JP2014199957A - 発光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】垂直型発光装置を含む好適な発光パッケージを提供する。
【解決手段】本発明の発光装置は、第1貫通ビアと第2貫通ビアとを有し、前記第1貫通ビアと前記第2貫通ビアとは第1表面から前記第1表面の反対側の第2表面へ貫通している基板と、第1クラッド層、活性層、第2クラッド層及び前記第1貫通ビアに接続された絶縁された貫通ビアコンタクトを有し、前記基板の前記第1表面上に接続された発光構造体とを含む。
【選択図】 図22
【解決手段】本発明の発光装置は、第1貫通ビアと第2貫通ビアとを有し、前記第1貫通ビアと前記第2貫通ビアとは第1表面から前記第1表面の反対側の第2表面へ貫通している基板と、第1クラッド層、活性層、第2クラッド層及び前記第1貫通ビアに接続された絶縁された貫通ビアコンタクトを有し、前記基板の前記第1表面上に接続された発光構造体とを含む。
【選択図】 図22
Description
本発明は、発光装置、発光装置を含むパッケージとシステム、および発光装置およびそれを含むパッケージの製造方法に関する。
LED(light emitting diode)および半導体レーザのような発光装置は多様に使われている。特に、LEDは、白熱電球および蛍光灯に勝る良さに対する結果が注目を集めている。長寿命および低消費電力などの良さがある。例えば、多くのLCDスクリーンはLEDを用いる。LEDは、光として用いられるだけではなく、滅菌および消毒のためにも用いられる。同様に、レーザダイオードのような半導体レーザも多様な用途に用いられるため、半導体レーザもまた非常に注目を集めている。例えば、半導体レーザはレーザプリンタ、CD/DVDプレーヤおよび光コンピュティングなどに用いられる。
本発明が解決しようとする課題は、(i)少なくとも一つの一定の方向に向かって光を放出し、(ii)反射する光の放出を増加させ、(iii)前記発光装置から熱的に伝導された熱を除去、または(iv)これらのいかなる組み合わせも可能にする発光装置を提供することである。
また本発明が解決しようとする課題は、前記発光装置を含む発光パッケージおよび発光システムを提供することである。
また本発明が解決しようとする課題は、高スループットのプロセスを利用し、前記発光装置、発光パッケージ、および発光システムを製造する方法を提供することである。
また本発明が解決しようとする課題は、高スループットのプロセスを利用し、前記発光装置、発光パッケージ、および発光システムを製造する方法を提供することである。
本発明の発光装置は、第1貫通ビアと第2貫通ビアとを有し、前記第1貫通ビアと前記第2貫通ビアとは第1表面から前記第1表面の反対側の第2表面へ貫通している基板と、第1クラッド層、活性層、第2クラッド層及び前記第1貫通ビアに接続された絶縁された貫通ビアコンタクトを有し、前記基板の前記第1表面上に接続された発光構造体とを含む。
前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記第2クラッド層から前記第1クラッド層へ貫通している。
また、前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記第1クラッド層と前記第1貫通ビアとを電気的に接続する。
さらに、前記第2クラッド層と前記第2貫通ビアとを接続する電極を含む。
また、前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記第1クラッド層と前記第1貫通ビアとを電気的に接続する。
さらに、前記第2クラッド層と前記第2貫通ビアとを接続する電極を含む。
前記基板は、前記第2表面に付加された第1導電性領域と第2導電性領域とを含み、前記第1導電性領域は前記第1貫通ビアに接続される。
さらに、前記基板と前記発光構造体との間に導電性基板を含む。
さらに、前記基板と前記発光構造体との間に導電性基板を含む。
前記導電性基板は、一部にドーピングされた領域を有する。
前記第2クラッド層は、前記ドーピングされた領域に接続され、前記ドーピングされた領域は、ワイヤによって前記第2貫通ビアに電気的に接続されている。
また、前記導電性基板は、内部を貫通する第3貫通ビアを含み、前記第3貫通ビアは、前記第1貫通ビアに接続される。
前記第2クラッド層は、前記ドーピングされた領域に接続され、前記ドーピングされた領域は、ワイヤによって前記第2貫通ビアに電気的に接続されている。
また、前記導電性基板は、内部を貫通する第3貫通ビアを含み、前記第3貫通ビアは、前記第1貫通ビアに接続される。
前記発光構造体は、少なくとも前記第1クラッド層の連続する部分を提供し、少なくとも前記第2クラッド層及び前記活性層は分離させる少なくとも一つの溝を有し、前記溝の一部は、前記発光構造体のメジャ部分を規定し、前記溝の他の部分は、前記発光構造体のマイナ部分を規定する。
前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記発光構造体のマイナ部分の前記第2クラッド層から前記第1クラッド層へ貫通している。
また、前記発光構造体は一つの傾斜した側面を有し、前記発光構造体がカプセル化されている。
前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記発光構造体のマイナ部分の前記第2クラッド層から前記第1クラッド層へ貫通している。
また、前記発光構造体は一つの傾斜した側面を有し、前記発光構造体がカプセル化されている。
本発明の利点は添付する図と詳細な説明とを参照して明確になるであろう。本発明の実施形態は添付する図を参照して説明する。しかし、本発明は、多様に他の形態で具現することができ、ここに提示された実施形態に限定されるものではない。本発明の実施形態は、本発明の開示を完全なものにし、当業者に本発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。この発明の原理と特徴は、本発明の範囲から外れない範囲で変形された多くの実施形態に適用することができる。図面において、層および領域の相対的なサイズは明確性のために誇張することもある。図面はサイズを定めるためのものではない。他の言及がなければ、図面において同一の参照番号は同一の構成要素を指称する。
本明細書で使われる「パターニング工程」または「パターン化された素子」(ここでは前記「素子」は特定の層、領域または構成要素であり得る)は、層、領域または構成要素の一定パターンを形成することを意味する。このような一定のパターンは、例えば、少なくとも一つの蒸着段階と、少なくとも一つのフォトマスキング段階と、少なくとも一つのエッチング段階、および/または少なくとも一つのフォトマスクの除去段階のいかなる組み合わせから得ることができる。パターニング工程の2つの例は、次の段階の組み合わせを含む。(i)蒸着段階、次にフォトマスキング段階、次にエッチング段階、次にフォトマスクを除去する段階と、または(ii)フォトマスキング段階、次に蒸着段階、次にフォトマスクを除去する段階の組み合わせを含む。また他の例として、「蒸着およびパターニング」という用語は、少なくとも蒸着段階、フォトマスキング段階、エッチング段階、およびフォトマスクを除去する段階を含むパターニング工程を意味する。特定の層、領域、または構成要素の所望するパターンを得るために多数のマスキング、蒸着、および/またはエッチング段階が用いられ得る。蒸着方法のため非制約的な例としては、PVD、CVD (ALD含む)、プレーティング(plating) (例えば、電気プレーティングおよび無電解プレーティング)、およびコーティング(例えば、スピンコーティングおよびスプレーコーティング)を含む。
本明細書において使われる「発光」という用語は、光を放出することを意味する。例えば、発光装置は光を放出する装置を意味する。発光装置の非制約的な例は、発光ダイオード(light emitting diode (「LED」))およびレーザを含む。本明細書のすべての実施形態はLEDの観点から説明するが、すべての実施形態はレーザに転換することができる。例えば、光を反射する表面に反射性第1電極および反透過鏡層(出力カプラー(output coupler)として知られている)を有するLEDである。
素子(elements)または層が異なる素子または層“上(on)”、“接続された(connected to)”または“カップリングされた(coupled to)”と記載しているものは、他の素子の真上に、他の素子と直接連結またはカップリングされた場合、または中間に他の層または他の素子を介在させた場合をすべて含む。一方、素子が“直接の上(directly on)”、“直接接続された(directly connected to)”または“直接カップリングされた(directly coupled to)”と記載するものは、中間に他の素子または層を介在しないものを示す。明細書全体にかけて同一参照符号は同一構成要素を指すものとする。“および/または”は言及されたアイテムのそれぞれおよび1つ以上のすべての組合せを含む。
第1、第2等が多様な素子、構成要素、領域、配線、層および/またはセクションを叙述するために用いられるが、これら素子、構成要素、領域、配線、層および/またはセクションはこれら用語によって制限されないのはもちろんである。これら用語は、単に1つの素子、構成要素、領域、配線、層またはセクションを他の素子、構成要素、領域、配線、層またはセクションと区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第1素子、第1構成要素、第1領域、第1階または第1セクションは、本発明の技術的思想内で第2素子、第2構成要素、第2領域、第2階または第2セクションであり得ることはもちろんである。
空間的に相対的な用語である“下(below)”、“下(beneath)”、“下部(lower)”、“上 (above)”、“上部(upper)”等は、図面に図示されているように、1つの素子または構成要素と異なる素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用され得る。空間的に相対的な用語は図面に図示されている方向に加えて、使用時または動作時素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。例えば、実際の素子などの構成要素は、上下関係をひっくり返すことが可能であり、図示されているような素子などの構成要素において、他の素子の“下(below)”または“下(beneath)”と記述された素子が、他の素子の“上(above)”に位置するように置くことも可能である。したがって、例示的な用語である“下”は、示す図面の記載における表現であって、実際の構成としては上下関係を含む全ての方向を含み得るものであり、これに伴い空間的に相対的な用語は配置の向きによって解釈され得る。
本明細書で使用された用語は実施形態を説明するためであり、本発明を制限しようとするものではない。本明細書において、単数型は特に言及しない限り複数型も含む。明細書で用いられる“含む(comprises)”および/または“含む(comprising)”は言及された構成要素、段階、動作および/または素子は1つ以上の他の構成要素、段階、動作および/または素子の存在または追加を排除しない。
特に定義していない場合には、本明細書で用いられるすべての用語(技術および科学的用語を含む)は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に共通に理解できる意味で使用され得るものである。また一般的に用いられる辞典に定義されている用語は、明白に特に定義されていない限り理想的にまたは過度に解釈されない。
本明細書で記述する実施形態は本発明の理想的な概略図である断面図を参考にして説明されるものである。したがって、製造技術および/または許容誤差などによって例示図の形態が変形され得る。したがって、本発明の実施形態は図示された特定形態に制限されるものではなく製造工程によって生成される形態の変化も含むものである。例えば、角部分が直角に図示された領域は、ラウンド(円周の一部)か所定曲率を有する形態とすることができる。したがって、図面に例示された領域は概略的な属性を有し、図面に例示された領域の形状は素子の領域の特定形態を例示するためのものであり、発明の範疇を制限するためものではない。
後で提供される実施形態は、一般的に導電性基板を有する発光装置を提供する。この発光装置は、(i)少なくとも一つの一定の方向に向かって主に光を放出し、(ii)反射する光の放出を充分に増加させ、(iii)前記発光装置から除去されて熱的に熱を伝導するか、またはこれらのいかなる組み合わせでも良い。
