JP2776421B2 - 相対回動可能な少なくとも２つのはずみ質量体の間に設けられた緩衝装置を有する装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は少なくとも２つの相対的に回動可能なはずみ
質量体の間に設けられ、少なくとも１つの滑りクラツチ
を有する減衰装置を具備した装置に関する。 従来技術 このような装置は米国特許第4274524号明細書によつ
て公知である。この公知の装置においては滑りクラツチ
とこの滑りクラツチに直列的に接続された弾性的なねじ
り振動減衰装置とが設けられている。この場合にはねじ
り振動減衰装置はコイルばねの形をした蓄力器でありか
つこの蓄力器に並列に作用する摩擦手段を有している。
この場合には滑りクラッチは滑りモーメントが一定でか
つ内燃機関により生ぜしめられた最大の公称回転モーメ
ントよりも著しく大きい摩擦滑りクラツチによつて構成
されている。従つてこの滑りクラツチは回転モーメント
の変動が極めて大きい場合にスリツプする。このような
装置は伝達経路の負荷の減少を可能にし、騒音の発生と
走行快適性とに関する改善を可能にするが、このような
装置は多くの場合には内燃機関の全回転数範囲に亘つて
申し分のない運転特性を得るためには不十分である。す
なわちこのような装置の重要な欠点は、既に述べたよう
に、滑りクラツチにより伝達可能なモーメントが内燃機
関が発生する公称モーメントよりも著しく大きく、しか
も個々の構成部分の製作公差に基きかつ運転期間に亘つ
て変化する情況に基き、伝達可能なモーメントが変動す
ることである。さらに公知の装置によつては内燃機関が
最高モーメントを発生しない低い回転数範囲においても
高いモーメントが伝達され、従つてこの低い回転数範囲
における内燃機関の僅かな回転モーメントの不等性若し
くは変動を除くことができない。 発明が解決しようとする問題点 本発明が解決しようとする問題点は公知の装置に比し
て改善された機能を有し、特に振動減衰能力の大きい装
置を提供することである。特に装置は構造が簡単でかつ
僅かな費用で製作できるようにしたい。 問題を解決するための手段 この問題を解決するために、本発明によれば、互いに
相対回動可能は少なくとも２つのはずみ質量体の間に設
けられた緩衝装置を有し、該緩衝装置が少なくとも１つ
の滑りクラッチを有し、この滑りクラッチの伝達可能な
モーメントが可変である装置において、持続的にモーメ
ントを伝達する滑りクラッチが少なくとも２つのモーメ
ント段を有し、該モーメント段の少なくとも１つが可変
であるようにした。 発明の効果 滑りクラツチを本発明のように構成することによつ
て、装置は特定の使用分野において生じる固有の運転情
況にも申し分なく適合させられ得るようになる。特に装
置若しくは滑りクラツチは少なくとも内燃機関の所定の
回転数範囲において内燃機関の公称回転モーメント以下
である回転モーメントの変動を減衰若しくは除去できる
ように構成できる。さらに本発明の構成は内燃機関の回
転数が小さい場合に小さな回転モーメントを伝達し、回
転数が大きくなるにつれて大きくなる回転モーメントを
伝達できるようにすることを可能にする。 実施態様 特に有利であることは装置の伝達可能なモーメントが
回転モーメントに関連して変化させることができること
である。この場合には変化しないか又は同様に変化する
所定の滑りモーメントが常に存在する。本発明の装置を
このように構成することによつて滑りクラッチにより伝
達可能なモーメントは内燃機関により生ぜしめられたモ
ーメント若しくは内燃機関の増減するか若しくは変化す
るモーメントに関連して変化させることができる。すな
わち、本発明によるこのような構成によつて滑りクラツ
チにより伝達可能なモーメントをちようど発生している
実際のモーメントに関連して変化させることができる。
滑りクラツチにより伝達可能なモーメントの前記の如き
調整若しくは変化は漸進的に行なわれても、段階的に行
なわれてもよい。 多くの使用分野にとつては一方のモーメント段が少な
くともほぼ一定の値を有し、他方のモーメント段が可変
な値を有していることである。この場合には可変な値を
有するモーメント段が回転数に関連していると有利であ
る。又、多くの使用分野にとつては回転数に関連するモ
ーメント段が回転数が上昇すると上昇する伝達可能なモ
ーメントを有していると有利である。しかし他の使用分
野にとつては回転数が上昇したときに伝達可能なモーメ
ントが減少するように、回転数に関連したモーメント段
を構成することが有利である。 本発明の１実施例においては滑りクラツチのモーメン
ト段は互いに異なる摩擦手段を生ぜしめられるようにな
つている。この場合には各摩擦手段が少なくとも１つの
固有の蓄力器を、摩擦若しくはスリツプモーメントを生
ぜしめるために有していると有利である。このように構
成した場合には摩擦手段により伝達可能なモーメントが
種々異なる値を有していると有利である。又、この場合
には最初に有効になる摩擦手段が伝達可能なモーメント
の方が小さいと有利である。しかしながら他の使用分野
では個々の摩擦手段により伝達可能なモーメントは同じ
大きさであると有利である。 本発明の装置を前述の如く構成する場合には、滑りク
ラツチにより伝達可能な可変なモーメントが両方のはず
み質量体の間の回動角度に関連していると有利である。 滑りクラツチのために遠心力に関連した摩擦手段を使
用した場合には、この摩擦手段によつて伝達可能なモー
メントが回転数の上昇につれて増大するようになつてい
ると有利である。さらに特に有利であることは遠心力に
関連した摩擦手段が常に最小モーメントを伝達できるこ
とである。この最小モーメントには有利な形式で可変な
モーメントを重畳させることができる。 滑りモーメントを生ぜしめるために複数の摩擦手段が
使用されている場合には、これらの摩擦手段の少なくと
も１つがバイアスのかけられた状態で組込まれた皿ばね
を有し、この皿ばね遠心力を受けて可変な力を伝達可能
な滑りモーメントを変化させるために生ぜしめるように
皿ばねを組込みかつ構成することができる。特に有利で
あるのは皿ばねが回転数の増大に伴つて力の増強をもた
らし、これによつて滑りクラツチ若しくは摩擦手段によ
り伝達可能なモーメントが回転数の上昇に伴つて大きく
なるように皿ばねが組込まれていると有利である。しか
し多くの使用分野では皿ばねが回転数の上昇に伴つて力
を減少することも有利である。これは摩擦手段にかけら
れたバイアスの減少を意味する。さらに内燃機関が停止
している場合には皿ばねはそれぞれの摩擦手段によつて
伝達可能な最小モーメントを規定する基準力を皿ばねに
蓄えられたエネルギに基いて生ぜしめるようになつてい
ると有利である。 又、多くの使用分野にとつては、皿ばねが半径方向の
範囲で軸方向に滑りクラツチの一方の摩擦手段に向かつ
てバイアスをかけられ、これに対してずらされた範囲、
例えば舌状部を有し、この舌状部が遠心力が作用したと
きに力を増強するように当該装置を構成することが有利
である。特に有利であるのは、滑りクラツチの摩擦手段
が半径方向で内外に配置されていることである。しかし
多くの使用分野にとつては滑りクラツチの摩擦手段が軸
方向に列べて配置することもできる。 さらに本発明の装置において申し分のない機能を得る
ためには、少なくとも一方の摩擦手段と少なくとも一方
のはずみ質量体との間に弾性的なねじり振動減衰装置を
設けることが有利である。 滑りクラツチが少なくとも２つの摩擦手段を有する装
