JPH11306994A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル及びその製造方法Info
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- JPH11306994A JPH11306994A JP10126893A JP12689398A JPH11306994A JP H11306994 A JPH11306994 A JP H11306994A JP 10126893 A JP10126893 A JP 10126893A JP 12689398 A JP12689398 A JP 12689398A JP H11306994 A JPH11306994 A JP H11306994A
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- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 誘電体層の透過率を向上させるとともに信頼
性を向上させたプラズマディスプレイパネル及びその製
造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 透明導電膜と金属膜とからなる行電極を
有し、金属膜上の誘電体層の表面及び／又は隔壁に対向
する部分の誘電体層の表面を他の部分に対して突出させ
たプラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体層が、
第１のガラス材料を焼成して形成され行電極を含む表示
面側の基板の内面を一様に被覆する第１の誘電体層と、
金属膜上及び／又は隔壁に対向する部分に第２のガラス
材料を焼成して形成された第２の誘電体層と、第３のガ
ラス材料をその軟化点より十分高い温度で焼成して形成
され第１及び第２の誘電体層を被覆する第３の誘電体層
とからなることを特徴とする。
性を向上させたプラズマディスプレイパネル及びその製
造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 透明導電膜と金属膜とからなる行電極を
有し、金属膜上の誘電体層の表面及び／又は隔壁に対向
する部分の誘電体層の表面を他の部分に対して突出させ
たプラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体層が、
第１のガラス材料を焼成して形成され行電極を含む表示
面側の基板の内面を一様に被覆する第１の誘電体層と、
金属膜上及び／又は隔壁に対向する部分に第２のガラス
材料を焼成して形成された第２の誘電体層と、第３のガ
ラス材料をその軟化点より十分高い温度で焼成して形成
され第１及び第２の誘電体層を被覆する第３の誘電体層
とからなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、面放電型交流駆動
方式のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及びその
製造方法に関する。
方式のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及びその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大型で且つ薄型のカラー表示装置
として面放電型交流駆動方式のＰＤＰの実用化が期待さ
れている。面放電型交流駆動方式のＰＤＰの構造の一例
を図４に示す。図４において、表示面側となるガラス基
板１１には、透明導電膜１３ａと、透明導電膜１３ａの
導電性を補うために透明導電膜１３ａの端部に積層され
た金属膜１３ｂからなる複数対の行電極Ｘ、Ｙが互いに
平行となるように配置されて形成され、さらに、行電極
Ｘ、Ｙを被覆して誘電体層１４が形成されている。
として面放電型交流駆動方式のＰＤＰの実用化が期待さ
れている。面放電型交流駆動方式のＰＤＰの構造の一例
を図４に示す。図４において、表示面側となるガラス基
板１１には、透明導電膜１３ａと、透明導電膜１３ａの
導電性を補うために透明導電膜１３ａの端部に積層され
た金属膜１３ｂからなる複数対の行電極Ｘ、Ｙが互いに
平行となるように配置されて形成され、さらに、行電極
Ｘ、Ｙを被覆して誘電体層１４が形成されている。
【０００３】また、誘電体層１４の金属膜１３ｂに対応
する反対側に嵩上げ誘電体層１４ａがほぼ金属膜１３ｂ
と同じ幅で金属膜１３ｂと平行に形成され、誘電体層１
４の表面に他の部分に対して突出させた突出部分を有し
ており、嵩上げ誘電体層１４ａは、放電の広がりを規制
して隣接する放電セルの誤放電を防止する効果を得てい
る。
する反対側に嵩上げ誘電体層１４ａがほぼ金属膜１３ｂ
と同じ幅で金属膜１３ｂと平行に形成され、誘電体層１
４の表面に他の部分に対して突出させた突出部分を有し
ており、嵩上げ誘電体層１４ａは、放電の広がりを規制
して隣接する放電セルの誤放電を防止する効果を得てい
る。
【０００４】一方、背面側のガラス基板１２の内面側に
は、所定の間隔で配置される複数の列電極１６が互いに
平行に形成され、さらにそれぞれの列電極１６を被覆す
る蛍光体層１７が形成されている。ガラス基板１１とガ
ラス基板１２は、行電極Ｘ、Ｙと列電極１６が互いに直
交するように離間配置されて放電空間１８を形成し、放
電空間１８内には希ガスが封入され充満している。
は、所定の間隔で配置される複数の列電極１６が互いに
平行に形成され、さらにそれぞれの列電極１６を被覆す
る蛍光体層１７が形成されている。ガラス基板１１とガ
ラス基板１２は、行電極Ｘ、Ｙと列電極１６が互いに直
交するように離間配置されて放電空間１８を形成し、放
電空間１８内には希ガスが封入され充満している。
【０００５】また、背面側のガラス基板１２上のそれぞ
れの列電極１６間には、所定高さの図示しないリブ（隔
壁）が形成されていて、それぞれ交差する複数対の行電
極Ｘ、Ｙと複数の列電極１６を区画して、所定の面積の
発光面を有する単位発光領域を形成する。
れの列電極１６間には、所定高さの図示しないリブ（隔
壁）が形成されていて、それぞれ交差する複数対の行電
極Ｘ、Ｙと複数の列電極１６を区画して、所定の面積の
発光面を有する単位発光領域を形成する。
【０００６】上述の誘電体層１４及び１４ａは、例えば
酸化鉛（ＰｂＯ）を含む低融点ガラスペーストを複数対
の行電極Ｘ、Ｙ上に塗布し、焼成して形成される。ま
た、金属膜は透明導電膜の導電性を補うために低抵抗で
あることが要求されることから、Ａｌ（アルミニウ
ム）、Ａｌ合金、又はＡｇ（銀）、Ａｇ合金などが用い
られている。
酸化鉛（ＰｂＯ）を含む低融点ガラスペーストを複数対
の行電極Ｘ、Ｙ上に塗布し、焼成して形成される。ま
た、金属膜は透明導電膜の導電性を補うために低抵抗で
あることが要求されることから、Ａｌ（アルミニウ
ム）、Ａｌ合金、又はＡｇ（銀）、Ａｇ合金などが用い
られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したように嵩上げ
誘電体層を設ける構造では、下層となる誘電体層に用い
られるガラス材料又はその焼成条件が制限され、誘電体
層の透過率が不十分であった。すなわち、誘電体層とし
て、低軟化点のガラス材料を用い、その軟化点より十分
高い温度で焼成すれば、透過率が向上するが、嵩上げ誘
電体層を形成するガラス材料の焼成時、下層となる誘電
体層の流動性が増し、嵩上げ誘電体層を所定の形状に保
つことが困難になる。また、焼成中にガラス材料が電極
と反応し、誘電体層内に気泡が発生し易いという問題が
あった。このような気泡が誘電体層内に生じると耐圧が
低下し絶縁破壊が生じ易くなる。本発明は、上記の問題
を解決するためになされたものであり、誘電体層の透過
率を向上させるとともに信頼性を向上させたプラズマデ
ィスプレイパネル及びその製造方法を提供することを目
的とする。
誘電体層を設ける構造では、下層となる誘電体層に用い
られるガラス材料又はその焼成条件が制限され、誘電体
層の透過率が不十分であった。すなわち、誘電体層とし
て、低軟化点のガラス材料を用い、その軟化点より十分
高い温度で焼成すれば、透過率が向上するが、嵩上げ誘
電体層を形成するガラス材料の焼成時、下層となる誘電
体層の流動性が増し、嵩上げ誘電体層を所定の形状に保
つことが困難になる。また、焼成中にガラス材料が電極
と反応し、誘電体層内に気泡が発生し易いという問題が
あった。このような気泡が誘電体層内に生じると耐圧が
低下し絶縁破壊が生じ易くなる。本発明は、上記の問題
を解決するためになされたものであり、誘電体層の透過
率を向上させるとともに信頼性を向上させたプラズマデ
ィスプレイパネル及びその製造方法を提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明による請求項１に
記載の発明は、放電空間を介して対向配置された一対の
基板の内の表示面側の基板の内面に、放電ギャップを挟
んで平行に第１の方向に伸び対をなす複数の行電極と、
行電極を放電空間に対して被覆する誘電体層と、表示面
側の基板と対向して配置された背面側の基板の内面に、
放電空間を単位発光領域毎に区画する帯状の隔壁とを備
え、行電極は透明導電膜と放電ギャップとは反対側の縁
部にて透明導電膜に重なる金属膜とからなり、金属膜上
の誘電体層の表面及び／又は隔壁に対向する部分の誘電
体層の表面を他の部分に対して突出させたプラズマディ
スプレイパネルであって、誘電体層が、第１のガラス材
料を焼成して形成され行電極を含む表示面側の基板の内
面を一様に被覆する第１の誘電体層と、金属膜上及び／
又は隔壁に対向する部分に第２のガラス材料を焼成して
形成された第２の誘電体層と、第３のガラス材料をその
軟化点より十分高い温度で焼成して形成され第１及び第
２の誘電体層を被覆する第３の誘電体層とからなること
を特徴とする。
記載の発明は、放電空間を介して対向配置された一対の
基板の内の表示面側の基板の内面に、放電ギャップを挟
んで平行に第１の方向に伸び対をなす複数の行電極と、
