JP2017517582A - ポリアミド−イミド用およびポリイミド用の新規溶媒 - Google Patents

ポリアミド−イミド用およびポリイミド用の新規溶媒 Download PDF

Info

Publication number
JP2017517582A
JP2017517582A JP2016555538A JP2016555538A JP2017517582A JP 2017517582 A JP2017517582 A JP 2017517582A JP 2016555538 A JP2016555538 A JP 2016555538A JP 2016555538 A JP2016555538 A JP 2016555538A JP 2017517582 A JP2017517582 A JP 2017517582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyamide
imide
polyimide
methoxy
dimethylpropanamide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016555538A
Other languages
English (en)
Inventor
ビオンヂィ ジョヴァンナ
ビオンヂィ ジョヴァンナ
ロッジ ジョヴァンニ
ロッジ ジョヴァンニ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Elantas Italia Srl
Original Assignee
Elantas Italia Srl
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elantas Italia Srl filed Critical Elantas Italia Srl
Publication of JP2017517582A publication Critical patent/JP2017517582A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D179/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
    • C09D179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09D179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/1028Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous
    • C08G73/1032Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous characterised by the solvent(s) used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14Polyamide-imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/20Applications use in electrical or conductive gadgets
    • C08L2203/202Applications use in electrical or conductive gadgets use in electrical wires or wirecoating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
    • C08L2205/025Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

ポリアミド−イミドおよび/またはポリイミド用の溶媒としての3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドの使用、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドとポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドとを含む組成物、ならびに3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドを用いる前記組成物の製造方法。