置においては、各摩擦手段が一方のはずみ質量体に回動
不能に設けられた円形リング状の少なくとも２つの摩擦
面とこれらの摩擦面の間に設けられた、対応滑り面を備
えた少なくとも１つの中間円板とから構成されていると
有利である。この場合に有利であるのは、この対応摩擦
面が中間円板の両側に設けられた摩擦ライニングニによ
つて形成されていることである。 本発明の特に有利な構成は、両方の摩擦手段の中間円
板が半径方向で内外に配置され、軸方向で少なくともほ
ぼ同一平面内に位置していることである。この場合に
は、半径方向で外方に位置する摩擦手段が遠心力に関連
したモーメントを生ぜしめかつ半径方向内方に位置する
摩擦手段が少なくともほぼ一定の関連モーメントを生ぜ
しめるようにすると有利である。 滑りクラツチにより伝達可能なモーメントの段階的な
発生を達成するためには半径方向内方の中間円板と半径
方向外方の中間円板とが限られた範囲内で相対回動可能
であると特に有利である。この場合には滑りクラツチに
より伝達可能なモーメントを制限するために、半径方向
外方の中間円板は当該の中間円板を含む摩擦手段により
伝達可能な最大モーメントを越えた場合に一方のはずみ
質量体に対して制限されずに回動可能である。 この場合に有利であることは、半径方向内方の中間円
板が弾性的な減衰装置を介して他方のはずみ質量体と接
続されていることである。特に有利であることはこの弾
性的な減衰装置が半径方向で滑りクラツチの内方に配置
されていることである。 又、摩擦手段の両方の中間円板の間の相対回動を制限
するために、半径方向外方の中間円板が半径方向内方に
向いた突起を有し、この突起が周方向の遊びをおいて、
半径方向内方の中間円板の半径方向外方に向いた突起と
係合させられるようになつていると、特に有利でかつ安
価な構造が装置に与えられる。さらに装置の構造を特に
簡単にしかつ僅かな費用で構成できるようにするために
は半径方向外方の中間円板の両側に摩擦ライニングを設
け、この中間円板の片側に設けられた摩擦ライニングが
一方のはずみ質量体の上に設けられた支持若しくは摩擦
面とこの中間円板との間にかつこの中間円板の反対側に
設けられた摩擦ライニングが中間円板とはずみ質量体に
回動不能ではあるが軸方向に移動可能な円板との間に軸
方向で締込まれていると有利である。この場合には摩擦
若しくは滑りモーメントを生ぜしめるためには軸方向に
移動可能な円板がはずみ質量体を介してバイアスのかけ
られ皿ばねにより、その折曲げられた舌状部を介して負
荷されていると有利である。特に有利であるのは皿ばね
が半径方向で円形リング状の基体を有し、この基体から
半径方向内方に向いた舌状部が延びており、基体に対し
て軸方向に折曲げられていることである。皿ばねは有利
には基体の半径方向外方の範囲で一方のはずみ質量体の
円筒形の軸方向の付加部に支えられ、皿ばねを軸方向で
支えるためには円筒状の付加部の溝に受容される安全リ
ングが設けられている。 さらに本発明の有利でかつ安価な構成は、半径方向内
方の中間円板の両側に円板が設けられ、この円板と中間
円板との間にそれぞれ１つの摩擦ライニングが設けられ
ていることによつて達成される。この場合には少なくと
もこの中間円板の片側に設けられた第１の円板が一方の
はずみ質量体と回動不能ではあるが軸方向に移動可能で
あり、中間円板とこのはずみ質量体との間にバイアスを
かけて配置された蓄力器、例えば皿ばねにより中間円板
に向かつて負荷されていると有利である。この中間円板
の他方の側に設けられた別の円板は半径方向外方の摩擦
手段と一体であると有利である。このような両方の摩擦
手段にとつて共通な円板は半径方向外方の摩擦手段の皿
ばねによつて負荷されると有利である。滑りクラツチの
申し分のない機能を保証するためには半径方向外方の皿
ばねと半径方向内方の皿ばねとが同じはずみ質量体に支
えられかつ相互にバイアスがかけられ、これによつて皿
ばねから摩擦手段に生ぜしめられた力が互いに向き合わ
されていると有利である。特に有利であるのは半径方向
外方の摩擦手段の蓄力器が半径方向内方の摩擦手段の蓄
力器よりも大きな軸方向力を生ぜしめることである。 さらに本発明の装置においては一方のはずみ質量体が
円筒状の付加部を有し、この付加部の自由端部の範囲に
半径方向外方の摩擦手段の皿ばねが半径方向外方の範囲
で支えられ、さらに半径方向のフランジを有し、このフ
ランジに半径方向内方の摩擦手段の皿ばねが支えられ、
両方の摩擦手段が軸方向でこれらの皿ばねの間に配置さ
れていると特に有利である。 又、装置の構造にとつては滑りクラツチが内燃機関と
結合可能な第１のはずみ質量体により保持されており、
弾性的なねじり振動減衰装置を介して第２の、切換え可
能なクラツチを介して伝動装置と接続なはずみ質量体と
接続されていると有利である。 又、本発明の装置の特に有利である構成は、装置が軸
方向で見て次の特徴若しくは構成の少なくとも２つを備
えていることによつて与えられる。すなわち、 （イ） 半径方向外方の摩擦手段の皿ばねが一方のはず
み質量体の円筒状の付加部の自由端に支えられているこ
と、 （ロ） 両方の摩擦手段に共通な摩擦円板に半径方向外
方の摩擦手段の皿ばねの折曲げられた舌状部が支えられ
ていること、 （ハ） 両方の摩擦手段の摩擦ライニングが共通の摩擦
円板と協働すること、 （ニ） 両方の摩擦手段の中間円板が同軸にかつ同一平
面に配置されていること、 （ホ） 両方の摩擦手段の摩擦ライニングが中間円板の
反対側に設けられていること、 （ヘ） 半径方向外方の摩擦手段のための摩擦面が一方
のはずみ質量体に設けられ、半径方向内方の摩擦手段の
摩擦リングが前記はずみ質量体と回動不能ではあるがこ
れに対して軸方向に移動可能であること、 （ト） 半径方向内方の摩擦手段の皿ばねが前述の摩擦
リングを軸方向に負荷していること、 （チ） 円筒形の付加部が半径方向外方に配置された半
径方向のフランジを有し、円筒形の付加部に半径方向内
方に位置する摩擦手段の皿ばねが支えられていること である。 本発明の装置の特に良好な機能は滑りクラツチの滑り
モーメントが第１のモーメント段において50〜250Nmで
ありかつ第２のモーメント段を使用した場合に80〜800N
mであることによつて達成される。 特に有利であることは弾性的な減衰装置が少なくとも
１つの摩擦手段に対して直列に接続され、両方の摩擦手
段が同様に互いに直列に接続されていることである。 次に図面について本発明を説明する。 第１図と第２図に示されたねじり衝撃を補償する装置
１は２つのはずみ質量体3,4に分割されたはずみ車２を
有している。はずみ質量体３は図示されていない内燃機
関のクランク軸５に固定ねじ６を介して固定されてい
る。はずみ質量体４の上には切換え可能な摩擦クラッチ
７が図示されていない手段で固定されている。摩擦クラ
ツチ７の加圧板８とはずみ質量体４との間にはクラツチ
円板９が設けられ、このクラツチ円板９は図示されてい
ない伝動装置の入力軸10に受容されている。加圧板８は
はずみ質量体４に向かつてクラツチカバー11に旋回可能
に支承された皿ばね12によつて負荷されている。摩擦ク
ラツチ７を作動することによつてはずみ質量体４、ひい
てははずみ車２は伝動装置の入力軸10に接続、遮断され
る。はずみ質量体３とはずみ質量体４との間には弾性的
な減衰装置13とこれと直列に接続された滑りクラツチ14
とが設けられている。この滑りクラツチ14はこれによつ
て伝達可能な最小滑りモーメントを越えた場合に両方の
はずみ質量体３と４との間の相対回動を可能にする。 両方のはずみ質量体３と４は支承装置15を介して互い
