JP2949426B2 - チップサイズ半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
チップサイズ半導体パッケージの製造方法Info
- Publication number
- JP2949426B2 JP2949426B2 JP9147350A JP14735097A JP2949426B2 JP 2949426 B2 JP2949426 B2 JP 2949426B2 JP 9147350 A JP9147350 A JP 9147350A JP 14735097 A JP14735097 A JP 14735097A JP 2949426 B2 JP2949426 B2 JP 2949426B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- conductive wire
- semiconductor package
- molding resin
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
- H01L2224/113—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
- H01L2224/1133—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
- H01L2224/1134—Stud bumping, i.e. using a wire-bonding apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13144—Gold [Au] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/4826—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73215—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/852—Applying energy for connecting
- H01L2224/85201—Compression bonding
- H01L2224/85203—Thermocompression bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/852—Applying energy for connecting
- H01L2224/85201—Compression bonding
- H01L2224/85205—Ultrasonic bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00013—Fully indexed content
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01023—Vanadium [V]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
体パッケージの製造方法に関する。
導体チップをリードフレームのパドルに固着し、半導体
チップのパッドと内部リードとを電導線により接続して
電気的に接続した後、モールディング樹脂(molding re
sin )により密封し、外部リードを使用者の所望に従い
屈曲形成して構成するようになっている。
e J lead)半導体パッケージにおいては、半導体チップ
1上に接着テープ2を用いてリードフレームの内部リー
ド3を接着し、半導体チップ1上中央に形成されたチッ
プパッド6と内部リード3とを電導線4を用い超音波熱
圧着を施して接続した後、外部リード7を除いた半導体
チップ1及び内部リード3が覆われるようにモールディ
ング樹脂5により密封し、その後、リードフレームから
フレーム部を切除し、外部リード7を使用者の所望に従
ってJ字状に屈曲形成して構成していた。
半導体チップ1上のチップパッド6の電気的信号がリー
ドからパッケージの外部に伝達されるようになっている
が、パッケージの構造が半導体チップ1の大きさよりも
非常に大きく、チップパッド6から外部リード7までの
電気的経路が長いため、電気的特性が低下し、多ピンの
半導体パッケージを構成することが難しいという短所が
あった。
た半導体パッケージの短所を補完するために、多様な半
導体パッケージの研究が行われ、最近PMEB(Plasti
c Molded Extended Bump)型チップサイズ半導体パッケ
ージが開発され使用されている。図10は、PMEB型
チップサイズ半導体パッケージの構造を示す一部切欠斜
視図であり、図11はバンプ部の拡大断面図である。
のチップパッド12が一列に配設されている。また、チ
ップパッド12を除く半導体チップ11上面全体には、
チップ保護用保護膜18が形成してある。保護膜18上
には複数の内部バンプ付着パッド17が、チップパッド
12の左右両側にそれぞれ一列に形成されており、各チ
ップパッド12は、保護膜18上に形成された電導線1
3を介して左右の内部バンプ付着パッド17に交互に接
続されている。この電導線13と内部バンプ付着パッド
17とを保護膜18上に形成する工程をpre−ASS
Y工程という。さらに、内部バンプ付着パッド17を除
く半導体チップ11上面全体には、ポリイミド膜(poly
imide film)19が形成してあり、各内部バンプ付着パ
ッド17上には、鉛(Pb)または錫(Sn)からなる
ソルダ接着剤20を用いて、内部バンプ16が接合して
ある。
ンプ16の上面のみを外部に露出させてモールディング
樹脂14により密封してあり、各内部バンプ16上に
は、ソルダペースト(solder paste)を介して外部ソル
ダボール15を夫々載置し、赤外線リフロー(Infrared
reflow )工程を施して、それら外部ソルダボール15
と内部バンプ16とを接合してある。
パッケージでは、従来のSOJ半導体パッケージに比べ
れば、パッケージのサイズが小さくなり、電気的経路が
短くなって電気的特性が向上されている。
EB型チップサイズ半導体パッケージは、チップパッド
12とは別途に、電導線13および内部バンプ付着パッ
ド17の金属パターンを形成するためのpre−ASS
