JP5173292B2 - 試料の表面形状の測定方法 - Google Patents

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Description

本発明は、試料の表面形状の測定方法に関するものである。一層特に、本発明は触針式段差計の針のとびを抑制する方法に関する。
本明細書において、用語“試料の表面形状”は試料の段差、膜厚、表面粗さの概念を包含するものとする。
従来技術による触針式段差計の一例を添付図面の図21に示す。図21において、Aは探針で支点Bに揺動可能に取り付けられた支持体Cの一端に装着されている。支点Bは支点受け窪みに置かれる。また支持体Cの他端に隣接して探針Aの垂長方向変位を検出する変位センサDが設けられている。変位センサDは探針Aの垂長方向変位に応じて電気信号を発生する差動トランスから成っている。一方、支持体Cの他端には探針Aに針圧を加える針圧発生装置Eが設けられている。針圧発生装置Eは、コイルFと、コイルFの中心から軸方向にずれた位置に配置された高透磁率材のコアGとを備え、コイルFに流す電流の大きさに応じて発生される、高透磁率材のコアGをコイルFの中心へ引き込む力より探針Aを試料に押し当てるように構成されている。そして試料または図1の検出系を走査することで探針Aは試料表面をなぞり、その表面形状に応じて、固定された支点Bのまわりに微小に回転運動し、その変位を差動トランスDで検出して試料の表面形状や段差が測定される。
このような触針式段差計で軟らかい試料を測る際には、膜厚検査時間を短縮するために、測定時間の短縮が要求され、走査速度を大きくしなければならず、他方では、試料の変形や破損を防ぐために針を下に押し付ける力を小さくしなければならない。しかし、小さい力で、速い走査を行うと図1のような上りの段差部分で針が上方に飛び上がり、正しい段差の測定ができない。
図2には針とびの例を示し、試料の基板上の段差部で探針が空中にとび上がった後、試料面の上で何回か振動している様子を示している。図2のグラフは、探針の針圧が0.15 mgf、探針の走査速度が0.1 mm/sでの測定例である。試料は図1に示す構成と同じで、横軸は時間で、60msで走査を開始し、760msで70μm走査が進んでいる。380ms相当の位置にレジスト膜の端すなわち段差があり、そこから変位が増して、探針がとび上がり、その後、戻ってもレジスト膜表面で針が再び跳ね上がり、振動を繰返している。探針の飛びの高さはこれら条件の他に、支点まわりの慣性モーメントと「支点と探針の間の長さ」に依存する(例えば特許文献1参照)。
このような探針のとびを解決する方法としては、本願の発明者は先に、探針のとびの検知後、探針を下に押さえる力を増して、とびを小さくすることを提案した(特許文献1参照)。かかる方法では、探針に掛かる力を増したまま探針のとび(試料表面上での複数回のとびの振動)が収まるまで待ち、その後、力を徐々に元の小さい値に戻す。つまり、ある一定の間は試料に強い力がかかることになる。従って、探針のとびの高さは小さくなるが、短い時間にせよ試料に強い力がかかる点では望ましくない。
特開2006‐226964
上記のような方法では、例えばフォトレジストなどの軟らかい試料の測定では、探針の針先に掛かる力すなわち針圧に応じて試料が変形する。かかる力が強いと、その部分では試料が変形し或いは破損して段差や膜厚は正しく測定できない。
そこで、本発明は、探針が空中にあるときにだけ針圧を増し、試料に再び触れる前に元の弱い針圧に戻すことで、試料には強い力をかけずに探針のとびを抑制できる試料の表面形状の測定方法を提供することを目的としている。
上記の目的を達成するために、本発明の第1の発明によれば、探針を被測定試料の表面に接触させて被測定試料の表面形状を測定する方法において、
センサによる被測定表面上における探針の垂直方向の変位の検出と、探針の変位の検出に基いた探針の速度及び加速度の算出と、及び探針の速度及び加速度の少なくとも一方のリアルタイムでのモニターによる探針のとびの検出と、探針の針圧発生装置への電流制御とから成る制御操作を短時間で行い、探針が空中にあるときにだけ探針にかける針圧を増大し、探針が試料に再び触れる前に探針の針圧を元の状態に戻すことを特徴としている。