に回動可能に支承されている。支承装置15は分割された
内レースを備えた複列式のアンギユラ型球軸受の形をし
たころがり軸受16を有している。ころがり軸受16の外レ
ース17ははずみ質量体４の孔18内に配置され、内レース
19はクランク軸５から軸方向に突出しかつ前記孔18内に
突入するはずみ質量体３の円筒状のセンタピン20の上に
配置されている。 内レース19は軸方向に安全円板21で確保されている。
この安全円板21はセンタピン20の端面に固定されてい
る。安全円板21と分割された内レース19との間では皿ば
ね22がバイアスをかけられて配置されている。この皿ば
ね22は軸受レース面の間にある球に予圧をかける。 ころがり軸受16ははずみ質量体４の肩25とはずみ質量
体４に固定された円板26との間に締込まれることによつ
て軸方向に確保されている。 はずみ質量体３は半径方向外方にリング状の軸方向の
付加部27を有し、この付加部27の半径方向内方にねじり
振動減衰装置13と、このねじり振動減衰装置13を取囲ん
でその半径方向外方に配置された滑りクラツチ14とを受
容している。滑りクラツチ14は段階的に形成される最大
滑りモーメントを生ぜしめるために２つの摩擦手段14a,
14bを有している。これらの摩擦手段14a,14bは半径方向
で内外にかつ同軸的にかつ少なくともほぼ軸方向で同一
平面内に配置されている。摩擦手段14aは互いに軸方向
の間隔をおいて設けられた２つのリング状の摩擦面28,2
9を有している。これらの摩擦面28,29ははずみ質量体３
と回動不能でありかつこれらの摩擦面28,29を介して内
燃機関により生ぜしめられたモーメントが滑りクラツチ
14に導入される。図示の実施例では摩擦面29ははずみ質
量体３に直接的に形成されているのに対し、摩擦面28は
円板30により保持されている。この円板30は外周範囲に
半径方向の突起31を有し、この突起31ははずみ質量体３
に対して円板30が回転することを防止するために適当に
形成された切欠き32に半径方向に係合する。切欠き32と
突起31は、はずみ質量体３に対する円板30の軸方向の移
動、ひいては摩擦面29に対する軸方向の移動が可能にな
るように相互に調整されかつ構成されている。両方の摩
擦面28,29の間には中間円板33が締込まれている。この
ためには皿ばね34は半径方向外方の縁範囲35で軸方向で
リング状の付加部27に支えられ、半径方向内方の範囲36
で円板30を軸方向で摩擦面29に向かつて負荷する。中間
円板33と両方の摩擦面28,29との間には中間円板33と回
動不能であることができる摩擦ライニング37,38が設け
られている。 円形リング状に閉じられた摩擦ライニング37,38であ
る場合には、この摩擦ライニング37,38はルーズに中間
円板33と各摩擦面28,29の間に配置することもできる。
さらに摩擦ライニングを摩擦面28,29の上に接着し、摩
擦が摩擦ライニング37,38と中間円板33との間に生じる
ようにすることもできる。 軸方向にバイアスのかけられた皿ばね34は外側の円形
リング状の範囲39を有している。この範囲39からは半径
方向内方に延びる舌状部40が出ている。この舌状部40は
範囲36で円板30を負荷する。皿ばね34の舌状部40は舌状
部40が円形リング状の範囲39から出発して区分41を介し
て装置１の軸線方向で見てまず極めて急勾配に延びるよ
うに折曲げられている。次いで区分41において舌状部40
は支持範囲36を形成するためにもう一度折曲げられ、こ
れによつて同時に、閉じられた円形リング状の範囲39に
対して軸方向にずらされた舌状部範囲42が形成される。 はずみ質量体３の付加部27は軸方向で見て薄くなつた
端部範囲27aを有し、この端部範囲27aの半径方向内方の
周面27bには半径方向の溝43が形成されている。この半
径方向の溝43には半径方向内方に突出し、皿ばね34を半
径方向外方の範囲35で支える安全リング44を受容してい
る。安全リング44は軸方向の段部を有し、この段部の軸
方向に延びる範囲は皿ばね34の外側の周面を取囲んでい
る。これによつて安全リング44は皿ばね34により半径方
向で溝43内で確保される。 作用的に摩擦手段14aと減衰装置13との間に配置され
ている半径方向内方に位置する摩擦手段14bは、互いに
軸方向に間隔をおいて設けられた２つのリング状の摩擦
面45,46を有している。この摩擦面45,46ははずみ質量体
３と回動不能であり、この摩擦面45,46を介して内燃機
関により生ぜしめられたモーメントの少なくとも１部分
が減衰装置13に導入される。図示の実施例では摩擦面45
は円板30の半径方向内方の縁範囲により形成されている
ので、この円板30は両方の摩擦手段14a,14bに配属され
ることになる。何故ならば円板30は半径方向外方の縁範
囲で同様に摩擦手段14aの摩擦面28を形成するからであ
る。摩擦面46は摩擦円板47によつて保持されている。摩
擦円板47は外周に半径方向の突起48を有し、この突起48
は円板47のはずみ質量体３に対する回動を防止するため
に適当に形成された切欠き49に半径方向に係合する。切
欠き49と突起48は円板47がはずみ質量体３、ひいては摩
擦面45に対して軸方向に移動できるように互いに調和さ
れるか又は構成されている。軸方向で両方の摩擦面45,4
6若しくは円板30,47の間には中間円板50が締込まれてい
る。このためには皿ばね51が半径方向内方の縁範囲で軸
方向ではずみ質量体３の半径方向のフランジ3aに支えら
れ、半径方向外方に位置する範囲で摩擦円板47を軸方向
で摩擦面45に向かつて負荷する。中間円板50と両方の摩
擦面45,46若しくは円板30,47との間には中間円板50に回
動不能に結合できる摩擦ライニング52,53が設けられて
いる。しかしながら摩擦ライニング52,53を摩擦面45,46
に接着し、摩擦が摩擦ライニング52,53と中間円板50と
の間に生じるようにすることもできる。 第１図に示されているように両方の摩擦手段14a,14b
の摩擦面29と46と摩擦面28,45は少なくともほぼ同じ半
径面に配置されている。摩擦面29の半径方向内方にはず
み質量体３は凹所54を有し、この凹所54内に円板47と皿
ばね51が軸方向で受容される。 両方の摩擦手段14a,14bのはずみ質量体３に支えられ
る皿ばね34,51は、皿ばね34,51によつて滑りクラツチ14
若しくは摩擦手段14a,14bに生ぜしめられた軸方向の力
が互いに向き合うように軸方向でバイアスがかけられて
いる。この場合には両方の皿ばね34と51は軸方向で互い
にバイアスをかけあうことになる。皿ばね34と51は基体
にかけられたバイアスに基いて皿ばね34から生ぜしめら
れる軸方向の基準力が、皿ばね51が生ぜしめる軸方向力
よりも大きくなるように構成されている。これによつて
回転数が極めて低い場合にも、外方の摩擦手段14aが軸
方向でバイアスをかけられたままに保たれかつ有効にな
る。 中間円板33と50との間では限られた相対回動が可能で
ある。このためには半径方向外方の中間円板33は半径方
向内方に向いた歯状の突起55を有している。この突起55
は周方向の遊びをおいて半径方向内方の中間円板の外周
に成形された突起56,56aの間に係合している。第２図か
ら判るように両方の中間円板33と50で可能な相対回動角
は25゜である。さらにこの図面からは中間円板50が各回
転方向のために別々にストツパ突起組、つまりストツパ