Y工程を施さねばならず、その後さらに、内部バンプ1
6や外部ソルダーボール15を設ける構成となっている
ため、製造工程が極めて煩雑であるという問題があっ
た。
数の内部バンプ付着パッド17の上に内部バンプ16を
付着した後、夫々に外部ソルダーボール15を付着する
ようになっているため、これらの構造や電導線13の配
線が複雑で、電気的経路も長くなるという問題点があっ
た。本発明は、このような従来の問題点に鑑み、半導体
パッケージのサイズを小型化し、チップパッドの電気的
信号を外部に伝達する電気的経路を短縮して、多ピン構
成を容易に形成し、電気的特性の優れたチップサイズ半
導体パッケージの製造方法を提供することを目的とす
る。
項1に係るチップサイズ半導体パッケージの製造方法
は、電導線の基端は、鋳型の収納溝に収納した半導体チ
ップの上面に形成されたチップパッドに接続し、前記電
導線の先端は、前記鋳型の上面に接着された金属板に接
続する第1工程と、前記電導線の先端をアーク放電法で
所定長さに切断して、自己弾性力により前記チップパッ
ドの垂直上方に立設する第2工程と、前記電導線の先端
を外部に突出させて、前記収納溝内にモールディング樹
脂を充填し、前記半導体チップの全体を前記モールディ
ング樹脂で密封する第3工程と、該モールディング樹脂
の外部に突出した電導線の先端を所定形状に形成する第
4工程と、を順次行なう。
に、基端を略球状に形成して前記チップパッドに超音波
熱圧着し、ネイルヘッド形状に形成すれば、チップパッ
ドと電導線との接続面積を大きくできる。また、請求項
3に係る発明では、前記モールディング樹脂の外部に突
出した前記電導線の先端を加圧することにより、前記モ
ールディング樹脂の表面に沿うように所定方向に屈曲
し、略L字状に形成して、印刷回路基板等への実装を容
易にする。特に、請求項4に係る発明のように、バンプ
接続用ボンドヘッドを用いて加圧すれば、電導線の先端
を略L字状に屈曲するのは容易である。
ルディング樹脂の外部に突出した前記電導線の先端を略
球状に形成して、隣接する電導線との短絡を防止する。
特に、アーク放電法を用いれば、電導線の先端を容易に
略球状に形成することができる。
て説明する。図1は、本発明に係るチップサイズ半導体
パッケージの製造方法により製造されるチップサイズ半
導体パッケージの第1実施形態を示す一部切欠斜視図で
あり、図2は、図1のA−A矢視拡大断面図である。半
導体チップ21の上面には、左右それぞれの辺に沿って
複数のチップパッド22が所定間隔を有して配列形成し
てある。また、チップパッド22を除く半導体チップ2
1上面全体には、保護膜(passivation )27及びポリ
イミド樹脂のPIQ(polyimide isoindoro quinzorind
ion )膜28がこの順に積層してある。
球状に形成した電導線26の基端25を、超音波熱圧着
でネイルヘッド形状にして接続してある。一方、電導線
26の先端は、所定長さでチップパッド22の垂直上方
に立設してある。そして、この電導線26の先端を外部
に突出させて、半導体チップ21の全体をモールディン
グ樹脂23で密封してチップサイズ半導体パッケージが
形成されている。モールディング樹脂23の外部に突出
した電導線26の先端は、各チップパッド22からの電
気的信号を外部に伝達する外部リードの役割を担う。
パッケージの製造方法により製造されるチップサイズ半
導体パッケージの第2実施形態を示す一部切欠斜視図で
あり、図4は、図3のB−B矢視拡大断面図である。半
導体チップ21およびモールディング樹脂23の構成は
上述した第1実施形態と同様であるが、モールディング
樹脂23の外部に突出した電導線26の先端を、バンプ
接続用ボンドヘッド29で下向きに加圧して、モールデ
ィング樹脂23の表面に沿うようにパッケージの中心方
向に向けて屈曲し、略L字状の外部リード24を形成し
てある。このようにすれば、印刷回路基板上への実装が
容易である。
び形状は任意であり、使用者の所望に従い多様な形態に
屈曲して使用することができる。図5は、本発明に係る
チップサイズ半導体パッケージの製造方法により製造さ
れるチップサイズ半導体パッケージの第3実施形態を示
す一部切欠斜視図であり、図6は、図5のC−C矢視拡
大断面図である。半導体チップ21およびモールディン
グ樹脂23の構成は上述した第1実施形態と同様である
が、モールディング樹脂23の外部に突出した電導線2
6の先端を、アーク放電(arc discharge )法を用いて
略球状の外部リード24’に形成してある。このように
すれば、より高密度にチップパッドが設けられた半導体
チップを用いる場合でも、隣接する外部リード間の短絡
を防止することができる。
パッド22の配列は上述したものに限られず、例えば図
7に示すように、半導体チップ21上面の4つの辺それ
ぞれに沿って配列形成してもよく、使用者の所望に従い
半導体チップ21上面に夫々多様な形態に形成して使用
することができる。次に、本発明に係るチップサイズ半
導体パッケージの製造方法について説明する。
数のチップパッドが形成された半導体チップ21を、鋳
型30の収納溝31に収納し、電導線26の基端25を
アーク放電法で略球状に形成して、これをチップパッド
に超音波熱圧着してネイルヘッド形状に形成する。電導
線26の先端は、鋳型30の上面に形成された金属板3
2に超音波熱圧着する。この工程が第1工程に相当す
る。
電機の電極40を電導線26の所定部位に接触させてス
パークを起こすと、電導線26は所定長さに切断される
と同時に、自己弾性力によりチップパッド22の垂直上
方に立設される。この工程が第2工程に相当する。次い
で、収納溝31内にモールディング樹脂23を充填し
て、モールディング樹脂23の上面が平滑になるように
鋳型30を所定速度で回転する。その後、静置して硬化
させて、半導体チップ21全体を密封する。このとき、
電導線26の先端は、モールディング樹脂23の上面に
突出した状態となる。この工程が第3工程に相当する。
されたモールディング樹脂23を鋳型30から取り出し
た後、上面に突出した電導線26の先端を所定形状に形
成する。例えば、図3に示したように屈曲するには、バ
ンプ接続用ボンドヘッドを用いて下方に加圧し、図5に
示したように略球状に形成するにはアーク放電法により
溶融するのが簡便である。この工程が第4工程に相当す
る。
ッケージの製造方法により、チップサイズ半導体パッケ
