JP2020071117A - 表面性状測定方法および表面性状測定装置 - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1に開示された表面性状測定装置は、円弧運動可能に支持された測定アームと、測定アームの先端に設けられたスタイラスと、スタイラスが所定の測定力で被測定物に当接するように測定アームに力を作用させる測定力付与手段と、測定アームをステージに対して相対移動させる移動機構と、測定アームの円弧運動による変位を検出する変位検出部と、を備えている。
測定アームの落下が生じると、衝突によりスタイラスおよび被測定物が損傷する可能性がある。これに対し、本願出願人により、スタイラスが測定対象と衝突するような不都合を防止できる表面性状測定装置が提案されている(特許文献2参照)。
従って、特許文献2に開示された表面性状測定装置によれば、測定アームの変位速さが所定閾値を超えた場合(測定アームの落下が生じた場合)でも、測定アームの先端を上方に持ち上げる方向の力が測定力付与手段に発生するようにフィードバックを掛けることができ、スタイラスが測定対象と衝突してしまうような測定アームの落下を抑止することができる。
特許文献3に開示された表面性状測定装置は、カム式のアームリフタを用いてアームを回動させて離反位置、中間位置、測定位置、休止位置に保持するようにしている。
このうち、測定位置では、スタイラスを被測定物に接触させることで測定を行うことができる。一方、離反位置ではスタイラスを被測定物から大きく退避させることで、被測定物の出し入れ等の際にスタイラスとの接触を回避する。さらに、測定対象の孔等に導入するために、測定位置と離反位置との間にアームが略水平な状態となる中間位置が設定される。一方、保管時の損傷を防止するために、測定位置よりもスタイラスを下方に保持して外部との接触から保護する休止位置が設定されている。
一方、特許文献2の表面性状測定装置によれば、測定時のアームの落下を防止できるが、測定アームの変位速さの監視や、測定アームに付与する測定力の制御が必要であり、これらの構成を用いたくない場合には適用できなかった。
そして、本発明では、アームリフタの配置によりアームの落下を防止しており、追加的な装置構成を必要とせず、簡素な構成とすることができる。また、アームリフタが、落下するアームを機械的に拘束するので、アームの落下を確実に防止できる。これにより、アームの変位速さの監視および測定アームに付与する測定力の制御を用いずに測定時のアームの落下を防止できる。
本発明において、所定の測定高さは任意に設定してよく、アームで倣い測定する被測定物などに応じて適宜設定すればよい。また、所定の落下量および下限高さも任意に設定してよく、倣い測定する被測定物の段差に応じて、アームが落下した際にスタイラスが損傷しない落下高さを適宜設定すればよい。
本発明における下限高さおよび測定高さは、実際の被測定物にアームを近接させて検出器から得られる値を用いてもよい。しかし、例えば筒状の被測定物の内面に段差がある場合など、段差に対するアームの状態の目視確認が難しく、適切な下限高さを設定できない可能性もある。これに対し、被測定物の設計情報から測定高さおよび下限高さを演算し、設定しておくことで、効率よく確実な落下防止を図ることができる。
本発明において、アームの揺動位置を検出するスケールは、表面性状測定器に通常設置されるものであり、容易に利用できるとともに、アームの高さ位置が直接的に得られるので好ましい。一方、アームリフタが回転カムを用いる形式であれば、その回転角度位置を検出するエンコーダの出力からアームの高さ位置を演算し、あるいはデータテーブルを用いてアームの高さ位置を読み出してもよい。
このような本発明の表面性状測定装置では、前述した本発明の表面性状測定方法で説明した通りの効果を得ることができる。
図1において、表面性状測定装置1は、装置本体2の上面に載物台3およびコラム4を有する。
載物台3は、上面に被測定物Wが載置される。載物台3の上面は、装置本体2に対して水平な2方向(X軸方向およびY軸方向)へ移動可能である。
コラム4は、側面にケース5を有し、ケース5の下面には測定器本体10が吊り下げ支持されている。
これらの昇降機構6、駆動機構7および載物台3により移動機構8が構成され、この移動機構8によって測定器本体10と被測定物Wとは三次元で相対移動可能である。
測定器本体10には、測定用のアーム11が揺動自在に支持され、その先端には被測定物Wに接触可能なスタイラス12が形成されている。
アームリフタ20は、モータ21で回転駆動されるカム22を有し、カム22にはピン23が設置されている。アーム11にはピン23に係合するレバー24が形成されており、カム22が回転することでアーム11を所定の角度位置へと揺動可能である。
制御装置30は、所定の動作プログラムを実行することで、表面性状測定装置1の制御を行うものであり、アームリフタ20のモータ21の動作制御、移動機構8の動作制御、およびスケール14からの信号処理は、それぞれ制御装置30で実行される。
制御装置30は、スケール14からの検出信号からアーム11の揺動角度位置を検出することができ、その角度位置からスタイラス12の高さ位置を演算することができる。
一方、制御装置30は、アームリフタ20のモータ21を制御することで、アーム11を次のような複数の動作モードに切り替えることができる。
図3においては、アームリフタ20のピン23がカム22の下側に移動し、アーム11のレバー24が押し下げられる結果、アーム11の先端側が上がり、スタイラス12が被測定物Wから離れた位置(機械的な移動上限)に保持される。この状態が、被測定物Wの着脱を行う際に適した「退避モード」となる。
