２０を加熱
ローラ８１０の前に配置して、転写フィルムの誘電体前
駆体層に対して、型押しローラ８２０で凹部を形成した
後、前面ガラス基板１０２に熱転写するようになってい
る。

【００８４】上記図１０（ａ）のように前面ガラス基板
１０２上に誘電体前駆体層８０２を転写した後に型押し
ローラ８２０で凹部を形成する方法の場合、前面ガラス
基板１０２の厚みが一様でないと全体に均一的に凹部を
形成することが難しいが、図１０（ｂ）のように、転写
フィルムに対して転写前に型押しローラ８２０で凹部を
形成する方法を用いれば、前面ガラス基板１０２のの厚
みが一様でなかったとしても、全体に均一的に凹部を形
成することが可能である。

【００８５】なお、ここでは、型押しローラ８２０をラ
ミネート装置に設置する例を示したが、予め転写フィル
ムに対して型押しローラ８２０で凹部を形成しておき、
その凹部を形成した転写フィルムをラミネート装置に供
給して、前面ガラス基板１０２に熱転写するようにして
もよい。その他、転写工程において、誘電体前駆体層に
凹部を形成する方法として、以下のような方法も可能で
ある。

【００８６】図１０（ａ），（ｂ）の装置では、加熱ロ
ーラ８１０と型押しローラ８２０とが別々に備えられて
いるが、転写ローラ自体に凸部を形成することによっ
て、型押しローラとしての働きを兼ね備えるようにする
こともできる。また、誘電体前駆体層を前面ガラス基板
１０２に熱転写する工程では、誘電体前駆体層に凹部を
形成することなく、後述するように、誘電体前駆体層を
焼成する直前に、支持フィルムを除去する際に凹部を形
成することもできる。

【００８７】また、上記説明では、誘電前駆体層に、型
押しローラを用いて凹部を形成したが、平板状の型を用
いて凹部を形成することもできる。ただし、転写フィル
ムを連続的に繰り出しながら連続的に凹部を形成するこ
とを考慮すると、型押しローラを用いる方が容易であ
る。また、型押しローラを用いる方が、前面ガラス基板
１０２もしくは誘電体前駆体層が偏肉していても、均一
的な深さで凹部を形成できる。

【００８８】焼成工程：型押しされた誘電体前駆体層８
０２を有する前面ガラス基板１０２を、焼成炉に入れて
焼成する。ただし、誘電体前駆体層８０２を支持フィル
ム８０１が覆っている場合、支持フィルム８０１を剥離
する装置（支持フィルムピーラー）を焼成炉の入口に設
け、支持フィルムを剥離除去してから基板を焼成炉に入
れて焼成する。

【００８９】焼成炉では、電極前駆体及び誘電体前駆体
層に含まれるガラス成分の軟化点以上の温度で、数分〜
数十分間、基板を放置し、その後、降温する。この操作
により、電極前駆体は電極に、誘電体前駆体層は誘電体
層に変化する。それによって、凹部を有する誘電体層１
０６が、前面ガラス基板１０２上に形成される。

【００９０】保護層形成工程：誘電体層１０６の上に、
電子ビーム蒸着などによりＭｇＯからなる保護層１０７
を形成する。保護層は、誘電体層１０６の凹部内面にも
形成する。以上で前面パネルができあがる。背面パネルの製造方法：背面ガラス基板１１２上に、銀
電極用のペーストをスクリーン印刷しその後焼成するこ
とによってアドレス電極１１３を形成し、その上に、誘
電体ペーストをスクリーン印刷法で塗布して焼成するこ
とによって誘電体層１１４を形成する。

【００９１】誘電体層１１４の上に、隔壁１１５を形成
する。隔壁１１５は、隔壁用のガラスペーストをスクリ
ーン印刷法で塗布した後、焼成することによって、もし
くはベタ膜を形成、乾燥したあとフォトリソグラフィー
とサンドブラストを用いて形成する。そして、赤色，緑
色，青色の各色蛍光体ペースト（または蛍光体インキ）
を作製し、これを隔壁１１５どうしの間隙に塗布し、空
気中で焼成することによって各色蛍光体層１１６を形成
する。以上で、背面パネル１１１ができあがる。