突起組56と56aとを有していることが判る。これは両方
の中間円板33と50とを一作業工程で製作できるという利
点を有している。この場合には外方の中間円板33の突起
55は２つの隣りあう突起56a,56の間に打出すことができ
る。このような突起55の打出しによつて２つの隣接した
突起56,56aの間の小さな間隙57が形成される。 滑りクラツチ14の摩擦手段14bの出力部分を形成する
中間円板50は同時に弾性的な減衰装置13のためのフラン
ジ状の入力部分を成す。減衰装置13はさらに１対の円板
26,58を有し、これらの円板26,58は中間円板の両側に配
置され、スペーサピン59を介して軸方向の間隔をおいて
互いに回動不能に結合されかつはずみ質量体４に枢着さ
れている。 円板26と58及びこの間にある中間円板50の範囲には切
欠き60,61,62が設けられている。この切欠き60,61,62内
にはコイルばね63の形をした蓄力器が受容されている。
蓄力器63は中間円板50と両方の側方円板26,58との間の
相対的な回動に抗して作用する。 さらにはずみ質量体３と４との間には摩擦装置64が設
けられている。この摩擦装置64はコイルばね63と平行に
接続されている。摩擦装置64はピン20を中心として、か
つ軸方向に円板26とはずみ質量体３の半径方向の範囲3a
との間に配置されている。摩擦装置64は円板26と加圧リ
ング66との間に締込まれた皿ばね65を有している。軸方
向で加圧リング66と半径方向の範囲3aとの間には摩擦リ
ング67が配置されている。加圧リング66は半径方向外方
に軸方向に延びる張出部68を有している。張出部68は円
板26の切欠き69を通つて軸方向に突出し、これによつて
加圧リング66は円板26に対して周方向に固定される。 特に第２図から判るようにスペーサピン59は軸方向で
中間円板50の中央の切欠き70を貫いて延びている。減衰
装置13に許される回動角度の制限は、少なくともばね63
のいくつかがブロツクになること、つまりばね63の巻条
が互いに接触してそれ以上の緊縮がもはやできないよう
になることで行なわれる。 次に第１図と第２図の装置の作用を第３図に示された
線図で詳しく説明する。 この線図においては軸線には両方のはずみ質量体３と
４の間の回動角度がプロツトされ、縦軸には弾性的なね
じり振動減衰装置13が伝達可能なモーメントがプロツト
されている。この場合には滑りクラツチ14により伝達可
能なモーメントは摩擦手段14aが遠心力に関連している
ことに基き可変であるを考慮する必要がある。さらに第
３図においては中間円板33の突起55が中間円板50の突起
56a又は56に両方のはずみ質量体3,4の間の相対運動の開
始に際して接触し、これによつて両方の中間円板33と50
との間で可能な総相対回動角を移動したことから出発し
ている。両方のはずみ質量体３と４の不作用位置71から
出発してこの両方のはずみ質量体3,4の間の相対回動に
際しては減衰装置13のコイルばね63の少なくとも若干が
圧縮される。しかもこれはコイルばね63により生ぜしめ
られるモーメントが摩擦手段14bの滑りモーメントを克
服できるまで行なわれる。これは両方のはずみ質量体３
と４との間の回動角を越えた場合である。同じ方向での
回動が続くと摩擦手段14bは、突起55が相応の回転方向
で向き合つた突起56又は56aに接触するまでスリツプす
る。摩擦手段14bのこのスリツプ角は第３図では回動角7
3で示されている。この回動角73は課される要求に応じ
て任意に変化させることができる。しかしたいていの使
用分野にとつてはこの回動角73は10〜120度であると有
利である。すでに述べたようにこの回動角73は第１図と
第２図に示された実施例では25度である。 同じ方向の回動を継続しかつ範囲73を越えると摩擦手
段14aによつて伝達可能な高い摩擦モーメントに基いて
コイルばね63がさらに緊縮され、しかも回動角範囲74を
通過した後で少なくとも個々のコイルばね63がブロツク
を形成し、つまりコイルばね63の巻条が互いに接触し、
弾性的な減衰装置13が両方のはずみ質量体３と４との間
にそれ以上の相対回動を許さなくなるまで緊縮される。
すると両方のはずみ質量体３と４の間のそれ以上の相対
回動は内燃機関からはずみ質量体３に与えられたモーメ
ントが、例えば高い不等性ピークに基き、摩擦手段14a
により伝達可能なモーメントよりも大きい場合にのみ可
能である。前記モーメントは内燃機関の回転数に関連し
ており、第３図に符号75で示されている。図示された特
性曲線では摩擦手段14aの滑りモーメント75は弾性的な
減衰装置13がブロツクを成す場合のモーメント76よりも
大きい。しかしながら所定の回転数までは摩擦手段14a
により伝達可能なモーメントは弾性的な減衰装置13がブ
ロツクを成す場合のモーメントより僅かであると有利で
ある。摩擦手段14aにより伝達可能なモーメントを越え
ると両方のはずみ質量体３と４は制限されずに相対的に
回動可能である。これはこの両方はずみ質量体3,4の間
にこの相対的な回動を制限するストツパが存在していな
いことを意味する。 図示の実施例のためには第３図に示された摩擦手段14
aの滑りモーメント75は摩擦手段14aにより伝達可能なも
つとも小さいモーメントに相応している。これはこのモ
ーメント75が摩擦手段14aにより回転数が零である場合
にも伝達され得ることを意味する。 第４図に示された線図においては横軸に内燃機関の回
転数がプロツトされ、縦軸には滑りクラツチ14の摩擦手
段14aにより伝達可能なモーメントがプロツトされてい
る。既に述べたように滑りクラツチ14は内燃機関が停止
している場合にはバイアスのかけらた皿ばね基体39によ
り生ぜしめられた力に基いて基準モーメント75を伝達で
きる。皿ばね基体39に対して範囲41,42が軸方向にずら
されていることに基づいてこの範囲41,42は内燃機関の
回転に際して作用する遠心力に基いて、皿ばね基体39に
モーメントを生ぜしめる。しかし皿ばね舌状部40は範囲
36で円板30に軸線方向に支えられているので、前記モー
メントは受止められ、これによつて軸方向の力が円板30
に伝達される。この軸方向の力は摩擦手段14aにより伝
達可能なモーメントの放物線状に上昇する経過から判る
ように内燃機関の回転数の増大に伴つて増加する。舌状
部40は、滑りクラツチ14若しくはその摩擦手段14aによ
り伝達可能なモーメントの経過が常に内燃機関のモーメ
ント経過の上を延びるように構成されている。これは滑
りクラツチ14から伝達可能なモーメントが内燃機関の回
転数範囲に亘つて見た場合に、常に内燃機関により生ぜ
しめられるモーメントよりも大きいものである必要があ
ることを意味する。 製作誤差、摩擦値誤差及び滑りクラツチ、特に摩擦ラ
イニング37,38の摩耗を考慮するためには滑りクラツチ1
4は、滑りクラツチ14により内燃機関の停止時に伝達可
能なモーメントが内燃機関により生ぜしめられる公称回
転モーメントよりも大きくなるように構成されている。 第１図と第２図の滑りクラツチの構成では滑りクラツ
チ14により伝達可能なモーメントは押し方向にも引張方
向にも少なくともほぼ同じである。 以上の記載から判るようにモーメント段、すなわち摩
擦手段14a,14bは互いに直列に接続されており、さらに
弾性的な減衰装置13も両方の摩擦手段と直列に接続され
ている。

【図面の簡単な説明】 図面は本発明の複数の実施例を示すものであつて、第１
図は本発明の装置の断面図、第２図は第１図の装置を矢