ージが得られる。尚、上述した第2工程と第3工程と
は、順序を逆にして行なってもよい。
明によれば、チップパッド上に電導線を直接接続するた
め、半導体チップの電気的な性質を外部に伝達するため
の別の配線を形成する工程を行なう必要がなく、且つチ
ップパッドが半導体チップ上のどの位置に形成されてい
ても簡単にパッケージングできるという効果がある。ま
た、電導線をチップパッド上に直接接続することで、半
導体パッケージの電気的信号の伝達経路が短縮されるた
め、電気的特性が向上されるという効果がある。 さら
に、請求項1に係る発明により製造されるチップサイズ
半導体パッケージは、従来のPMEB型チップサイズ半
導体パッケージに比べ、構成要素がより簡単になるた
め、製品の価格を低廉にすることができるという効果が
ある。また、請求項2に係る発明によれば、電導線の基
端の面積を拡大させ、チップパッドとの接続性を向上さ
せるという効果がある。
体パッケージを印刷回路基板等に実装するとき、電導線
の突出先端と基板との接続面積が拡大し、電気的な接続
性を向上できるという効果がある。また、請求項4に係
る発明では、既存の装備であるバンプ接続用ボンドヘッ
ドを用いて、電導線の突出先端に圧力を加えて略L字状
に屈曲させるため、別途の装備を必要とせず、安価に実
施できるという効果がある。
線の先端をアーク放電法により容易に略球状に形成する
ことができ、半導体パッケージを印刷回路基板等に実装
するときの、電導線の突出先端と基板との接続面積が拡
大して、電気的な接続性を向上させる効果がある。すな
わち、本発明に係るチップサイズ半導体パッケージの製
造方法においては、半導体チップに形成されたチップパ
ッド上に直接電導線の基端を接続し、この電導線の先端
を除いた半導体チップの全面をモールディング樹脂にて
密封し、モールディング樹脂の外部に突出した電導線の
先端を使用者所望の多様な形態に屈曲叉は変形して使用
するようになっているため、製造工程が極めて簡単にな
りパッケージのサイズが小型化される。
伝達を行うリードが電導線として接続されるため、チッ
プパッドから外部リードまでの電気的経路が短くなって
電気的特性が向上される。また、チップパッドが半導体
チップ上の中央叉は周辺部位等の多様な形態に配置され
ても、簡便にパッケージングを行い得る。
の製造方法により製造されるチップサイズ半導体パッケ
ージの第1実施形態を示す一部切欠斜視図
の製造方法により製造されるチップサイズ半導体パッケ
ージの第2実施形態を示す一部切欠斜視図
の製造方法により製造されるチップサイズ半導体パッケ
ージの第3実施形態を示す一部切欠斜視図
用いた例を示す一部切欠斜視図
の製造方法を示す縦断面図
縦断面図
ケージを示す一部切欠斜視図
ケージのバンプ電極周辺の構造を示す拡大断面図
Claims (5)
- 【請求項1】電導線の基端は、鋳型の収納溝に収納した
半導体チップの上面に形成されたチップパッドに接続
し、前記電導線の先端は、前記鋳型の上面に接着された
金属板に接続する第1工程と、 前記電導線の先端をアーク放電法で所定長さに切断し
て、自己弾性力により前記チップパッドの垂直上方に立
設する第2工程と、 前記電導線の先端を外部に突出させて、前記収納溝内に
モールディング樹脂を充填し、前記半導体チップの全体
を前記モールディング樹脂で密封する第3工程と、 該モールディング樹脂の外部に突出した電導線の先端を
所定形状に形成する第4工程と、 を順次行なうチップサイズ半導体パッケージの製造方
法。 - 【請求項2】前記第1工程は、前記電導線の基端を、略
球状に形成して前記チップパッドに超音波熱圧着し、ネ
イルヘッド形状に形成して接続する請求項1に記載のチ
ップサイズ半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項3】前記第4工程は、前記モールディング樹脂
の外部に突出した電導線の先端を、加圧することによ
り、前記モールディング樹脂の表面に沿うように所定方
向に屈曲して、略L字状に形成する請求項1または請求
項2に記載のチップサイズ半導体パッケージの製造方
法。 - 【請求項4】前記電導線の先端への加圧は、バンプ接続
用ボンドヘッドを用いて行なう請求項3に記載のチップ
サイズ半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項5】前記第4工程は、前記モールディング樹脂
の外部に突出した電導線の先端を、アーク放電法を用い
て略球状に形成する請求項1または請求項2に記載のチ
ップサイズ半導体パッケージの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960022507A KR100186333B1 (ko) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 칩 사이즈 반도체 패키지 및 그 제조방법 |
KR22507/1996 | 1996-06-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1065054A JPH1065054A (ja) | 1998-03-06 |
JP2949426B2 true JP2949426B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=19462617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9147350A Expired - Fee Related JP2949426B2 (ja) | 1996-06-20 | 1997-06-05 | チップサイズ半導体パッケージの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5977643A (ja) |
JP (1) | JP2949426B2 (ja) |
KR (1) | KR100186333B1 (ja) |
CN (1) | CN1092841C (ja) |
DE (1) | DE19723203B4 (ja) |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW357332B (en) * | 1997-03-12 | 1999-05-01 | Seiko Epson Corp | Electronic parts module and the electronic machine |
