JP2010045189A - 半導体ウエハの保護テープ貼付け方法およびその装置 - Google Patents

半導体ウエハの保護テープ貼付け方法およびその装置 Download PDF

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Abstract

【課題】回路パターンが形成された半導体ウエハの表面に保護テープを貼付けるに際して、貼付けられた保護テープの表面を扁平にして半導体ウエハ裏面の研削加工に移行することができるようにする。
【解決手段】半導体ウエハ表面の上方に保護テープを供給し、貼付けローラで押圧しながら転動移動させて半導体ウエハの表面に当該保護テープを貼付け、貼付けられた保護テープを半導体ウエハの外周に沿って切断する。その後に加圧部材32で保護テープを表面から加圧し、その表面を扁平化する。
【選択図】図8

Description

本発明は、回路パターン形成処理を施した半導体ウエハの表面に保護テープを貼付ける半導体ウエハの保護テープ貼付け方法およびその装置に関する。
半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という)からチップ部品の製造は、次の手順で行われる。ウエハ表面に回路パターンを形成処理し、ウエハ表面に保護テープを貼付ける。その後、ウエハ裏面を研削加工(バックグラインド)して薄型化する。薄型加工されたウエハは、ダイシングテープを介してリングフレームに貼付け保持される。その後、ウエハ表面の保護テープが剥離されてダイシング工程に送られる。
ウエハ表面に保護テープを貼付ける手段としては、表面を上向きにしてチャックテーブルに吸着保持されたウエハの上方に、粘着面を下向きにした帯状の保護テープを供給した後、貼付けローラを転動移動させて保護テープをウエハ表面に貼付ける。次に、テープ切断機構のカッタ刃を保護テープに突き刺してウエハ外周に沿って移動させることにより、貼付けた保護テープをウエハ外形に沿って切断する。その後、ウエハ外形に沿って切り抜かれた不要テープ部分を巻取り回収する手段が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2005−116711号公報
しかしながら、従来の手段では、次のような問題がある。すなわち、図8(a)に示すように、回路パターンが形成されたウエハWの表面にはバンプなどの隆起部rが存在しており、このような表面状態のウエハ表面に保護テープTを貼付けると、図8(b)に示すように、保護テープTを構成する基材taが粘着層tbの形状に追随して、テープ表面がウエハ表面の隆起に対応して凹凸変形することがある。
また、近年の高密度実装に伴ってウエハWが一層に薄型化される傾向にあるので、保護テープTの表面の凹凸が形成されたウエハWの裏面を研削加工すると、この凹凸の影響により研削量むらが裏面側に顕著に発生するようになり、ウエハの厚さが不均一になるといった問題がある。
さらに、保護テープ貼付け時に保護テープとウエハの接着界面に気泡が巻き込まれていた場合、後工程の裏面研削などでウエハが加熱されると、その熱の影響によって、気泡が熱膨張する。このとき、界面で熱膨張した気泡の押圧力は、薄型化されて剛性の低下したウエハ側に作用する傾向にあり、ウエハを破損させるといった問題がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、貼付けられた保護テープの表面を扁平化して裏面研削されたウエハ厚みを均一にする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法およびその装置を提供することを主たる目的する。
第1の発明は、回路パターンが形成された半導体ウエハの表面に保護テープを貼付ける半導体ウエハの保護テープ貼付け方法であって、
貼付け部材を移動させながら押圧しつつ保護テープを半導体ウエハの表面に貼付けてゆくテープ貼付け過程と、
半導体ウエハに貼付けられた保護テープの表面から加圧部材で押圧するテープ加圧過程と、
を含むことを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、保護テープの貼付け時にウエハ表面の凹凸が保護テープ表面に形成されたとしても、加圧部材による加圧処理によって保護テープの表面を扁平にすることができる。したがって、その後のウエハ裏面の研削加工において均一な厚さに半導体ウエハを研削することができる。
また、保護テープとウエハの接着界面に巻き込まれた気泡が、加圧部材の加圧により細かく潰され、粘着層内に分散される。したがって、後工程の裏面研削などによってウエハが加熱されたとしも、気泡の膨張率が小さくウエハの破損を抑制することができる。
第2の発明は、上記第1の発明において、
前記テープ加圧過程において、押圧面が扁平に形成されたプレート状の加圧部材で保護テープを全面的に押圧することを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、保護テープの全面を加圧して速やかに扁平処理することができる。
第3の発明は、上記第2の発明において、
前記テープ加圧過程において、押圧面が弾性材で被覆された加圧部材で保護テープ全面を押圧することを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、押圧による過剰なストレスを付与することなく保護テープの全面が加圧される。したがって、ウエハへの押圧によるストレスも軽減され、ウエハの破損を抑制することができる。
