JP2013237228A - 液体吐出ヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板と、液体を吐出するエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出する吐出口を形成するオリフィスプレートと、を有する液体吐出ヘッドであって、前記オリフィスプレートは、ケイ素及び炭素を含有し、ケイ素の含有割合をX(atom%)、炭素の含有割合をY(atom%)としたときに、Y/Xが0.001以上であることを特徴とする液体吐出ヘッド。
【選択図】 図1
Description
実施例1〜8の液体吐出ヘッドの製造方法を、図3を用いて説明する。
オリフィスプレート3となる層を、酸化ケイ素(SiO)、窒化ケイ素(SiN)をプラズマCVD法によって成膜することで形成した。成膜した酸化ケイ素及び窒化ケイ素の厚み、即ちオリフィスプレートの厚みは、1μm〜15μmの範囲とした。これ以外は実施例と同様にして、表2に示す比較例1−1〜比較例1−6、比較例2−1〜比較例2−6の液体吐出ヘッドを製造した。
製造した液体吐出ヘッドを、pH8.5の顔料インク(70℃)に1カ月浸漬し、オリフィスプレート及び吐出口の形状を顕微鏡にて観察し、以下の基準で評価を行った。
1 オリフィスプレートの変形はほとんど見られない。
2 オリフィスプレートの変形が見られる。
3 オリフィスプレートの全部或いは大半が消失している。
1 吐出口の変形はほとんど見られない。
2 吐出口の変形がわずかに見られる。
3 吐出口の形状が存在しない程度に変形している。
基本的には実施例5−4と同様であるが、実施例9では、保護膜11としてプラズマCVD法によって付与された炭窒化ケイ素からなる厚さ0.5μmの膜を用いた。炭窒化ケイ素の組成は、後の工程で形成するオリフィスプレートと同じとした。また、型材24として、膜厚2μm〜23μmの酸化ケイ素膜を用いた。まず、基板上に酸化ケイ素をプラズマCVD方によって付与し、付与した酸化ケイ素膜上に、感光性樹脂からなるレジストを塗布し、レジストを露光、現像してマスクとした。さらにマスクとしたレジストを用いてRIEによって酸化ケイ素膜にエッチングを行い、流路の型となる型材24とした。型材24の除去は、バッファードフッ酸(BHF)にて行った。これ以外は実施例5−4と同様にした。
Claims (9)
- 基板と、液体を吐出するエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出する吐出口を形成するオリフィスプレートと、を有する液体吐出ヘッドであって、
前記オリフィスプレートは、ケイ素及び炭素を含有し、ケイ素の含有割合をX(atom%)、炭素の含有割合をY(atom%)としたときに、Y/Xが0.001以上であることを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記Y/Xが0.01以上である請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記Y/Xが0.05以上である請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記Y/Xが0.1以上である請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記オリフィスプレートは窒素を含有している請求項1〜4のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記エネルギー発生素子は保護膜で覆われており、該保護膜は炭窒化ケイ素を含有している請求項1〜5のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記オリフィスプレートは炭窒化ケイ素を含有しており、前記オリフィスプレートが含有する炭窒化ケイ素と前記保護膜が含有する炭窒化ケイ素とは同じ組成である請求項6に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記オリフィスプレートはプラズマCVD法で形成されたものである請求項1〜7のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 基板と、液体を吐出する吐出口を形成するオリフィスプレートと、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
基板上に、液体の流路の型となる型材を形成する工程と、
前記型材を覆うようにケイ素及び炭素を含有する層を形成する工程と、
前記ケイ素及び炭素を含有する層に吐出口を形成し、オリフィスプレートとする工程と、
前記型材を除去し、液体の流路を形成する工程と、を有し、
前記オリフィスプレートは、ケイ素及び炭素を含有し、ケイ素の含有割合をX(atom%)、炭素の含有割合をY(atom%)としたときに、Y/Xが0.001以上であることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
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