JP2000311915A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-11-07 | Texas Instr Inc <Ti> | 半導体デバイス及びボンディング方法 |
JP4526651B2 (ja) * | 1999-08-12 | 2010-08-18 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置 |
JP3672297B2 (ja) * | 1999-11-10 | 2005-07-20 | セイコーインスツル株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
DE10017746B4 (de) * | 2000-04-10 | 2005-10-13 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils mit mikroskopisch kleinen Kontaktflächen |
DE10110005B4 (de) * | 2001-03-01 | 2007-11-29 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip und Verfahren zu seiner Herstellung |
JP2005347356A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置の製造方法 |
JP5592055B2 (ja) | 2004-11-03 | 2014-09-17 | テッセラ,インコーポレイテッド | 積層パッケージングの改良 |
US8058101B2 (en) | 2005-12-23 | 2011-11-15 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages and methods therefor |
US20080280393A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods for forming package structures |
US8482111B2 (en) | 2010-07-19 | 2013-07-09 | Tessera, Inc. | Stackable molded microelectronic packages |
US9159708B2 (en) | 2010-07-19 | 2015-10-13 | Tessera, Inc. | Stackable molded microelectronic packages with area array unit connectors |
KR101128063B1 (ko) | 2011-05-03 | 2012-04-23 | 테세라, 인코포레이티드 | 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리 |
US8836136B2 (en) | 2011-10-17 | 2014-09-16 | Invensas Corporation | Package-on-package assembly with wire bond vias |
US8946757B2 (en) | 2012-02-17 | 2015-02-03 | Invensas Corporation | Heat spreading substrate with embedded interconnects |
US8372741B1 (en) * | 2012-02-24 | 2013-02-12 | Invensas Corporation | Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface |
US9349706B2 (en) | 2012-02-24 | 2016-05-24 | Invensas Corporation | Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface |
US9082763B2 (en) * | 2012-03-15 | 2015-07-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Joint structure for substrates and methods of forming |
US8835228B2 (en) | 2012-05-22 | 2014-09-16 | Invensas Corporation | Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect |
US9391008B2 (en) | 2012-07-31 | 2016-07-12 | Invensas Corporation | Reconstituted wafer-level package DRAM |
US9502390B2 (en) | 2012-08-03 | 2016-11-22 | Invensas Corporation | BVA interposer |
US8878353B2 (en) | 2012-12-20 | 2014-11-04 | Invensas Corporation | Structure for microelectronic packaging with bond elements to encapsulation surface |
US9136254B2 (en) | 2013-02-01 | 2015-09-15 | Invensas Corporation | Microelectronic package having wire bond vias and stiffening layer |
US9167710B2 (en) | 2013-08-07 | 2015-10-20 | Invensas Corporation | Embedded packaging with preformed vias |