本発明による一実施形態は、高スループット(throughput)のプロセスを用いる垂直型発光装置を製造する方法に関するものである。図1A〜1Hは、一つの発光装置を製造する方法を示す斜視図である。当業者には周知のように、複数の発光装置が一つの基板上に共に製造され得、図2に示すように多数の基板を一度に製造することもできる。
前記方法は、図1Aに示すように、あらかじめ形成された多重層の発光ヘテロ構造(heterostructure)を用いることができる。あらかじめ形成されたヘテロ構造は、所望する設計書を得ることができ、または製造することができる。ヘテロ構造のための有用な製造工程の例は、Nakmura et al.のU.S.Patent No.5,777,350(発明の名称:「Nitride Semiconductor Light−Emitting Device」),Koide et al.のU.S.Patent No.6,040,588(発明の名称:「Semiconductor Light−Emitting Device」),Nakamura et al.のU.S.Patent No.5,959,307(発明の名称:「Nitride Semiconductor Device」),Sassa et al.のU.S.Patent No.5,753,939(発明の名称:「Light−Emitting Semiconductor Device Using a Group III Nitride Compound and Having a Contact Layer Upon Which an Electrode is Formed」),Nagahama et al.のU.S.Patent No.6,172,382(発明の名称:「Nitride Semiconductor Light−Emitting and Light−Receiving Devices」),及びPark et al.のU.S.Patent No.7,112,456(発明の名称:「Vertical GAN Light Emitting Diode and Method for Manufacturing the Same」)から調べることができる。これらの特許文献に開示されている内容は本明細書において参照して完全に統合される。あらかじめ形成されたヘテロ構造は、一般的に第1基板100、第1クラッド層112a、活性層114a、および第2クラッド層116aを含む。
第1基板100は、一般的に誘電体または半導体である。第1基板100として有用な物質の例は、これに限定されるものではないが、サファイア(Al2O3)、ZnO、Si、SiC、GaAs、GaP、これらの混合物およびこれらの合金を含む。第1クラッド層112aと良好な格子整合(lattice match)のとれる基板を用いることが好ましい。
第1クラッド層112a、第2クラッド層116a、および活性層114aは、一般的に化学式InxAlyGa(1−x−y)N(ここで、0≦x≦1and0≦y≦1)と表現され得るGaNまたはInGaNの形態を含み得る。したがって、有用な物質は、これに限定されるものではなく、AlGaNおよびInGaNを含む。他の有用な物質は図2Bに示す。クラッド層と前記活性層はまた多様な物質でドーピングされ得る。例えば、第1クラッド層112aは、Siドーピングされたn型InGaNであり得、第2クラッド層116aは、Mgドーピングされたp型InGaNであり得る。また、第1クラッド層112aおよび第2クラッド層116aは、一般的に反対の導電型を有し、これらの層の導電型は互いに変わることがある。例えば、前記第1クラッド層がn型であれば、第2クラッド層はp型であり、その逆も可能である。本実施形態においては、第1クラッド層112aはn型と指定され、第2クラッド層116aはp型と指定される。
活性層114aは、p−nジャンクションにおいて電子とホールの再結合によって光を発生する。放出される光の周波数(または波長)と、その結果光の色は、p−nジャンクションを形成する物質のバンドギャップエネルギに依存し、赤外線、可視光線または紫外線であり得る。活性層114aは、単一量子井戸(Single Quantum Well)を形成する少なくとも一つのポテンシャル井戸(potential well)およびポテンシャル障壁(potential barrier)を含む。活性層114aは、また多重量子井戸(Multiple Quantum Well )を提供するために多数の量子井戸を含み得る。発光特性は、B、Al、P、Si、Mg、Zn、Mn、Se、またはこれらの組み合わせから成るグループから選択された化合物であってポテンシャル障壁をドーピングすることによって調節され得る。好ましいドーピング物質は、Al、Si、またはこれらの組み合わせを含む。
第1クラッド層112a、活性層114a、および第2クラッド層116aは、当業者に周知の工程によって第1基板100上に順次に形成することができる。例えば、これらの層は、MOCVD (metal organic chemical vapor deposition)、液相エピタキシャル成長(liquid phase epitaxial growth)、水素化合物気相エピタキシャル成長(hydride vapor phase epitaxial growth)、分子ビームエピタキシャル成長(molecular beam epitaxial growth)および/または有機金属気相成長法(metal organic vapor phase epitaxial growth)により第1基板100上に形成され得る。その後、p型クラッド層を活性化させるために熱処理工程が行われうる。一般的な熱処理温度は約400℃ 〜800℃である。例えば、仮に第2クラッド層116aがMgでドーピングされたInxAlyGa(1−x−y)Nであれば、Mgと結合されている水素が除去され得、向上されたp型の特性を提供することができる。このように形成されたヘテロジャンクション(例えば、活性層114a内にまたは近くに第1および第2クラッド層112a、116aにより形成されたp−nジャンクション領域)は室温で高い注入効率を提供する。
図1Aに示す多重層の発光ヘテロ構造は、図1Bに示すように少なくとも一つの上面115と側壁113を有する発光構造体110を形成するためのパターニング工程に入る。パターニング工程は、一つまたはそれ以上のマスキングおよびエッチング段階を含み得る。例えば、(i)光子の内部反射、(ii)反射後に光子の放出角/経路、または(iii)いずれも増加させることによって発光構造体110が発光効率を増加させる形態を有するようにパターニングすることが好ましい。図1Bに示す発光構造体110の少なくとも一つの側壁面113は光反射率および放出を増加させるために傾斜している。具体的に、図1Bに示すように、上面115と一致する仮想の線と側壁面113との間に角αを形成することが好ましい。その結果、上面115の表面積は活性層114の表面積より小さい。角αは、約30°より大きく、90°以下であることが好ましく、約40°〜約70°であることがより好ましい。角αは、一定であるか、または、部分的あるいは全体的に凹んだ形状または凸の形状の側壁形態を形成するために連続的に変えることができる。また、光構造体110のためにパターニングされた形態の非制約的な例は、逆放物線型、上部分が切られた逆放物線型、円錐台(すなわち、切断円錐)、角錐台、およびこれらの混合形態を含む。
発光構造体110の形成後、例えば、電気的絶縁を提供するために図1Cに示すように絶縁層120が形成される。絶縁層120は、以下で説明する第1電極140によるp型とn型の領域間の電気的短絡(short)を防止するために発光構造体110上にコンフォーマルに(conformally)形成され得る。絶縁層120は、また発光構造体110に追加的な構造的支持を提供する。また、熱が第1電極層140に伝達され発光構造体110から除去されるように、絶縁層120は熱的に伝導性であること(例えば、物質の選択または非常に薄い層を用いることによって)が好ましい。絶縁層120は、また透明であること、例えば、光が絶縁層120を通過し、その後形成される第1電極によって反射するように充分に透明であることが好ましい。また、絶縁層120に用いられる物質の透明度は、層の厚さおよび発光される光の波長によって左右される。例えば、より薄い層はさらに透明である。したがって、絶縁層120の厚さは、約10Å〜1umであることが好ましく、約1000Å〜3000Åであることがより好ましい。また、厚さは一定であるか、製造工程およびそこに用いられる変数によって変わることもある。傾斜した側壁面113のステップカバーリッジに留意しなければならない。絶縁層120のため有用な物質では、これに制限されるものではないが、SiO2,SiNx、ZnO、Al2O3,AlN、およびこれらの組み合わせを含む。
絶縁層120は、当業者に周知のいかなる方法によっても形成することができる。一つの例として、絶縁層120は、二段階の工程で形成され得る。SiO2のような第1絶縁層はギャップフィラ(gap filler)として用いることができる。それからこの第1絶縁層より高エッチング選択比を有する第2絶縁層が第1絶縁層上に形成され得る。その後、絶縁層120を所望する厚さおよび形態で形成するためにパターニングおよびエッチング工程を用いることができる。
これとは別に、絶縁層120は、後述する第1電極140を媒介とするp型とn型の領域間の電気的短絡を防止するためのいかなる形態にも形成され得る。例えば、他の実施形態において、パターン化された絶縁層を形成することによって絶縁層120は、第1クラッド層112および活性層114の露出された側面のみを覆うように形成されても良い。また、また他の実施形態において、絶縁層120は、後で形成される第1電極が形成される領域のみを覆うように形成されても良い。例えば、パターン化された第1電極140がパターン化された絶縁層上に形成される時、パターン化された絶縁層120は、第2クラッド層116および活性層114の露出された側面のみを覆うように形成されても良い。また、また他の実施形態において、後述するパターン化された第1電極140が第2クラッド層116上にのみに形成されると、絶縁層120を形成する工程は省略し得る。この実施形態においては、第1電極140が活性層114または第1クラッド層112と接しないため電気的短絡が防止される。この実施形態において、パターン化された第1電極140は、形成された発光構造体110上のフォトマスクを用い、その後、第1電極140をプレーティング(plating)して形成することができる。
第2クラッド層116と後述する後続して形成される第1電極140との間の電気通信が可能となるように、絶縁層120は、例えば、パターニング工程によって第2クラッド層116の表面の一部を露出させる少なくとも一つのリセス121を含むように形成される。図1Cは、一つのリセス121のみを示すが、一つ以上のリセスが形成され得、リセス121は多様な幾何学的形態(例えば、リング)を有することができる。最後に、リセス121は、発光構造体110の上面115に沿って、活性層114に向かった下方に発光構造体110の側壁面113の一つまたはそれ以上に沿って、またはこれらのいかなる組み合わせによっていかなるところにも形成され得る。第2クラッド層116と後続して形成される第1電極140との間の電気通信のため、利用可能な表面積を増加させるのが有用であり得る。
絶縁層120は透明であること、例えば、光が絶縁層120を通過し、その後、形成される第1電極によって反射するように充分に透明であることが好ましい。絶縁層120に用いられる物質の透明度は層の厚さおよび発光される光の波長によって左右される。例えば、より薄い層はさらに透明である。絶縁層120のため有用な物質では、これに制限されるものではなく、SiO2,SiNx、ZnO、Al2O3,AlN、およびこれらの組み合わせを含む。
絶縁層120を形成した後に、図1Dに部分的に示すように、第1電極層140が絶縁層120上にまた絶縁層120のリセス121内に形成される。第1電極層140は第2クラッド層の上面115および発光構造体110の少なくとも一つの側壁面113の少なくとも一定領域と熱的伝達が可能であるため、第1電極層140は発光構造体110からの熱を除去する改善された熱の伝導を提供することができる。