第4の発明は、上記第2または3の発明において、
前記テープ加圧過程において、自在支点を介してプレート状の加圧部材で保護テープ全面を押圧することを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、加圧部材が自在支点によって傾動自在とされる。つまり、保護テープの表面と加圧プレートを押し付けることで、加圧プレートを保護テープの表面姿勢に沿って傾動させることができる。したがって、保護テープの表面と加圧プレートの加圧面の平行度が多少異なっていても、加圧プレートを保護テープ表面に全面的に馴染ませて均一に加圧することができる。
なお、テープ加圧過程では、次のようにして保護テープを加圧してもよい。例えば、ローラ状の加圧部材を押圧しつつ転動移動させて保護テープを押圧する(請求項5)。また、板状の加圧部材のエッジを押圧しつつ摺接移動(請求項6)または旋回移動(請求項7)させて保護テープを押圧する。さらに、押圧面が下向きの湾曲面を備えた加圧部材を揺動させつつ保護テープ全面を押圧する(請求項8)。
また、上記方法発明は、テープ加圧過程において、保護テープを加温することが好ましい。
(作用・効果) この方法によれば、保護テープの基材および粘着層を適度に加温軟化させて、保護テープ表面を良好に加圧扁平することができる。
第10の発明は、回路パターンが形成された半導体ウエハの表面に保護テープを貼付ける半導体ウエハの保護テープ貼付け装置であって、
半導体ウエハを載置保持する保持テーブルと、
保持された前記半導体ウエハ表面の上方に保護テープを供給するテープ供給手段と、
貼付けローラを転動させて保護テープを半導体ウエハの表面に貼付けてゆく貼付けユニットと、
貼付けられた前記保護テープを半導体ウエハの外周に沿って移動するカッタ刃で切断するテープ切断機構と、
半導体ウエハの外周からはみ出ている不要な保護テープを取り除いて回収する不要テープ回収手段と、
半導体ウエハに貼付けられた保護テープを加圧部材で加圧するテープ加圧ユニットと、
を備えてあることを特徴とする。
(作用・効果) この構成によれば、上記第1の発明方法を好適に実行することができる。
第11の発明は、上記第10の発明において、
前記テープ加圧ユニットを、独立した別付けのユニットに構成したことを特徴とする。
(作用・効果) この構成によれば、既存の保護テープ貼付け装置を容易に改造して、テープ変形処理が可能な保護テープ貼付け装置を得ることができる。
第12の発明は、上記第10または11の発明において、
前記テープ加圧ユニットの加圧部材を、貼付けられた保護テープの全面に接触して加圧する昇降自在な加圧プレートで構成したことを特徴とする。
(作用・効果) この構成によれば、加圧プレートを保護テープの全面に押圧接触させることで、保護テープ表面を全体的に加圧して速やかに扁平化することができる。
第13の発明は、上記第10ないし12の発明において、
前記加圧プレートを、自在支点を介して全方向へ傾動可能に構成したことを特徴とする。
(作用・効果) この構成によれば、保護テープの表面と加圧プレートを押し付けることで、加圧プレートを保護テープの表面姿勢に沿って傾動させることができる。したがって、保護テープの表面と加圧プレートの加圧面の平行度が多少異なっていても、加圧プレートを保護テープ表面に全面的に馴染ませて均一に加圧することができる。
第14の発明は、上記第10ないし13のいずれかの発明において、
前記加圧部材にヒータを装備してあるものである。
(作用・効果) この構成によると、保護テープの基材および粘着層を適度に加温軟化させて、保護テープ表面を良好に加圧扁平することができる。
以上のように本発明の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法およびその装置によると、半導体ウエハの表面に貼付けた保護テープの表面を扁平にしてウエハ裏面の研削加工に送り込み、均一な厚さに半導体ウエハを研削することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
図1は、保護テープ貼付け装置の全体構成を示す斜視図である。
この保護テープ貼付け装置は、半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という)Wを収納したカセットCが装填されるウエハ供給/回収部1、ロボットアーム2を備えたウエハ搬送機構3、アライメントステージ4、ウエハWを載置して吸着保持するチャックテーブル5、ウエハWの上方に向けて保護テープTを供給するテープ供給部6、テープ供給部6から供給されたセパレータ付きの保護テープTからセパレータsを剥離回収するセパレータ回収部7、チャックテーブル5に載置されて吸着保持されたウエハWに保護テープTを貼付ける貼付けユニット8、ウエハWに貼付けられた保護テープTをウエハWの外形に沿って切り抜き切断するテープ切断機構9、ウエハWに貼付けて切断処理した後の不要テープT’を剥離する剥離ユニット10、剥離ユニット10で剥離された不要テープT’を巻き取り回収するテープ回収部11、ウエハWに貼付けられた保護テープTの表面を扁平化処理するテープ加圧ユニット30などが備えられている。以下、上記各構造部および機構についての具体的な構成を説明する。