Description

本出願において引用されるすべての文献は、それらの全開示が参照により本開示に組み入れられる。
本発明は、ポリアミド−イミド用およびポリイミド用の新規溶媒ならびにそれに関連する用途に関する。
ポリアミド−イミド類は公知であり、例えば米国特許第3,554,984号、西独国特許第24 41 020号、第25 56 523号、第12 66 427号および第19 56 512号に記載されている。
ポリイミド類も同様に公知であり、例えば英国特許第898,651号、米国特許第3,207,728号、欧州特許第0 274 602号、第0 274 121号に記載されている。
これらの種類の樹脂は、例えばワイヤエナメルを含む、多くの分野で用いられている。
現今よく用いられている高グレードワイヤコーティング材料は、一般的には、例えば溶媒中に、ポリアミド−イミドおよびポリイミドのような典型的な結合剤を、任意で商業的に通例の炭化水素希釈剤と組み合わせて含む溶液を構成する。
ポリアミド−イミドおよびポリイミドを溶解する有機溶媒としては、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドン(NMP)のようなアミド溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、部分的に希釈剤で置き換えてもよい。従来技術では、純粋な溶媒もしくは純粋な溶媒混合物、またはそれらの総重量に対して最大40重量パーセント以下の希釈剤を含む溶媒を用いることが好まれる。
ポリアミド−イミド類および/またはポリイミド類を溶解するために、とくにそれらが全芳香族化合物である場合、通常はNMPを用いる必要がある。
しかしながら、従来技術の既知の効果的な溶媒、とくにNMPは、環境上、毒性学的および/または行政上(REACH)の問題を示す。
したがって、本発明が解決しようとする課題は、ポリアミド−イミド類および/またはポリイミド類を非常に良好に溶解することができ、従来技術の溶媒の問題を有さず、同時に今までの従来技術のものと同等の成果をもたらす、新規な溶媒または溶媒混合物を見出すことである。
本発明が解決しようとする別の態様の課題は、全芳香族ポリアミド−イミド類および/または全芳香族ポリイミド類を溶解することができる溶媒を見出すことであった。
その意図は、とくに、毒性学的懸念を含む理由で批判されているNMPを置き換えることができ、NMPを含まない組成物が可能となるということである。
本発明が解決しようとするさらなる課題は、ポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドを含み、溶媒としてのNMPなしで製剤することができる組成物、より具体的にはワイヤエナメル、ならびに、それらの製造方法を見出すことである。
これらの課題は、ポリアミド−イミド用および/またはポリイミド用の溶媒としての3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド(CAS No.:53185−52−7)の使用、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドとポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドとを含む対応する組成物、ならびにまた3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドを用いるこうした組成物の製造プロセスにより、解決される。
さらなる解決手段は、明細書および特許請求の範囲から明らかとなるだろう。
用語定義:
本発明の文脈において、すべての定量的データは、とくに指示のない限り、重量データとして理解されるべきである。
本発明の文脈において、「室温」の語は、20℃の温度を示す。温度データは、とくに指定のない限り、セルシウス度(℃)である。
とくに指示のない限り、挙げられる反応および/または製造方法のステップは、標準/大気圧、すなわち1013mbar下で行われる。
本発明の文脈において、「および/または」という表現は、各一覧に挙げられる要素のいずれか所望の組み合わせだけでなく、すべての要素の組み合わせも含む。
全芳香族ポリアミド−イミドおよび全芳香族ポリイミドは、それぞれ、個別の構造成分がすべて芳香族化合物からなるものである。
本発明において、驚くべきことに、従来技術の問題を、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドの使用によって解決できることが見出された。
驚くべきことに、この溶媒を用いて、ポリアミド−イミド類とポリイミド類の両方を著しく溶解させることができる。
従って、本発明の対象は、ポリアミド−イミド用、ポリイミド用、ポリアミド−イミドとポリイミドとの混合物用、ならびにポリアミド−イミド、ポリイミドまたはこれら樹脂の混合物を含む組成物用の溶媒としての、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドの使用である。
本発明のさらなる対象は、結合剤成分がポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドを含む、またはポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドからなるワイヤエナメル用の溶媒としての3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドの使用である。
同様に本発明の対象は、結合剤としてのポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドと、溶媒としての純粋な3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドまたは少なくとも60wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび40wt%以下の希釈剤、好適には少なくとも70wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび30wt%以下の希釈剤、より好適には少なくとも80wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび20wt%以下の希釈剤、とくに好適には少なくとも90wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび10wt%以下の希釈剤を含有する混合物を含む組成物である。当該割合は、それぞれ3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび希釈剤の総重量に基づき、当該組成物は、より具体的にはワイヤエナメルである。