これとは別に、絶縁層120が第1電極140を通じたp型およびn型領域との間の電気的短絡を防止するための形態で形成される時、第1電極層140は、発光構造体110の第2クラッド層116の露出された領域および選択的に絶縁層120のいかなる領域上にも形成され得る。例えば、パターン化された絶縁層120が第1クラッド層112および活性層114の露出された側面上にのみ形成される時、第1電極140は第2クラッド層の上面115および選択的に絶縁層120の一部の領域上に形成され得る。同様に、パターン化された絶縁層120が第2クラッド層116および活性層114の露出された側面上にのみ形成される時、その後パターン化された第1電極140はパターン化された絶縁層120上に形成される。すなわち、第1電極140は第1クラッド層112上に形成されない。第1電極140は、少なくとも第2クラッド層上面115および発光構造体110の少なくとも一つの側面113の少なくとも一定領域と熱的伝達状態にあるため、このような他の実施形態もまた熱伝導を向上させる。
第1電極層140は電気的に導電性物質であり得る。有用な物質の非制約的な例は、ITO (Indium−Tin−Oxide)、Cu、Ni、Cr、Ag、Al、Au、Ti、Pt、V、W、Mo、これらの混合物、およびこれらの合金を含む。しかし、絶縁層120を通過した光を反射させて発光効率を実質的に増加させるために第1電極層140は、反射性物質を用いることが好ましい。有用な反射性物質の例は、これに制限されるものではないが、発光効率を高めるためにAg、Al、Ptまたはこれらの合金を含む。したがって、連続する第1電極層140は、(i)電気的接触および(ii)光の反射の2つの追加的な機能の一つまたはすべてを提供することができる。
他の実施形態において、図1Dに示すように、オーミック層130がリセス121内に形成され得る。例えば、オーミック層130は、第1電極層140を形成する前にパターン化された蒸着によって形成され得る。オーミック層130に有用な物質は、これに限定されるものではないが、ITO、ZnO、Ag、Cu、Ti、W、Al、Au、Pt、Ni、In2O3,SnO2,Zn、これらの混合物、およびこれらの合金を含む。オーミック層130として好ましい物質は、これに限定されるものではないが、Zn、Ni、Ag、Ti、W、Pt、ITO、これらの混合物、およびこれらの合金を含む。また、オーミック層130を活性化させるために熱処理を行うことができる。一般的に、前記熱処理は第1電極層140を形成する前に約400℃で行われ得る。
示さなかったが、追加の層が第1電極層140上に追加され得る。例えば、第1電極140を保護したり発光構造体110に追加的な構造的輝度を提供したりするために追加の層が追加され得る。
第1電極層140を形成した後に、図1Eに示すように、分離された発光構造体110を提供するために例えば、マスキングおよびエッチング段階の組み合わせによってそれぞれの発光構造体110を分離させる領域111をパターニングすることを含む選択的工程を含む。したがって、発光構造体110を囲む領域111内で、第1電極層140、絶縁層120、および第1クラッド層112を除去して第1基板100を露出させる。しかし、このパターニング工程は省略し得、後に行うこともできる。例えば、第2基板に移動後または第2基板を分離するあいだに行われ得る。仮に、発光構造体110周囲の領域111のパターニングが第2基板200への移動後に行われると、前記パターニングは第1クラッド層112上で行われ、少なくとも第1クラッド層112が部分的除去される。仮に、発光構造体110の周囲の領域111のパターニングが第2基板200への移動後に行われると、絶縁層120および第1電極層140をまた部分的に除去することが好ましい。
発光構造体110の周囲の領域111をパターニングする工程が行われていないものと仮定し、第1電極層140を形成した後、図1Fに示すように、第1電極層140の少なくとも一定領域が第2基板200にボンディングされる。当業者に周知のいかなるボンディング方法をも用いることができる。ボンディング方法の非制約的な例は、共融(eutectic)ボンディング(例えば、Au、Sn、Ag、Pb、これらの混合物、およびこれらの合金を使用)、はんだ付け、ゴールド−シリコンボンディング(gold−silicon bonding)、および接着ボンディングを含む。また本明細書において参照し完全に統合されるPark et alのU.S.Patent No.7,112,456(発明の名称:「Vertical GAN Light Emitting Diode and Method for Manufacturing the Same」)に説明されているような導電性接着層も有用である。
第2基板200は、例えば、第1電極140と選択的にオーミック層130を通じて第2クラッド層116と電気通信ができるようにするために導電性であること(一般的にn型第1クラッド層の場合p型シリコン)が好ましい。第2基板200として有用な物質は、これに限定されるものではないが、Si、ストレインされたSi、Si合金、Si−Al、SOI (silicon on insulator)、SiC、SiGe、SiGeC、Ge、Ge合金、GaAs、InAs、III−V族半導体、II−VI族半導体、これらの組み合わせおよびこれらの合金を含む。
第2基板200と第1電極層140との間のボンドを強化させるために、例えば、第1基板100および/または第2基板200内のたわみを補うために、図1Fに示すように、第2基板200はパターン化された導電性中間層210をまた含み得る。図1Fに示すように、パターン化された導電性中間層120は、第1電極層140の少なくとも一定領域(例えば、発光構造体110の上面115に対応する外周領域)と第2基板200をボンディングする前に第2基板200上に形成される。導電性中間層210は、第1電極140のボンディング面(またはボンディング面)と実質的に整列されて一致するようにパターニングされる。一般的に共融ボンディングで用いられる中間層210は、第1電極140より低い反射特性を有することができる。中間層210として有用な物質は、これに限定されるものではないが、Au、Ag、Pt、Ni、Cu、Sn、Al、Pb、Cr、Ti、W、これらの混合、およびこれらの合金を含む。例えば、Au−Snが中間層210として用いられる時、ボンディングは、例えば、約200°C〜約400°Cで熱工程を通じて行われ得、選択的に圧力を用いることができる。また、中間層210は、単一層または多重層、例えば、他の物質または合金を有するそれぞれの層であり得る。
第1基板100を除去した後には第2導電性基板200を薄くすることが難しいため、また他の選択的追加工程は、第1基板100を除去する前に、第2導電性基板200を所望する厚さで薄くする。例えば、第2導電性基板200は、CMP工程、研削(grinding)工程、エッチング工程、またはこれらのいかなる組み合わせによっても薄くすることができる。
第2基板200への移動は、図1Gに示すように、第1クラッド層112を露出させるために第1基板100が除去される時完成される。第1基板100は当業者に周知のいかなる方法を用いて除去しても良い。例えば、本明細書において参照して完全に統合されるPark et al.のU.S.Patent No.7,112,456(発明の名称:「Vertical GaN Light Emitting Diode and Method for Manufacturing the Same」)から提供されるように、第1基板100を分離させるためにレーザを用いることができる。レーザが用いられる場合、レーザを用いる前に、例えば、CMP、研削、および/またはエッチングによって先に第1基板100を薄くして/したり研磨することが好ましい。また他の実施形態において、第1基板100は、化学的工程、例えば、化学的リフト−オフ(chemical lift−off (CLO))を用いて除去することができる。適切なCLO工程の例は、本明細書において参照して完全に統合されるHa et al.(「The Fabrication of Vertical Light−Emitting Diodes Using Chemical Lift−Off Process,」 IEEE Photonics Technology Letters,Vol.20,No.3,pp.175−77(Feb.1,2008)), およびGmitterのU.S.Patent No.4,846,931(発明の名称:「Method for Lifting−Off Epitaxial Films」)から提供される。
第1基板100を除去した後に、図1Hに示すように、第2電極150が露出された第1クラッド層112上に形成される。第2電極150は、光放出を妨げることを最小化する形態であることが好ましいため、一般的に第2電極150は、第1クラッド層112の表面積に比べ充分に小さい表面積を有する。第2電極150は当業者に周知のいかなる工程を用いて形成することができる。例えば、第2電極150は、(i)例えば、第2電極物質のCVD、スパッタリングなどの蒸着およびパターニング工程または(ii)フォトレジストリフトオフ工程を用いて形成することができる。
第2電極150は、また電流の拡散を向上させるために多様な形状を有することができる。例えば、第2電極150は、(i)第1クラッド層112の少なくとも一つのエッジ近くに、(ii)第1クラッド層112のエッジ上に形成されたフレームの形態で、および/または(iii)多数のさらに小さい電極を含むように形成することができる。
第2電極150として有用な物質は、これに限定されるものではないが、ITO (Indium−Tin−Oxide)、Cu、Ni、Cr、Au、Ti、Pt、Al、V、W、Mo、Ag、これらの混合物、およびこれらの合金を含む。第2電極150は、単一層または多重層、例えば他の物質または合金を有するそれぞれの層として形成され得る。第2電極150は、少なくとも半透明な物質で形成されることが好ましい。
また他の実施形態において、第1クラッド層112と第2電極150の表面の間にオーミック層(未図示)が形成され得る。オーミック層として有用な物質は、これに限定されるものではないが、ITO、ZnO、Zn、Ti、Pt、Al、Ni、In2O3,SnO2,これらの混合物、およびこれらの合金を含む。オーミック層として好ましい物質は、これに限定されるものではないが、ITO、Ti、Pt、Ni、これらの混合物、およびこれらの合金を含む。また、オーミック層を活性化させるために熱処理を行って良い。一般的に、前記熱処理は、第2電極150が形成される前に約400℃で行われる。
図1Hに示さなかったが、電流の拡散を向上させるために、例えば、第2電極150を形成する前に、第1クラッド層112の表面に導電層をまた追加することができる。前述したオーミック層を導電層として用いることができる。ITO (Indium−Tin−Oxide)のような透明伝導性層を用いることが好ましい。
発光効率を増加させるために第2電極150を形成する前に第1クラッド層112の露出された表面をまたテクスチャ(texture)することができる。表面テクスチャリングは本明細書のすべての実施形態において適用することができる。第1クラッド層112の露出された表面に第2電極150の取り付けを向上させるために、第1クラッド層112の領域(電極150が取り付ける領域)は表面テクスチャリングされないこともある。表面テクスチャリングは、第1クラッド層112と空気との間の屈折率差による内部の全反射を減少させるものである。表面テクスチャリングは当業者に周知のいかなる工程によって行われても良い。このような工程の一つの例は、KOHのような湿式エッチング液の使用である。
第2電極150が形成された後に、図1Hに示すように、少なくとも一つの発光構造体110を含む少なくとも一つの発光装置1を形成するために第2基板200および発光構造体110の周囲の領域を分離することができる。第2基板200と発光構造体110周囲の領域を分離させるために当業者に周知のいかなる方法を用いることができる。第2基板200および発光構造体110周囲の領域を分離させるための工程の非制約的な例は、これに限定されるものではないが、レーザソー(sawing)、ブレード(blade)ソー、ダイヤモンドカッティング、エッチング、およびこれらの組み合わせを含む。
例えば、図1Eと関連して前述したような発光構造体110の周囲の領域111をパターニングする「追加の工程」は、図1Gおよび1Hに示すように、第2基板200を個別の発光装置に分離させる工程前またはこれと同時に行うことができる。例えば、第1クラッド層112、絶縁層120、および第1電極層140を部分的に除去するために例えば、少なくとも一つのマスキングおよびエッチング段階の組み合わせによって発光構造体110周囲の領域111をパターンすることができる。その後、第2基板200は、例えば、レーザソーにより分離され得る。