印IIの方向から見た部分図、第３図は第１図と第２図の
装置の作用を示す線図、第４図は横軸に内燃機関若しく
ははずみ質量体の回転数がプロツトされ、縦軸に滑りク
ラツチにより伝達可能なモーメントがプロツトされた線
図である。 １……装置、２……はずみ車、3,4……はずみ質量体、
５……クランク軸、６……固定ねじ、７……摩擦クラツ
チ、８……加圧板、９……クラツチ円板、10……入力
軸、11……クラツチカバー、12……皿ばね、13……減衰
装置、14……滑りクラツチ、15……支承装置、16……こ
ろがり軸受、17……外レース、18……孔、19……内レー
ス、20……ピン、21……安全円板、22……皿ばね、25…
…肩、26……円板、27……付加部、28,29……摩擦面、3
0……円板、31……突起、32……切欠き、33……中間円
板、34……皿ばね、35……縁範囲、36……半径方向内方
の範囲、37,38……摩擦ライニング、39……円形リング
状の範囲、40……舌状部、41……区分、42……舌状範
囲、43……溝、44……安全リング、45,46……摩擦面、4
7……円板、49……切欠き、50……中間円板、51……皿
ばね、52,53……摩擦ライニング、55……突起、56……
ストツパ突起組、57……間隙、58……円板、59……スペ
ーサピン、60,61,62……切欠き、63……蓄力器、64……
摩擦装置、65……皿ばね、66……加圧リング、67……摩
擦リング、68……張出し部、69……切欠き、70……切欠
き、72,73,74……回動角範囲、75,76……モーメント、7
7……モーメント経過。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 オスヴアルト・フリートマン ドイツ連邦共和国 リヒテナウ・モーゼ ルシユトラーセ 59 (56)参考文献 特開 昭55−20964（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−151624（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−160343（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭54−147391（ＪＰ，Ｕ)

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．互いに相対回動可能な少なくとも２つのはずみ質量
   体の間に設けられた緩衝装置を有し、該緩衝装置が少な
   くとも１つの滑りクラッチを有し、この滑りクラッチ
   （14）の伝達可能なモーメントが可変である装置におい
   て、持続的にモーメントを伝達する滑りクラッチ（14）
   が少なくとも２つのモーメント段（14a,14b）を有し、
   該モーメント段（14a,14b）の少なくとも１つが可変で
   あることを特徴とする、相対回動可能な少なくとも２つ
   のはずみ質量体の間に設けられた緩衝装置を有する装
   置。 ２．伝達可能な前記モーメントが回転モーメントに関連
   して可変であり、付加的に所定のスリップモーメント
   （73）が常に存在している、特許請求の範囲第１項記載
   の装置。 ３．１つのモーメント段（14b）が少なくともほぼ一定
   の値を有し、他のモーメント段（14a）が可変な値を有
   している、特許請求の範囲第１項又は第２項記載の装
   置。 ４．可変な値を有するモーメント段（14a）が回転数に
   関連している、特許請求の範囲第１項から第３項までの
   いずれか１項記載の装置。 ５．回転数に関連したモーメント段（14a）が回転数の
   上昇に伴って上昇する伝達可能なモーメント（77）を有
   している、特許請求の範囲第４項記載の装置。 ６．滑りクラッチ（14）のモーメント段（14a,14b）が
   固有の摩擦手段によって生ぜしめられる、特許請求の範
   囲第１項から第５項までのいずれか１項記載の装置。 ７．各摩擦手段（14a,14b）が少なくとも１つの固有の
   蓄力器（34,51）を有している、特許請求の範囲第６項
   記載の装置。 ８．前記摩擦手段（14a,14b）により伝達可能なモーメ
   ントの大きさが互いに異なっている、特許請求の範囲第
   ６項又は第７項記載の装置。 ９．最初に有効な摩擦手段が小さい方の伝達可能なモー
   メントを有している、特許請求の範囲第６項から第８項
   までのいずれか１項記載の装置。 １０．少なくとも１つの摩擦手段（14a,14b）の伝達可
   能なモーメントが遠心力に関連して可変である、特許請
   求の範囲第６項記載の装置。 １１．伝達可能なモーメント（77）が回転数の上昇に伴
   って増大する、特許請求の範囲第10項記載の装置。 １２．摩擦手段（14a,14b）の少なくとも１つ（14a）
   が、バイアスのかけられた状態で組み込まれた皿ばね
   （34）を有し、該皿ばねが遠心力のもとで変化可能な力
   を生ぜしめるように組み込まれかつ構成されている、特
   許請求の範囲第６項から第11項までのいずれか１項記載
   の装置。 １３．皿ばね（34）の力が回転数の上昇に伴って増大さ
   せられる、特許請求の範囲第12項記載の装置。 １４．皿ばね（34）が１つの半径方向の範囲（39）を介
   して滑りクラッチ（14）の１つの摩擦手段（14a）に向
   かって軸方向にバイアスがかけられており、該範囲（3
   9）に対して軸方向にずらされて、遠心力の作用を受け
   て力を増大させて作用する範囲、例えば舌状部（40）を
   有している、特許請求の範囲第13項記載の装置。 １５．滑りクラッチ（14）の摩擦手段（14a,14b）が半
   径方向で互いに内外に配置されている、特許請求の範囲
   第６項から第14項までのいずれか１項記載の装置。 １６．少なくとも１つの摩擦段（14a,14b）と少なくと
   も１つのはずみ質量体（3,4）との間に弾性的な緩衝装
   置（13）が設けられている、特許請求の範囲第６項から
   第15項までのいずれか１項記載の装置。 １７．滑りクラッチ（14）が少なくとも２つの摩擦手段
   （14a,14b）を有し、各摩擦手段（14a,14b）がはずみ質
   量体（3,4）の一方に回動不能に設けられた、少なくと
   も２つの摩擦面（28,29;45,46）と、これらの摩擦面の
   間に設けられた対応摩擦面を備えた少なくとも２つの、
   円形リング状の中間円板（33,50）によって形成されて
   いる、特許請求の範囲第６項から第16項までのいずれか
   １項記載の装置。 １８．対応摩擦面が両側で前記中間円板（33,50）の上
   に取付けられた摩擦ライニング（37,38;52,53）によっ
   て形成されている、特許請求の範囲第17項記載の装置。 １９．両方の摩擦手段（14a,14b）の中間円板（33,50）
   が半径方向で相前後して配置されており、軸方向で少な
   くともほぼ同じ高さに位置している、特許請求の範囲第
   17項又は第18項記載の装置。 ２０．滑りクラッチ（14）の、半径方向で外側に位置す
   る摩擦手段（14a）が、遠心力に関連したモーメント（7
   7）を生ぜしめ、半径方向で内側に位置する摩擦手段（1
   4b）が少なくともほぼ変わらない摩擦モーメント（範囲
   73）を生ぜしめる、特許請求の範囲第６項から第19項ま
   でのいずれか１項記載の装置。 ２１．半径方向内側の中間円板（50）と半径方向外側の