本発明の一実施形態によれば、・探針のとびの軌跡の頂点付近で、探針にかかる針圧を元の値に戻すようにされ得る。また、制御操作は100μ秒で行なわれ得る。
本発明の方法においては、好ましくは、探針の変位の検出に基いた探針の速度が探針のとびを判断する設定値以上になった時に探針にかける針圧を増大し、その後探針の速度が前記設定値を下回ったら探針の針圧を元の状態に戻すことができる。この場合、本発明の一実施形態によれば、探針の速度の設定値は40μm/sに選定できる。
代わりに、本発明の方法においては、探針の変位の検出に基いた探針の加速度が探針のとびを判断する設定値以上になった時に探針にかける針圧を増大し、その後探針の加速度が前記設定値を下回ったら探針の針圧を元の状態に戻すようにしてもよい。
また、探針のとびの軌跡の頂点付近で、探針にかかる針圧を元の値に戻すように構成した場合には、試料表面に着地する際の速さが小さくなり、それにより跳ね返りが小さくなり、かつ、試料へのダメージも小さくなる。
また、制御操作を100μ秒で行うようにすることにより、探針の垂直方向の変位の実際の変化に十分追従させることができる。
また、本発明の方法において、探針の変位の検出に基いた探針の速度及び(又は)加速度が探針のとびを判断する設定値以上になった時に探針にかける針圧を増大し、その後探針の速度が前記設定値を下回ったら探針の針圧を元の状態に戻すように構成することにより、探針のとびの高さを低くできると共に、試料に再び触れる際の探針の針圧は当然小さくできる。さらに、探針が試料表面に向って下りてきて試料に再び当たる際の速度が小さくなるので、試料を傷めることがなく、針の跳ね返り(再度のとび)も小さくなる。
以下添付図面の図3〜図20を参照して本発明の実施形態について説明する。
図3には、本発明による測定装置の一つの実施形態を示し、1は固定支持台で、その上に支点2を介して揺動支持棒3が設けられ、この揺動支持棒3の一端には探針4が下向きに取り付けられている。探針4はその先端はダイヤモンドで構成され、また先端の半径は一般的には2.5μmであるが、それより大きくても小さくてもよい。また、揺動支持棒3の他端には探針4に垂直下方の力すなわち針圧を加える力を発生する針圧付加手段5が設けられている。この針圧付加手段5は図示例では、揺動支持棒3の他端から上方へのびる作動子5aと作動子5aを受ける穴をもつコイル5bとで構成されている。揺動支持棒3の一端における探針4より支点2側において、探針4の垂直方向の変位を検出する検出手段6が設けられ、この検出手段6は揺動支持棒3に一端を固定した測定子6aと測定子6aの他端すなわち自由端を受けるコイル6bとを備えた差動トランスで構成されている。
また、図3において7は試料ホルダーで、その上に走査ステージ8が探針4に対して予定の操作速度で移動できるように設けられ、この走査ステージ8上には被測定試料9が取り付けられ得る。
針圧付加手段5及び探針4の垂直方向の変位を検出する検出手段6は制御手段10に接続され、この制御手段10は検出手段6からの出力信号に基いて針圧付加手段5の動作を制御するように構成されている。なお、図3の装置において試料9を固定して探針側を走査するように構成することも可能である。
図4には図3に示す制御手段10の構成の一例を示し、本発明の針とび抑制制御を行うための計測制御系の構成例を示している。図4において、差動トランス等から成り得る検出手段6即ち変位センサの出力はロックインアンプ等の計測器11で計測される。計測器11は計測した探針の変位信号をアナログ信号としてアナログ入出力ボード12へ出力する。このアナログ入出力ボード12は、リアルタイムOSで動作するコントローラ13で制御され、計測器11からのアナログ信号取り込む。コントローラ13のCPU及びそれにLANを介し接続されたコンピュータ装置14でその信号を探針の垂直方向の変位zに換算し、その時間微分dz/dt即ち探針の変位速度v及び2階微分d2z/dt2即ち探針の加速度αを計算し、それら値から探針のとびを判断するように機能する。14はコンピュータ装置で、このコンピュータ装置14はLANを介してコントローラ13に接続されている。コントローラ13において探針のとびが検知されると、探針の針圧を増すために、針圧付加手段5(図3)におけるコイル5bに流す電流を増すようにする。すなわちアナログ入出力ボード12を介して、コイル5bに流す電流を制御するアナログ電圧信号がコイル5bに接続された電源15に供給され、この電源15を制御する。その制御ループの動作を図5に示す。