また、本発明の対象は、組成物、より具体的にはワイヤエナメルの製造方法であり、その複数成分、すなわち、ポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドを含むまたはポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドからなる結合剤成分と、純粋な3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドであるかまたは少なくとも60wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび40wt%以下の希釈剤、好適には少なくとも70wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび30wt%以下の希釈剤、より好適には少なくとも80wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび20wt%以下の希釈剤、とくに好適には少なくとも90wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび10wt%以下の希釈剤を含有する混合物である溶媒を混合することによる、製造方法である。、当該割合は、それぞれ、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび希釈剤の総重量に基づく。
本発明の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド溶媒は、とくに全芳香族ポリアミド−イミドおよび/または全芳香族ポリイミドを含む、いずれもの所望のポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドに用いることができるので、本発明はいずれもの所望のポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドに適用可能である。
本発明において、全芳香族ポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドに対してはもちろんのこと、それらを全芳香族化合物でないポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドと混合して用いることも可能である。
本発明において用いることができるポリアミド−イミドおよびポリイミドに関して、下記を例として参照してもよい。
ポリアミド−イミドは、例えば、既知の方法で、2個のカルボキシル基が近接位置にあって少なくとも1個の他の官能基をさらに有するポリカルボン酸またはそれらの無水物と、イミド結合が可能である少なくとも1個の第1級アミノ基を有するポリアミンとから調製してもよい。アミン基の代わりにイソシアネート基を用いて、イミド環を形成してもよい。また、ポリアミド−イミドは、ポリアミドと、少なくとも2個のNCO基を含有するポリイソシアネートと、縮合または付加反応が可能である少なくとも1個の他の基を含有する環状ジカルボン酸無水物との反応により入手してもよい。
また、複数成分のうちの1つがすでにイミド基を含有する場合、ジイソシアネートまたはジアミンとジカルボン酸とからポリアミド−イミドを調製することも可能である。よって、具体的には、まずトリカルボン酸無水物をジ第1級ジアミンと反応させて、対応するジイミドカルボン酸をもたらし、次いで該ジイミドカルボン酸をジイソシアネートと反応させて、ポリアミド−イミドをもたらすことが可能である。
ポリアミド−イミドについて、複数個のカルボキシル基が近接位置にあるトリカルボン酸および/またはそれらの無水物を用いることが好ましい。トリメリット酸無水物、ナフタレントリカルボン酸無水物、ビフェニルトリカルボン酸無水物、さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第19 56 512号に記載される例のような、1個の分子中に2個のベンゼン環および2個の近接カルボキシル基を有するトリカルボン酸のような、対応する芳香族トリカルボン酸無水物が好ましい。とくに非常に好適にはトリメリット酸無水物が用いられる。
カルボン酸無水物は、典型的には適切な溶媒中でジイソシアネートと反応させられて、カルボキシル基からアミドが、無水物構造からイミドが形成され、二酸化炭素が除去される。
好適なジイソシアネートの例としては、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、エチルエチレンジイソシアネート、3,3,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,3−シクロペンチルジイソシアネート、1,4−シクロヘキシルジイソシアネート、1,2−シクロヘキシルジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、2,5−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、1,4−ナフチレンジイソシアネート、1−イソシアナトメチル−5−イソシアナト−1,3,3−トリメチルシクロヘキサン、ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン、ビス(4−イソシアナトフェニル)メタン、4,4’−ジイソシアナトジフェニルエーテルおよび2,3−ビス(8−イソシアナトオクチル)−4−オクチル−5−ヘキシルシクロヘキセンがある。トリレンジイソシアネートやビス(4−イソシアナトフェニル)メタンの異性体混合物を用いることが好ましい。
イミド構造は、無水物基をジアミンと反応させることによって調製してもよい。アミン成分としては、ジ第1級ジアミンを用いることが可能であり、まず最初に2モルのポリカルボン酸と反応させる。次いで、残留している遊離カルボキシル基に対してジイソシアネートを反応させてイミド構造が構築されて、ポリアミド−イミドをもたらす。
ポリアミド−イミドおよびポリイミドの両方は当業者に周知であるので、本明細書中でさらなる詳細な説明の必要はない。
本発明の1つの実施形態において、ポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドは全芳香族化合物であることが好ましい。
本発明において、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドに加えて任意で用いることができる希釈剤は、好適には純粋な炭化水素化合物および/またはこれらの混合物からなる、換言すると、炭素および水素以外の原子は最大でも技術的不純物としてのみ存在する。
本発明において用いられる希釈剤は、より好適には、キシレン、ソルベントナフサ、トルエン、エチルベンゼン、クメン、重ベンゼン、様々な種類のC10〜C13芳香族混合物(例えば、Solvesso(登録商標)ブランドのもの)、様々な種類の炭化水素、芳香族豊富な炭化水素混合物(例えば、Deasol(登録商標)ブランドのもの)、およびこれらの混合物からなる群から選択されるものである。
本発明において用いられる希釈剤は、とくに好適には、キシレン、ソルベントナフサ、トルエン、エチルベンゼン、クメン、重ベンゼン、C10〜C13芳香族混合物、芳香族豊富な炭化水素混合物、およびこれらの混合物からなる群から選択されるものである。
本発明の1つの実施形態において、用いられる希釈剤は、キシレンおよびソルベントナフサの、好適には1:1の比での、混合物である。
本発明のある実施形態において、最大20wt%の希釈剤をジメチルアセトアミドで置き換えることが可能である。したがって、本発明の実施形態において、希釈剤の代わりに、99:1〜80:20の重量比を有する希釈剤/ジメチルアセトアミド混合物を用いることが可能である。
本発明の組成物は、とくに、NMPを含まず、これはNMPの量が1wt%未満、好適には0.5wt%未満、より好適には検出限界未満であることを意味する。