この中間モードとすることで、例えば被測定物Wの内側面の測定を行う際など、筒状の被測定物Wの内側にアーム11の先端を導入することができる。なお、中間モードにおけるアーム11の角度は適宜調整でき、かつ角度の異なる複数の中間モードを設定してもよい。これらの中間モードは、制御装置30において設定することができる。
図5において、被測定物Wは、高さL1の表面P1と高さL2の表面P2との間に段差Dがある。このため、アーム11のスタイラス12で表面P1を倣い測定する際に、アーム11が段差Dで落下し、スタイラス12が表面P2に衝突して損傷する可能性がある。
具体的に、アームリフタ20を下限高さL3に配置するとは、スタイラス12の可動域下限がL3になるように、アームリフタ20のカム22を回動させて、アーム11の揺動域下限を制限することである。このときのスタイラス12の位置(下限高さL3)はスケール14の値で把握できる。
従って、アームリフタ20のカム22を回動させながら、そのときのスケール14の値を読み出し、スタイラス12の可動域下限が下限高さL3になるように調整すればよい。この位置を、測定モード時のアームリフタ20によるアーム保持位置(アーム11を拘束する位置)とする。
以上のようにアームリフタ20を下限高さL3に配置しておくことで、倣い測定するアーム11が段差Dで落下した際には、アームリフタ20により下限高さL3でアーム11が拘束され、表面P2との衝突によるスタイラス12の損傷を回避できる。
一方、アームリフタ20を下限高さL3に配置した状態で、アーム11を測定高さL1に配置する際には、アームリフタ20を用いるのではなく、測定器本体10を移動機構8で移動させ、アーム11の先端を被測定物Wの上方から下降させ、スタイラス12が表面P1に接触する状態とする。
以上により、アーム11が測定高さL1に配置され、アームリフタ20が下限高さL3に配置された状態とすることができる。
具体的には、測定高さL1は、アーム11の先端を被測定物Wの表面P1に近接させ、スタイラス12を表面P1に接触させた状態で、スケール14でアーム11の高さ(スタイラス12の高さ)を検出し、その際の移動機構8の座標値と組み合わせて測定することができる。同様に高さL2についても、表面P2にスタイラス12を接触させて測定することができる。
例えば、表面P1にスタイラス12を接触させてスケール14の値がゼロになるように測定器本体10の高さ位置を調整してから、スタイラス12による表面P1の倣い測定をする場合、倣い測定の前に次のような設定操作を行う。
まず、スタイラス12が表面P2の上方にある状態、あるいは測定器本体10を移動機構8で移動させて測定器本体10が表面P1から離れた位置にする。
次に、アーム11を中間モードで保持した状態、すなわちスケール14の値がゼロの状態からスタイラス12が下降する方向(マイナス方向とする)に、アームリフタ20のカム22を回動させる。
カム22の回動中、アーム11は自重によりその時々の揺動下限に位置しており、カム22の回動によりアーム11も回動し、スケール14の値がマイナス方向に変化する。
スケール14の値が−Fになったら、カム22の回動を停止する。これにより、アームリフタ20は、スタイラス12がマイナス方向には―Fだけ変位した高さまでしか移動しないようにアーム11を保持でき、この高さが下限高さL3として設定される。
アームリフタ20が下限高さL3に配置されたら、アームリフタ20の状態を維持したまま、移動機構8により測定器本体10を移動させ、表面P1にスタイラス12を接触させるとともに、スケール14の値がゼロになるように測定器本体10の高さ位置を調整する。このとき、アーム11はアームリフタ20から離れて表面P1の形状に従って揺動可能な状態となる。
この状態で、スタイラス12で表面P1の倣い測定を行うことができ、倣い測定の間に段差Dによりアーム11が落下しても、スタイラス12が下限高さL3となる位置でアーム11が拘束され、アームリフタ20によりアーム11が保持される。
例えば、表面P2上において、アーム11を中間モードで保持した状態で移動機構8により測定器本体10を昇降させ、前述の表面P1を検出したときの高さ(表面P1を測定するときの測定器本体10の高さ)になるように調整したのち、アームリフタ20によりアーム11を回動させて、ユーザが目視によりスタイラス12を所望の下限高さL3に配置することも可能である。この状態を維持したまま測定器本体を移動させて表面P1の倣い測定を行ってもよいし、このときのスケール14の値を一旦記憶しておき、アームリフタ20を下限高さL3に配置するときに用いるようにしてもよい。
ただし、例えば被測定物Wが筒状で、段差Dがその内面にある場合など、段差Dに対するアーム11の状態の目視確認が難しく、適切な下限高さL3を設定できない可能性もある。このような場合は、前述した被測定物Wの設計情報の参照により、下限高さL3および測定高さL1を設定すればよい。
被測定物Wの表面性状測定を行う際には、先ず、表面性状測定装置1を準備し、測定器本体10を載物台3から離した状態で、載物台3に被測定物Wを設置する(図6の工程S1)。
次に、制御装置30に測定高さL1と下限高さL3の値を設定し(工程S2)、測定器本体10において、アームリフタ20を下限高さL3に配置する(工程S3)。前述したように、実際の被測定物Wにアーム11を近接させ、高さL1,L2を測定して測定高さL1、落下量Fを定め、下限高さL3を設定してもよいし、被測定物Wおよびアーム11の目視により測定高さL1、落下量F、および下限高さL3を設定してもよい。さらに、被測定物Wの設計情報から測定高さL1ないし下限高さL3を設定し、設定された下限高さL3に基づいてアームリフタ20を配置してもよい。