探針4のとびを抑制する方法について以下に説明する。
探針が空中にあるときにだけ力を増し、試料に再び触れる前に元の弱い力に戻すことで、試料には強い力をかけずに針のとびを抑制する。
図6及び図7に探針のとびの計算結果を示す。点線はとびの抑制をしておらず、実線は本発明に従って抑制制御を行った場合であり、図7のグラフは、図6のグラフを拡大表示したものである。
探針4の針先での力をF、針先の垂直方向位置をz、支点2のまわりの慣性モーメントをI、支点2から探針4の針先までの距離をrとして、支点2のまわりの運動方程式を変形すると次の式が得られる。

F = I/r2 d2z/dt2 (1)

即ち、力Fが働く場での、質量がI/r2の質点の運動とみなすことができる。従って、探針4が飛んでいる間は重力場での質点の自由落下運動とみなすことができ、Fが一定ならd2z/dt2も一定になる。つまり図6の点線(zの軌跡)は放物線になっている。
なお、探針4の針先でのz方向即ち垂直方向の初速(針先が試料表面から離れるときの速さ)をv0とし、支点2で支えられた可動部分の重心が支点2に近いと仮定すると、放物線の到達高さh、針先が飛んでいる時間(針先が試料表面を離れた後、再び表面に戻るまでの時間)2t0はそれぞれ次式で表せる。

h = I v0 2 / 2 r2 F (2)
2t0 = 2 I v0 / r2 F (3)
図6及び図7において点線で示すグラフは、探針4の上方への初速度v0が1 mm/s、探針4を押さえる力(針圧)Fが0.1 mgfでの結果である。横軸は時間t(秒)である。v0はx方向の走査速度(図1参照)と同程度と考えられるので、ここでは走査速度= v0としており、探針4のx座標はx= v0 t とした。I/r2 = 0.210 g のセンサでの計算結果である。
探針4がとび始めたら力を2 mgf に増し、その後 dz/dt が0になったら力を0.1 mgfに戻した場合の計算結果を図6及び図7に実線のグラフで示している。探針4にかける力を20倍に増すことによりとびの高さは1/20になり、とんでいる時間(x方向のとびの距離)も短くなることが分かる。この場合、本発明の一実施形態では、2 mgfの強い力は探針4が空中にあるときしかかけないので、試料9を傷めない。
もし探針4がとび始めた際に探針4にかける2 mgfの強い力を途中で元の弱い力に戻さないと、「着地」の際の下方向への速さが、「t=0での上方向への速さ」と同じ値になり大きいので、再び大きく跳ね上がることになる。つまり、着地時のz方向の速さ(速度の絶対値)│dz/dt│を小さくしないといけない。そのために、探針4のとびの軌跡の頂点で力を元の弱い値に戻している。
図8及び図9には、図6及び図7の計算で初速v0を1/10の100 μm/sとした時の結果である。点線グラフが制御なしの場合で、実線グラフが制御ありの本発明の場合である。図9のグラフは図8のグラフを拡大して示している。軌跡の頂点で力を戻す制御により、探針4のとびの高さは1/20になっている。
図10はとびの高さをv0に対してプロットしたグラフであり、v0は走査速度と同程度なので横軸には走査速度を表している。センサのI/r2 は0.210 g としている。点線が制御なしの場合で、実線が本発明に従って制御を行ったときの計算結果である。本発明における探針のとび抑制制御により、とびの高さは1/20になっている。これは探針4にかける力を空中で2 mgfに増した例だが、それを例えば4mgfにすれば式(2)から分かるようにとびの高さはさらに1/2になる。また、センサのI/r2 を半分にすれば、とび高さも半分になる。
図11は、図10に示す条件において探針4の横方向のとびの距離を走査速度に対してプロットしたものであり、点線グラフが制御なしの場合で、実線グラフが制御ありの本発明の場合である。本発明により、とびの距離は1/8程度になっている。
図12は、図10に示す条件において探針4がとんでいる時間を示す。本発明を用いることにより、探針4のとび時間も1/8程度に短くなることが認められる。