3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドが、本発明が対象とする課題を解決するのに好適であり得ること、また非常に良好な成果をもたらすことは、意外であり、かつ予測できなかった。
本発明の組成物、より具体的にはワイヤエナメルは、ポリアミドイミドのみ、ポリイミドのみ、またはこれら2つのいずれか所望の混合物を含有してもよい。
さらに、本発明の組成物、より具体的にはワイヤエナメルは、各使用分野に必要なおよび/または所望のさらなる構成成分を含んでもよい。これらの構成成分は、架橋剤、顔料、非常に広範囲の種類のうちのいずれかの添加剤、例えば、湿潤剤、分散補助剤、安定化剤等であってもよい。
本発明のさまざまな実施形態は、排他的ではないが、例えばさまざまな従属項に記載の実施形態を含み、いずれか所望の手段で互いに組み合わせてもよい。
本発明は、ここで、下記の非限定的な実施例を参照しながら説明される。
[製造例1:NMP中でのポリアミド−イミド樹脂の調製]
撹拌機、冷却管および温度計を備える2Lの四口フラスコに、192g(1mol)のトリメリット酸無水物、250g(1mol)の4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートおよび500gのN−メチルピロリドン(NMP)を投入した。
得られた混合物を、85℃で2時間、次に95℃でさらに2時間、最後に125℃の高温で4時間反応させた。
その後、前記反応混合物を50℃まで冷却し、次に25gのNMP、60gのジメチルアセトアミドおよび200gの芳香族炭化水素(キシレンおよびソルベントナフサの1:1混合物)を該反応混合物に添加した。
これにより、36%(溶液全体の重量に対する重量パーセント)の樹脂濃度および20℃で1900mPasの粘度を有するポリアミド−イミド樹脂の溶液が得られた。
[製造例2:3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド中でのポリアミド−イミド樹脂の調製]
撹拌機、冷却管および温度計を備える2Lの四口フラスコに、192g(1mol)のトリメリット酸無水物、250g(1mol)の4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートおよび500gの3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドを投入した。
得られた混合物を85℃で5時間反応させた。
その後、前記反応混合物を50℃まで冷却し、次に20gの3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、50gのジメチルアセトアミドおよび200gの芳香族炭化水素(キシレンおよびソルベントナフサの1:1混合物)を該反応混合物に添加した。
これにより、37%(溶液全体の重量に対する重量パーセント)の樹脂濃度および20℃で1500mPasの粘度を有するポリアミド−イミド樹脂の溶液が得られた。
[製造例3:3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド中でのポリアミド−イミド樹脂の調製]
撹拌機、冷却管および温度計を備える2Lの四口フラスコに、192g(1mol)のトリメリット酸無水物、250g(1mol)の4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートおよび500gの3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドを投入した。
得られた混合物を、85℃で5時間、次に115℃の高温で1時間反応させた。
その後、前記反応混合物を50℃まで冷却し、次に340gの3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび295gの芳香族炭化水素(キシレンおよびソルベントナフサの1:1混合物)を該反応混合物に添加した。
これにより、25.6%(溶液全体の重量に対する重量パーセント)の樹脂濃度および20℃で1300mPasの粘度を有するポリアミド−イミド樹脂の溶液が得られた。
[製造例4:NMP中でのポリイミド樹脂の調製]
撹拌機、冷却管および温度計を備える2Lの四口フラスコに、198g(1mol)の4,4’−メチレンジアニリン、322g(1mol)の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および2100gのNMPを投入した。
得られた混合物を35℃で5時間反応させた。
これにより、20%(溶液全体の重量に対する重量パーセント)の樹脂濃度および20℃で700mPasの粘度を有するポリイミド樹脂の溶液が得られた。
[製造例5:3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド中でのポリイミド樹脂の調製]
撹拌機、冷却管および温度計を備える2Lの四口フラスコに、198g(1mol)の4,4’−メチレンジアニリン、322g(1mol)の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および2100gの3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドを投入した。
得られた混合物を30℃で6時間反応させた。
これにより、20%(溶液全体の重量に対する重量パーセント)の樹脂濃度および20℃で2000mPasの粘度を有するポリイミド樹脂の溶液が得られた。
[比較例6:コントロールワイヤ1(CW1)]
実施例1で得られたポリアミド−イミド樹脂(PAI1)を0.71mmの直径を有する銅ワイヤに、500〜550℃の温度のベーキングオーブン中、32m/分の速度で塗布した。
塗布された絶縁層の合計厚さは約65〜75μmであった。
[実施例7:コントロールワイヤ2(CW2)]
実施例2で得られたポリアミド−イミド樹脂(PAI2)を、0.71mmの直径を有する銅ワイヤに、500〜550℃の温度のベーキングオーブン中、32m/分の速度で塗布した。
塗布された絶縁層の合計厚さは約65〜75μmであった。
[実施例8:コントロールワイヤ3(CW3)]
実施例3で得られたポリアミド−イミド樹脂(PAI3)を、0.71mmの直径を有する銅ワイヤに、500〜550℃の温度のベーキングオーブン中、32m/分の速度で塗布した。
塗布された絶縁層の合計厚さは約65〜75μmであった。
[比較例9:コントロールワイヤ4(CW4)]
実施例4で得られたポリイミド樹脂(PI4)を、0.71mmの直径を有する銅ワイヤに、500〜550℃の温度のベーキングオーブン中、28m/分の速度で塗布した。
塗布された絶縁層の合計厚さは約60〜65μmであった。
[実施例10:コントロールワイヤ5(CW5)]
実施例5で得られたポリイミド樹脂(PI5)を、0.71mmの直径を有する銅ワイヤに、500〜550℃の温度のベーキングオーブン中、28m/分の速度で塗布した。
塗布された絶縁層の合計厚さは約60〜65μmであった。
結果を以下の表1にまとめる。
ワイヤの試験は、常にIEC60851規格に従って行った。
3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド含有エナメルは、今までの従来技術のNMP含有エナメルと同じ特性レベルを示す。