本発明のまた他の実施形態は、導電性基板上に形成された垂直型発光装置に関するものである。このような発光装置は、前述した高スループット工程により製造され得る。
図3〜5は、垂直型発光装置1の2つの実施形態を示す図である。図3は、実質的に正四角形の上部プロファイルを有する一つの実施形態を示す。図4は、実質的に長方形の上部プロファイルを有するまた他の実施形態を示す。図5は、図3および4において示す軸A−Aに沿って切断した実施形態の断面図である。この実施形態は、上面プロファイルの形態または発光構造体110の形態と関連して説明するが、この参考物は、発光構造体110の上面プロファイルまたは全体形状に関する参考物としてのみ意図される。したがって、本明細書で説明する前記発光装置は、このような形態に限定されるものではなく、いかなる所望する全体の外観形状を有することができる。
図3〜5は、垂直型発光装置1の2つの実施形態を示す図である。図3は、実質的に正四角形の上部プロファイルを有する一つの実施形態を示す。図4は、実質的に長方形の上部プロファイルを有するまた他の実施形態を示す。図5は、図3および4において示す軸A−Aに沿って切断した実施形態の断面図である。この実施形態は、上面プロファイルの形態または発光構造体110の形態と関連して説明するが、この参考物は、発光構造体110の上面プロファイルまたは全体形状に関する参考物としてのみ意図される。したがって、本明細書で説明する前記発光装置は、このような形態に限定されるものではなく、いかなる所望する全体の外観形状を有することができる。
図3〜5に示す実施形態において、垂直型発光装置1は、(i)第1表面109、第2表面115、および少なくとも一つの側面113を有する多重層の発光構造体110、(ii)発光構造体110の第2表面115および少なくとも一つの側面113の少なくとも一定領域を覆う絶縁層120、(iii)発光構造体110と連結される第1および第2電極(それぞれ140、150)、および(iv)第1電極140にボンディングされた導電性基板200を含む。発光装置1は、第1電極140と導電性基板200との間のボンドを向上させるために、例えば、導電性基板200内のたわみを補うために、第1電極140と導電性基板200との間に中間層210、および発光構造体110の第2表面115および第1電極140と接触するように位置しているオーミック層130をさらに含み得る。例えば、オーミック層130は絶縁層120内のリセス内に位置することができる。
多重層の光を放出する発光構造体110は、第1クラッド層112、活性層114、および第2クラッド層116を含む。本実施形態の発光構造体110は、例えば、(i)光の内部反射、(ii)反射後の光の放出角/経路、または(iii)両側いずれを増加させることによって発光効率を増加させる形態で成されることが好ましい。図5に示す発光構造体110の少なくとも一つの側壁面113は光反射を増加させるために傾斜することができる。
具体的に、図5に示すように、第2表面115と一致する仮想の線と側壁面113との間に内部角αを形成することが好ましい。その結果、第1表面109の表面積は活性層114の表面積より大きい。角αは、約30°より大きく90°以下であることが好ましく、約40°〜約70°であることがより好ましい。角αは、一定であるか、または部分的であるか全体的に凹形状または凹形状の側壁の形態を形成するために連続的に変わることができる。また、発光構造体110のためのパターン化された形態の非制約的な例は、放物線、上部分が切られた放物線、逆(inverted)円錐台(すなわち、切断円錐)、逆角錐台、およびこれらの混合形態を含む。例えば、図3および図4は、逆角錐台(例えば、実質的に正四角形ベース(base)を有する)の形態および延びた角錐台(実質的に長方形ベースを有する)の形態を有する発光構造体110をそれぞれ図示する。
また、前述したように第1クラッド層112の露出された表面はテクスチャすることができる(未図示)。表面テクスチャリングは、また選択された領域、例えば、第2電極150を第1クラッド層112の露出された表面に取り付ける領域においては禁止し得る。
絶縁層120は、後述する第1電極140を通したp型およびn型領域との間の電気的短絡を予防する。絶縁層120は、発光構造体110のための追加の構造的支持を提供する。熱が発光構造体110から除去され、第1電極140に移動できるように、絶縁層120はまた、例えば、物質の選択、非常に薄い層で形成することによって熱的に導電性であることが好ましい。絶縁層120は、また透明であること、例えば、光が絶縁層120を通過し後述する後続して形成される第1電極によって反射するようにするに充分なように透明なことが好ましい。絶縁層120に用いられる物質の透明度は、また層の厚さおよび放射される光の波長に左右される。例えば、さらに薄い層がさらに透明である。絶縁層120として有用な物質は、これに限定されるものではないが、SiO2,SiNx、ZnO、Al2O3、AlN、およびこれらの組み合わせを含む。
図5に示すように、絶縁層120は、発光構造体110の第2表面115および側面113全体を覆うことができる。また他の実施形態において、絶縁層120は、発光構造体110の第2表面115と少なくとも一つの側面113の少なくとも一定領域を覆うことができる。例えば、絶縁層120は、少なくとも第2クラッド層116および活性層114を覆う。また他の実施形態において、絶縁層120は、例えば、パターン化された絶縁層120を形成することによって、第1クラッド層112および活性層114の露出された側面だけを覆うことができる。また、また他の実施形態において、絶縁層120は、選択的であり、第1電極140が第2クラッド層116の側面までだけに延在されると、例えば、第1電極140が第1クラッド層112または活性層114と電気通信状態ではない時、絶縁層120を除去することができる。
絶縁層120は、絶縁層120を通じて電気通信が可能なように発光構造体110の第2クラッド層116を露出させる少なくとも一つのリセス121をまた含み得る。図示しなかったが、一つまたはそれ以上のリセス121が(i)第2表面115に沿って中心から外れた場所内に、(ii)活性層114の下の発光構造体110の第2表面115および側面113に沿って、(iii)活性層114の下の一つまたはそれ以上の側面113に沿って、またはこれらの組み合わせに位置することができる。リセス121のためのこのような他の位置は電流の流れを向上させるために有用である。絶縁層120は、例えば、少なくとも一部の光が絶縁層120を通過できるように充分に透明であることが好ましい。
第1および第2電極(140、150それぞれ)は、発光構造体110と電気通信状態にある。より具体的に、第1電極140は、発光構造体110の第2クラッド層116と電気通信状態にあり、第2電極150は、発光構造体110の第1クラッド層112と電気通信状態にある。
したがって、第1電極140は、活性層114および第1クラッド層112から電気的に分離される。第1電極140の電気的分離は、第1電極140が側面113に沿って延長するか、ヘテロ構造の活性層114までは到達しないように、例えば、発光構造体110の第2表面115に沿ってのみ、または第2表面115と側面113の一部に沿ってのみ延長することによって達成することができる。これとは別に、電気的絶縁は、図5に示し、前述した本実施形態のための絶縁層の説明および製造方法の部分で説明するように絶縁層を用いることによって達成することができる。
図5に示す実施形態において、第1電極140の一部が絶縁層120のリセス121を通じて第2クラッド層116と電気通信状態であれば、第1電極140は、絶縁層120のいかなる領域も覆うことができる。例えば、図5に示すように、第1電極140は実質的に絶縁層120のいずれも覆うことができる。絶縁層120および第1電極140は発光構造体110に余分の構造的支持を提供することができる。これとは別に、パターン化された絶縁層120が第1クラッド層112と活性層114の露出された側面のみを覆う時、第1電極140は、第2クラッド層の上面115と選択的に絶縁層120の一部領域上に形成され得る。同様に、パターン化された絶縁層120が第2クラッド層116と活性層114の露出された側面のみを覆う時、その後、パターン化された第1電極140はパターン化された絶縁層120を覆う。例えば、第1電極140は第1クラッド層112上に形成されない。第2電極に関して、サイズおよび形態は、発光構造体110から放出される光の妨害を最小化し、電流の流れを最大化するように選択される。したがって、第2電極150は、電流の拡散および/または放出される光の妨害を減少させるために多様な形態を有することができる。例えば、第2電極150は、(i)第1クラッド層112の少なくとも一つのエッジ近くに、(ii)第1クラッド層112のエッジ上に形成されたフレームの形態で、(iii)多数のより小さい電極を含むように、またはこれらの組み合わせで形成され得る。図1Hには示さないが、電流の拡散を改善するために第1クラッド層112の第1表面109に導電層をまた追加することができる。ITO(Indium−Tin−Oxide)のような透明伝導層を用いることが好ましい。
発光装置1は、第1電極140の少なくとも一定領域にボンディングされた導電性基板200をさらに含む。これで第2クラッド層116との電気通信が可能である。当業者に周知のあらゆるボンディング方法を用いることができる。ボンディング方法の非制約的な例は、共融ボンディング、はんだ付け、ゴールド−シリコンボンディング、および接着ボンディングを含む。また本明細書において参照して完全に統合されるPark et al.のU.S.Patent No.7,112,456(発明の名称:「Vertical GAN Light Emitting Diode and Method for Manufacturing the Same」)に説明されているような導電性接着層も有用である。
導電性基板200は、第1電極140とのボンドを向上させるために、例えば、第1基板100および/または第2基板200内のたわみを補うために、導電性中間層210をまた含み得る。一般的に共融ボンディングで用いられる中間層210は、第1電極140より低い反射特性を有することができる。中間層210は、単一層または多重層、例えば、他の物質または合金を有するそれぞれの層であり得る。
製造方法および物質成分など発光装置1に関するさらに詳しい内容および発光構造体110、第1および第2電極140、150、導電性基板200などの多様な部分に関するさらに詳しい内容は、発光装置の製造方法に関する前述した内容から理解することができる。
図5に示すように、図5に示す発光装置1は、特に透明絶縁層120および反射第1電極140が用いられる時、光放出を顕著に改善させることができる。活性層114から直接放出される光線(例えば、光線L1)に加え、発光装置1の傾斜した側面113は、少なくとも一度反射した光(例えば、光線L2)および二度反射した光(例えば、光線L3)がヘテロ構造から放出されるようにする。したがって、全体的に放出される光の量を充分に増加させ、放出される光の方向性も充分に制御することができる。また、第1電極140が発光構造体110の第2クラッド層表面115および少なくとも一つの側壁面113の少なくとも一定領域と熱伝達状態にあるため、第1電極140は発光構造体110から熱を除去し、導電性基板200への改善された熱の伝導を提供することができる。第1電極層140がまた導電性基板200と充分な接触面積を有するため、この冷却効果は充分であり得る。
本発明のまた他の実施形態は、ヘテロ構造から放出される光を妨げない位置に提供される第2電極150(例えば、上部電極)を有する発光装置を製造する方法に関するものである。このような配列は、図6A〜6Cに示すように溝がある発光構造体を形成することによって達成することができる。この方法は、垂直型発光装置を製造する方法として前述した方法を変形したものである。したがって、前記方法の一般的な過程は実質的に同一であり、下記で述べる特定の変更を除いては本実施形態に同一に適用される。例えば、本実施形態の方法は、次の工程段階をまた経る。(i)発光構造体を形成し、(ii)リセスを有する絶縁層を形成し、(iii)第1電極および選択的なオーミック層を形成し、(iv)前記発光構造体の周囲の領域を選択的にパターニングして(後で行われ得る)、(v)第1電極表面を第2導電性基板にボンディングし、(vi)第1基板を除去し、(vii)第2電極を形成し、また(viii)第2導電性基板を個々の発光装置に分離する。同様に、前述した実施形態において図1A〜1Hおよび図3〜5に関連する絶縁層120および第1電極140のすべての変形が本実施形態に同一に適用される。