   中間円板（33）とが制限されて互いに相対回動可能であ
   り（範囲73）、半径方向外側の中間円板（33）が、該中
   間円板（33）を含む摩擦手段（14a）により伝達可能な
   最大モーメントを越えた場合に、制限されずにはずみ質
   量体（3,4）の一方（３）に対して回動可能である、特
   許請求の範囲第17項から第20項までのいずれか１項記載
   の装置。 ２２．半径方向内側の中間円板（50）が弾性的な緩衝装
   置（13）を介して他のはずみ質量体（４）と結合されて
   いる、特許請求の範囲第21項記載の装置。 ２３．弾性的な緩衝装置（13）が半径方向で滑りクラッ
   チ（14）の内側に配置されている、特許請求の範囲第21
   項又は第22項記載の装置。 ２４．半径方向外側の中間円板（33）が半径方向で内方
   に向いた突起（55）を有し、該突起（55）が周方向遊び
   （範囲73）をもって、半径方向内側の中間円板（50）
   の、半径方向外側に向いた突起（56,56a）と係合してい
   る、特許請求の範囲第17項から第23項までのいずれか１
   項記載の装置。 ２５．半径方向外側の中間円板（33）の両側に摩擦ライ
   ニング（37,38）が設けられ、該中間円板（33）の片側
   に設けられた摩擦ライニング（28）が、はずみ質量体
   （3,4）の一方（３）の上に設けられた支持もしくは摩
   擦面（29）と該中間円板（33）との間に軸方向で締込ま
   れており、該中間円板（33）の他方の側に設けられた摩
   擦ライニング（37）が該中間円板（33）と、該はずみ質
   量体（３）と回動不能ではあるが軸方向に移動可能に結
   合された円板（30）との間に軸方向で締込まれている、
   特許請求の範囲第17項から第24項までのいずれか１項記
   載の装置。 ２６．軸方向に移動可能な前記円板（30）がはずみ質量
   体（３）を介してバイアスのかけられた皿ばね（34）に
   より、該皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（40）を介
   して負荷されている、特許請求の範囲第25項記載の装
   置。 ２７．皿ばね（34）が半径方向で円板リング状の基体
   （39）を有し、該基体（39）から半径方向内側に向かっ
   て延びる舌状部（40）が突出しており、該舌状部（40）
   が基体（39）に対して軸方向に曲げ出されている、特許
   請求の範囲第26項記載の装置。 ２８．皿ばね（34）が、該皿ばね（34）の基体（39）の
   半径方向外側の範囲（35）を介して、はずみ質量体（3,
   4）の一方（３）の円筒状の付加部（27）に支えられて
   いる、特許請求の範囲第27項記載の装置。 ２９．皿ばね（34）を軸方向で支持するために、円筒状
   の付加部（27）の溝（43）に受容された安全リング（4
   4）が設けられている、特許請求の範囲第28項記載の装
   置。 ３０．半径方向内側の中間円板（50）の両側に円板（3
   0,47）が設けられ、該円板（30,47）と中間円板（50）
   との間にそれぞれ１つの摩擦ライニング（52,53）が設
   けられている、特許請求の範囲第17項から第29項までの
   いずれか１項記載の装置。 ３１．半径方向内側の中間円板（50）の両側に設けられ
   た前記円板（30,47）の少なくとも一方（47）が、はず
   み質量体（3,4）の一方（３）に対して回動不能ではあ
   るが、軸方向に移動可能であり、該円板（47）と該はず
   み質量体（３）との間に配置されたバイアスのかけられ
   た蓄力器（51）、例えば皿ばねにより前記中間円板（5
   0）に向かって負荷されている、特許請求の範囲第30項
   記載の装置。 ３２．前記中間円板（50）の他方の側に設けられた他方
   の円板（30）が、半径方向内側の摩擦手段（14a）の摩
   擦円板と一体である、特許請求の範囲第31項記載の装
   置。 ３３．両方の摩擦手段（14a,14b）に共通な円板（30）
   が半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（34）によ
   り負荷されている、特許請求の範囲第32項記載の装置。 ３４．半径方向外側の摩擦手段の皿ばね（34）と半径方
   向内側の摩擦手段の皿ばね（51）とが同じはずみ質量体
   （３）に支えられかつ相互にバイアスをかけ合ってい
   る、特許請求の範囲第６項から第33項までのいずれか１
   項記載の装置。 ３５．半径方向外側の摩擦手段（14a）の蓄力器（34）
   が、半径方向内側の摩擦手段（14b）の蓄力器（51）よ
   りも大きな軸方向力を作用させている、特許請求の範囲
   第６項から第34項までのいずれか１項記載の装置。 ３６．はずみ質量体（3,4）の一方（３）が円筒状の付
   加部（27）を有し、該付加部（27）の自由端部に半径方
   向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（34）が支えられて
   おり、さらに該一方のはずみ質量体（３）が半径方向の
   フランジ範囲（3a）を有し、該フランジ範囲（3a）に半
   径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）が支えら
   れており、両方の摩擦手段（14a,14b）が軸方向で前記
   両皿ばね（34,51）の間に配置されている、特許請求の
   範囲第６項から第35項までのいずれか１項記載の装置。 ３７．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）が設け
   られ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩擦手段
   （14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（40）が
   支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ３８．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニング（3
   7,52）が共通の摩擦円板（30）と共働する 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ３９．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置された
   中間円板（33,50）を有している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４０．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニング（3
   8,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４１．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に半径方
   向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）が設け
   られており、該一方のはずみ質量体（３）に対して回動