Claims (7)

  1. ポリアミド−イミド用、ポリイミド用、ポリアミド−イミドとポリイミドとの混合物用、またはポリアミド−イミド、ポリイミド、もしくはポリアミド−イミドとポリイミドとの混合物を含む組成物用の溶媒としての、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドの使用。
  2. 前記組成物がワイヤエナメルであり、該ワイヤエナメルの結合剤成分がポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドを含むまたはポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドからなる、請求項1に記載の使用。
  3. ポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドと、
    純粋な3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、または3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび希釈剤の総重量に基づき少なくとも60wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび40wt%以下の希釈剤を含有する混合物と、
    を含む、組成物。
  4. ポリアミド−イミドおよび/またはポリイミドが前記組成物の結合剤である、請求項3に記載の組成物。
  5. 前記組成物がワイヤエナメルである、請求項3または4に記載の組成物。
  6. 結合剤と、溶媒と、任意により更なる構成成分とを混合することによって組成物を製造する方法であって、
    該組成物の結合剤成分が、ポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドを含むまたはポリアミド−イミドおよび/もしくはポリイミドからなり、
    該溶媒として、純粋な3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、または3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび希釈剤の総重量に基づき少なくとも60wt%の3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドおよび40wt%以下の希釈剤を含有する混合物が用いられる、方法。
  7. 前記組成物がワイヤエナメルである、請求項6に記載の方法。
JP2016555538A 2014-03-26 2015-03-24 ポリアミド−イミド用およびポリイミド用の新規溶媒 Pending JP2017517582A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014104223.9 2014-03-26
DE102014104223.9A DE102014104223A1 (de) 2014-03-26 2014-03-26 Neues Lösemittel für Polyamidimide und Polyimide
PCT/EP2015/056191 WO2015144663A1 (de) 2014-03-26 2015-03-24 Neues lösemittel für polyamidimide und polyimide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017517582A true JP2017517582A (ja) 2017-06-29