本実施形態において、図6Aに示すように図1Aに示すあらかじめ形成された多重層の発光ヘテロ構造に、発光構造体110の少なくとも第2クラッド層116および活性層114を分離させる少なくとも一つの溝118を有する発光構造体110を形成するためのパターニング工程を行う。溝118の一部分は、発光構造体110のメジャ部分110aの側面113bを規定し、溝118のまた他の部分は発光構造体110のマイナ部分110bの側面117を規定する。したがって、発光構造体110のマイナ部分110bとメジャ部分110aとの間の電気通信を提供するために、第1クラッド層112の少なくとも一定領域は連続した層で残っている。側面113bおよび/または側面117は、図5に示す実施形態と関連して前述したように傾斜することもある。本実施形態においては、発光構造体110のメジャ部分110aのみが光を放出する。図6A〜6Bは直線の溝118を示すが、溝118は曲線であり得る。
図6Bおよび6Cに示すように、第2電極の形成を除いた本実施形態の残り工程は、本明細書において参照して完全に統合される前述した発光装置の製造方法の工程と本質的に同一である。例えば、絶縁層120(リセス121を含む)が発光構造体110の形態にコンフォーム(conform)するように形成される。例えば、絶縁層120が溝118内にも形成される。絶縁層120は、パターニング工程によって形成され得るリセス121をまた含む。その後、図6Bに示すように、第1電極層140が絶縁層120上に(溝118に対応する領域を含む)、またリセス121内に形成される。これとは別に、図6Bに示すように、オーミック層130がリセス121内に形成され得る。その後、図6Cに部分的に示すように、パターン化された導電性中間層210を選択的に有することができる第2導電性基板200が第1電極層140の少なくとも一定領域にボンディングされ、第1基板100が除去される。また、導電性基板200と第1電極層140との間のボンドを向上させるために、導電性基板200はパターン化された中間層210をまた含み得る。
しかし、前述した方法に対し、本実施形態の方法は、図6Cに示すように、発光構造体110のマイナ部分110bの第1クラッド層112上に第2電極150を形成する。したがって、マイナ部分110b上に位置する第2電極150は発光構造体110のメジャ部分110aから放出される光を妨げない。したがって、第2電極150は、第1クラッド層112と適合したいかなる導電性物質、例えば、透明物質、不透明物質、または透明ではない物質で形成され得、第2電極150は発光構造体のマイナー部分110bの第1クラッド層112の一部または全体表面を横切って延在することができる。
また、図6Cに示さないが、電流の拡散を改善させるために、例えば、第2電極150の形成前に、導電層が発光構造体110のメジャ部分110aの第1クラッド層112の表面および選択的にマイナ部分110bにまた追加することができる。この導電層は光を放出する発光構造体110のメジャ部分110aを覆うために、ITO (Indium−Tin−Oxide)のような透明導電層を用いることが好ましい。
第2電極150を形成した後、図6Cに示すように少なくとも一つの発光構造体110を含む少なくとも一つの発光装置2を形成するために第2基板200および発光構造体110周囲の領域を分離することができる。第2基板200および発光構造体110周囲の領域を分離するために、当業者に周知のいかなる方法をも用いることができる。第2基板200および発光構造体110周囲の領域を分離するための工程の非制約的な例は、これに限定されるものではなく、レーザソー、ブレードソー、ダイヤモンドカッティング、エッチング、およびこれらの組み合わせを含む。
本発明のまた他の実施形態は、上部電極が少なくとも一つの一定の方向に向かって放出される光を妨げない、導電性基板上に形成された垂直型発光装置に関するものである。このような発光装置は、溝がある発光構造体を有する発光装置のために前述した高スループット製造工程により製造され得る。したがって、前述した工程から提供された詳しい内容の全ては(例えば、物質、配列など)本実施形態にまた適用される。
図7および8は、光を放出するメジャ部分110aと第2電極150を取り付けるためのマイナ部分110bを有する発光装置2の一つの実施形態を示す図である。結果的に、第2電極150は光放出を妨げない。図8は、図7に示す軸B〜Bに沿って切断した発光装置2の断面図である。図7および8に示すように、第2電極150は、発光導電性構造体の実質的に長方形の(上面プロファイル)マイナ部分110b上に形成される。溝118は、発光構造体110のメジャ部分110aとマイナ部分110bを規定する。したがって、発光構造体110の前記領域に対応する発光装置2の部分はそれぞれ発光装置のメジャ部分および発光装置のマイナ部分で言及される。
溝118は、発光構造体110の少なくとも活性層114および第2クラッド層116(および選択的に第1クラッド層112の一部)を分離させる。結果的に、第1クラッド層112の少なくとも一部は発光構造体110の最初から最後まで連続的である。第2電極150が発光装置2のマイナ部分内の第1クラッド層112に取り付けるため、電気は連続する第1クラッド層112に沿って(またはそれの表面に沿って)流れ、光が生成される領域である発光装置2のメジャ部分内に分配される。
第2電極150の不在を除いて、発光装置2のメジャ部分(メジャ部分110aに対応する)は図5に示す発光装置1と実質的に類似である。したがって、発光装置1の細部事項および変形のすべては発光装置2のメジャ部分に同一に適用される。例えば、発光装置2のメジャ部分は、(i)第1表面109、第2表面115、および少なくとも一つの側面113a(または溝118の一部を形成する側面113b)を有する多重層であり、光を放出する発光構造体110、(ii)リセス121を有し、発光構造体110の第2表面115および側面113a、113bの少なくとも一部を覆う絶縁層120、(iii)発光構造体110のメジャ部分110aに連結される第1電極140、および(iv)第1電極140にボンディングされた導電性基板200を含む。発光装置2のメジャ部分110aは、発光構造体110の第2表面115と第1電極140に接するように位置するオーミック層130をさらに含み得る。例えば、オーミック層130は、絶縁層120内部のリセス内に位置することができる。発光装置2は、前記ボンドを向上させるために、例えば、導電性基板200内のたわみを補うために中間層210をさらに含み得る。
また、光放出効率を増加させるために発光構造体のマイナ部分110bの第1クラッド層112上に第2電極150を取り付ける前に、メジャ部分110aの第1クラッド層112の露出された表面はまたテクスチャされることができる(未図示)。マイナ部分110bの第1クラッド層112の露出された表面に第2電極150の取り付けを向上させるために、第2電極150が取り付けるマイナ部分110bの第1クラッド層112の領域はテクスチャリングされないこともある。表面テクスチャリングは、メジャ部分110aの第1クラッド層112と空気との間で屈折率の差による内部全反射を減少させるものである。表面テクスチャリングは、当業者に周知のいかなる工程によっても行われ得る。このような工程の一つの例は、KOHのような湿式エッチング液の使用である。
図8に示すように、発光装置2のマイナ部分110bは、第1クラッド層112と電気通信状態にある第2電極150を含む。第2電極150は、発光構造体のマイナ部分110bの第1クラッド層112の一部または全体表面を横切って延長することができる。例えば、第2電極150は、電流分配を向上させるために三日月形状を有することができる。適切に、発光装置のマイナ部分110bは、絶縁層120および選択的に第1電極層140をまた含む。発光装置2のマイナ部分は第1電極層140を必要としないが、高スループット製造工程のあいだにそれを含むことがより便利な場合もある。
図7および8に示す発光装置2は、第2電極150を非妨害領域に位置させ、特に透明絶縁層120と反射第1電極140が用いられる時、光放出を顕著に改善することができる。活性領域から直接的に放出される光線(例えば、光線L1)に加え、発光装置2の傾斜した側面113a、113bは、少なくとも一度反射した光(例えば、光線L2)および二度反射した光(例えば、光線L3)がヘテロ構造から放出するようにする。したがって、放出される光の全体量を充分に増加させ、放出される光の方向性を充分に調節することができる。また、第1電極層140が発光構造体110の第2クラッド層表面115およびメジャ部分110aの少なくとも一つの側壁面113の少なくとも一部と熱の伝達状態にあるため、第1電極層140は、発光構造体110から導電性基板200への改善された熱の伝道を提供することができる。第1電極層140が導電性基板200と充分な接触面積をまた有するため、この冷却効果は充分であり得る。
また他の実施形態においては、図9に示すように、四分面のコーナーに実質的に正四角形(上面プロファイル)の発光構造体110のマイナ部分110b(例えば、二つの溝118により規定される)上に形成された第2電極150を有する発光装置3を製造するために、溝がある発光構造体を製造するために前述された製造工程を修正することができる。これにより、上面プロファイルから見た時、実質的に正四角形のマイナ部分110bは、正四角形の上面プロファイルを有する発光装置の一つの四分面のコーナーに形成される。本実施形態のまた他の変形では、例えば、迎え合う四分面のコーナー上に一つ、またはそれぞれの四分面のコーナー上に一つのように、発光装置3は2つ以上の実質的に正四角形のマイナ部分(未図示)を有することができる。このような他の実施形態においてあらかじめ形成された多重層の光を放出するヘテロ構造は、多数の溝を有する発光構造体を形成するためにパターン化することができる。
また他の実施形態において、上面プロファイルから見られることおよび図10に示すように、発光装置4は、発光構造体110の中央領域に形成された発光構造体のマイナ部分110bを含み得る。本実施形態において、四角形構造内に四つの溝(または円形構造内の一つの溝)は、マイナ部分110bを発光構造体110の中央領域に島の形態で形成するために用いることができる。第2電極150は、マイナ部分110b上に形成されるため、それの中央領域は、発光構造体110の光を放出するメジャ部分110a中心から外部に放射方向に外側へ向かう電流分配を増加させるように助けることが。本実施形態において、絶縁層120は、メジャ部分110aの形状に対応して実質的に正四角形形状を有するリセス(および選択的にオーミック層)を有する。
前記参照されたすべての形態が正四角形または長方形であっても、前述した発光装置のいかなる部分のために他の形態もまた可能である。例えば、発光構造体のマイナ部分110bは、円形または楕円形の上面プロファイル形態を有することができる。この実施形態において一つの溝は円形または楕円形の形状を有する。
本発明のまた他の実施形態は、図11A〜11Dに示すようにレンズを有する垂直型発光装置の製造方法に関するものである。この方法は、垂直型発光装置および溝を有する垂直型発光装置を製造するために前述した方法の変形である。本実施形態において第1クラッド層の一部がレンズを形成するために用いられる。レンズの曲率は、第1クラッド層と空気との間の屈折率の差に起因した現象であるエスケープコーンアングル(escape cone angle)を減少させて光放出効率を増加させるものである。
本実施形態における製造方法は、図11Aに示すように、あらかじめ形成された多重層の光を放出するヘテロ構造を用いる。図1Aと関連して説明したあらかじめ形成されたヘテロ構造と同様に、図11Aに示す本実施形態のあらかじめ形成されたヘテロ構造は、少なくとも第1基板100、第1クラッド層111a、活性層114a、および第2クラッド層116aを含む。しかし、本実施形態のあらかじめ形成されたヘテロ構造は、レンズの部分を補うために充分にさらに厚い第1クラッド層111aを有する。本実施形態において第1クラッド層111aの厚さは、上面プロファイルから見る時、レンズが形成される発光構造体110の第1表面109の最も短い面(または最も短い直径)の長さの約1/10より一般的に大きい。前述した溝がある発光装置において、メジャ部分110aの第1表面109のみが前記最も短い面(または最も短い直径)を決定することに関連する。このような厚い第1クラッド層111aは、気相成長のように当業者に周知のいかなる方法によっても得ることができる。
