JP2009078439A - 圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド - Google Patents
圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009078439A JP2009078439A JP2007248934A JP2007248934A JP2009078439A JP 2009078439 A JP2009078439 A JP 2009078439A JP 2007248934 A JP2007248934 A JP 2007248934A JP 2007248934 A JP2007248934 A JP 2007248934A JP 2009078439 A JP2009078439 A JP 2009078439A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piezoelectric
- film
- piezoelectric film
- active portion
- upper electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 72
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 38
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 31
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 175
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【解決手段】圧電膜24の活性部の周縁において電界が活性部の外周にいくに従って低下する構造とした。例えば、圧電膜24の活性部の周縁上に、内側にいくに従って膜厚が漸減する形状を有する絶縁膜25を形成した。圧電膜24の活性部の周縁の膜厚が外側にいくに従って漸増する形状、上部電極26の周縁の膜厚が外側にいくに従って漸減する形状、または、上部電極26の周縁をメッシュ状としてもよい。
【選択図】図2
Description
図2は、第1実施形態に係る液体吐出ヘッドの一例の要部を示す断面図である。
図9は、第2実施形態に係る液体吐出ヘッドの一例の要部を示す断面図である。
図15は、第3実施形態に係る液体吐出ヘッドの一例の要部を示す断面図である。
図22は、画像形成装置110の一例の全体構成図である。
Claims (12)
- 下部電極と、
前記下部電極上に形成されている圧電膜と、
前記圧電膜上に形成されている上部電極と、
を備え、
前記圧電膜の活性部の周縁において電界が前記活性部の外周にいくに従って低下する構造であることを特徴とする圧電アクチュエータ。 - 少なくとも前記圧電膜の活性部の周縁上に絶縁膜が形成され、該絶縁膜は前記圧電膜の活性部の内側にいくに従って膜厚が漸減する形状を有することを特徴とする請求項1に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記絶縁膜は、前記圧電膜の側面も覆っていることを特徴とする請求項2に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記圧電膜の活性部の周縁は、前記活性部の外周にいくに従って膜厚が漸増する形状を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記上部電極は、前記圧電膜の活性部の周縁近傍の膜圧が前記活性部の外周にいくに従って漸減する形状を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記上部電極は、前記圧電膜の活性部の周縁近傍の形状がメッシュ状であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の圧電アクチュエータ。
- 請求項1乃至6の何れか1項に記載の圧電アクチュエータを備えたことを特徴とする液体吐出ヘッド。
- 請求項7に記載の液体吐出ヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。
- 基板上に、下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、圧電膜を形成する工程と、
少なくとも前記圧電膜の活性部の周縁上に、前記活性部の内側にいくに従って膜厚が漸減する形状を有する絶縁膜を形成する工程と、
前記圧電膜上に、上部電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。 - 基板上に、下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、外周にいくに従って膜厚が漸増する圧電膜を形成する工程と、
前記圧電膜上に、上部電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。 - 基板上に、下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、圧電膜を形成する工程と、
前記圧電膜上に、前記圧電膜の活性部の周縁近傍の膜圧が前記活性部の外周にいくに従って漸減する形状を有する上部電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。 - 基板上に、下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、圧電膜を形成する工程と、
前記圧電膜上に、前記圧電膜の活性部の周縁近傍の形状がメッシュ状の上部電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007248934A JP5183138B2 (ja) | 2007-09-26 | 2007-09-26 | 圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007248934A JP5183138B2 (ja) | 2007-09-26 | 2007-09-26 | 圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009078439A true JP2009078439A (ja) | 2009-04-16 |
JP5183138B2 JP5183138B2 (ja) | 2013-04-17 |
Family
ID=40653572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007248934A Active JP5183138B2 (ja) | 2007-09-26 | 2007-09-26 | 圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5183138B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011059039A (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-24 | Panasonic Corp | センサ部品およびその製造方法 |
JP2012038808A (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Seiko Epson Corp | 圧電素子の製造方法および液滴噴射ヘッドの製造方法 |
JP2013237228A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
US8801152B2 (en) | 2009-08-21 | 2014-08-12 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric element, piezoelectric actuator, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and method for producing piezoelectric element |
JP5800710B2 (ja) * | 2009-08-06 | 2015-10-28 | 株式会社アルバック | 圧電素子の製造方法 |
WO2020144850A1 (ja) * | 2019-01-11 | 2020-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェット記録方法 |
JP7452100B2 (ja) | 2020-03-02 | 2024-03-19 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッド、アクチュエーター、液体吐出装置、および、液体吐出ヘッドの製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0715799A (ja) * | 1993-04-12 | 1995-01-17 | Acuson Corp | サイドローブを減少した超音波トランスジューサ及びその製造方法 |
JPH07322396A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-08 | Hewlett Packard Co <Hp> | 音響波送受信装置 |
JPH08289397A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波探触子用の圧電素子 |
JPH11207957A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-03 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2004221156A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電体の分極方法 |
JP2005050830A (ja) * | 2002-07-12 | 2005-02-24 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪膜型素子、及びその製造方法 |
JP2005159717A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 圧電振動子とその製造方法 |