以上の計算例では、探針4がとび上がってから同じ高さに戻るまでを計算して示した。ところで、探針4のとびを判断するのは、dz/dtの値で行ってもよい。探針4が平らの領域にあるときは、走査中は雑音があったとしてもそのdz/dtは小さい。従って、dz/dtがある値を超えたら、とんだと判断して力を増せばよい。その後、空中でdz/dtが徐々に小さくなっていき、0程度になったら本来の測定したい力の値に戻せばよい。
また、とびの判断はd2z/dt2で行ってもよい。式(1)より探針が空中にあるときは、d2z/dt2= F/(I/r2)なので、d2z/dt2をモニターしていれば判断できる。リアルタイムでzをモニターし時間で微分すれば、dz/dtやd2z/dt2をリアルタイムでモニターできる。
図12に示したように走査速度が100 μm/sなら本発明によりとび時間は数msとなる。従って、そのとびを制御するにはそれより十分に短い時間で図5の制御ループを回す必要がある。Windows(登録商標)等の汎用OSでは図5の制御ループの時間は数ms程度と遅いので、もっと速く、時間も正確なリアルタイムOSで制御すべきである。それにより例えば100μsの制御ループが可能になる。
短時間の制御を行うために、センサからの信号の時定数も小さい必要がある。差動トランスの出力をロックインアンプで計測する際、計測器11の最終段で信号をローパスフィルタに通すが、この時定数も100μs程度にする必要がある。そうすることにより計測器11からのアナログ出力信号を実際のzの変化に追随させることができる。
段差計で最終的に欲しいデータは、上記のように時間に敏感なものでなくてもよい。ローパスフィルタのカットオフ周波数は13Hz程度でよい。また最終的なデータの取り込み、モニタでの表示は3 ms程度の間隔でよい。従って、ソフトのローパスフィルタで計算処理し、データを間引いて図4のコンピュータ装置14の画面に表示すればよい。その計算処理やデータを間引く処理は図4のコントローラ13及びコンピュータ装置14のどちらで行ってもよい。
本発明の作用効果を確認するために行った実験とその結果を以下に示す。
試料9をz=0付近に置き、探針4を0.1 mgfの力の設定値で上方から下ろしたときのz、 v=dz/dt、力F = I/r2 d2z/dt2の時間変化の測定結果をそれぞれ図14、図15及び図16に示す。測定したzを時間微分してvを算出し、2階微分で得たd2z/dt2にI/r2をかけFを求めた。探針4が試料9の表面で跳ね返って振動している様子が分かる。探針4の横方向への走査はしていない。この跳ね返りを走査時の探針4のとびに見立てて、跳ね返り、つまりとびを小さくする実験を行った。実験には図4に示すものと同じ構成の計測制御系を用いた。
図14、図15及び図16に示すグラフは、とび抑制制御をしていない場合であり、ロックインアンプのハードのRCのローパスフィルタ1個の時定数は0.3 msに設定している。これが4段直列につながり、カットオフ周波数は230Hzである。データの取り込み、表示間隔は200μsである。加速度算出前には雑音対策として移動平均によるスムージングを行っている。
このような跳ね返りに対して本発明の方法を適用した結果を図17及び図18に示す。図5の制御ループは10 kHzで回している。図17及び図18における表示は間引いて200μsごとである。図17に示すグラフはzの時間変化であり、図18に示すグラフはvの時間変化である。ロックインアンプのハードのRCのローパスフィルタの時定数は0.1msに設定し、カットオフ周波数は700Hzである。制御プログラムとしては、v が40 nm/ms を超えた時点(5113 ms辺り)で力を2 mgfに増し、その後、vが40 nm/ms を下回った時点(5120 ms辺り)で0.1 mgfに戻している。z方向上方への初速度が600 nm/ms くらいのときに、とびの高さは1700 nmくらいであり、これはとびの抑制制御をしない場合の1/20程度であることが認められる(図10参照)。なお、図17において5113msでzが小さく出ているのは、センサ部の揺動支持棒(図3の符号3参照)のたわみによるものと思われる。
また、図17及び図18で見えている振動は探針、支点、変位センサコアをつなぐ揺動支持棒(図3の符号3参照)の振動によるものと思われる。なお、この実験で用いたセンサ部の構成要素の位置関係は図3と異なり、支点に対して探針側に力発生部があり、その反対側に差動トランスのコアがあるものを使用した。