他の工程は、垂直型発光装置および溝を有する垂直型発光装置を製造するために前述した方法の工程と本質的に同一である。例えば、本実施形態の方法もまた次の工程を経る。(i)発光構造体を形成し、(ii)リセスを有する絶縁層を形成し、(iii)第1電極と選択的オーミック層を形成し、(iv)発光構造体の周囲領域を選択的にパターニングし(後で行われ得る)、(v)第1電極の表面を第2導電性基板とボンディングし、(vi)第1基板を除去し、(vii)第2電極を形成し、また(viii)個別の発光装置で第2基板を分離する。
しかし、本実施形態の方法は、図11Cに示す通り、第1クラッド層111からレンズ119を形成する追加の工程をさらに含む。第1基板100を除去する工程後、図11Bに示す通り第1クラッド層111が露出される。その後、図11Bおよび11Cに示すように、レンズ119周囲の領域を規定し第1クラッド層111からレンズ119を形成するために、フォトレジストパターンを利用してパターニング工程が第1クラッド層111上で行われる。レンズ119を形成するパターン工程の例は、本明細書において参照して完全に統合されるStern et al.の「Dry etching for coherent refractive microlens arrays」(Optical Engineering,Vol.33,No.11,p. 3547−51(Nov.1994)),およびOkazaki et al.のUS.Patent No.5,948,281(September7,1999,発明の名称:「Microlens array and method of forming same and solid−state image pickup device and method of manufacturing same」)で説明される。
図11A〜11Dは凸レンズを示すが、所望する光放出パターンを得るために第1クラッド層111はいかなる所望する形態をも作ることができる。例えば、前記の製造工程の変形として図11Eに示すように、さらに小さいレンズの多数を提供するためにレンズの形状パターンを変更することによってレンズ119を多数得ることができる。
少なくとも一つのレンズを形成した後に、図11Dを参照して前述したように、第1クラッド層111で形成されたレンズ119(またはレンズの多数)上に第2電極150が形成される。発光装置が溝を有する実施形態においては、第2電極150は発光装置のマイナ部分の第1クラッド層111上に形成され得る。
少なくとも一つのレンズを形成した後に、図11Dを参照して前述したように、第1クラッド層111で形成されたレンズ119(またはレンズの多数)上に第2電極150が形成される。発光装置が溝を有する実施形態においては、第2電極150は発光装置のマイナ部分の第1クラッド層111上に形成され得る。
本発明はまた導電性基板上に形成され、レンズを含む垂直型発光装置に関するものである。前述した実施形態のすべてはここで説明したレンズを含み得る。このような発光装置は、レンズを有する発光装置のため、前述した高スループット工程にしたがって製造され得る。
図12〜14は、第1クラッド層111で形成されたレンズを有する垂直型発光装置の3つの変形物を示す図である。図12および13は、一つの大きいレンズおよび多数のより小さいレンズを有する発光装置をそれぞれ図示する。図12において、発光装置5は、一つのレンズ119を有する発光構造体を含む。ここで第2電極150はレンズ119とボンディングされる。図13において、発光装置6は、多数のレンズ119を有する発光構造体を含む。ここで第2電極150は、中心に位置する小さいレンズのグループとボンディングされる。これとは別に、第2電極がボンディングされる領域は平らであっても良い。例えばレンズがないこともある。この発光構造体は導電性基板200にボンディングされる第1電極140をさらに含む。結合を向上させるために、例えば、導電性基板200内のたわみを補うために導電性基板200は中間層210をさらに含み得る。
同様に、図14は、発光装置のメジャ部分110aおよびマイナ部分110bを規定する溝118を有する発光装置7を示す図である。発光装置7のメジャ部分110aは、レンズ119を含み、発光装置7のマイナ部分110bは、第2電極150を含む。前述したように、本実施形態において、第2電極150は、発光装置7のメジャ部分110aから放出される光を妨げない。したがって、第2電極150はいかなる導電性物質でも形成され得、それはいかなる形態を取ることもできる。例えば、第2電極150は、発光装置7のマイナ部分110b内の第1クラッド層の全体表面を覆うことができる。図14には示さないが、発光装置7は、第1クラッド層の表面および選択的にレンズ119の表面上に電流の拡散層をさらに含み得る。
また他の実施形態で本発明は、導電性基板200内に内蔵ツェナーダイオード(embedded zener diode)を有する垂直型発光装置を製造する方法に関するものである。ここで実施形態は、導電性基板が一般的に少なくとも一つのn型ドーピングされた領域を有するp型基板で構成されるものとして叙述するが、前記導電性基板はまた少なくとも一つのp型ドーピングされた領域を有するn型基板であり得る。これに加えて、ここのすべての実施形態は、前述したように、レンズの部分を有する第1クラッド層をまた含み得る。また、前述した発光装置が用いられても、導電性基板200内に内蔵ツェナーダイオードを用いることによってあらゆる適切な垂直型発光装置に交代され得る。
図15は、前記発光装置およびツェナーダイオードの機能的側面を示す回路ダイアグラム(circuit diagram)を提供する。導電性基板200は、導電性基板200の導電型と反対の導電型の化合物でドーピングされる。例えば、ツェナーダイオードを形成するためにp型基板200が用いられる時、基板200の選択された領域はn型化合物でドーピングされ、その反対の場合も可能である。導電性基板200のドーピングされた領域は、導電性基板200と同一の半導体タイプである発光構造体110の第2クラッド層116と電気通信状態に置かれる。例えば、導電性基板200のn型でドーピングされた領域は発光構造体110のp型クラッド層116と電気通信状態に置かれる。ツェナーダイオードは、逆バイアス電圧で発光構造体110を有害なサージ(surge)、例えば、静電気放電(electrostatic discharge)から保護する。
図16Aは、ツェナーダイオードを含む発光装置8の一実施形態を示す図である。図16Aに示す発光装置8は、図5に示す発光装置1と実質的に類似である。しかし、発光装置8は、n型ドーピングされた領域205を有するp型導電性基板200bを含むツェナーダイオードを含む。また、第1クラッド層112bはn型であり、第2クラッド層116bはp型である。したがって、有害な逆バイアス電圧がn型ドーピングされた領域205に入れば、それは無害にp型基板200bに流れ、発光構造体110を保護する。図16Aに示すように中間層210が用いられる時、中間層210はドーピングされた領域205とのみ電気通信状態にある。すなわち、中間層210は、導電性基板200bのドーピングされていない領域と接してはならない。
同様に、図16Bは、ツェナーダイオードを含む発光装置9のまた他の実施形態を示す図である。図16Bに示す溝を有する発光装置9は、図8に示す発光装置2と実質的に類似である。しかし発光装置9は、p型導電性基板200bとn型ドーピングされた領域205を含むツェナーダイオードを含む。また、第1クラッド層112bはn型であり、第2クラッド層116bはp型である。したがって、有害な逆バイアス電圧がn型ドーピングされた領域205に入れば、それは無害にn型基板200bに流れ、発光構造体110を保護する。図16Bに示すように中間層211が用いられる時、中間層211は、ドーピングされた領域205とのみ電気通信状態でなければならない。すなわち、中間層211は導電性基板200bのドーピングされていない領域と接してはならない。
この発光装置(8および9)は、垂直型発光装置および溝を有する垂直型発光装置を製造するために前述した方法に追加の工程を含み得ることができる。追加の工程は次を含む。(i)絶縁層120内のリセス121に対応する第1クラッド層の領域と電気の連結状態である選択された領域内に適切なドーパント(例えば、基板と反対導電型)で導電性基板をドーピングすることと、(ii)導電性基板200bのドーピングされた領域205上にパターン化された導電性中間層210(溝を有するた発光装置では211)を選択的に形成することと、(iii)ドーピングされた領域205またはパターンされた導電性中間層(210、ドーピングされた領域205に対応する部分)を絶縁層120内のリセス121と対応する第1電極層の部分に整列および取り付けさせることと、また、これらのすべての組み合わせである。パターン化された導電性中間層210が導電性基板200bのドーピングされていない領域と接しないようにするために(または直接電気通信状態でないようにするため)、パターン化された導電性中間層210はドーピングされた領域205範囲内で形成されることが好ましい。
本発明は、前述した垂直型発光装置を含む発光パッケージ(例えば、チップスケールパッケージ(chip scale package))に関するものである。この発光パッケージは、電源に連結することによっていかなる適当な発光システムにおいても用いることができる。放出される光の方向性がここで説明する発光パッケージ内で充分に調節できるために、チップスケールパッケージングは実質的に単純化され得る。伝統的なパッケージ(例えば、反射器または反射の側面および背面を含む)が用いられるが、ここで説明する発光パッケージは、放出される光の方向性を充分に調節することがすでに可能となっているため、このような伝統的なパッケージングは必要でない。発光パッケージは、大きく二つのカテゴリに分けることができる。カプセル化されていないもの(unencapsulated)とカプセル化されたもの(capsulated)である。ここで用いられる参照番号300は、発光装置に電気を供給するために少なくとも二つの導電性領域を有する基板であるサブマウント(submount)である。サブマウントの非制約的な例は、回路基板またはプリントされた回路基板を含む。しかし、ここで参照番号300は回路基板と言及される。
図17および図18は、回路基板300上の第1導電性領域310(またはコンタクトと呼ばれる)にボンディングされた発光装置1を含むカプセル化されていない発光パッケージ10の一実施形態を示す図である。回路基板300は、回路基板300上に第2導電性領域320(またはコンタクトと呼ばれる)を含み、ワイヤ330は、第2電極150と第2導電性領域320との間の電気の通信(例えば、ワイヤボンド(wire bond))を提供する。本実施形態は、一つのワイヤ330での電気の連結のみを必要とする。なぜなら、仮に第2の電気の連結が利用される場合、導電性中間層210を経由し、導電性基板200によって提供される。発光装置1は、図5に示す装置と実質的に同一であるが、前述した発光装置のいかなるものも本実施形態の発光装置1と代わり得る。
図19、20、21A、および21Bは、ツェナーダイオードを有する発光装置を含むカプセル化されていない発光パッケージの多様な実施形態を示す図である。この実施形態は、前述した発光装置の使用を説明するが、いかなる適切な垂直型発光装置にも代替され得るため、導電性基板200内に内蔵ツェナーダイオードも利用される。
図19は、ツェナーダイオードを有する発光装置8を含むカプセル化されていない発光パッケージ11のまた他の実施形態を示す図である。装置は、回路基板300上の第1導電性領域310とボンディングされる。発光装置8は、n型ドーピングされた領域205を有するp型導電性基板200bを有する。導電性中間層210は、(i)発光構造体110の第1電極140とp型第2基板200bの表面の間のボンドを向上させ、(ii)p型導電性基板200bのn型ドーピングされた領域205の少なくとも一定領域を覆う(または接する)。中間層210は、ドーピングされた領域205とのみ電気の連結状態にある。すなわち、中間層210は、導電性基板200bのドーピングされていない領域と接してはならない。第1ワイヤ330は、発光構造体110の第2電極150と第1導電性領域310との間の電気通信を提供し、第2ワイヤ332は、導電性中間層210と回路基板300上の第2導電性領域320との間の電気通信を提供する。
図20は、ツェナーダイオードを有する発光装置9を含むカプセル化されていない発光パッケージ12のまた他の実施形態を示す図である。装置は、回路基板300上の第1導電性領域310とボンディングされる。発光装置9は、光を放出するメジャ部分110aおよび第2電極150が位置するマイナ部分110bを有する発光構造体110を含む。図16Bに示すように発光装置9は、n型ドーピングされた領域205を有するp型導電性基板200bをまた有する。第1導電性中間層210は、(i)発光構造体110の光を放出するメジャ部分110a上に位置する発光構造体110の第1電極140とp型導電性基板200bの表面との間のボンドを向上させ、(ii)p型導電性基板200bのn型ドーピングされた領域205の少なくとも一定領域を覆う(または接する)。中間層210は、ドーピングされた領域205とのみ電気の連結状態である。すなわち、中間層210は、導電性基板200bのドーピングされていない領域と接してはならない。第2導電性中間層211は、発光構造体110のマイナ部分110b上に位置する第1電極140とp型基板200bの表面の間のボンドを向上させる。第1および第2導電性中間層210、211は、同一の物質または他の物質で形成され得る。第1および第2導電性中間層210、211との間にギャップ(gap)を置くことが好ましい。第1ワイヤ330は、発光構造体110のマイナ部分110bに位置する第2電極150と第1導電性領域310との間の電気通信を提供し、第2ワイヤ332は、導電性中間層210と回路基板300上の第2導電性領域320との間の電気通信を提供する。
図19に示す発光パッケージ11および図20に示す発光パッケージ12は、実質的に類似の方式で用いられる。発光パッケージ上に順バイアスを印加することによって、例えば、第1導電性領域310上に負バイアスを印加して、第2導電性領域320上に正バイアスを印加することによって、発光パッケージ11および発光パッケージ12は活性化する(例えば、光を放出する)ため図19および20の左側に破線の矢印によって示すように、電子は第1ワイヤ330を経由し、第1導電性領域310から第2電極150に流れる。逆バイアスが発光パッケージに印加されると、例えば、第1導電性領域310上に正バイアスが印加され、第2導電性領域320上に負バイアスが印加されると、電子は第2導電性領域320から導電性中間層210に流れる。逆バイアスの電圧が特定のブレークダウン電圧に達する時(例えば、静電気放電の危険レベル)、ツェナーダイオード(すなわち、n型ドーピングされた領域205およびp型導電性基板200b)はn型ドーピングされた領域205およびp型導電性基板200bを通過する電子の流れが第1導電性領域310を通じて抜け出すことを許容する。これで、発光装置8、9を保護することができる。
図21Aは、ツェナーダイオードを有する変更された発光装置9’を含むカプセル化されていない発光パッケージ13のまた他の実施形態を示す図である。装置は、回路基板300上の第1導電性領域310にボンディングされている。発光装置9’は、発光パッケージ9のため、図16Bに示すように光を放出するメジャ部分110aおよび第2電極150が位置するマイナ部分110bを有する発光構造体110を含む。しかし、この発光装置9’は変更されている。なぜなら、それは(i)第2電極150代りに発光構造体110のマイナ部分110b内に貫通ビアコンタクト(through via contact)145を含み、(ii)第1電極140が発光構造体110のメジャ部分110aとマイナ部分110bとの間の領域から除去される。貫通ビアコンタクト145は、n型第1クラッド層112bから絶縁層120の外部まで接し延在される。貫通ビアコンタクト145は、中心の導電性物質および選択的に外部の絶縁層(未図示)を含み得る。貫通ビアコンタクト145は、当業者に周知のいかなる方法によって形成され得る。貫通ビアコンタクト145を形成するために可能な工程の非制約的な例は、YamaguchiのU.S.Patent No.6,916,725(登録日:2005.07.12,発明の名称:「Method for Manufacturing Semiconductor Device, and Method for Manufacturing Semiconductor Module」),YamaguchiのU.S.Patent No.7,193,297(登録日:2007.03.20,発明の名称:「Semiconductor Device, Method for Manufacturing the Same, Circuit Substrate and Electronic Device」),およびMiyazawaのU.S.Patent No.7,214,615(登録日:2007.05.08,発明の名称:「Method of manufacturing semiconductor device, semiconductor device, circuit substrate and electronic apparatus」)から調べることができる。この文献の全体が本明細書において参照される。
発光装置9’は、また第1n型ドーピングされた領域205および第2n型ドーピングされた領域206を有するp型導電性基板200bを有する。第1導電性中間層210は、(i)発光構造体110のメジャ部分110a上に位置する第1電極140とp型導電性基板200bの表面の間のボンドを向上させ、(ii)p型導電性基板200bの第1n型ドーピングされた領域205の少なくとも一定領域を覆う(または接する)。同様に、第2導電性中間層211は、(i)発光構造体110のマイナ部分110b上に位置する第1電極140とp型導電性基板200bの表面の間のボンドを向上させ、(ii)p型導電性基板200bの第2n型ドーピングされた領域206の少なくとも一定領域を覆う(または接する)。中間層210は、第1n型ドーピングされた領域205でのみ電気通信状態にある。すなわち、中間層210は、導電性基板200bのドーピングされていない領域と接してはならず、中間層211は、第2n型ドーピングされた領域206でのみ電気通信状態にある。第1および第2導電性中間層210、211は、同一の物質または他の物質で形成され得る。本実施形態において第1および第2導電性中間層210、211との間にギャップが提供される。貫通ビアコンタクト145は、2導電性中間層211および導電性基板200bの第2n型ドーピングされた領域206を経由し、発光構造体110のマイナ部分110b内に位置するn型第1クラッド層112bと第1導電性領域310との間に電気通信を提供する。また、ワイヤ332は、導電性中間層210と回路基板300上の第2導電性領域320との間の電気通信を提供する。
図21Bは、ツェナーダイオードを有する変更された発光装置9”を含むカプセル化されていない発光パッケージ14のまた他の実施形態を示す図である。装置は、回路基板300上の第1導電性領域310にボンディングされている。本実施形態の発光パッケージ14は、図21Aに示す発光パッケージ13と実質的に類似である。したがって、前述した発光パッケージ13のための説明は、発光パッケージ14にもまた適用される。しかし、発光パッケージ14のp型導電性基板200bは、第2n型ドーピングされた領域206の代わりに貫通ビアコンタクト212を有する。貫通ビアコンタクト212は、中心の導電性物質および選択的に外部の絶縁層(未図示)を含み得る。結果的に、第2導電性中間層211は、(i)発光構造体110のマイナ部分110b上に位置する第1電極140とp型導電性基板200bの表面の間のボンドを向上させ、(ii)p型導電性基板200b内の貫通ビアコンタクト212と電気通信(またはコンタクト)状態にある。
図21Aに示す発光装置9’と図21Bに示す発光装置9”は、(i)溝を有する垂直型発光装置(図8に示す発光装置2)および(ii)溝およびツェナーダイオードを有する垂直型発光装置(図16Bに示す発光装置8)を製造するために前述した方法を変更することによって得ることができる。発光装置(9’および9”)すべてのための2つの共通の追加的な工程は次を含み得る。(i)メジャ部分110aの第1電極層140をマイナ部分110bから分離させるために、溝領域118の少なくとも一定領域(例えば、発光構造体110のメジャ部分110aとマイナ部分110bとの間の領域)から第1電極層114を部分的に除去するか、または溝領域118内で断絶されたパターン化された第1電極層を形成すること、(ii)図6Bに示すように、第1電極層を形成する前または後に、発光構造体110のマイナ部分110b内に貫通ビアコンタクト145を形成すること(例えば、第1クラッド層112までビアを形成し、このビアを導電性物質で埋めること)である。この追加工程は、第2導電性基板200にボンディングする前に行われる。
「溝領域118の少なくとも一定領域から第1電極層140を部分的に除去して分離させる」工程は、第1電極層140を通じての発光構造体110のマイナ部分110bとメジャ部分110aとの間の電気通信を防止するために行われる。これで装置内の電気短絡が防止される。したがって、また他の方法は、パターンされた第1電極層140を形成することを含む。パターンされた第1電極層140は、メジャ部分110aのため分離した第1電極層140と、マイナ部分110bのため分離した第1電極層140である。これで発光構造体のメジャ部分とマイナ部分との間の電気通信を防止する。また他の方法において、パターンされた第1電極層140は、メジャ部分110a上にのみ形成され、マイナ部分110b上には形成されなくても良い。
図21Aの発光装置9’のための追加の工程は次を含み得る。(i)導電性基板をボンディングする前に、あらかじめ追加した領域205のドーピングに加え、導電性基板200bの追加の領域206(発光構造体のマイナ部分110bに対応する領域)をドーピングすること(例えば、イオン注入によって)と、(ii)導電性基板200bのドーピングされた領域205、206範囲内にパターン化された中間層210、211を選択的に形成することと、(iii)パターン化された導電性中間層210、211(ドーピングされた領域205、206に対応する領域)を、絶縁層120内のリセス121に対応する第1電極層の領域および貫通ビアコンタクト145に整列して取り付けること、およびこれらのあらゆる組み合わせである。ドーピングされた領域206のためのドーピング工程の少なくとも一部は、ドーピングされた領域205のためのドーピング工程と同時に行うことができる。また、ドーピングされた領域206のためのドーピング工程は別途の工程で行われ得る。さらに、ドーピングされた領域206が導電性基板200bの両サイド上で露出されるようにするために、後続段階で(例えば、ボンディング後)導電性基板200bを薄くすることができる。
図21Bの発光装置9”のための追加の工程は次を含み得る。(i)ドーピングされた領域205を形成する前または後、発光構造体110のマイナ部分110bに対応する貫通ビアコンタクト212を形成すること(例えば、導電性基板200bを通過するビアを形成し、このビアを導電性物質で埋めること)と、(ii)導電性基板200bのドーピングされた領域205と貫通ビアコンタクト212に対応する領域範囲内にパターンされた導電性中間層210、211を選択的に形成することと、(iii)パターンされた導電性中間層210、211(ドーピングされた領域205と貫通ビアコンタクト212に対応する領域)を、絶縁層120内のリセス121に対応する第1電極層の部分および貫通ビアコンタクト145に整列して取り付けること、およびこれらのあらゆる組み合わせである。
図21Aに示す発光パッケージ13および図21Bに示す発光パッケージ14は、前述した発光パッケージ12と実質的に類似の方式で用いられる。発光パッケージ上に順バイアスを印加することによって、例えば、第1導電性領域310上に負バイアスを印加して、第2導電性領域320上に正バイアスを印加することによって、発光パッケージ13および発光パッケージ14は活性化する(例えば、光を放出するため)。図21Aおよび21Bの左側に破線の矢印で示すように、電子は、第2n型ドーピングされた領域206または貫通ビアコンタクト212を経由し、第1導電性領域310から貫通ビアコンタクト145に流れる。逆バイアスが発光パッケージに印加されると、例えば、第1導電性領域310上に正バイアスが印加され、第2導電性領域320上に負バイアスが印加されると、電子は第2導電性領域320から導電性中間層210に流れる。逆バイアスの電圧が特定のブレークダウン電圧に達する時(例えば、静電気放電の危険レベル)、前記ツェナーダイオード(すなわち、n型ドーピングされた領域205およびp型導電性基板200b)は、n型ドーピングされた領域205およびp型導電性基板200bを通過する電子の流れが第1導電性領域310を通じて抜け出されることを許容する。これで、発光装置(9’、9”)を保護することができる。
図19〜21Bに示す実施形態は、光を放出する表面上に表面テクスチャリング(未図示)または光を放出する表面上に一つまたは多数のレンズをさらに含み得る。
図22は、回路基板300上の第1導電性領域310にボンディングされた発光装置1を含むカプセル化されていない発光パッケージ15のまた他の実施形態を示す図である。本実施形態は図17および図18に示す実施形態と類似である。したがって、図17および図18と同一の参照番号を付して、パッケージの同一の構成要素(または構造体)と同一視する。しかし、本実施形態において、回路基板300は、(i)前述した第1導電性領域310および第2導電性領域320を有する第1表面、および(ii)第3導電性領域312および第4導電性領域322を有する第2表面を含む。回路基板300は、(a)第1導電性領域310と第3導電性領域312を連結する少なくとも一つの貫通ビア316、および(b)第2導電性領域320および第4導電性領域322を連結する少なくとも一つの第2貫通ビア326をさらに含む。貫通ビア316、326は追加的な連結を必要とせず、外部装置との連結をするようにするため、この特定実施形態は有用である。
図23A〜23Dは、多様なカプセル化された実施形態、すなわちカプセル化された発光パッケージ(15〜18)を示す図である。この図は、図17および18に示すカプセル化されていないパッケージ10の使用を示す図であるが、前述したパッケージのいかなるものも同様にカプセル化することができる。カプセル化は、少なくとも次のような利点がある。(i)保護の役割をする物理的バリア(barrier)、および(ii)燐光体をトラップする能力、これで放出される光の波長(例えば、色)の調節が可能となる。カプセル化に一つまたはそれ以上の層が用いられる。
当業者に周知のいかなる適切なカプセル化の方法を用いることができる。カプセルの材料(encapsulant)として有用な物質は、これに限定されるものではなく、epoxy、silicone、rigid silicone、urethane、oxethane、acryl、poly−carbonate、polyimide、これらの混合物、およびこれらの組み合わせを含む。(i)光放出を最大化するために充分に透明であり、(ii)キュアされていない状態で流動性のあるカプセルの材料を用いることが好ましい。
同様に、当業者に周知のいかなる適切な燐光体を用いることができる。有用な燐光体の適切な例は、Shimizu et al.のU.S.Patent No.5,998,925(登録日:1999.12.07,発明の名称:「Light Emitting Device Having a Nitride Compound Semiconductor and a PhoS.Phor Containing a Garnet Fluorescent Material」),Tamaki et al.のU.S.Patent No.7,297,293(登録日:2007.11.20 ,発明の名称:「Nitride PhoS.Phor and Production Process Thereof, and Light Emitting Device」),Murazaki et al.のU.S.Patent No.7,247,257 (登録日: 2007.07.24, 発明の名称:「Light Emitting Device」),Izuno et al.のU.S.Patent No.7,301,175(登録日:2007.11.27, 発明の名称:「Light Emitting Apparatus and Method of Manufacturing the Same」), Hohn et al.のU.S.Patent No.6,066,861(登録日:2000.05.23,発明の名称:「Wavelength−Converting Casting Composition and Its Use」), Reeh et al.のU.S.Patent No.6,812,500(登録日:2004.11.02,発明の名称:「Light−Radiating Semiconductor Component with a Luminescence Conversion Element」), Mueller et al.のU.S.Patent No.6,417,019(登録日:2002.07.09, 発明の名称:「PhoS.Phor Converting Light Emitting Diode」),Kozawa et al.のU.S.Patent No.6,891,203(登録日:2005.05.10,発明の名称:「Light Emitting Device」),Ota et al.のU.S.Patent No.7,157,746(登録日:2007.01.02,発明の名称:「Light Emitting Device Having a Divalent−Europium−Activated Alkaline Earth Metal Orthosilicate PhoS.Phor」), およびTasch et al.のU.S.Patent No.6,809,347(発明の名称:「Light Source Comprising Light−Emitting Element」)から調べることができる。前記文献の全体を本明細書において参照する。前述したように、燐光体は、発光装置により生成される光の少なくとも一部をまた他の波長の光に変換することができる。これで、放出される光の色を変えることが可能となる。例えば、青色光を放出する発光構造体を用い、黄色蛍光物質を含む燐光体を用いることによって白色光を得ることができる。同様に、演色指数(color rendering index)を高めるために赤色燐光体を用いても良い。
図23Aは、発光パッケージ10、第1カプセルの材料342内にカプセル化された多数の燐光体微粒子344を含む燐光体領域340、および燐光体領域340をカプセル化する第2カプセルの材料350を含むカプセル化された発光パッケージ15を示す図である。第1および第2カプセルの材料342、350は、同一の物質または他の物質で形成され得る。第2カプセルの材料350は、燐光体領域340が損傷(例えば、水分によって生じる損傷)されることを防止することができる。
図23Bは、発光パッケージ10、燐光体層344、およびカプセルの材料350を含むカプセル化された発光パッケージ16を示す図である。薄膜の燐光体層344は、燐光体コーティングされたパッケージをカプセル化する前にカプセル化されていないパッケージ11上にスプレー(Spray)することができる。
図23Cは、発光パッケージ10、燐光体層344、カプセルの材料342、および垂直に延長された側壁301を有する変形された回路基板300を含むカプセル化された発光パッケージ17を示す図である。回路基板300の側壁301は直線であるが、光反射および放出を増加させるために側壁301は傾斜することができる。本実施形態において側壁301は反射性であることが好ましい。図示するように、本実施形態は、特に発光パッケージ17が密閉された発光システム内で用いられる時、カプセルの材料なしで用いることができる。これとは別に、前述したように、カプセルの材料(未図示)および/または燐光体(未図示)が回路基板300および側壁301により生成された同封物に追加され得る。
図23Dは、第1カプセルの材料342によりカプセル化された発光パッケージ10、第1カプセルの材料342を覆う燐光体層344、および燐光体層344により覆われた第1カプセルの材料342をカプセル化する第2カプセルの材料350を含むカプセル化された発光パッケージ19を示す図である。第1および第2カプセルの材料342、350は、同一の物質または他の物質で形成され得る。第2カプセルの材料350は、燐光体層344が損傷(例えば、水分による損傷)されることを防止することができる。
図24〜26は、発光装置1のアレイを提供する多様なパッケージ配列を提供する。図24は、発光装置1のサブグループがシリーズで配列された発光装置1のアレイを示す図である。各サブグループにおいて発光装置1は回路基板300上の共通第1導電性領域310にボンディングされる。各サブグループの各発光装置1の第2電極150は、回路基板300上の共通第2導電性領域320に電気的に連結する。図25は、シリーズで配列された発光装置1の各サブグループが共通燐光体領域340および/または共通第2カプセルの材料350によりカプセル化された発光装置1のアレイを示す図である。図26は、各発光装置が燐光体領域340および/または第2カプセルの材料350により個別にカプセル化された発光装置1のアレイを示す図である。
図27〜31は、本発明の発光パッケージおよび発光装置を含む発光システムを示す図である。図27は、(i)反射性側壁301を有する回路基板300上にマウントされた少なくとも一つの発光装置1を含む発光パッケージ15、(ii)パターン412aを有し、一定の方向に光の反射を調節するために傾斜した反射シート412、(iii)導光シート410、(iv)拡散シート414、(v)少なくとも一つのプリズムシート416、および(vi)ディスプレイパネル450を含むLCDパネルを示す図である。発光装置1を用いる時、放出される光の方向調節を提供する反射性側壁301は必須ではない。
図28は、(i)本明細書において説明したような発光パッケージを含む光源410、(ii)コンデンスレンズ(condensing lens)420、(iii)カラーフィルタ430、(iv) 先鋭レンズ(sharpening lens)440、(v)デジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micromirror Device)450、および(vi)プロジェクションレンズ480を含むプロジェクションシステムを示す図である。形成されるイメージはスクリーン490上に投影される。
同様に、図29〜31は、発光パッケージ10を有する自動車のヘッドライト、少なくとも一つの発光パッケージ10を有する街灯、および少なくとも一つの発光パッケージ10を有する投光器(flood light)をそれぞれ図示する。
Claims (15)
- 第1貫通ビアと第2貫通ビアとを有し、前記第1貫通ビアと前記第2貫通ビアとは第1表面から前記第1表面の反対側の第2表面へ貫通している基板と、
第1クラッド層、活性層、第2クラッド層及び前記第1貫通ビアに接続された絶縁された貫通ビアコンタクトを有し、前記基板の前記第1表面上に接続された発光構造体とを含む発光装置。 - 前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記第2クラッド層から前記第1クラッド層へ貫通している請求項1に記載の発光装置。
- 前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記第1クラッド層と前記第1貫通ビアとを電気的に接続する請求項2に記載の発光装置。
- さらに、前記第2クラッド層と前記第2貫通ビアとを接続する電極を含む請求項1に記載の発光装置。
- 前記基板は、前記第2表面に付加された第1導電性領域と第2導電性領域とを含み、前記第1導電性領域は前記第1貫通ビアに接続される請求項1に記載の発光装置。
- さらに、前記基板と前記発光構造体との間に導電性基板を含む請求項1に記載の発光装置。
- 前記導電性基板は、一部にドーピングされた領域を有する請求項6に記載の発光装置。
- 前記第2クラッド層は、前記ドーピングされた領域に接続されている請求項7に記載の発光装置。
- 前記ドーピングされた領域は、ワイヤによって前記第2貫通ビアに電気的に接続されている請求項7に記載の発光装置。
- 前記導電性基板は、内部を貫通する第3貫通ビアを含む請求項6に記載の発光装置。
- 前記第3貫通ビアは、前記第1貫通ビアに接続される請求項10に記載の発光装置。
- 前記発光構造体は、少なくとも前記第1クラッド層の連続する部分を提供し、少なくとも前記第2クラッド層及び前記活性層は分離させる少なくとも一つの溝を有し、前記溝の一部は、前記発光構造体のメジャ部分を規定し、前記溝の他の部分は、前記発光構造体のマイナ部分を規定する請求項1に記載の発光装置。
- 前記絶縁された貫通ビアコンタクトは、前記発光構造体のマイナ部分の前記第2クラッド層から前記第1クラッド層へ貫通している請求項12に記載の発光装置。
- 前記発光構造体は、一つの傾斜した側面を有する請求項1に記載の発光装置。
- 前記発光構造体がカプセル化されている請求項1に記載の発光装置。
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