   不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対して軸方
   向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）の摩擦
   円板（47）が設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４２．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）
   が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４３．（イ）一方のはずみ質量体（３）の円筒状の付加
   部（27）に半径方向外側の摩擦手段（14a）の皿ばね（3
   4）が支えられていること、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４４．（ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）
   が設けられ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩
   擦手段（14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（4
   0）が支えられていること、 （ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニング（3
   7,52）が共通の摩擦円板（30）と共働する 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４５．（ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）
   が設けられ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩
   擦手段（14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（4
   0）が支えられていること、 （ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置された
   中間円板（33,50）を有している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４６．（ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）
   が設けられ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩
   擦手段（14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（4
   0）が支えられていること、 （ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニング（3
   8,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４７．（ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）
   が設けられ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩
   擦手段（14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（4
   0）が支えられていること、 （ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に半径方
   向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）が設け
   られており、該一方のはずみ質量体（３）に対して回動
   不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対して軸方
   向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）の摩擦
   円板（47）が設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４８．（ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）
   が設けられ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩
   擦手段（14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（4
   0）が支えられていること、 （ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）
   が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ４９．（ロ）両方の摩擦手段に共通なリング円板（30）
   が設けられ、該リング円板（30）に、半径方向外側の摩
   擦手段（14a）の皿ばね（34）の折曲げられた舌状部（4
   0）が支えられていること、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５０．（ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（37,52）が共通の摩擦円板（30）と共働するこ
   と、 （ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置された
   中間円板（33,50）を有している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５１．（ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（37,52）が共通の摩擦円板（30）と共働するこ
   と、 （ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニング（3
   8,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５２．（ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（37,52）が共通の摩擦円板（30）と共働するこ
   と、 （ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に半径方
   向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）が設け
   られており、該一方のはずみ質量体（３）に対して回動
   不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対して軸方
   向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）の摩擦