US9685365B2 (en) | 2013-08-08 | 2017-06-20 | Invensas Corporation | Method of forming a wire bond having a free end |
US20150076714A1 (en) | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Invensas Corporation | Microelectronic element with bond elements to encapsulation surface |
US9583456B2 (en) | 2013-11-22 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate |
US9263394B2 (en) | 2013-11-22 | 2016-02-16 | Invensas Corporation | Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate |
US9379074B2 (en) | 2013-11-22 | 2016-06-28 | Invensas Corporation | Die stacks with one or more bond via arrays of wire bond wires and with one or more arrays of bump interconnects |
US9583411B2 (en) | 2014-01-17 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing |
US10381326B2 (en) | 2014-05-28 | 2019-08-13 | Invensas Corporation | Structure and method for integrated circuits packaging with increased density |
US9412714B2 (en) | 2014-05-30 | 2016-08-09 | Invensas Corporation | Wire bond support structure and microelectronic package including wire bonds therefrom |
US9735084B2 (en) | 2014-12-11 | 2017-08-15 | Invensas Corporation | Bond via array for thermal conductivity |
US9888579B2 (en) | 2015-03-05 | 2018-02-06 | Invensas Corporation | Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips |
US9502372B1 (en) | 2015-04-30 | 2016-11-22 | Invensas Corporation | Wafer-level packaging using wire bond wires in place of a redistribution layer |
US9761554B2 (en) | 2015-05-07 | 2017-09-12 | Invensas Corporation | Ball bonding metal wire bond wires to metal pads |
US9490222B1 (en) | 2015-10-12 | 2016-11-08 | Invensas Corporation | Wire bond wires for interference shielding |
US10490528B2 (en) | 2015-10-12 | 2019-11-26 | Invensas Corporation | Embedded wire bond wires |
US10332854B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-06-25 | Invensas Corporation | Anchoring structure of fine pitch bva |
US10181457B2 (en) | 2015-10-26 | 2019-01-15 | Invensas Corporation | Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out |
US10043779B2 (en) | 2015-11-17 | 2018-08-07 | Invensas Corporation | Packaged microelectronic device for a package-on-package device |
US9659848B1 (en) | 2015-11-18 | 2017-05-23 | Invensas Corporation | Stiffened wires for offset BVA |
US9984992B2 (en) | 2015-12-30 | 2018-05-29 | Invensas Corporation | Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces |
US9935075B2 (en) | 2016-07-29 | 2018-04-03 | Invensas Corporation | Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding |
US10299368B2 (en) | 2016-12-21 | 2019-05-21 | Invensas Corporation | Surface integrated waveguides and circuit structures therefor |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5238884A (en) * | 1975-09-23 | 1977-03-25 | Mitsubishi Electric Corp | Method of forming bump of flip chips |