続いて、移動機構8により測定器本体10を移動させ、アーム11を測定高さL1に配置し、スタイラス12を被測定物Wに接触させる(工程S4)。
すなわち、スタイラス12が表面P1に接触した状態で、移動機構8により測定器本体10を表面P1に沿って移動させて倣い測定を実行し、スタイラス12で被測定物Wの表面P1を測定する(工程S5)。
アーム11が段差Dで落下しない限り、工程S5の倣い測定が継続される(工程S6)。一方、段差Dでアーム11が落下した場合、下限高さL3に配置されたアームリフタ20により、アーム11が拘束され、それ以上の落下が防止される(工程S7)。
アーム11の落下は制御装置30で検出され、制御装置30は測定器本体10を移動させ、アーム11を測定高さL1(または下側の表面P2の高さL2)に復帰させ、被測定物Wの倣い測定を再開する(工程S8)。制御装置30は、指定された測定経路の倣い測定が終了した場合に、測定動作を終了する(工程S9)。
なお、測定を再開する際には、新たな下限高さL3の高さの値を設定してもよい。例えば、下側の表面P2の測定時には、新たな下限高さでアーム11の可動域を制限することもできる。
本実施形態では、被測定物Wの表面P1,S2に大きな段差Dがあり、アーム11が測定高さL1から落下した場合でも、下限高さL3に配置されたアームリフタ20で拘束され、更なる落下によるスタイラス12の損傷を防止できる。
そして、本実施形態では、アームリフタ20の配置によりアーム11の落下を防止しており、表面性状測定装置1に追加的な装置構成を必要とせず、簡素な構成とすることができる。また、アームリフタ20で落下するアーム11を機械的に拘束しており、アーム11の落下を確実に防止できる。
従って、本実施形態によれば、アーム11の変位速さの監視およびアーム11に付与する測定力の制御を用いずに、測定時のアーム11の落下を防止できる。
この際、アーム11の揺動位置を検出するスケール14は、表面性状測定装置1に通常設置されるものであり、容易に利用できるとともに、アーム11の高さ位置が直接的に得られるので好ましい。
前記実施形態では、下限高さL3および測定高さL1を設定する際に、アーム11の高さ位置をスケール14で読み取り、下限高さL3および測定高さL1として設定するとしたが、アーム11の揺動位置を直接検出するスケール14とは異なる手段を利用してもよい。
例えば、前記実施形態では、アームリフタ20が回転式のカム22を用いる形式であり、その回転角度位置をエンコーダで検出し、その出力からデータテーブルを用いてアーム11の高さ位置を演算してもよい。
前記実施形態では、アームリフタ20として回転式のカム22を用いたが、ピン23が設置された部材を上下方向に往復移動させてアーム11を強制的に揺動させる構造としてもよい。
Claims (6)
- スタイラスが上下に変位するように揺動自在に支持されたアームと、前記アームを回動させて前記スタイラスを所定高さに保持するアームリフタと、を有する表面性状測定装置を用い、
前記アームリフタを、所定の測定高さから所定の落下量だけ下方の下限高さに前記アームを保持可能な状態に配置したのち、
前記アームを前記測定高さに配置しかつ前記スタイラスを被測定物に接触させ、
この状態で、前記被測定物の表面性状を測定することを特徴とする表面性状測定方法。 - 請求項1に記載された表面性状測定方法において、
前記表面性状測定装置は、前記アームおよび前記アームリフタが設置された測定器本体と、前記測定器本体を前記被測定物に対して相対移動可能な移動機構と、を有し、
前記測定器本体において、前記アームリフタを、前記下限高さに前記アームを保持可能な状態に配置したのち、
前記移動機構で前記測定器本体を移動させることで、前記スタイラスを前記被測定物に接触させるとともに前記アームを前記測定高さに配置し、
この状態で、前記被測定物の表面性状を測定することを特徴とする表面性状測定方法。 - 請求項1または請求項2に記載された表面性状測定方法において、
前記下限高さおよび前記測定高さは、予め前記被測定物の設計情報から設定しておくことを特徴とする表面性状測定方法。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載された表面性状測定方法において、
前記アームの高さ位置は、前記アームの揺動位置を検出するスケールと、前記アームリフタの回転カムの回転角度位置を検出するエンコーダと、のいずれかから取得することを特徴とする表面性状測定方法。 - 請求項4に記載された表面性状測定方法において、
前記スケールまたは前記エンコーダで取得される前記アームの高さを参照しつつ、前記アームを保持した状態の前記アームリフタを動作させることで、前記アームを前記下限高さに配置したのち、
前記アームを前記アームリフタから離隔させることで、前記下限高さに前記アームを保持可能な状態に前記アームリフタを配置することを特徴とする表面性状測定方法。 - スタイラスが上下に変位するように揺動自在に支持されたアームと、前記アームを回動させて前記スタイラスを所定高さに保持するアームリフタと、前記アームおよび前記アームリフタが設置された測定器本体と、前記測定器本体を被測定物に対して相対移動可能な移動機構と、前記アーム、前記アームリフタ、および前記移動機構を制御する制御装置と、を有し、
前記制御装置は、