行電極を放電空間に対して被覆する誘電体層と、表示面
側の基板と対向して配置された背面側の基板の内面に、
放電空間を単位発光領域毎に区画する帯状の隔壁とを備
え、行電極は透明導電膜と放電ギャップとは反対側の縁
部にて透明導電膜に重なる金属膜とからなり、金属膜上
の誘電体層の表面及び／又は隔壁に対向する部分の誘電
体層の表面を他の部分に対して突出させたプラズマディ
スプレイパネルであって、誘電体層が、第１のガラス材
料を焼成して形成され行電極を含む表示面側の基板の内
面を一様に被覆する第１の誘電体層と、金属膜上及び／
又は隔壁に対向する部分に第２のガラス材料を焼成して
形成された第２の誘電体層と、第３のガラス材料をその
軟化点より十分高い温度で焼成して形成され第１及び第
２の誘電体層を被覆する第３の誘電体層とからなること
を特徴とする。
【０００９】また、請求項２に記載の発明は、放電空間
を介して対向配置された一対の基板の内の表示面側の基
板の内面に、放電ギャップを挟んで平行に第１の方向に
伸び対をなす複数の行電極と、行電極を放電空間に対し
て被覆する誘電体層と、表示面側の基板と対向して配置
された背面側の基板の内面に、放電空間を単位発光領域
毎に区画する帯状の隔壁とを備え、行電極は透明導電膜
と放電ギャップとは反対側の縁部にて透明導電膜に重な
る金属膜とからなり、金属膜上の誘電体層の表面及び／
又は隔壁に対向する部分の誘電体層の表面を他の部分に
対して突出させたプラズマディスプレイパネルの製造方
法であって、誘電体層を形成する工程は、行電極を含む
表示面側の基板上に第１のガラス材料からなる第１の誘
電体層を形成する工程と、第１の誘電体層に重ねて金属
膜上及び／又は隔壁に対向する部分に第２のガラス材料
からなる第２の誘電体層を形成する工程と、第１及び第
２の誘電体層上に第３のガラス材料をその軟化点より十
分高い温度で焼成して第３の誘電体層を形成する工程と
を有することを特徴とする。
を介して対向配置された一対の基板の内の表示面側の基
板の内面に、放電ギャップを挟んで平行に第１の方向に
伸び対をなす複数の行電極と、行電極を放電空間に対し
て被覆する誘電体層と、表示面側の基板と対向して配置
された背面側の基板の内面に、放電空間を単位発光領域
毎に区画する帯状の隔壁とを備え、行電極は透明導電膜
と放電ギャップとは反対側の縁部にて透明導電膜に重な
る金属膜とからなり、金属膜上の誘電体層の表面及び／
又は隔壁に対向する部分の誘電体層の表面を他の部分に
対して突出させたプラズマディスプレイパネルの製造方
法であって、誘電体層を形成する工程は、行電極を含む
表示面側の基板上に第１のガラス材料からなる第１の誘
電体層を形成する工程と、第１の誘電体層に重ねて金属
膜上及び／又は隔壁に対向する部分に第２のガラス材料
からなる第２の誘電体層を形成する工程と、第１及び第
２の誘電体層上に第３のガラス材料をその軟化点より十
分高い温度で焼成して第３の誘電体層を形成する工程と
を有することを特徴とする。
【００１０】また、請求項３に記載の発明は、請求項２
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であっ
て、第３のガラス材料として、その軟化点が第１又は第
２のガラス材料の軟化点より低いガラス材料を用いるこ
とを特徴とする。
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であっ
て、第３のガラス材料として、その軟化点が第１又は第
２のガラス材料の軟化点より低いガラス材料を用いるこ
とを特徴とする。
【００１１】また、請求項４に記載の発明は、請求項２
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であっ
て、第１の誘電体層は、第１のガラス材料をその軟化点
近傍の温度で焼成して形成され、第２の誘電体層は、第
２のガラス材料をその軟化点近傍の温度で焼成して形成
されることを特徴とする。
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であっ
て、第１の誘電体層は、第１のガラス材料をその軟化点
近傍の温度で焼成して形成され、第２の誘電体層は、第
２のガラス材料をその軟化点近傍の温度で焼成して形成
されることを特徴とする。
【００１２】
【作用】本発明のプラズマディスプレイパネルによれ
ば、誘電体層を、下地層となる第１の誘電体層、誘電体
層の表面を突出させるための第２の誘電体層（嵩上げ誘
電体層）、第３の誘電体層をこの順に形成した３層構造
とすることにより、耐圧の低下を招く気泡の発生を防止
でき、第３の誘電体層として低軟化点のガラス材料を用
い、これをその低軟化点より十分高い温度で焼成して形
成して透過率を高め、第２の誘電体層による誘電体層の
表面の突出部分の形状を所定の形状に保つことができ
る。
ば、誘電体層を、下地層となる第１の誘電体層、誘電体
層の表面を突出させるための第２の誘電体層（嵩上げ誘
電体層）、第３の誘電体層をこの順に形成した３層構造
とすることにより、耐圧の低下を招く気泡の発生を防止