探針が空中にあるときの振動(5113msから5144msの間。約400Hz)は、支点とコアの間の揺動支持棒のたわみの振動と思われる。探針が試料上にあるときの振動(5144ms以降。約150Hz)は、探針と支点の間の揺動支持棒のたわみ振動により、反対側にあるコアが上下に振動しているものと思われる。
これら振動は、探針が試料に当たった際の衝撃で発生したもので、時間と共に減衰する。また、表面形状のデータとして取り込む際は、カットオフ周波数13Hz程度のソフトのローパスフィルタに通すので、これら振動は除去され問題にならない。
図19及び図20はz方向の初速度が小さい場合の例である。制御方法は図17及び図18の場合と同様である。6325ms以降で針とびを監視している。6330ms辺りのzの山が針のとびであり、とんでいる時間は5ms程度と短い。初速110nm/ms程度(同様の他の例から、跳ね上がる前の下向きの速さの0.75倍程度として判断している)で、とびの高さは70nm程度である。それ以降のzの振動はセンサ部の揺動支持棒のたわみ振動によるものであり、それが減衰していく様子が見えている。カットオフ周波数13Hz程度のソフトのローパスフィルタに通せば、とびも振動も見えなくなるであろう。
図10には、このような測定結果をまとめて示している。○がとびの抑制制御なしの場合の測定結果であり、□が本発明に従って制御ありの場合の測定結果を示している。z方向の初速が走査速度に相当するので、図10の横軸は走査速度で表している。いずれも計算結果とほぼ一致しており、本発明によりとびの高さを1/20にできている。とびの検知後にかける力を20倍の2mgfにしたので、とびの高さは1/20になっており、その力をさらに増せば、とびの高さはさらに小さくなる。
図12には、探針がとんでいる時間をプロットして示し、○はとびの抑制制御なしの場合の測定結果であり、□が本発明に従って制御ありの場合の測定結果を示している。
図11には 図12に示す「とびの時間」に、走査速度に相当する「z方向の初速度」をかけたものを「x方向のとびの距離」としてプロットして示している。いずれも測定結果は計算結果にほぼ一致しており、本発明によりとびの時間、距離が短くなることが実験でも示された。
図13には、特許文献1に記載の制御方式でのとびの高さを図10のデータに合わせて■でプロットして示し、特許文献1に記載の制御方式で改めて行った実験結果であり、特許文献1に示されているデータではない。I/r2が0.114 gのセンサ部を用い、制御なしでの力が0.05mgf、制御は3 msでループを回し、とびの検知後、2 mgfに増し、一定時間それを保ち、その後徐々に力を0.05 mgfに戻したときの測定結果である。
とびの高さh = I v0 2 / 2 r2 Fにおいて、この条件では I/(r2 F) が図10の場合と比べて
(0.114/0.05) / (0.21/0.1)= 1.09
となり、つまり、同じ初速でのとびを比べると1.09倍大きい。従って、高さの減少率を比較できるようにするために、測定した高さを1.09で割ってプロットした。また、1.09で割るだけなので実質的にも問題はない。また力を0.05 mgfから40倍の2 mgfにしているので、特許文献1に記載の制御方式に基づく制御ありの計算値は破線で示し、点線の1/40となっている。特許文献1に記載の制御方式での■でプロットした測定結果は特許文献1に記載の制御方式に基づく「制御ありの計算結果」に達せず走査速度が小さいときにはほとんど効果が得られていない。これは実質的には制御ループを回す速さが遅いことに起因しているが、このことは、制御ループ時間が重要であることを意味している。
試料の段差部での探針の走査の様子を示す概略線図。 試料の段差部での探針のとびの様子を示すグラフ。 本発明を実施している装置の構成を示す概略部分断面図。 図3における制御手段の構成の一例を示すブロック線図。 制御手段による制御ループの動作を示す図。 z方向の初速度が1 mm/sの場合において本発明に従って制御を行った場合の探針とびの軌跡の計算結果(実線)及び制御なしでの計算結果(点線)を示すグラフ。 図6に示すグラフの一部分の拡大図。 z方向の初速度が0.1 mm/sの場合において本発明に従って制御を行った場合の探針とびの軌跡の計算結果(実線)及び制御なしでの計算結果(点線)を示すグラフ。 