ウエハ供給/回収部1には2台のカセットCが並列して載置される。各カセットCには、多数枚のウエハWが回路パターン面(表面)を上向きにした水平姿勢で多段に差込み収納されている。
ウエハ搬送機構3に備えられたロボットアーム2は、図2に示すように、水平に進退移動可能に構成されるとともに、全体が駆動旋回および昇降可能となっている。そして、ロボットアーム2の先端には、馬蹄形をした真空吸着式のウエハ保持部2aが備えられている。ウエハ保持部2aがカセットCに多段に収納されたウエハW同士の間隙にウエハ保持部2aを差し入れられ、ウエハWを裏面から吸着保持する。吸着保持したウエハWは、カセットCから引き出されて、アライメントステージ4、チャックテーブル5、および、ウエハ供給/回収部1の順に搬送されるようになっている。
アライメントステージ4は、ウエハ搬送機構3によって搬入載置されたウエハWを、その外周に形成されたノッチやオリエンテーションフラットに基づいて位置合わせを行うようになっている。
テープ供給部6は、図4に示すように、供給ボビン14から繰り出されたセパレータ付きの保護テープTをガイドローラ15群に巻回案内し、セパレータsを剥離した保護テープTを貼付けユニット8に導くよう構成されている。また、供給ボビン14に適度の回転抵抗を与えて過剰なテープ繰り出しが行われないように構成されている。
セパレータ回収部7は、保護テープTから剥離されたセパレータsを巻き取る回収ボビン16が巻き取り方向に回転駆動されるようになっている。
貼付けユニット8には貼付けローラ17が前向き水平に備えられており、図2に示すように、スライド案内機構18およびネジ送り式の駆動機構21によって図中の左右水平に往復駆動されるようになっている。
剥離ユニット10には剥離ローラ19が前向き水平に備えられており、スライド案内機構18およびネジ送り式の駆動機構22によって図中の左右水平に往復駆動されるようになっている。
テープ回収部11は、不要テープT’を巻き取る回収ボビン20が巻き取り方向に回転駆動されるようになっている。
テープ切断機構9は、刃先を下向きにしたカッタ刃12を、昇降自在、および、チャックテーブル5の中心を通る縦軸心X周りに旋回移動可能に装備して構成されている。
テープ加圧ユニット30は、図1に示すように、ウエハ搬送機構3の横側脇(図においては左脇)に配備されている。図3に示すように、このテープ加圧ユニット30には、保護テープ貼付け処理の済んだウエハWを、保護テープTを上向きにした水平姿勢で載置して真空吸着保持する保持テーブル31、保持テーブル31に載置されたウエハWの保護テープ上に押圧される加圧部材としての加圧プレート32、前後方向(図中の左右)に水平走査してウエハWにおける保護テープTの表面扁平度を測定するレーザセンサ利用のラインセンサ33などが装備されている。なお、テープ加圧ユニット30は、別ユニットとして構成されている。
保持テーブル31にはヒータ34が組み込まれており、載置したウエハWおよび貼付けられた保護テープTが適度に加温されるようになっている。
加圧プレート32は、縦枠35に沿ってネジ送り昇降制御される可動台36に支持アーム37を介して連結支持されている。加圧プレート32の下面は、ウエハWの表面を覆う大きさで、かつ、扁平な加圧面に形成されており、加圧面と保持テーブル31の表面との平行度が高精度で確保されている。また、加圧プレート32にはヒータ38が組み込まれている。
次に、上記実施例装置を用いて保護テープTをウエハWの表面に貼付けて切断する一連の動作を図4〜図7に基づいて説明する。
貼付け指令が出されると、先ず、ウエハ搬送機構3におけるロボットアーム2がカセット台12に載置装填されたカセットCに向けて移動され、ウエハ保持部2aがカセットCに収容されているウエハ同士の隙間に挿入される。その後、ウエハ保持部2aでウエハWを裏面(下面)から吸着保持して搬出し、取り出したウエハWをアライメントステージ4に移載する。
アライメントステージ4に載置されたウエハWは、ウエハWの外周に形成されているノッチを利用して位置合わせされる。位置合わせのすんだウエハWは再びロボットアーム2によって搬出されてチャックテーブル5に載置される。
チャックテーブル5に載置されたウエハWは、その中心がチャックテーブル5の中心上にあるように位置合わせされた状態で吸着保持される。このとき、図4に示すように、貼付けユニット8と剥離ユニット10は右側の待機位置に、また、テープ切断機構9のカッタ刃12は上方の待機位置にある。
次に、図4中の仮想線で示すように、貼付けユニット8の貼付けローラ17が下降されるとともに、この貼付けローラ17で保護テープTを下方に押圧しながらウエハW上を前方(図4では左方向)に転動する。これによって保護テープTがウエハWの表面全体およびチャックテーブル5におけるウエハ外側部に亘って貼付けられる。
図5に示すように、貼付けユニット8が終端位置に達すると、上方に待機していたカッタ刃12が下降されて、チャックテーブル5のカッタ走行溝13の部分にある保護テープTに突き刺される。
次に、図6に示すように、カッタ刃12がウエハ外周縁に摺接しながら旋回移動して保護テープTがウエハ外周に沿って切断される。
ウエハ外周に沿ったテープ切断が終了すると、図7に示すように、カッタ刃12は元の待機位置まで上昇される。次いで、剥離ユニット10が前方へ移動しながらウエハW上で切り抜き切断されてチャックテーブル5におけるウエハ外側部に貼付けられている不要テープT’をめくり上げ剥離してゆく。