Family

ID=52697452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016555538A Pending JP2017517582A (ja) 2014-03-26 2015-03-24 ポリアミド−イミド用およびポリイミド用の新規溶媒

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP3122829A1 (ja)
JP (1) JP2017517582A (ja)
KR (1) KR20160137986A (ja)
CN (1) CN106062107A (ja)
DE (1) DE102014104223A1 (ja)
TW (1) TW201540747A (ja)
WO (1) WO2015144663A1 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069498A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 旭化成イーマテリアルズ株式会社 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置
JP2018146635A (ja) * 2017-03-01 2018-09-20 富士ゼロックス株式会社 電子写真装置用無端ベルト、画像形成装置、及び、無端ベルトユニット
WO2019193647A1 (ja) * 2018-04-03 2019-10-10 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ポリイミド前駆体の製造方法、感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化物の製造方法、層間絶縁膜、カバーコート層又は表面保護膜の製造方法、及び電子部品の製造方法
JP2020015880A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 日立化成株式会社 耐熱性樹脂組成物
JPWO2020230330A1 (ja) * 2019-05-16 2020-11-19
KR20230026500A (ko) 2020-07-09 2023-02-24 다이킨 고교 가부시키가이샤 도료 조성물, 도막 및 도장 물품
WO2023026591A1 (ja) * 2021-08-24 2023-03-02 住友電気工業株式会社 絶縁電線
KR20230065317A (ko) 2020-09-09 2023-05-11 케이제이 케미칼즈 가부시키가이샤 수지 합성용 용매 및 그 용매를 사용한 합성 수지의 제조 방법
US11655323B2 (en) 2018-01-03 2023-05-23 Lg Chem, Ltd. Poly(amide-imide) copolymer film and method for preparing same
JP2023079227A (ja) * 2020-01-29 2023-06-07 旭化成株式会社 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180028438A (ko) * 2015-07-10 2018-03-16 휘트포드 코포레이션 고 이형 및 저 마찰 기능성 코팅 형성용 조성물
US10280335B2 (en) 2016-06-06 2019-05-07 Cymer-Dayton, Llc Preparation of polyamide-imide resins using N-formyl morpholine:3-methoxy N,N-dimethylpropanamide
JP7021084B2 (ja) * 2016-06-27 2022-02-16 昭和電工マテリアルズ株式会社 ポリアミドイミド樹脂組成物及び塗料
KR102054546B1 (ko) * 2016-09-26 2019-12-10 주식회사 엘지화학 폴리이미드 전구체 용액 및 이로부터 제조된 폴리이미드 필름
WO2018150566A1 (ja) 2017-02-20 2018-08-23 日立化成株式会社 ポリアミドイミド樹脂組成物及びフッ素塗料
KR101840977B1 (ko) * 2017-09-14 2018-03-21 주식회사 엘지화학 폴리이미드 전구체 조성물 및 이를 이용한 폴리이미드 필름
CN110922753A (zh) * 2018-09-20 2020-03-27 住友化学株式会社 光学膜形成用组合物
CA3140100C (en) * 2019-05-22 2024-04-23 Advansix Resins & Chemicals Llc Polymer compositions for forming an enamel coating on a wire
WO2022063715A1 (en) 2020-09-22 2022-03-31 Elantas Europe S.R.L. Wire enamel composition comprising polyamideimide
EP4105261A1 (en) 2021-06-14 2022-12-21 Evonik Fibres GmbH New non-toxic polyimide solutions

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1160670A (ja) * 1997-08-08 1999-03-02 Hitachi Chem Co Ltd ポリアミドイミド樹脂、その製造法及び塗料
JP2010138094A (ja) * 2008-12-10 2010-06-24 Idemitsu Kosan Co Ltd β−アルコキシプロピオンアミド類の製造方法
WO2013153754A1 (ja) * 2012-04-11 2013-10-17 出光興産株式会社 β-アルコキシプロピオンアミド類の製造方法
KR20140029167A (ko) * 2012-08-30 2014-03-10 제이에스알 가부시끼가이샤 액정 배향제, 액정 배향막, 액정 배향막의 제조 방법 및 액정 표시 소자
KR20140035806A (ko) * 2012-09-14 2014-03-24 제이에스알 가부시끼가이샤 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자
JP2016042177A (ja) * 2014-02-25 2016-03-31 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1420706C3 (de) 1958-09-19 1974-05-09 E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. (V.St.A.) Verfahren zur Herstellung von Polyamidsäuren
US3207728A (en) 1961-03-31 1965-09-21 Du Pont Polymides from thiophene tetracar-boxylic acid and diamines
DE1266427B (de) 1963-01-08 1968-04-18 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von Lackueberzuegen auf Grundlage von Polyisocyanaten
US3554984A (en) 1968-10-16 1971-01-12 George Co P D Polyamide-imide resins
BE758753A (fr) 1969-11-11 1971-04-16 Bayer Ag Procede de preparation de polyamide-imides
JPS5128418B2 (ja) * 1973-01-26 1976-08-19
DE2441020C3 (de) 1974-08-27 1982-01-07 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur Herstellung von viskositätsstabilen Polyamidimid-Lösungen
DE2556523C2 (de) 1975-12-16 1982-03-18 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Aromatische Polyamidimide
JPS63215727A (ja) 1986-12-31 1988-09-08 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ ポリイミドの製造法
US4835249A (en) 1986-12-31 1989-05-30 General Electric Company Process for preparing polyimides
JP5188492B2 (ja) * 2007-02-20 2013-04-24 出光興産株式会社 β−アルコキシプロピオンアミド類の製造方法
US9029441B2 (en) * 2011-12-15 2015-05-12 Fujifilm Hunt Chemicals Us, Inc. Low toxicity solvent system for polyamideimide and polyamide amic acid resins and coating solutions thereof
US9751986B2 (en) * 2011-12-15 2017-09-05 Fujifilm Hunt Chemicals Us, Inc. Low toxicity solvent system for polyamideimide resins and solvent system manufacture

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1160670A (ja) * 1997-08-08 1999-03-02 Hitachi Chem Co Ltd ポリアミドイミド樹脂、その製造法及び塗料
JP2010138094A (ja) * 2008-12-10 2010-06-24 Idemitsu Kosan Co Ltd β−アルコキシプロピオンアミド類の製造方法
WO2013153754A1 (ja) * 2012-04-11 2013-10-17 出光興産株式会社 β-アルコキシプロピオンアミド類の製造方法
KR20140029167A (ko) * 2012-08-30 2014-03-10 제이에스알 가부시끼가이샤 액정 배향제, 액정 배향막, 액정 배향막의 제조 방법 및 액정 표시 소자
KR20140035806A (ko) * 2012-09-14 2014-03-24 제이에스알 가부시끼가이샤 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자
JP2016042177A (ja) * 2014-02-25 2016-03-31 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069498A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 旭化成イーマテリアルズ株式会社 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置
JP2018146635A (ja) * 2017-03-01 2018-09-20 富士ゼロックス株式会社 電子写真装置用無端ベルト、画像形成装置、及び、無端ベルトユニット
US11655323B2 (en) 2018-01-03 2023-05-23 Lg Chem, Ltd. Poly(amide-imide) copolymer film and method for preparing same
WO2019193647A1 (ja) * 2018-04-03 2019-10-10 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ポリイミド前駆体の製造方法、感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化物の製造方法、層間絶縁膜、カバーコート層又は表面保護膜の製造方法、及び電子部品の製造方法
JP7388486B2 (ja) 2018-04-03 2023-11-29 Hdマイクロシステムズ株式会社 ポリイミド前駆体の製造方法、感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化物の製造方法、層間絶縁膜、カバーコート層又は表面保護膜の製造方法、及び電子部品の製造方法
JPWO2019193647A1 (ja) * 2018-04-03 2021-04-30 Hdマイクロシステムズ株式会社 ポリイミド前駆体の製造方法、感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化物の製造方法、層間絶縁膜、カバーコート層又は表面保護膜の製造方法、及び電子部品の製造方法
US11807721B2 (en) 2018-04-03 2023-11-07 Hd Microsystems, Ltd. Method for producing polyimide precursor, method for producing photosensitive resin composition, method for producing pattern cured product, method for producing interlayer insulating film, cover coat layer or surface protective film, and method for producing electronic component
JP2020015880A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 日立化成株式会社 耐熱性樹脂組成物
JP7210839B2 (ja) 2018-07-27 2023-01-24 株式会社レゾナック 耐熱性樹脂組成物
JPWO2020230330A1 (ja) * 2019-05-16 2020-11-19
JP7279780B2 (ja) 2019-05-16 2023-05-23 株式会社レゾナック ポリアミドイミド樹脂組成物及びポリアミドイミド樹脂の製造方法
WO2020230330A1 (ja) * 2019-05-16 2020-11-19 昭和電工マテリアルズ株式会社 ポリアミドイミド樹脂組成物及びポリアミドイミド樹脂の製造方法
JP2023079227A (ja) * 2020-01-29 2023-06-07 旭化成株式会社 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置
JP7471480B2 (ja) 2020-01-29 2024-04-19 旭化成株式会社 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置
KR20230026500A (ko) 2020-07-09 2023-02-24 다이킨 고교 가부시키가이샤 도료 조성물, 도막 및 도장 물품
KR20230065317A (ko) 2020-09-09 2023-05-11 케이제이 케미칼즈 가부시키가이샤 수지 합성용 용매 및 그 용매를 사용한 합성 수지의 제조 방법
WO2023026591A1 (ja) * 2021-08-24 2023-03-02 住友電気工業株式会社 絶縁電線