でき、第３の誘電体層として低軟化点のガラス材料を用
い、これをその低軟化点より十分高い温度で焼成して形
成して透過率を高め、第２の誘電体層による誘電体層の
表面の突出部分の形状を所定の形状に保つことができ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態による面放電型
ＰＤＰを図に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明
の一実施形態による面放電型ＰＤＰを説明するための平
面図である。図１において、図示しない放電空間を介し
て対向配置された一対のガラス基板の表示面側の基板の
内面に、ＩＴＯ等からなる透明導電膜３ａが放電ギャッ
プを挟んで対向して配置され、透明導電膜３ａの導電性
を補うために、透明導電膜３ａの対向する放電ギャップ
側とは反対の端部に金属膜３ｂが透明導電膜３ａに重な
って形成された平行に第１の方向に伸び対をなす複数の
行電極Ｘ、Ｙで示す行電極Ｘ、Ｙが形成されている。
ＰＤＰを図に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明
の一実施形態による面放電型ＰＤＰを説明するための平
面図である。図１において、図示しない放電空間を介し
て対向配置された一対のガラス基板の表示面側の基板の
内面に、ＩＴＯ等からなる透明導電膜３ａが放電ギャッ
プを挟んで対向して配置され、透明導電膜３ａの導電性
を補うために、透明導電膜３ａの対向する放電ギャップ
側とは反対の端部に金属膜３ｂが透明導電膜３ａに重な
って形成された平行に第１の方向に伸び対をなす複数の
行電極Ｘ、Ｙで示す行電極Ｘ、Ｙが形成されている。
【００１４】また、もう一方の背面側のガラス基板上に
は、行電極Ｘ、Ｙに直交するように図示しない列電極が
配置され、隣接する列電極間には隣接する単位発光領域
の放電画素を区画する帯状のリブ９が列電極に沿って設
けられている。
は、行電極Ｘ、Ｙに直交するように図示しない列電極が
配置され、隣接する列電極間には隣接する単位発光領域
の放電画素を区画する帯状のリブ９が列電極に沿って設
けられている。
【００１５】図２は、図１に示したＡ−Ａの線に沿った
面放電型ＰＤＰの断面図である。すなわち、図１の面放
電型ＰＤＰの発光表示画素部分の断面を示している。図
２において、表示面側のガラス基板１には、透明導電膜
３ａ及び金属膜３ｂからなる行電極Ｘ、Ｙが形成されて
おり、行電極Ｘ、Ｙ及びガラス基板１を覆うように第１
誘電体層４ｂが形成されている。
面放電型ＰＤＰの断面図である。すなわち、図１の面放
電型ＰＤＰの発光表示画素部分の断面を示している。図
２において、表示面側のガラス基板１には、透明導電膜
３ａ及び金属膜３ｂからなる行電極Ｘ、Ｙが形成されて
おり、行電極Ｘ、Ｙ及びガラス基板１を覆うように第１
誘電体層４ｂが形成されている。
【００１６】次に、隣接する行電極Ｘ、Ｙ間、及び金属
膜３ｂ上を覆うように第１誘電体層４ｂ上に第２誘電体
層４ｃが形成されている。すなわち、行電極Ｘ、Ｙで構
成される放電ギャップ及びその周辺部を除いて、放電部
分の第１誘電体層４ｂの表面から突出した第２誘電体層
４ｃが形成されている。
膜３ｂ上を覆うように第１誘電体層４ｂ上に第２誘電体
層４ｃが形成されている。すなわち、行電極Ｘ、Ｙで構
成される放電ギャップ及びその周辺部を除いて、放電部
分の第１誘電体層４ｂの表面から突出した第２誘電体層
４ｃが形成されている。
【００１７】さらに、第１及び第２誘電体層４ｂ、４ｃ
を覆うように第３誘電体層４ｄが形成され、行電極Ｘ、
Ｙは第１、第２、第３の誘電体層４ｂ、４ｃ、４ｄによ
り放電空間８に対して被覆され、放電空間８に面する側
は保護層５で覆われている。
を覆うように第３誘電体層４ｄが形成され、行電極Ｘ、
Ｙは第１、第２、第３の誘電体層４ｂ、４ｃ、４ｄによ
り放電空間８に対して被覆され、放電空間８に面する側
は保護層５で覆われている。
【００１８】一方、背面側のガラス基板上２には、行電
極Ｘ、Ｙに直交するように列電極６が配置され、蛍光体
層７で覆われて対向する表示面側のガラス基板１上の保
護層５との間に放電空間８が形成され、放電空間８には
希ガスが封入されている。
極Ｘ、Ｙに直交するように列電極６が配置され、蛍光体
層７で覆われて対向する表示面側のガラス基板１上の保
護層５との間に放電空間８が形成され、放電空間８には
希ガスが封入されている。
【００１９】また、図３は、図１のＢ−Ｂ方向に沿った
断面図を示している。すなわち、図１の面放電型ＰＤＰ
の隣接画素間のリブ９の部分の断面を示している。図３
において、第２誘電体層４ｃはリブ９に沿って連続して
形成されており、第３誘電体層４ｄ、保護層５を介して
リブ９に連なり放電空間をなくし、隣接画素への誤放電
を防止している。
断面図を示している。すなわち、図１の面放電型ＰＤＰ
の隣接画素間のリブ９の部分の断面を示している。図３
において、第２誘電体層４ｃはリブ９に沿って連続して
形成されており、第３誘電体層４ｄ、保護層５を介して