   円板（47）が設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５３．（ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（37,52）が共通の摩擦円板（30）と共働するこ
   と、 （ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）
   が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５４．（ハ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（37,52）が共通の摩擦円板（30）と共働するこ
   と、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５５．（ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置
   された中間円板（33,50）を有していること、 （ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニング（3
   8,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５６．（ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置
   された中間円板（33,50）を有していること、 （ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に半径方
   向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）が設け
   られており、該一方のはずみ質量体（３）に対して回動
   不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対して軸方
   向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）の摩擦
   円板（47）が設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５７．（ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置
   された中間円板（33,50）を有していること、 （ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）
   が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５８．（ニ）両方の摩擦手段が同一平面内に同軸に配置
   された中間円板（33,50）を有していること、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ５９．（ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（38,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられ
   ていること、 （ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に半径方
   向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）が設け
   られており、該一方のはずみ質量体（３）に対して回動
   不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対して軸方
   向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）の摩擦
   円板（47）が設けられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ６０．（ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（38,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられ
   ていること、 （ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）
   が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ６１．（ホ）両方の摩擦手段（14a,14b）の摩擦ライニ
   ング（38,53）が中間円板（33,50）の反対側に設けられ
   ていること、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ６２．（ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に
   半径方向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）
   が設けられており、該一方のはずみ質量体（３）に対し
   て回動不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対し
   て軸方向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）
   の摩擦円板（47）が設けられていること、 （ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね（51）
   が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷している 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ６３．（ヘ）はずみ質量体（3,4）の一方（３）の上に
   半径方向外側の摩擦手段（14a）のための摩擦面（29）
   が設けられており、該一方のはずみ質量体（３）に対し
   て回動不能であるが該一方のはずみ質量体（３）に対し
   て軸方向に移動可能に半径方向内側の摩擦手段（14b）
   の摩擦円板（47）が設けられていること、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ６４．（ト）半径方向内側の摩擦手段（14b）の皿ばね
   （51）が前記摩擦円板（47）を軸方向に負荷しているこ
   と、 （チ）一方のはずみ質量体（３）に半径方向のフランジ
   （3a）が設けられ、該フランジ（3a）に半径方向外側に
   円筒形の付加部（27）が設けられかつ該フランジ（3a）
   に半径方向内側に位置する摩擦手段（14b）の皿ばね（5
   1）が支えられている 特許請求の範囲第１項から第36項までのいずれか１項記
   載の装置。 ６５．滑りクラッチ（14）のスリップモーメントが第１
   のモーメント段（14b）において50から250Nmの間であ
   り、第２のモーメント段（14a）を使用した場合に80か
   ら800Nmの間である、特許請求の範囲第１項から第64項
   までのいずれか１項記載の装置。 ６６．弾性的な緩衝装置（13）が摩擦手段（14a,14b）
   の少なくとも一方と直列に接続されている、特許請求の
   範囲第６項から第65項までのいずれか１項記載の装置。