【００９２】上記のように作製した前面パネル１０１及
び背面パネル１１１を、表示電極１０３ａ，１０３ｂと
アドレス電極１１３が交差するように位置合わせをして
重ね合わせ、周辺部をシール材によって封着する。そし
て、隔壁１１５で仕切られた内部空間からガス排気を行
い、次にＮｅ−Ｘｅ等の放電ガスを封入し、内部空間を
封止する。以上でＰＤＰが完成する。

【００９３】（本製造方法による効果について）上記製
造方法において、使用する型押しローラ８２０の凸部形
状を調整することによって、誘電体層に、上記図５〜８
に示す形状の凹部や、図３，４に示すようなテクスチャ
構造を形成することができる。また、図９に示すように
誘電体層の厚みを変化させることもできる。

【００９４】特に、テクスチャ構造については、型押し
ローラで型押しする方法を用いることによって容易に形
成することができる。また、上記型押し方法を用いれ
ば、誘電体層の表面に形成する凹部の形状については、
上記図３〜８に示したものに限らず、任意の形状で形成
することができる。また、セル内における凹部の数につ
いても、２個に限らず、１以上の任意の数で形成でき
る。

【００９５】以上説明したように、本製造方法によれ
ば、比較的少ない工程数で且つ歩留まりも良く、誘電体
層表面に凹部を形成することができる。つまり、誘電体
層の膜厚を領域ごとに変える方法として、まず誘電体ガ
ラスペーストを全体領域に一様に塗布し、その上に、ス
クリーン印刷法などによって、凹部形成予定領域を除く
領域に、誘電体ガラスペーストをパターン塗布するとい
う方法もある。

【００９６】しかし、この方法では、誘電体ガラスペー
ストの塗布を２回行う必要があり、それに伴ってコスト
もかかる。更に、スクリーン印刷法を用いてパターン塗
布する場合、スクリーン版の伸びや劣化によって形成さ
れる凹部の形状が変わったり、ガラスペーストの特性変
化によってペーストの塗布状態にばらつき生じるので、
歩留まりが悪くなる。

【００９７】なお、誘電体層の表面に凹部を形成するに
は、フォトリソ法を用い、誘電体前駆体層の凹部を形成
しようとする部分を現像によって除去することによっ
て、誘電体前駆体層をパターニングするという方法をと
ることもできるが、この方法では、細かい領域を現像に
よって除去することは難しいので、テキスチャ構造や図
６に示す島状の凹部を正確に形成するのは難しく、製造
不良が発生しやすい。

【００９８】これに対して、本実施形態の方法によれ
ば、誘電体ガラスペースト組成物の塗布回数は１回で済
み、また型押しによって一定形状の凹部が形成されるの
で歩留まりも良好であり、細かい形状の凹部も比較的正
確に形成することができる。従って、歩留まりが良好と
なる。よって、誘電体層の表面に凹部が形成されたＰＤ
Ｐを、比較的低コストで製造できる。

【００９９】（誘電体前駆体層に凹部を形成する方法の
変形例）上記説明では、転写フィルムを基板上に転写す
る転写装置に型押しローラを設け、その型押しローラで
誘電体前駆体層に凹部を形成したが、誘電体前駆体層に
凹部を形成する方法として、以下のような方法をとるこ
ともできる。転写装置とは別の装置において、型押しロ
ーラを用いて、転写フィルムに凹部を形成してもよい。

【０１００】また、誘電体前駆体層を基板上に転写する
工程では誘電体前駆体層に凹部を形成せず、焼成工程で
用いる剥離装置に型押しローラを設置しておいて、基板
に転写された誘電体前駆体層上の支持フィルムを剥がす
直前又は直後に、型押しローラで、当該誘電体前駆体層
の表面に凹部を形成してもよい。

【０１０１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第１基板及び第２基板が間隔をおいて並設され、第１基
板の対向面上に、対を成す表示電極と、当該表示を覆う
誘電体層とが形成され、第２基板の対向面上に蛍光体層
が形成され、対を成す表示電極に沿って、複数の放電セ
ルが形成されたＰＤＰにおいて、誘電体層の表面に、各
放電セル内に、２個以上の凹部を形成することによっ
て、発光輝度と発光効率を向上させることを可能とし
た。