図8に示すグラフの一部分の拡大図。 本発明に従って制御を行った場合の探針のとびの高さの計算結果(実線)及び測定結果(□)並びに制御なしの計算結果(点線)及び測定結果(○)を示すグラフ。 本発明に従って制御を行った場合の探針のとびの距離の計算結果(実線)及び測定結果(□)並びに制御なしの計算結果(点線)及び測定結果(○)を示すグラフ。 本発明に従って制御を行った場合の探針のとびの時間の計算結果(実線)及び測定結果(□)並びに制御なしの計算結果(点線)及び測定結果(○)を示すグラフ。 図10に示すグラフに特許文献1に記載の制御方式によるとびの高さの計算結果(破線)及び測定結果(■)を重ねて示すグラフ。 制御なしでの探針のzの時間変化測定例を示すグラフ。 制御なしでの探針のvの時間変化測定例を示すグラフ。 制御なしでの探針の力の時間変化測定例を示すグラフ。 z方向の初速が600 nm/msの場合において本発明に従って制御を行ったときのz時間変化測定例を示すグラフ。 z方向の初速が600 nm/msの場合において本発明に従って制御を行ったときのv時間変化測定例を示すグラフ。 z方向の初速が110 nm/msの場合において本発明に従って制御を行ったときのz時間変化測定の別の例を示すグラフ。 z方向の初速が110 nm/msの場合において本発明に従って制御を行ったときのv時間変化測定の別の例を示すグラフ。 探針式段差計の従来例を示す概略図。
符号の説明
1:固定支持台
2:支点
3:揺動支持棒
4:探針
5:針圧付加手段
6:検出手段
7:試料ホルダー
8:走査ステージ
9:被測定試料
10:制御手段
11:計測器
12:アナログ入出力ボード
13:コントローラ
14:コンピュータ装置
15:電源

Claims (6)

  1. 探針を被測定試料の表面に接触させて被測定試料の表面形状を測定する方法において、
    センサによる被測定表面上における探針の垂直方向の変位の検出と、探針の変位の検出に基いた探針の速度及び加速度の算出と、及び探針の速度及び加速度の少なくとも一方のリアルタイムでのモニターによる探針のとびの検出と、探針の針圧発生装置への電流制御とから成る制御操作を短時間で行い、探針が空中にあるときにだけ探針にかける針圧を増大し、探針が試料に再び触れる前に探針の針圧を元の状態に戻すことを特徴とする試料の表面形状の測定方法。
  2. 探針のとびの軌跡の頂点付近で、探針にかかる針圧を元の値に戻すことを特徴とする請求項1に記載の試料の表面形状の測定方法。
  3. 前記制御操作を100μ秒で行うことを特徴とする請求項1に記載の試料の表面形状の測定方法。
  4. 探針の変位の検出に基いた探針の速度が探針のとびを判断する設定値以上になった時に探針にかける針圧を増大し、その後探針の速度が前記設定値を下回ったら探針の針圧を元の状態に戻すことを特徴とする請求項1又は3に記載の試料の表面形状の測定方法。
  5. 探針の速度の前記設定値が40μm/sであることを特徴とする請求項4に記載の試料の表面形状の測定方法。
  6. 探針の変位の検出に基いた探針の加速度が探針のとびを判断する設定値以上になった時に探針にかける針圧を増大し、その後探針の加速度が前記設定値を下回ったら探針の針圧を元の状態に戻すことを特徴とする請求項1又は3に記載の試料の表面形状の測定方法。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5544137B2 (ja) * 2009-10-01 2014-07-09 株式会社アルバック 触針式段差計による試料の表面形状の測定用の計測制御回路装置
JP5697416B2 (ja) 2010-11-24 2015-04-08 キヤノン株式会社 接触式形状測定装置
JP2013007669A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Ulvac Japan Ltd 表面形状測定用触針式段差計における針飛び抑制方法
JP2013007666A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Ulvac Japan Ltd 表面形状測定用触針式段差計及び該段差計における測定精度の改善方法