リブ９に連なり放電空間をなくし、隣接画素への誤放電
を防止している。
【００２０】上述した図２及び図３に示すＰＤＰにおい
て、図４に示すＰＤＰとの相違点は、誘電体層を、第１
のガラス材料をその軟化点近傍の温度で焼成して形成さ
れた下地層となる第１の誘電体層４ｂ、金属膜上及び／
又は隔壁に対向する部分に第２のガラス材料をその軟化
点近傍の温度で焼成して形成された第２の誘電体層４
ｃ、第１又は第２のガラス材料の軟化点より低い軟化点
を有する第３のガラス材料をその軟化点より十分高い温
度で焼成して形成された第３の誘電体層４ｄをこの順に
形成した３層構造とした点にある。
て、図４に示すＰＤＰとの相違点は、誘電体層を、第１
のガラス材料をその軟化点近傍の温度で焼成して形成さ
れた下地層となる第１の誘電体層４ｂ、金属膜上及び／
又は隔壁に対向する部分に第２のガラス材料をその軟化
点近傍の温度で焼成して形成された第２の誘電体層４
ｃ、第１又は第２のガラス材料の軟化点より低い軟化点
を有する第３のガラス材料をその軟化点より十分高い温
度で焼成して形成された第３の誘電体層４ｄをこの順に
形成した３層構造とした点にある。
【００２１】このように構成される本発明による面放電
型ＰＤＰは、次のように製造される。まず、表示面側の
ガラス基板上に、ＩＴＯ、酸化錫などの蒸着によりおよ
そ数千オングストロームの膜厚で互いに平行に伸長する
透明導電膜３ａと、この透明導電膜３ａの導電性を向上
せしめるために、透明導電膜３ａの幅よりも狭い幅にて
積層形成された、例えばアルミニウム（Ａｌ）、Ａｌ合
金又はＡｇ（銀）、Ａｇ合金などからなる金属膜３ｂか
らなる行電極Ｘ、Ｙを形成する。
型ＰＤＰは、次のように製造される。まず、表示面側の
ガラス基板上に、ＩＴＯ、酸化錫などの蒸着によりおよ
そ数千オングストロームの膜厚で互いに平行に伸長する
透明導電膜３ａと、この透明導電膜３ａの導電性を向上
せしめるために、透明導電膜３ａの幅よりも狭い幅にて
積層形成された、例えばアルミニウム（Ａｌ）、Ａｌ合
金又はＡｇ（銀）、Ａｇ合金などからなる金属膜３ｂか
らなる行電極Ｘ、Ｙを形成する。
【００２２】次に、このようにして形成された行電極
Ｘ、Ｙを覆うように、軟化点が５８０℃以上（例えば軟
化点が５８０℃）の第１のガラス材料を主成分とするガ
ラスペーストを一様に塗布し、軟化点近傍の温度（５６
０℃〜６００℃）で焼成して下地層となる第１の誘電体
層４ｂを形成する。
Ｘ、Ｙを覆うように、軟化点が５８０℃以上（例えば軟
化点が５８０℃）の第１のガラス材料を主成分とするガ
ラスペーストを一様に塗布し、軟化点近傍の温度（５６
０℃〜６００℃）で焼成して下地層となる第１の誘電体
層４ｂを形成する。
【００２３】次に、第１の誘電体層４ｂに重ねて金属膜
３ｂ上及び／又はリブ９に対向する部分に、第１のガラ
ス材料の軟化点と同じか又は少し低い軟化点（例えば５
５０℃〜５８０℃）の第２のガラス材料を主成分とする
ガラスペーストを一様に塗布し、軟化点近傍の温度（５
３０℃〜６００℃）で焼成して第２の誘電体層４ｃを形
成する。
３ｂ上及び／又はリブ９に対向する部分に、第１のガラ
ス材料の軟化点と同じか又は少し低い軟化点（例えば５
５０℃〜５８０℃）の第２のガラス材料を主成分とする
ガラスペーストを一様に塗布し、軟化点近傍の温度（５
３０℃〜６００℃）で焼成して第２の誘電体層４ｃを形
成する。
【００２４】従って、第２の誘電体層４ｃは金属膜３ｂ
上の第１の誘電体層４ｂの表面及び／又はリブ９に対向
する部分に対して突出するように形成される。
上の第１の誘電体層４ｂの表面及び／又はリブ９に対向
する部分に対して突出するように形成される。
【００２５】次に、第１及び第２の誘電体層４ｂ、４ｃ
に重ねて、第１又は第２のガラス材料の軟化点より十分
低い軟化点（４６０℃〜４８０℃）の第３のガラス材料
をその軟化点より十分高い温度（５６０℃〜６００℃）
で焼成して第３の誘電体層４ｄを形成する。この第３誘
電体層４ｄ上に、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる
保護層５がおよそ数千オングストロームの膜厚で積層形
成する。
に重ねて、第１又は第２のガラス材料の軟化点より十分
低い軟化点（４６０℃〜４８０℃）の第３のガラス材料
をその軟化点より十分高い温度（５６０℃〜６００℃）
で焼成して第３の誘電体層４ｄを形成する。この第３誘
電体層４ｄ上に、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる
保護層５がおよそ数千オングストロームの膜厚で積層形
成する。
【００２６】一方、背面側のガラス基板２には、表示面
側のガラス基板１と対向する面に、列電極６が形成され
ている。この列電極６は、例えばＡｌやＡｌ合金からな
り、行電極Ｘ、Ｙと対向しながら行電極Ｘ、Ｙの伸長方
向と直交する方向におよそ１μｍの膜厚で伸長して形成
されている。また、列電極６はＡｌやＡｌ合金などの反
射率の高い金属にて形成される。
側のガラス基板１と対向する面に、列電極６が形成され
ている。この列電極６は、例えばＡｌやＡｌ合金からな