【０１０２】また、上記構成のＰＤＰにおいて、放電セ
ル内の蛍光体層の色ごとに凹部の形状を異ならせること
によって、駆動回路で調整しなくても、各色の発光量バ
ランスをとることによって、白色表示時において高い色
温度が得られるようにした。また、本発明では、前面基
板及び背面基板が間隔をおいて並設され、前面基板の対
向面上に、表示電極対と、当該表示電極対を覆う誘電体
層とが形成され、示電極対に沿って複数の放電セルが形
成され、各放電セルの前面基板側に、当該放電セルで発
する可視光を透過しやすい透過領域と当該可視光を透過
しにくい遮蔽領域とを有するＰＤＰにおいて、誘電体層
の厚みを、放電セルにおいて発生し遮蔽領域に向かう光
束を透過領域に屈折させるように、領域ごとに異ならせ
ることによっても、発光輝度と発光効率を向上させるこ
とを可能とした。

【０１０３】また、本発明では、上記のように誘電体層
の表面に凹部が形成されたＰＤＰを製造する際に、複数
対の表示電極が配された第１基板上に、表示電極を覆っ
て誘電体層を形成する工程において、支持フイルム上に
誘電体前駆体層を成形して転写フイルムを作製し、転写
フィルムの誘電体前駆体層に凹部を形成し、その後に、
転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写する
こととした。あるいは、支持フイルム上に誘電体前駆体
層を成形して転写フイルムを作製し、転写フィルムの誘
電体前駆体層を第１基板上に転写し、第１基板上に転写
された誘電体前駆体層に凹部を形成することとした。そ
して、それによって、少ない工程数で、歩留まりを良く
し、低コスト化を実現した。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態にかかるＰＤＰを示す要部斜視図で
ある。

【図２】表示電極対、アドレス電極及び隔壁が配置され
ている状態を示す図である。

【図３】誘電体層の表面をテクスチャー構造とした例を
示す断面図である。

【図４】誘電体層の表面をテクスチャー構造とした例を
示す斜視図である。

【図５】誘電体層の表面に、複数の放電セルにまたがる
溝が形成されている例を示す図である。

【図６】誘電体層の表面に、第１凹部，第２凹部が、放
電セルごとに独立して島状に形成されている例を示す図
である。

【図７】誘電体層の表面に、ＲＧＢ各色セルごとに異な
る形態で凹部を形成する例を示す図である。

【図８】誘電体層の表面に、ＲＧＢ各色セルごとに異な
る形態で凹部を形成する別の例を示す図である。

【図９】光遮蔽領域から光透過領域に集光させるように
誘電体層の厚みを変化させる例を示す図である。

【図１０】型押しと転写とを行うラミネート装置の概略
構成図である。

【図１１】型押しローラの構造を示す斜視図である。

【符号の説明】

１０１前面パネル１０２前面ガラス基板１０３ａ，１０３ｂ表示電極１０６誘電体層１０７保護層１０８凹部１０８ａ第１凹部１０８ｂ第２凹部１１１背面パネル１１２背面ガラス基板１１３アドレス電極１１４誘電体層１１５隔壁１１６蛍光体層２０１放電ギャップ２０２放電セル３０１凹部３０２凸部４０１〜４０５溝５０１ａ，５０１ｂ〜５０５ａ，５０５ｂ凹部６０２誘電体前駆体層８００転写フィルム８０１支持フィルム８０２誘電体前駆体層８１０加熱ローラ８２０型押しローラ８２２凸部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者住田圭介大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者芦田英樹大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者日比野純一大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (56)参考文献特開平９−102273（ＪＰ，Ａ) 特開平10−326562（ＪＰ，Ａ) 特開平９−283017（ＪＰ，Ａ) 特開2000−315459（ＪＰ，Ａ) 特開2001−351533（ＪＰ，Ａ) 特開2002−231127（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 11/02 H01J 9/02