JP5782863B2 (ja) * 2011-06-24 2015-09-24 株式会社アルバック 表面形状測定用触針式段差計の性能改善方法及び該方法を実施した表面形状測定用触針式段差計
JP6133678B2 (ja) * 2013-05-01 2017-05-24 株式会社ミツトヨ 表面性状測定装置およびその制御方法
CN103499271A (zh) * 2013-09-29 2014-01-08 无锡乐尔科技有限公司 一种厚度测量装置
CN104297147B (zh) * 2014-09-24 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 基板划伤程度的检测装置及其检测方法、检测系统
CN105352433A (zh) * 2015-10-23 2016-02-24 武汉理工大学 一种船体典型焊接结构表面裂纹深度及形状测量装置及其方法
CN108562222B (zh) * 2018-01-18 2020-05-05 华侨大学 一种海底凹坑深度发育测量装置及使用方法
JP7259198B2 (ja) * 2018-03-23 2023-04-18 株式会社東京精密 表面形状測定装置
KR101944080B1 (ko) * 2018-07-24 2019-01-30 황재은 형상측정기
JP7213059B2 (ja) * 2018-10-24 2023-01-26 株式会社ミツトヨ 表面性状測定装置およびその制御方法
JP7261560B2 (ja) * 2018-10-31 2023-04-20 株式会社ミツトヨ 表面性状測定方法および表面性状測定装置
TWI717106B (zh) * 2019-11-18 2021-01-21 財團法人工業技術研究院 銲接品質檢測系統與方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4719578A (en) * 1985-12-09 1988-01-12 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Profiling control apparatus and control method thereof
JP4944308B2 (ja) * 2001-05-18 2012-05-30 キヤノン株式会社 表面性識別装置とこれを用いた加熱装置及び画像形成装置
US6953930B2 (en) * 2001-08-27 2005-10-11 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Conductive transparent probe and probe control apparatus
JP2004340868A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Canon Inc 接触式プローブの圧力制御の安定化方法
JP2006010469A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Canon Inc 接触式プローブの跳ね現象の検出方法
JP5095084B2 (ja) * 2005-02-21 2012-12-12 株式会社アルバック 試料の表面形状の測定方法及び装置
JP4922583B2 (ja) * 2005-08-15 2012-04-25 株式会社アルバック 表面形状測定用触針式段差計の摩擦力補正方法
JP2007057308A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 接触式プローブ
WO2008091371A2 (en) * 2006-07-18 2008-07-31 Multiprobe, Inc. Apparatus and method for combined micro-scale and nano-scale c-v,q-v, and i-v testing of semiconductor materials
JP5544137B2 (ja) * 2009-10-01 2014-07-09 株式会社アルバック 触針式段差計による試料の表面形状の測定用の計測制御回路装置

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