前記測定器本体において、前記アームリフタを、所定の測定高さから所定の落下量だけ下方の下限高さに前記アームを保持可能な状態に配置したのち、
前記移動機構で前記測定器本体を移動させることで、前記スタイラスを前記被測定物に接触させるとともに前記アームを前記測定高さに配置し、
この状態で、前記被測定物の表面性状を測定することを特徴とする表面性状測定装置。
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JP2018204760A JP7261560B2 (ja) | 2018-10-31 | 2018-10-31 | 表面性状測定方法および表面性状測定装置 |
US16/655,811 US11193749B2 (en) | 2018-10-31 | 2019-10-17 | Surface property measuring method and surface property measuring device |
DE102019007525.0A DE102019007525A1 (de) | 2018-10-31 | 2019-10-29 | Oberflächeneigenschafts-messverfahren, computerprogrammprodukt und oberflächeneigenschafts-messvorrichtung |
CN201911044129.1A CN111121597B (zh) | 2018-10-31 | 2019-10-30 | 表面性状测定方法和表面性状测定装置 |
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---|---|---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112923898A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-06-08 | 宁波云德半导体材料有限公司 | 一种粗糙度检测工装 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017113695B3 (de) * | 2017-06-21 | 2018-12-27 | Carl Mahr Holding Gmbh | Wippenloses Messsystem für ein Messgerät |
DE102017113699B3 (de) | 2017-06-21 | 2018-06-28 | Carl Mahr Holding Gmbh | Messsystem mit einer Kugelführungseinheit für ein Messgerät |
JP7213059B2 (ja) * | 2018-10-24 | 2023-01-26 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定装置およびその制御方法 |
US11709045B1 (en) * | 2022-02-19 | 2023-07-25 | National Institute Of Metrology, China | Surface texture probe and measurement apparatus with a vibrational membrane |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004301669A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Olympus Corp | 形状測定機 |
JP2004354289A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 測定ヘッド |
DE102007019833A1 (de) * | 2007-04-25 | 2008-10-30 | T & S Gesellschaft für Längenprüftechnik mbH | Tastsystem zur Vermessung einer Oberfläche eines Werkstücks |
JP2010286313A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Mitsutoyo Corp | 真円度測定装置 |
JP2011089830A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Mitsutoyo Corp | 測定力制御装置 |
JP2012103111A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | Olympus Corp | 形状測定センサ |
US20120255500A1 (en) * | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Michael John Dixon | Force measurement |
JP2014081341A (ja) * | 2012-10-18 | 2014-05-08 | Mitsutoyo Corp | 測定機及びその測定力調整方法 |
JP2014185985A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Mitsutoyo Corp | 輪郭測定機 |