JP2006114619A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | フライホイールダイオード |
JP2007210331A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットヘッドの圧電アクチュエータの形成方法 |
-
2007
- 2007-09-26 JP JP2007248934A patent/JP5183138B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0715799A (ja) * | 1993-04-12 | 1995-01-17 | Acuson Corp | サイドローブを減少した超音波トランスジューサ及びその製造方法 |
JPH07322396A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-08 | Hewlett Packard Co <Hp> | 音響波送受信装置 |
JPH08289397A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波探触子用の圧電素子 |
JPH11207957A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-03 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2005050830A (ja) * | 2002-07-12 | 2005-02-24 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪膜型素子、及びその製造方法 |
JP2004221156A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電体の分極方法 |
JP2005159717A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 圧電振動子とその製造方法 |
JP2006114619A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | フライホイールダイオード |
JP2007210331A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットヘッドの圧電アクチュエータの形成方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5800710B2 (ja) * | 2009-08-06 | 2015-10-28 | 株式会社アルバック | 圧電素子の製造方法 |
US8801152B2 (en) | 2009-08-21 | 2014-08-12 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric element, piezoelectric actuator, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and method for producing piezoelectric element |
JP2011059039A (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-24 | Panasonic Corp | センサ部品およびその製造方法 |
JP2012038808A (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Seiko Epson Corp | 圧電素子の製造方法および液滴噴射ヘッドの製造方法 |
JP2013237228A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
WO2020144850A1 (ja) * | 2019-01-11 | 2020-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェット記録方法 |
JPWO2020144850A1 (ja) * | 2019-01-11 | 2021-11-25 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェット記録方法 |
JP7188456B2 (ja) | 2019-01-11 | 2022-12-13 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェット記録方法 |
US11845277B2 (en) | 2019-01-11 | 2023-12-19 | Konica Minolta, Inc. | Inkjet head, method of manufacturing inkjet head, and inkjet recording method |
JP7452100B2 (ja) | 2020-03-02 | 2024-03-19 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッド、アクチュエーター、液体吐出装置、および、液体吐出ヘッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5183138B2 (ja) | 2013-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4911669B2 (ja) | 圧電アクチュエータ、液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド並びに画像形成装置 | |
JP5183138B2 (ja) | 圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド | |
US7887163B2 (en) | Piezoelectric actuator, liquid ejection head, image forming apparatus, and method of manufacturing piezoelectric actuator | |
JP5031428B2 (ja) | 圧電アクチュエータの製造方法 | |
JP2009239208A (ja) | 圧電アクチュエータの製造方法及び液体吐出ヘッド | |
JP5063892B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP5207546B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置 | |
JP5559975B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置 | |
US7533972B2 (en) | Inkjet head and manufacturing method thereof | |
US7571991B2 (en) | Liquid ejection head and manufacturing method thereof | |
JP2007251056A (ja) | 圧電アクチュエータの製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法、画像形成装置の製造方法、圧電アクチュエータ構造体、液体吐出ヘッドおよび画像形装置 | |
US20100201755A1 (en) | Liquid ejection head, liquid ejection apparatus and image forming apparatus | |
US7946681B2 (en) | Nozzle plate, ink ejection head, and image forming apparatus | |
US7575307B2 (en) | Liquid ejection head, method of manufacturing same, and image forming apparatus | |
JP2009083140A (ja) | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP2008246789A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、画像形成装置、及び圧電素子の製造方法 | |
JP4351639B2 (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
US7524039B2 (en) | Liquid ejection head and image forming apparatus | |
US8266773B2 (en) | Method of manufacturing a piezoelectric actuator | |
JP2007216655A (ja) | ノズルプレートの製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法並びにノズルプレート、液滴吐出ヘッド及び画像形成装置 | |
JP2007090647A (ja) | 液体吐出ヘッド | |
JP2007283729A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置 | |
JP4933765B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2009233995A (ja) | ノズルプレート及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121012 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121211 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130115 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5183138 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |