JP2021044533A5 - - Google Patents

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  1. 誘電体層を含み、互いに対向する第1面及び第2面、前記第1面及び第2面を連結する第3面及び第4面、及び前記第1面から第4面と連結され、且つ互いに対向する第5面及び第6面を含むセラミック本体と、
    前記セラミック本体の内部に配置され、前記第1面及び第2面に露出し、且つ第3面又は第4面に一端が露出する複数の内部電極と、
    前記第1面及び第2面に露出する前記内部電極の端部上に配置された第1サイドマージン部及び第2サイドマージン部と、を含み、
    前記セラミック本体は、前記誘電体層を間に挟んで互いに対向するように配置される複数の内部電極を含んで容量が形成される活性部、及び前記活性部の上部及び下部に形成されたカバー部を含み、
    前記第1及び第2サイドマージン部はスズ(Sn)を含み、前記第1及び第2サイドマージン部に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記活性部の誘電体層に含まれるスズ(Sn)の含有量よりも多い、積層セラミックキャパシタ。
  2. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる主成分のチタン酸バリウム(BaTiO)100モルに対して0.1モル以上3.0モル以下である、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  3. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる主成分のチタン酸バリウム(BaTiO)100モルに対して0.25モル以上3.0モル以下である、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  4. 前記活性部の誘電体層に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記活性部の誘電体層に含まれる主成分のチタン酸バリウム(BaTiO)100モルに対して0.1モル未満である、請求項1から3のいずれか一項に記載の積層セラミックキャパシタ。
  5. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、前記活性部の誘電体層に含まれる誘電体グレインサイズよりも小さい、請求項1から4のいずれか一項に記載の積層セラミックキャパシタ。
  6. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、100nm以上700nm以下である、請求項5に記載の積層セラミックキャパシタ。
  7. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、90nm以上410nm以下である、請求項5に記載の積層セラミックキャパシタ。
  8. 前記誘電体層の厚さは0.4μm以下であり、前記内部電極の厚さは0.4μm以下である、請求項1から7のいずれか一項に記載の積層セラミックキャパシタ。
  9. 複数の第1内部電極パターンが所定の間隔を置いて形成された第1セラミックグリーンシート、及び複数の第2内部電極パターンが所定の間隔を置いて形成された第2セラミックグリーンシートを設ける段階と、
    前記第1内部電極パターンと前記第2内部電極パターンとが交差するように、前記第1セラミックグリーンシート及び前記第2セラミックグリーンシートを積層してセラミックグリーンシート積層本体を形成する段階と、
    前記第1内部電極パターン及び第2内部電極パターンの末端が幅方向に露出する側面を有するように、前記セラミックグリーンシート積層本体を切断する段階と、
    前記第1内部電極パターン及び第2内部電極パターンの末端が露出する側面に第1サイドマージン部及び第2サイドマージン部を形成する段階と、
    前記切断された積層本体を焼成して、誘電体層ならびに第1及び第2内部電極を含むセラミック本体を設ける段階と、を含み、
    前記セラミック本体は、前記誘電体層を間に挟んで互いに対向するように配置される第1及び第2内部電極を含んで容量が形成される活性部、及び前記活性部の上部及び下部に形成されたカバー部を含み、
    前記第1及び第2サイドマージン部はスズ(Sn)を含み、前記第1及び第2サイドマージン部に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記活性部の誘電体層に含まれるスズ(Sn)の含有量よりも多い、積層セラミックキャパシタの製造方法。
  10. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる主成分のチタン酸バリウム(BaTiO)100モルに対して0.1モル以上3.0モル以下である、請求項9に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  11. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる主成分のチタン酸バリウム(BaTiO)100モルに対して0.25モル以上3.0モル以下である、請求項9に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  12. 前記活性部の誘電体層に含まれるスズ(Sn)の含有量は、前記活性部の誘電体層に含まれる主成分のチタン酸バリウム(BaTiO)100モルに対して0.1モル未満である、請求項9から11のいずれか一項に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  13. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、前記活性部の誘電体層に含まれる誘電体グレインサイズよりも小さい、請求項9から12のいずれか一項に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  14. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、100nm以上700nm以下である、請求項13に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  15. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、90nm以上410nm以下である、請求項13に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  16. 前記誘電体層の厚さは0.4μm以下であり、前記内部電極の厚さは0.4μm以下である、請求項9から15のいずれか一項に記載の積層セラミックキャパシタの製造方法。
  17. 前記セラミック本体の長さは400μm〜1400μmである、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  18. 前記内部電極は400層以上である、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  19. 前記上部及び下部カバー部はそれぞれ、20μm以下の厚さを有する、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  20. 前記サイドマージン部の平均厚さが2μm以上15μm以下である、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  21. 前記誘電体層の厚さは0.4μm以下である、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  22. 前記誘電体層はスズ(Sn)を含まない、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  23. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、前記活性部の誘電体層に含まれる誘電体グレインサイズよりも小さい、請求項3に記載の積層セラミックキャパシタ。
  24. 前記第1及び第2サイドマージン部に含まれる誘電体グレインサイズは、90nm以上410nm以下である、請求項3に記載の積層セラミックキャパシタ。
  25. 前記誘電体層はスズ(Sn)を含まない、請求項3に記載の積層セラミックキャパシタ。
  26. 前記第1及び第2サイドマージン部の平均厚さが2μm以上15μm以下である、請求項3に記載の積層セラミックキャパシタ。
  27. 前記第1及び第2サイドマージン部の平均厚さが2μm以上15μm以下である、請求項22に記載の積層セラミックキャパシタ。
  28. 前記第1及び第2サイドマージン部の平均厚さが2μm以上15μm以下である、請求項23に記載の積層セラミックキャパシタ。
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