剥離ユニット10が剥離完了位置に到達すると、剥離ユニット10と貼付けユニット8は後退移動して待機位置に復帰する。このとき、不要テープT’が回収ボビン20に巻き取られるとともに、一定量の保護テープTがテープ供給部6から繰り出される。
上記したテープ貼付け作動が終了すると、チャックテーブル5における吸着が解除された後、貼付け処理のすんだウエハWはロボットアーム2のウエハ保持部2aに移載されてテープ加圧ユニット30に送り込まれる。
テープ加圧ユニット30に供給されたウエハWは保護テープTを上面にした姿勢で保持テーブル31に載置されて吸着保持される。
次に、図3に示すように、上方に退避していた可動台36が下降され、加圧プレート32が保護テープTの上面に所定の圧力で押圧される。ここで、可動台36が所定位置まで下降して固定検出片39に接近したことがリミットセンサ40で検知されると下降が停止され、所定時間に亘って加温状態での加圧が維持される。加圧プレート32の下降停止高さは、ウエハWの厚さ、保護テープの厚さ、および、粘着層tbの厚さに対応して予め設定され、図8(d)に示すように、保護テープTの基材taがウエハ上の隆起部rに接近するまで加圧される。これによって、樹脂からなる基材taが変形され、保護テープTの表面が扁平に修正される。
なお、加圧扁平化処理に際して、保護テープTの種類や厚さなどに応じて加圧プレート32をヒータ38で加温するとともに、保持テーブル31をヒータ34で加温する。
所定の加圧扁平化処理が終了すると、図8(e)に示すように、加圧プレート32は上昇退避され、その後、ラインセンサ33が走査作動して、保護テープTにおける表面の扁平度が計測される。測定された扁平度が許容範囲内であれば、ウエハWはロボットアーム2で搬出されてウエハ供給/回収部1のカセットCに差込み回収される。
測定された扁平度が許容範囲から外れていれば、再度のテープ扁平化処理を行うか、あるいは、不良品として搬出する。
以上で1回のテープ貼付け処理が完了し、以後、新しいウエハの搬入に対応して上記作動を順次繰返してゆく。
なお、加圧プレート32の押し付けによって保護テープTが加圧プレート32に強く密着して張り付いてしまうおそれがあるので、加圧プレート32の加圧面を離型処理したり、加圧プレート32を通気可能な多孔質材で構成したりする。つまり、プレート上昇退避時に加圧プレート32の加圧面から空気を噴出させて保護テープTから容易に分離するようにしてもよい。
上述のように、保護テープTをウエハWの表面に貼付けた後に、加圧プレート32で保護テープTを加圧して扁平化処理することにより、ウエハ厚みが均一にされる。したがって、後工程の裏面研削においてウエハWを均一に研削することができる。
また、保護テープTの貼付け時に保護テープTとウエハWの接着界面に巻き込まれた気泡が押圧されて潰され、粘着層tb内に分散される。したがって、後工程の裏面研削などによってウエハWが加熱されたとしも、気泡の膨張率が小さくウエハの破損を抑制することができる。
本発明においては、前記テープ加圧ユニットを以下のような形態にして実施することも可能である。
(1)図9に示すように、加圧プレート32を支持アーム37に自在支点41を介して連結し、全方向において所定の小範囲で傾動自在に構成してもよい。この構成によれば、加圧プレート32の下面を保護テープTの表面の傾動に追従させて均一に加圧することができる。
(2)図10に示すように、加圧プレート32の加圧面の全面を、比較的小さい外力で変形可能な弾性材としての凹凸付きの板バネ42で構成してもよい。例えば、数ミリ程度の小径な板バネを加圧面に2次元アレー状に配備して構成する。この構成によれば、保護テープTに押し付けられることで板バネ42が扁平に弾性変形するようにして実施することもできる。
(3)図11に示すように、テープ加圧ユニットを真空チャンバー43で覆い、真空雰囲気内で加圧扁平処理を行うよう構成してもよい。この構成によれば、ウエハWと保護テープTとの間に巻き込まれた空気や、保護テープTの粘着層tbに混入している気泡などを除去してテープ表面の扁平化を促進することができる。なお、図11中の44は抜気口、45は外気流入口、46は開閉可能なウエハ出入り口である。
(4)図12に示すように、保護テープT上を転動移動させる加圧ローラ32を加圧扁平処理用の加圧部材とすることもできる。この場合、必要に応じて加圧ローラにヒータを内臓してもよい。
この場合、保護テープTの貼付け方向と交差する方向から加圧ローラを転動移動させることが好ましい。
この構成によれば、保護テープTの基材taが四方に延伸されるので、より均一な扁平面となる。
(5)図13に示すように、加圧扁平処理用の加圧部材として、保護テープT上を摺接移動する加圧ブレード32を利用することもできる。この場合、保護テープTの貼付け方向と交差する方向から加圧ブレードを摺接移動させることが好ましい。
この構成によれば、保護テープTの基材taが四方に延伸されるので、より均一な扁平面となる。
(6)図14に示すように、加圧扁平処理用の加圧部材32として、保護テープT上を旋回させつつ摺接移動させる加圧ブレードを利用することもできる。
(7)図15に示すように、少なくともウエハWの直径以上の接触面積を有する下向き湾曲面を備えた加圧部材32で保護テープTを加圧しつつ揺動させる形態で実施することもできる。
(8)上記実施例では、テープ加圧ユニット30を別ユニットとして構成して、テープ貼付け装置の主部に付設した構造としているが、テープ貼付け装置の主部にテープ加圧ユニット30を組み込んだ形態で実施するもよい。特には、チャックテーブル5に保持したままで加圧扁平処理できるように構成することも可能である。
(9)上記実施例では、加圧部材32の加圧面にロードセルを設置した構成であってもよい。つまり、加圧部材32による押圧力を逐次に検出し、当該検出結果を制御部にフィードバックさせて保護テープTの加圧をコントロールする。
この構成によれば、適正な押圧力を保護テープTに付与することができ、ウエハWの破損を抑制することができる。
保護テープ貼付け装置の全体斜視図である。 保護テープ貼付け装置の平面図である。 テープ加圧ユニットの側面図である。 保護テープ貼付け工程を示す正面図である。 保護テープ貼付け工程を示す正面図である。 保護テープ貼付け工程を示す正面図である。 保護テープ貼付け工程を示す正面図である。 保護テープの貼付けからテープ扁平処理までの過程を示す模式図である。 テープ加圧ユニットの別実施例を示す側面図である。 テープ加圧ユニットの別実施例を示す側面図である。 テープ加圧ユニットの別実施例を示す側面図である。 テープ扁平処理の別の実施形態を示す斜視図である。 テープ扁平処理の別の実施形態を示す斜視図である。 テープ扁平処理の別の実施形態を示す斜視図である。 テープ扁平処理の別の実施形態を示す側面図である。
符号の説明
5 … チャックテーブル
12 … カッタ刃
17 … 貼付けローラ
30 … テープ加圧ユニット
32 … 加圧部材
38 … ヒータ
41 … 自在支点
T … 保護テープ
W … 半導体ウエハ

Claims (14)

  1. 回路パターンが形成された半導体ウエハの表面に保護テープを貼付ける半導体ウエハの保護テープ貼付け方法であって、
    貼付け部材を移動させながら押圧しつつ保護テープを半導体ウエハの表面に貼付けてゆくテープ貼付け過程と、
    半導体ウエハに貼付けられた保護テープの表面から加圧部材で押圧するテープ加圧過程と、
    を含むことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  2. 請求項1に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、押圧面が扁平に形成されたプレート状の加圧部材で保護テープ全面を押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  3. 請求項2に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、押圧面が弾性材で被覆された加圧部材で保護テープ全面を押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  4. 請求項2または請求項3に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、自在支点を介してプレート状の加圧部材で保護テープ全面を押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  5. 請求項1に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、ローラ状の加圧部材を押圧しつつ転動移動させて保護テープを押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  6. 請求項1に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、板状の加圧部材のエッジを押圧しつつ摺接移動させて保護テープを押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  7. 請求項1に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、板状の加圧部材のエッジを押圧しつつ半導体ウエハの中心周りに旋回移動させて保護テープを押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  8. 請求項1に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、押圧面が下向きの湾曲面を備えた加圧部材を揺動させつつ保護テープ全面を押圧する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  9. 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け方法において、
    前記テープ加圧過程において、前記保護テープを加温する
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け方法。
  10. 回路パターンが形成された半導体ウエハの表面に保護テープを貼付ける半導体ウエハの保護テープ貼付け装置であって、
    半導体ウエハを載置保持する保持テーブルと、
    保持された前記半導体ウエハ表面の上方に保護テープを供給するテープ供給手段と、
    貼付けローラを転動させて保護テープを半導体ウエハの表面に貼付けてゆく貼付けユニットと、