KR20150096254A (ko) * | 2014-02-14 | 2015-08-24 | (주)키메스 | 로터리 인코더를 이용한 형상측정기 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5993290A (ja) | 1982-11-18 | 1984-05-29 | 株式会社神戸製鋼所 | ロボツト、マニプレ−タ等の手首機構 |
JP3215354B2 (ja) * | 1997-06-04 | 2001-10-02 | 株式会社東京精密 | 測定機の校正方法及びその装置 |
JP4009379B2 (ja) * | 1999-01-20 | 2007-11-14 | 株式会社ミツトヨ | ハイトゲージ |
US6401352B1 (en) * | 1999-10-01 | 2002-06-11 | Mitutoyo Corporation | Linear measuring machine |
US6244103B1 (en) * | 1999-12-16 | 2001-06-12 | Surface/Interface, Inc. | Interpolated height determination in an atomic force microscope |
JP2002323425A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Hitachi Kenki Fine Tech Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡および探針の位置決め方法 |
JP3967274B2 (ja) * | 2003-02-27 | 2007-08-29 | 株式会社ミツトヨ | 測定装置 |
WO2007135857A1 (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Panasonic Corporation | 形状測定装置用プローブ及び形状測定装置 |
JP2008032540A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 表面形状測定装置及び触針荷重の異常検出方法 |
JP4291849B2 (ja) * | 2006-12-20 | 2009-07-08 | パナソニック株式会社 | 三次元測定プローブ |
JP2008249344A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Konica Minolta Opto Inc | 形状測定方法、及び形状測定装置 |
EP1983297B1 (en) * | 2007-04-18 | 2010-04-07 | Hexagon Metrology AB | Scanning probe with constant scanning speed |
JP5173292B2 (ja) * | 2007-07-13 | 2013-04-03 | 株式会社アルバック | 試料の表面形状の測定方法 |
JP5133744B2 (ja) * | 2008-03-19 | 2013-01-30 | 株式会社ミツトヨ | 形状測定装置 |
JP5639934B2 (ja) | 2011-03-09 | 2014-12-10 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定機 |
JP5823306B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2015-11-25 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定機の校正方法 |
JP5735336B2 (ja) | 2011-04-19 | 2015-06-17 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定機 |
US8701301B2 (en) * | 2011-04-19 | 2014-04-22 | Mitutoyo Corporation | Surface texture measuring instrument |
WO2013103070A1 (ja) * | 2012-01-04 | 2013-07-11 | 株式会社東京精密 | 輪郭形状表面粗さ測定装置および輪郭形状表面粗さ測定方法 |
JP5902485B2 (ja) * | 2012-01-10 | 2016-04-13 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 走査型プローブ顕微鏡の探針形状評価方法 |
JP6122312B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-04-26 | 株式会社ミツトヨ | 形状測定機 |
JP6133678B2 (ja) | 2013-05-01 | 2017-05-24 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定装置およびその制御方法 |
JP6518421B2 (ja) * | 2014-09-24 | 2019-05-22 | 株式会社ミツトヨ | 真円度測定機およびその制御方法 |
JP6447997B2 (ja) * | 2015-02-09 | 2019-01-09 | 株式会社ミツトヨ | テストインジケータ |
