JP2015227476A5 - - Google Patents
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Claims (11)
- ギ酸銅、アミノアルコール、炭素数が5以上の脂肪族基を有する脂肪族カルボン酸及び溶媒を含む反応液を得ることと、
反応液中に生成する錯化合物を熱分解処理して金属銅を生成することと、を含み、
アミノアルコールと溶媒とのSP値の差であるΔSP値が4.2以上である、脂肪族カルボン酸で表面が被覆された被覆銅粒子の製造方法。 - アミノアルコールのSP値が11.0以上である、請求項1に記載の被覆銅粒子の製造方法。
- 熱分解処理の温度が100℃〜130℃である、請求項1又は2に記載の被覆銅粒子の製造方法。
- 溶媒が、水と共沸混合物を形成し得る有機溶剤を含み、熱分解処理が生成する水を共沸により除去することを含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法。
- 脂肪族カルボン酸の脂肪族基の炭素数が5〜17である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法。
- 反応液中の銅イオン濃度が1.0〜2.5モル/リットルである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法で得られ、SEM観察による平均一次粒子径DSEMが0.02〜0.2μmであり、粒度分布の変動係数(標準偏差SD/平均一次粒子径DSEM)の値が0.1〜0.5である被覆銅粒子。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法で得られ、粉体X線解析から求まる結晶粒子径DXRDのSEM観察による平均一次粒子径DSEMに対する比DXRD/DSEMが0.25〜1.00である被覆銅粒子。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法で得られる被覆銅粒子と媒体とを含むスクリーン印刷用の導電性組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の被覆銅粒子の製造方法で得られる被覆銅粒子と媒体とを含むインクジェット印刷用の導電性組成物。
- 基材と、基材上に配置された請求項9又は10に記載の導電性組成物の熱処理物である配線パターンとを備える回路形成物。
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JP2014001443A (ja) * | 2012-06-21 | 2014-01-09 | Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk | 酸化物被覆銅微粒子及びその製造方法 |
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