JPH07112041B2 (ja) * | 1986-12-03 | 1995-11-29 | シャープ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US4955523A (en) * | 1986-12-17 | 1990-09-11 | Raychem Corporation | Interconnection of electronic components |
FR2622741A1 (fr) * | 1987-11-04 | 1989-05-05 | Nec Corp | Structure pour connexion de substrats a coefficients de dilatation thermique differents |
JPH0267731A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Toshiba Corp | はんだバンプ形半導体装置とその製造方法 |
US5060843A (en) * | 1989-06-07 | 1991-10-29 | Nec Corporation | Process of forming bump on electrode of semiconductor chip and apparatus used therefor |
JP2540652B2 (ja) * | 1990-06-01 | 1996-10-09 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JPH04280633A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Fujitsu Ltd | ベアチップの電極上へのはんだバンプ形成方法 |
JPH04294556A (ja) * | 1991-03-23 | 1992-10-19 | Nec Corp | Tab用フィルムキャリア |
US5744382A (en) * | 1992-05-13 | 1998-04-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of packaging electronic chip component and method of bonding of electrode thereof |
JPH0637094A (ja) * | 1992-07-15 | 1994-02-10 | Hitachi Ltd | バンプ形成方法およびそれを用いた半導体装置、半導体集積回路装置 |
JPH06151440A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法ならびに半導体装置の実装体 |
JP3057130B2 (ja) * | 1993-02-18 | 2000-06-26 | 三菱電機株式会社 | 樹脂封止型半導体パッケージおよびその製造方法 |
US5567981A (en) * | 1993-03-31 | 1996-10-22 | Intel Corporation | Bonding pad structure having an interposed rigid layer |
JP3115155B2 (ja) * | 1993-05-28 | 2000-12-04 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP3258764B2 (ja) * | 1993-06-01 | 2002-02-18 | 三菱電機株式会社 | 樹脂封止型半導体装置の製造方法ならびに外部引出用電極およびその製造方法 |
JPH0837190A (ja) * | 1994-07-22 | 1996-02-06 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP3007533B2 (ja) * | 1994-08-05 | 2000-02-07 | 三菱電機株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
JPH0855856A (ja) * | 1994-08-11 | 1996-02-27 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置とその製造方法 |
JP3142723B2 (ja) * | 1994-09-21 | 2001-03-07 | シャープ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2792532B2 (ja) * | 1994-09-30 | 1998-09-03 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法及び半導体ウエハー |
KR0141952B1 (ko) * | 1994-12-19 | 1998-06-01 | 문정환 | 반도체 패키지 및 그 제조방법 |
JP2626621B2 (ja) * | 1995-04-21 | 1997-07-02 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2763020B2 (ja) * | 1995-04-27 | 1998-06-11 | 日本電気株式会社 | 半導体パッケージ及び半導体装置 |
JP3297254B2 (ja) * | 1995-07-05 | 2002-07-02 | 株式会社東芝 | 半導体パッケージおよびその製造方法 |
JP2666788B2 (ja) * | 1995-10-19 | 1997-10-22 | 日本電気株式会社 | チップサイズ半導体装置の製造方法 |
US5808360A (en) * | 1996-05-15 | 1998-09-15 | Micron Technology, Inc. | Microbump interconnect for bore semiconductor dice |
JPH09321212A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-12 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
-
1996
- 1996-06-20 KR KR1019960022507A patent/KR100186333B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-04-10 CN CN97103780A patent/CN1092841C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-03 DE DE19723203A patent/DE19723203B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-05 JP JP9147350A patent/JP2949426B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-17 US US08/877,566 patent/US5977643A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100186333B1 (ko) | 1999-03-20 |
CN1092841C (zh) | 2002-10-16 |
CN1174403A (zh) | 1998-02-25 |
JPH1065054A (ja) | 1998-03-06 |
DE19723203A1 (de) | 1998-01-02 |
US5977643A (en) | 1999-11-02 |
KR980006178A (ko) | 1998-03-30 |
DE19723203B4 (de) | 2005-12-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2949426B2 (ja) | チップサイズ半導体パッケージの製造方法 | |
KR100460063B1 (ko) | 센터 패드 칩 적층 볼 그리드 어레이 패키지 및 그 제조방법 | |
US7144754B2 (en) | Device having resin package and method of producing the same | |
JP2819285B2 (ja) | 積層型ボトムリード半導体パッケージ | |
US6414381B1 (en) | Interposer for separating stacked semiconductor chips mounted on a multi-layer printed circuit board | |
JP2992814B2 (ja) | 半導体パッケージ | |
US6080264A (en) | Combination of semiconductor interconnect | |
US6531337B1 (en) | Method of manufacturing a semiconductor structure having stacked semiconductor devices | |
US6878570B2 (en) | Thin stacked package and manufacturing method thereof | |
US5789803A (en) | Semiconductor package | |
JP2644711B2 (ja) | 金属の回路基板を有するチップスケールのパッケージ | |
US6700206B2 (en) | Stacked semiconductor package and method producing same | |
KR100239695B1 (ko) | 칩 사이즈 반도체 패키지 및 그 제조 방법 | |
JP3059097B2 (ja) | 電子回路盤とその製造方法 | |
KR100265566B1 (ko) | 칩 스택 패키지 | |
CN106298699A (zh) | 封装结构以及封装方法 | |
JPH0547958A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH10335366A (ja) | 半導体装置 | |
JP3499392B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH1140601A (ja) | 半導体装置の構造 | |
JPH06204390A (ja) | 半導体装置 | |
JP2000124356A (ja) | 半導体パッケ―ジ用部材,半導体パッケ―ジ及び半導体パッケ―ジ製造方法 | |
JP3510520B2 (ja) | 半導体パッケージ及びその製造方法 | |
KR960000221B1 (ko) | 반도체 패키지 | |
KR100352112B1 (ko) | 칩싸이즈반도체패키지의구조및그제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070709 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080709 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080709 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090709 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090709 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100709 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110709 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110709 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120709 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709 Year of fee payment: 14 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |