JP2009052147A5 - 型押し具、加工物の表面を構築する方法、および反射防止膜 - Google Patents

Description

上記目的は、請求項に記載の型押し具、又は加工物の表面を構築する方法によって達成される。

大変容易で且つ費用効率の良い提案された解決手段は、表面９を大変精密な構造にすることができる。したがって、応用の大変広範な領域がある。例えば、そのような特別に大変精密な構造化は、反射防止膜において、構築された表面の放射状態を変更するために、感覚分析において、触媒作用において、自己浄化表面において、また表面の湿潤化改善等において用いることができるものである。特に、提案された解決手段は、また上述した目的のために提案された型押し具１の使用によって構築された構造化表面９を有する加工物８の使用にまで拡張される。

Claims (13)

1. バルブ金属から形成された支持体の表面の少なくとも一部、または支持体の表面に設けられたバルブ金属から形成された表面層の少なくとも一部に形成された、陽極酸化によって生じた中空チャンバを有する被覆層を有する型押し面を備え、
   前記被覆層は、前記中空チャンバが１０〜５００ｎｍの平均直径（Ｄ）の開口を有する、且つ／又は前記型押し面の構造幅（Ｓ）が３０〜６００ｎｍである精密な構造を有し、
   前記中空チャンバは、前記型押し面の全体にわたって、１０ ⁹ 〜１０ ¹¹ ／ｃｍ ² の範囲内の表面密度で、不均一に分布している、型押し具。
2. 前記型押し面は、前記中空チャンバが不規則に配列された部分を有する、請求項１に記載の型押し具。
3. 前記中空チャンバの前記開口の平均直径（Ｄ）は、１５〜２００ｎｍである、請求項１または２に記載の型押し具。
4. 前記型押し面の構造幅（Ｓ）は、５０〜２００ｎｍである、請求項１から３のいずれかに記載の型押し具。
5. 前記中空チャンバは、円錐状に形成された中空チャンバを含む、請求項１から４のいずれかに記載の型押し具。
6. 前記中空チャンバは、前記中空チャンバの前記開口の平均直径（Ｄ）の０．５倍より大きい深さ（Ｔ）を有する、請求項１から５のいずれかに記載の型押し具。
7. 前記中空チャンバは、前記中空チャンバの前記開口の平均直径（Ｄ）の１．０倍〜１０倍の深さ（Ｔ）を有する、請求項６に記載の型押し具。
8. 前記中空チャンバは、円錐状に形成された大きい中空チャンバの壁面に形成された小さな中空チャンバを含む、請求項１から７のいずれかに記載の型押し具。
9. 前記型押し面は、屈曲している、請求項１から８のいずれかに記載の型押し具。
10. 前記バルブ金属はアルミニウムである、請求項１から９のいずれかに記載の型押し具。
11. 前記被覆層は、前記支持体の表面に設けられた前記表面層に形成されている、請求項１から１０のいずれかに記載の型押し具。
12. 型押し面を有する型押し具によって加工物の表面を構築する方法であって、
    請求項１から１１のいずれかに記載の前記型押し具の前記型押し面を、構築される表面にプレスするか、または、ロールする工程を包含する、方法。
13. 請求項１から１１のいずれかに記載の前記型押し具の前記型押し面によって表面が構築された反射防止膜。