Also Published As

Publication number Publication date
EP3122829A1 (de) 2017-02-01
TW201540747A (zh) 2015-11-01
CN106062107A (zh) 2016-10-26
WO2015144663A1 (de) 2015-10-01
DE102014104223A1 (de) 2015-10-01
KR20160137986A (ko) 2016-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017517582A (ja) ポリアミド−イミド用およびポリイミド用の新規溶媒
JP5365899B2 (ja) ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線
JP5609732B2 (ja) 絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線
CN103003332A (zh) 聚酰亚胺树脂清漆、以及使用该聚酰亚胺树脂清漆的绝缘线、电线圈和电动机
JP2013001872A (ja) ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料、絶縁電線、及びコイル
TW201609865A (zh) 聚醯亞胺、聚醯胺酸、樹脂組成物及可撓性顯示器用基板
JP2012184416A (ja) ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線
JP2004506796A (ja) ポリアミド−イミド樹脂溶液及びワイヤエナメルを製造するためのその使用
JP2013049843A (ja) ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料及びその製造方法、絶縁電線、並びにコイル
JP7363945B2 (ja) 不織布製造用ポリアミドイミド樹脂組成物
DE19632175A1 (de) Drahtlacke enthaltend Polyesterimide und/oder Polyamidimide mit Polyoxyalkylendiaminen als molekularen Bausteine
TWI649350B (zh) Resist resin and method of manufacturing same
JP2013155281A (ja) 絶縁塗料、該絶縁塗料を用いた絶縁電線および該絶縁電線を用いたコイル
JP5712661B2 (ja) ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線
JP5113580B2 (ja) ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線
JPH07216058A (ja) ポリアミドイミド樹脂組成物および絶縁電線
JPS6245644B2 (ja)
JP2012219178A (ja) ポリイミド樹脂、その製造方法および該樹脂を用いた絶縁電線
JP2006316135A (ja) ポリイミド樹脂組成物及び樹脂塗料並びに絶縁電線
JPS585207B2 (ja) ポリアミドイミド樹脂組成物
JPH07238138A (ja) ポリアミドイミド樹脂組成物および絶縁電線
JP2016098378A (ja) 樹脂配合物、樹脂ポリマー、および当該樹脂ポリマーを含む複合材
KR920009847B1 (ko) 절연전선
JP5622129B2 (ja) 絶縁電線
JPH0327577B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180907

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180918

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20181218

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190507