    貼付けられた前記保護テープを半導体ウエハの外周に沿って移動するカッタ刃で切断するテープ切断機構と、
    半導体ウエハの外周からはみ出ている不要な保護テープを取り除いて回収する不要テープ回収手段と、
    半導体ウエハに貼付けられた保護テープを加圧部材で加圧するテープ加圧ユニットと、
    を備えたことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け装置。
  11. 請求項10に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け装置において、
    前記テープ加圧ユニットを、独立した別付けのユニットに構成した
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け装置。
  12. 請求項10または請求項11に記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け装置において、
    前記テープ加圧ユニットの加圧部材を、貼付けられた保護テープの全面に接触して加圧する昇降可能な加圧プレートで構成した
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け装置。
  13. 請求項10ないし請求項12のいずれかに記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け装置において、
    前記加圧プレートを、自在支点を介して全方向へ傾動可能に構成した
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け装置。
  14. 請求項10ないし請求項13のいずれかに記載の半導体ウエハの保護テープ貼付け装置において、
    前記加圧部材にヒータを装備した
    ことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ貼付け装置。
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KR1020090073569A KR20100020432A (ko) 2008-08-12 2009-08-11 반도체 웨이퍼의 보호 테이프 부착 방법 및 그 장치
CN200910161381A CN101651089A (zh) 2008-08-12 2009-08-12 半导体晶圆的保护带粘贴方法及其装置

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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011222957A (ja) * 2010-03-26 2011-11-04 Mitsubishi Chemicals Corp 光電変換素子、太陽電池及び太陽電池モジュール
CN103028583A (zh) * 2011-09-28 2013-04-10 大日本网屏制造株式会社 基板处理装置以及基板处理方法
KR20140029312A (ko) 2012-08-31 2014-03-10 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 테이프 부착 방법 및 점착 테이프 부착 장치
JP2014519700A (ja) * 2011-05-11 2014-08-14 エリッヒ・タールナー 二枚のウェーハを接合するための方法及びデバイス
JP2014152287A (ja) * 2013-02-12 2014-08-25 Disco Abrasive Syst Ltd 粘着シートの貼着方法
JP2014225499A (ja) * 2013-05-15 2014-12-04 株式会社ディスコ 加工方法
JP2015079781A (ja) * 2013-10-15 2015-04-23 株式会社ディスコ テープ貼着方法
JP2015090938A (ja) * 2013-11-06 2015-05-11 リンテック株式会社 シート貼付装置及び貼付方法
JP2015126183A (ja) * 2013-12-27 2015-07-06 日東精機株式会社 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置
KR20170021202A (ko) 2015-08-17 2017-02-27 닛토덴코 가부시키가이샤 보호 테이프 부착 방법
JP2017079230A (ja) * 2015-10-19 2017-04-27 株式会社ディスコ ウエーハの研削方法
JP2017216275A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 株式会社ディスコ テープ貼着方法
US9870938B2 (en) 2012-09-07 2018-01-16 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor element producing method by flattening protective tape
JP2019033214A (ja) * 2017-08-09 2019-02-28 積水化学工業株式会社 半導体デバイスの製造方法