JP6679215B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2020-04-15 | 株式会社東京精密 | 形状測定機、及びその制御方法 |
EP3896384A1 (en) * | 2016-04-08 | 2021-10-20 | Renishaw PLC | Coordinate positioning machine |
CN205739257U (zh) * | 2016-06-23 | 2016-11-30 | 山西戴德测控技术有限公司 | 一种圆式管状输送带涨管的检测装置 |
US9933248B2 (en) * | 2016-07-20 | 2018-04-03 | Tesa Sa | Height gauge |
JP6885585B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-06-16 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 走査型プローブ顕微鏡、及びその走査方法 |
JP6927734B2 (ja) | 2017-04-18 | 2021-09-01 | 株式会社ミツトヨ | 駆動ステージ装置の駆動制御方法 |
JP6777589B2 (ja) * | 2017-05-24 | 2020-10-28 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定装置 |
JP6895319B2 (ja) | 2017-06-08 | 2021-06-30 | Nok株式会社 | トーショナルダンパ |
JP7213059B2 (ja) * | 2018-10-24 | 2023-01-26 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定装置およびその制御方法 |
-
2018
- 2018-10-31 JP JP2018204760A patent/JP7261560B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-17 US US16/655,811 patent/US11193749B2/en active Active
- 2019-10-29 DE DE102019007525.0A patent/DE102019007525A1/de active Pending
- 2019-10-30 CN CN201911044129.1A patent/CN111121597B/zh active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004301669A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Olympus Corp | 形状測定機 |
JP2004354289A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 測定ヘッド |
DE102007019833A1 (de) * | 2007-04-25 | 2008-10-30 | T & S Gesellschaft für Längenprüftechnik mbH | Tastsystem zur Vermessung einer Oberfläche eines Werkstücks |
JP2010286313A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Mitsutoyo Corp | 真円度測定装置 |
JP2011089830A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Mitsutoyo Corp | 測定力制御装置 |
JP2012103111A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | Olympus Corp | 形状測定センサ |
US20120255500A1 (en) * | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Michael John Dixon | Force measurement |
JP2014081341A (ja) * | 2012-10-18 | 2014-05-08 | Mitsutoyo Corp | 測定機及びその測定力調整方法 |
JP2014185985A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Mitsutoyo Corp | 輪郭測定機 |
KR20150096254A (ko) * | 2014-02-14 | 2015-08-24 | (주)키메스 | 로터리 인코더를 이용한 형상측정기 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112923898A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-06-08 | 宁波云德半导体材料有限公司 | 一种粗糙度检测工装 |
CN112923898B (zh) * | 2021-01-22 | 2021-09-17 | 宁波云德半导体材料有限公司 | 一种粗糙度检测工装 |
Also Published As
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