り、行電極Ｘ、Ｙと対向しながら行電極Ｘ、Ｙの伸長方
向と直交する方向におよそ１μｍの膜厚で伸長して形成
されている。また、列電極６はＡｌやＡｌ合金などの反
射率の高い金属にて形成される。
【００２７】さらに、例えば背面側のガラス基板２の列
電極６を覆うように蛍光体層７を形成する。上記プラズ
マディスプレイパネルにおいてカラー表示を行う場合
は、例えばアドレス電極毎に３色、すなわちＲ、Ｇ、Ｂ
の蛍光体のうちの１つが順に対応して蛍光体層として形
成される。
電極６を覆うように蛍光体層７を形成する。上記プラズ
マディスプレイパネルにおいてカラー表示を行う場合
は、例えばアドレス電極毎に３色、すなわちＲ、Ｇ、Ｂ
の蛍光体のうちの１つが順に対応して蛍光体層として形
成される。
【００２８】このようにして、行電極Ｘ、Ｙと列電極６
との交点を中心とする発光領域の１つが放電空間８に形
成されて画素セルが構成される。そして、プラズマディ
スプレイパネルのカラー表示を行う場合、各画素セルが
蛍光体の３色のうちの対応する色に発光する。
との交点を中心とする発光領域の１つが放電空間８に形
成されて画素セルが構成される。そして、プラズマディ
スプレイパネルのカラー表示を行う場合、各画素セルが
蛍光体の３色のうちの対応する色に発光する。
【００２９】上述の如く、行電極Ｘ、Ｙ及び列電極６が
それぞれ形成された表示面側のガラス基板１及び背面側
のガラス基板２は封着されて放電空間８の排気が行わ
れ、さらにベーキングにより保護層５の表面が活性化さ
れる。次に、放電空間８に希ガスとして例えばキセノン
（Ｘｅ）を１〜１０％含む不活性混合ガスが２００〜６
００ｔｏｒｒの圧力で封入される。
それぞれ形成された表示面側のガラス基板１及び背面側
のガラス基板２は封着されて放電空間８の排気が行わ
れ、さらにベーキングにより保護層５の表面が活性化さ
れる。次に、放電空間８に希ガスとして例えばキセノン
（Ｘｅ）を１〜１０％含む不活性混合ガスが２００〜６
００ｔｏｒｒの圧力で封入される。
【００３０】上述の如く形成されたプラズマディスプレ
イパネルにおいて、行電極Ｘ、Ｙには画素セルの発光開
始、発光維持及び消去を駆動制御するパルス電圧が印加
され、列電極６には各画素セルの画像データパルスが印
加されて、各画素セルの発光の開始、維持及び消去が行
われる。
イパネルにおいて、行電極Ｘ、Ｙには画素セルの発光開
始、発光維持及び消去を駆動制御するパルス電圧が印加
され、列電極６には各画素セルの画像データパルスが印
加されて、各画素セルの発光の開始、維持及び消去が行
われる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイパネルによれば、誘電体層を、下地層とな
る第１の誘電体層、誘電体層の表面を突出させるための
第２の誘電体層、第３の誘電体層をこの順に形成した３
層構造とすることにより、耐圧の低下を招く気泡の発生
を防止でき、第３の誘電体層として低軟化点のガラス材
料を用い、これをその低軟化点より十分高い温度で焼成
して形成して透過率を高め、第２の誘電体層による誘電
体層の表面の突出部分の形状を所定の形状に保つことが
できる。従って、誘電体層の透過率を向上させるととも
に、信頼性を向上させたプラズマディスプレイパネル及
びその製造方法を提供することができる。
ディスプレイパネルによれば、誘電体層を、下地層とな
る第１の誘電体層、誘電体層の表面を突出させるための
第２の誘電体層、第３の誘電体層をこの順に形成した３
層構造とすることにより、耐圧の低下を招く気泡の発生
を防止でき、第３の誘電体層として低軟化点のガラス材
料を用い、これをその低軟化点より十分高い温度で焼成
して形成して透過率を高め、第２の誘電体層による誘電
体層の表面の突出部分の形状を所定の形状に保つことが
できる。従って、誘電体層の透過率を向上させるととも
に、信頼性を向上させたプラズマディスプレイパネル及
びその製造方法を提供することができる。
【図１】本発明の一実施形態による面放電型ＰＤＰを説
明するための平面図である。
明するための平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ方向に沿った断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ方向に沿った断面図である。
【図４】従来の面放電型ＰＤＰの断面図である。
【符号の説明】 １、２・・・・ガラス基板 ３ａ・・・・透明導電膜 ３ｂ・・・・金属膜 ４ｂ・・・・第１誘電体層 ４ｃ・・・・第２誘電体層 ４ｄ・・・・第３誘電体層 ５・・・・保護層 ６・・・・列電極 ７・・・・蛍光体層 ８・・・・放電空間 ９・・・・リブ Ｘ、Ｙ・・・・行電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 達郎 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニア株式会社甲府プラズマパネルセン ター内
Claims (4)
- 【請求項１】 放電空間を介して対向配置された一対の
基板の内の表示面側の基板の内面に、放電ギャップを挟
んで平行に第１の方向に伸び対をなす複数の行電極と、
前記行電極を前記放電空間に対して被覆する誘電体層
と、前記表示面側の基板と対向して配置された背面側の
基板の内面に、前記放電空間を単位発光領域毎に区画す
る帯状の隔壁とを備え、前記行電極は透明導電膜と前記
放電ギャップとは反対側の縁部にて前記透明導電膜に重
なる金属膜とからなり、前記金属膜上の前記誘電体層の
表面及び／又は前記隔壁に対向する部分の前記誘電体層
の表面を前記他の部分に対して突出させたプラズマディ
スプレイパネルであって、 前記誘電体層が、第１のガラス材料を焼成して形成され
前記行電極を含む前記表示面側の基板の内面を一様に被
覆する第１の誘電体層と、前記金属膜上及び／又は前記
隔壁に対向する部分に第２のガラス材料を焼成して形成
された第２の誘電体層と、第３のガラス材料をその軟化
点より十分高い温度で焼成して形成され前記第１及び第
２の誘電体層を被覆する第３の誘電体層とからなること
を特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項２】 放電空間を介して対向配置された一対の
基板の内の表示面側の基板の内面に、放電ギャップを挟
んで平行に第１の方向に伸び対をなす複数の行電極と、
前記行電極を前記放電空間に対して被覆する誘電体層
と、前記表示面側の基板と対向して配置された背面側の
基板の内面に、前記放電空間を単位発光領域毎に区画す
る帯状の隔壁とを備え、前記行電極は透明導電膜と前記
放電ギャップとは反対側の縁部にて前記透明導電膜に重
なる金属膜とからなり、前記金属膜上の前記誘電体層の
表面及び／又は前記隔壁に対向する部分の前記誘電体層
の表面を前記他の部分に対して突出させたプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、 前記誘電体層を形成する工程は、 前記行電極を含む前記表示面側の基板上に第１のガラス
材料からなる第１の誘電体層を形成する工程と、 前記第１の誘電体層に重ねて前記金属膜上及び／又は前
記隔壁に対向する部分に第２のガラス材料からなる第２
の誘電体層を形成する工程と、 前記第１及び第２の誘電体層上に第３のガラス材料をそ
の軟化点より十分高い温度で焼成して第３の誘電体層を
形成する工程とを有することを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。 - 【請求項３】 前記第３のガラス材料として、その軟化
点が前記第１又は第２のガラス材料の軟化点より低いガ
ラス材料を用いることを特徴とする請求項２記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項４】 前記第１の誘電体層は、前記第１のガラ
ス材料をその軟化点近傍の温度で焼成して形成され、前
記第２の誘電体層は、前記第２のガラス材料をその軟化
点近傍の温度で焼成して形成されることを特徴とする請
求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10126893A JPH11306994A (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
| US09/294,138 US6255780B1 (en) | 1998-04-21 | 1999-04-20 | Plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10126893A JPH11306994A (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11306994A true JPH11306994A (ja) | 1999-11-05 |
Family
ID=14946482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10126893A Pending JPH11306994A (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6255780B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11306994A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020009272A (ko) * | 2000-07-25 | 2002-02-01 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3688114B2 (ja) * | 1998-04-14 | 2005-08-24 | パイオニア株式会社 | プラズマディスプレイパネル |
| JP2001015038A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-19 | Fujitsu Ltd | プラズマディスプレィパネル |
| JP3729318B2 (ja) * | 1999-09-01 | 2005-12-21 | パイオニア株式会社 | プラズマディスプレイパネル |
| USRE39488E1 (en) | 1999-11-24 | 2007-02-13 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel |
| US6853138B1 (en) * | 1999-11-24 | 2005-02-08 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel having grooves in the dielectric layer |
| CN1319868A (zh) * | 2000-01-26 | 2001-10-31 | 松下电器产业株式会社 | 消耗功率抑制效果良好的面放电型显示器件 |
| JP4153983B2 (ja) * | 2000-07-17 | 2008-09-24 | パイオニア株式会社 | 保護膜、その成膜方法、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
| JP3442069B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2003-09-02 | 松下電器産業株式会社 | プラズマディスプレイパネル、その製造方法及び転写フィルム |
| EP1391907A4 (en) * | 2002-03-06 | 2008-07-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | PLASMA SCREEN |
| KR100615180B1 (ko) * | 2003-10-28 | 2006-08-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다층 배면 유전층을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR100740129B1 (ko) * | 2006-08-21 | 2007-07-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR20090019518A (ko) * | 2007-08-21 | 2009-02-25 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| US8049423B2 (en) * | 2008-07-25 | 2011-11-01 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Plasma display panel with improved luminance and low power consumption |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3224486B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2001-10-29 | パイオニア株式会社 | 面放電型プラズマディスプレイパネル |
| JP3778223B2 (ja) * | 1995-05-26 | 2006-05-24 | 株式会社日立プラズマパテントライセンシング | プラズマディスプレイパネル |
| JP3163563B2 (ja) * | 1995-08-25 | 2001-05-08 | 富士通株式会社 | 面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネル及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-04-21 JP JP10126893A patent/JPH11306994A/ja active Pending
-
1999
- 1999-04-20 US US09/294,138 patent/US6255780B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020009272A (ko) * | 2000-07-25 | 2002-02-01 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6255780B1 (en) | 2001-07-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040817 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040924 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050329 |