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】複数対の表示電極が配された第１基板上
に、当該表示電極を覆って誘電体層を形成する第１工程
と、前記１基板の誘電体層を形成した側に、第２基板を間隔
をおいて並設する第２工程とを備えるプラズマディスプ
レイパネルの製造方法において、前記第１工程は、支持フイルム上に誘電体前駆体層を形成して転写フイル
ムを作製する転写フィルム作製ステップと、前記転写フィルムの誘電体前駆体層に凹部を形成する凹
部形成ステップと、前記凹部形成ステップの後に、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写する
転写ステップとを備えることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。
【請求項２】前記凹部形成ステップでは、前記転写フィルムの表面に、凸形状を有する基体を押し
付けることによって凹部を形成することを特徴とする請
求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】前記基体は、平板状であることを特徴と
する請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項４】前記基体は、ローラー状であることを特
徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項５】複数対の表示電極が配された第１基板上
に、当該表示電極を覆って誘電体層を形成する第１工程
と、前記１基板の誘電体層を形成した側に、第２基板を間隔
をおいて並設する第２工程とを備えるプラズマディスプ
レイパネルの製造方法において、前記第１工程は、支持フイルム上に誘電体前駆体層を形成して転写フイル
ムを作製する転写フィルム作製ステップと、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写する
転写ステップと、第１基板上に転写された誘電体前駆体層に凹部を形成す
る凹部形成ステップとを備えることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】前記凹部形成ステップでは、前記転写された誘電体前駆体層の表面に、凸部を有する
基体を押し付けることによって凹部を形成することを特
徴とする請求項５記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項７】前記基体は、平板状であることを特徴と
する請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項８】前記基体は、ローラー状であることを特
徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項９】前記凹部形成ステップでは、フォトリ
ソ法を用い凹部を形成しようとする部分を現像によって
除去することによって，前記誘電体前駆体層に凹部を形
成することを特徴とする請求項１又は５記載のプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】プラズマディスプレイパネルの誘電体
層を形成するのに用いられ、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体前駆体から成る誘電体
前駆体層が支持フィルム上に形成された転写フィルムで
あって、前記誘電体前駆体層には、各放電セルに相当する位置に
合わせて凹部が形成されていることを特徴とする転写フ
ィルム。
【請求項１１】プラズマディスプレイパネルの誘電体
層を形成するのに用いられる転写フィルムの製造方法で
あって、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体組成物から成る誘電体
前駆体層を支持フィルム上に形成する誘電体前駆体層形
成ステップと、前記誘電体前駆体層の片面または両面に凹部を形成する
凹部形成ステップとを備えることを特徴とする転写フィ
ルムの製造方法。
【請求項１２】プラズマディスプレイパネルの誘電体
層を形成するための誘電体前駆体層を有する転写フィル
ムを基板上にラミネートするラミネート装置であって、前記転写フイルムが前記基板に転写される前に，前記転
写フィルムの表面に凹部を形成するための突起を有する
ローラーまたは平板が備えられていることを特徴とする
ラミネート装置。
【請求項１３】プラズマディスプレイパネルの誘電体
層を形成するための誘電体前駆体層を支持フイルム上に
形成する転写フィルム作成装置であって、突起を有するローラーまたは平板が備えられ，当該ロー
ラ又は平板で型押しすることによって，誘電体前駆体層
の表面に凹部を形成することを特徴とする転写フィルム
作成装置。
【請求項１４】プラズマディスプレイパネルの誘電体
層を形成するのに用いられ、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体前駆体から成る誘電体
前駆体層上を覆うフィルムを取り除く装置であって、突起を有するローラーまたは平板が備えられ，基板に転
写された誘電体前駆体上の支持フイルムを剥がす直前又
は直後に，当該ローラ又は平板で型押しすることによっ
て，誘電体前駆体層の表面に凹部を形成することを特徴
とする装置。
【請求項１５】請求項１〜９のいずれかに記載の方法
によって作製されたことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項１６】プラズマディスプレイパネルの誘電体
層を形成するための誘電体前駆体層を有する転写フィル
ムを基板上にラミネートするラミネート装置であって、前記転写フイルムを前記基板にラミネートした後に，前
記転写フィルムの表面に凹部を形成するための突起を有
するローラーまたは平板が備えられていることを特徴と
するラミネート装置。
【請求項１７】前記凹部の深さは、５μ〜５０μｍの
範囲であることを特徴とする請求項１又は５の何れかに
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】前記凹部の深さを放電セル内において
部分的に異ならせることを特徴とする請求項１又は５の
何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項１９】凹部の中の一部分を局所的に深くする
ことを特徴とする請求項１８記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項２０】前記凹部形成ステップでは、前記転写された誘電体前駆体層の表面に、支持フィルム
を介して，凸部を有する基体を押し付けることによって
凹部を形成することを特徴とする請求項２又は６の何れ
かに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。