KR20210025034A (ko) * 2018-01-16 2021-03-08 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼를 처리하는 방법

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5543812B2 (ja) * 2010-03-23 2014-07-09 日東電工株式会社 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置
JP2012030922A (ja) * 2010-07-30 2012-02-16 Fujitsu Ltd 粘着テープ貼付装置および粘着テープ貼付方法
KR101327489B1 (ko) * 2013-05-29 2013-11-08 주식회사 알시스템 웨이퍼의 테이프 박리방법 및 박리장치
KR102264528B1 (ko) * 2014-05-26 2021-06-16 삼성전자주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법방법
JP6318033B2 (ja) * 2014-07-11 2018-04-25 株式会社ディスコ 研削装置及び保護テープ貼着方法
TWI721147B (zh) * 2016-04-04 2021-03-11 美商矽立科技有限公司 供集成微機電裝置用的設備及方法
CN108470692B (zh) * 2017-02-23 2023-08-18 日东电工株式会社 粘合带粘贴方法和粘合带粘贴装置
SG11202010427SA (en) * 2018-04-24 2020-11-27 Disco Hi Tec Europe Gmbh Device and method for attaching protective tape on semiconductor wafer
US11430677B2 (en) * 2018-10-30 2022-08-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer taping apparatus and method
TWI822982B (zh) * 2019-03-27 2023-11-21 日商三井化學東賽璐股份有限公司 貼附裝置
CN111489988A (zh) * 2020-03-27 2020-08-04 南通通富微电子有限公司 一种晶圆转帖设备
CN112687599B (zh) * 2020-12-24 2023-08-04 宁波凯驰胶带有限公司 一种芯片切割用平带及其安装结构
CN114783938B (zh) * 2022-03-09 2023-05-05 恩纳基智能科技无锡有限公司 一种能自动上下料的高精度贴装设备及其使用方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0745559A (ja) * 1993-07-26 1995-02-14 Furukawa Electric Co Ltd:The 半導体ウエハに粘着テープを接着する方法
JPH10116884A (ja) * 1996-10-11 1998-05-06 Teikoku Seiki Kk ウェハ保護テープ用カッター
JPH1197395A (ja) * 1997-09-16 1999-04-09 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法
JP2001148412A (ja) * 1999-11-19 2001-05-29 Takatori Corp 半導体ウエハへの保護テープ貼り付け方法及び装置
JP2003257898A (ja) * 2002-03-07 2003-09-12 Nitto Denko Corp 接着シート貼付方法およびその装置並びに半導体ウエハ処理方法
JP2007036153A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの保護テープ貼着方法および貼着装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6731391B1 (en) * 1998-05-13 2004-05-04 The Research Foundation Of State University Of New York Shadow moire surface measurement using Talbot effect
JP3770820B2 (ja) * 2001-10-03 2006-04-26 日東電工株式会社 保護テープの貼付け方法
JP4201564B2 (ja) * 2001-12-03 2008-12-24 日東電工株式会社 半導体ウエハ搬送方法およびこれを用いた半導体ウエハ搬送装置
JP3916553B2 (ja) * 2002-12-04 2007-05-16 日東電工株式会社 熱接着フィルム貼付方法およびその装置
JP4530638B2 (ja) * 2003-10-07 2010-08-25 日東電工株式会社 半導体ウエハへの保護テープ貼付方法及び貼付装置
JP4796430B2 (ja) * 2006-04-19 2011-10-19 株式会社ディスコ 保護テープ貼着方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0745559A (ja) * 1993-07-26 1995-02-14 Furukawa Electric Co Ltd:The 半導体ウエハに粘着テープを接着する方法
JPH10116884A (ja) * 1996-10-11 1998-05-06 Teikoku Seiki Kk ウェハ保護テープ用カッター
JPH1197395A (ja) * 1997-09-16 1999-04-09 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法
JP2001148412A (ja) * 1999-11-19 2001-05-29 Takatori Corp 半導体ウエハへの保護テープ貼り付け方法及び装置
JP2003257898A (ja) * 2002-03-07 2003-09-12 Nitto Denko Corp 接着シート貼付方法およびその装置並びに半導体ウエハ処理方法
JP2007036153A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの保護テープ貼着方法および貼着装置

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011222957A (ja) * 2010-03-26 2011-11-04 Mitsubishi Chemicals Corp 光電変換素子、太陽電池及び太陽電池モジュール
JP2014519700A (ja) * 2011-05-11 2014-08-14 エリッヒ・タールナー 二枚のウェーハを接合するための方法及びデバイス
CN103028583A (zh) * 2011-09-28 2013-04-10 大日本网屏制造株式会社 基板处理装置以及基板处理方法
KR20140029312A (ko) 2012-08-31 2014-03-10 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 테이프 부착 방법 및 점착 테이프 부착 장치
US9870938B2 (en) 2012-09-07 2018-01-16 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor element producing method by flattening protective tape
JP2014152287A (ja) * 2013-02-12 2014-08-25 Disco Abrasive Syst Ltd 粘着シートの貼着方法
JP2014225499A (ja) * 2013-05-15 2014-12-04 株式会社ディスコ 加工方法
JP2015079781A (ja) * 2013-10-15 2015-04-23 株式会社ディスコ テープ貼着方法
JP2015090938A (ja) * 2013-11-06 2015-05-11 リンテック株式会社 シート貼付装置及び貼付方法
JP2015126183A (ja) * 2013-12-27 2015-07-06 日東精機株式会社 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置
KR20150077338A (ko) 2013-12-27 2015-07-07 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 테이프 부착 방법 및 점착 테이프 부착 장치
KR102327469B1 (ko) * 2013-12-27 2021-11-16 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 테이프 부착 방법 및 점착 테이프 부착 장치
KR20170021202A (ko) 2015-08-17 2017-02-27 닛토덴코 가부시키가이샤 보호 테이프 부착 방법
JP2017079230A (ja) * 2015-10-19 2017-04-27 株式会社ディスコ ウエーハの研削方法
JP2017216275A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 株式会社ディスコ テープ貼着方法
JP2019033214A (ja) * 2017-08-09 2019-02-28 積水化学工業株式会社 半導体デバイスの製造方法
KR20210025034A (ko) * 2018-01-16 2021-03-08 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼를 처리하는 방법
KR102482627B1 (ko) 2018-01-16 2022-12-28 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼를 처리하는 방법
US11626324B2 (en) 2018-01-16 2023-04-11 Disco Corporation Method of processing a wafer

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