CN102639307B - 模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法 - Google Patents

模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102639307B
CN102639307B CN201080052752.2A CN201080052752A CN102639307B CN 102639307 B CN102639307 B CN 102639307B CN 201080052752 A CN201080052752 A CN 201080052752A CN 102639307 B CN102639307 B CN 102639307B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mould
antireflection part
protuberance
mentioned
saddle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201080052752.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102639307A (zh
Inventor
石动彰信
箕浦洁
田口登喜生
今奥崇夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Publication of CN102639307A publication Critical patent/CN102639307A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102639307B publication Critical patent/CN102639307B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
    • B29C33/424—Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/045—Anodisation of aluminium or alloys based thereon for forming AAO templates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24—Chemical after-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
    • C25D11/08—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing inorganic acids
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

本发明的模具具有将蛾眼结构的表面形状反转后的形状的表面。在该表面设有：多个突起部；多条棱线，其分别通过鞍部连接多个突起部；以及多个孔，其分别由多个突起部中的任意的至少3个突起部和连接任意的至少3个突起部的棱线所规定，相邻的孔的中心间的平均距离p和鞍部的平均深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系。

Description

模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法
技术领域
本发明涉及蛾眼用模具以及蛾眼用模具和蛾眼结构的制作方法。
背景技术
当光在折射率不同的界面（例如，空气和玻璃的界面）反射时，有时透射光强度减少，视认性降低。为了防止这样的光反射，研讨使用蛾眼（Motheye，蛾子的眼睛）结构的防反射膜（参照非专利文献1和专利文献1至4）。
蛾眼结构是与可见光的波长（λ＝380nm～780nm）同等程度或者其以下的尺寸的微细结构，相对于入射到基板的光的有效折射率从入射介质的折射率开始沿着深度方向连续地变化至构成蛾眼结构的材料的折射率为止，由此，光的反射被抑制。例如，在防止可见光的反射的蛾眼结构中，凸部的二维大小为10nm以上且小于500nm。基于这样的蛾眼结构的防反射作用的入射角依赖性遍及宽广的波段都较小。另外，蛾眼结构能由多种材料实现，而且，能直接形成于基板，因此能以低成本制作。
蛾眼结构也能由激光干涉曝光法、EB曝光法等制作，但当利用铝的阳极氧化时，能廉价且容易地制作大面积的蛾眼结构。具体地，将通过对铝进行阳极氧化而得到的多孔氧化铝层作为蛾眼结构的模具的至少一部分加以利用，由此能使制造成本大大减少。因此，利用阳极氧化制作蛾眼结构的情况受到关注（专利文献2至4）。
此外，在此所说的“模具”包含使用于种种加工方法（冲压成形、铸造）的模具，也被称为压模。另外，也使用于印刷（包含纳米印刷）。在本说明书的下面说明中将用于制作蛾眼结构的模具也称为“蛾眼用模具”。
在专利文献2中公开了在表面具有利用阳极氧化制作的多孔氧化铝层的模具。一般，利用阳极氧化形成于多孔氧化铝层的纳米级、圆柱状的凹坑相对于多孔氧化铝层表面在垂直方向延伸，也称为细孔。
在特定的条件下所形成的多孔氧化铝层中，当从表面的法线方向观看时，取大致正六边形的单元在二维上以最高密度填充的排列。各个单元在其中央具有细孔，细孔的排列具有周期性。另外，在其它的条件下所形成的多孔氧化铝层中，形成有某种程度规则性紊乱的排列或者不规则(即，不具有周期性)的排列。
在专利文献3中公开了如下模具：其通过重复进行铝的阳极氧化和基于蚀刻的孔径扩大处理，形成有孔径沿着深度方向连续地变化的锥形形状的细孔。另外，在专利文献4中公开了如下压模(模具)：其通过重复进行铝的阳极氧化和孔径扩大处理至相邻的孔局部地相连为止而制作。
图18(a)中示出专利文献4所公开的压模700的示意性的立体图，图18(b)中示出压模700的示意性俯视图。在压模700的表面，在多个孔各自的周围设有6个突起部，相邻的突起部通过鞍部由棱线连接。在使用这样的压模700所制作的防反射件中，在防反射件与入射介质(典型地为空气)之间的界面的有效折射率的连续性增大，因此实现高防反射性能。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特表2005-173457号公报
专利文献2：特表2003-531962号公报
专利文献3：特开2005-156695号公报
专利文献4：国际公开第2006/059686号
非专利文献
非专利文献1：カズヤ ハヤシベ(Kazuya Hayashibe)ら、「アンダ一0.05％レフレクタンス オプテイカル デバイシ一ズ ユ一ジング インプル一ブド モスアイ アンチレフレクシヨン ストラクチヤ(Under 0.05％ Reflectance Optical Devices using Improved Motheye Anti－reflection Structure）」、SID 09 Dige st、303～305页
发明内容
发明要解决的问题
本发明人专心研究的结果发现：即使是使用相邻的突起部由棱线连接的蛾眼用模具所制作的防反射件，有时也不能充分抑制光的反射。
本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供使用于充分抑制光的反射的防反射件的制作的蛾眼用模具以及蛾眼用模具和蛾眼结构的制作方法。
用于解决问题的方案
本发明的模具具有将蛾眼结构的表面形状反转后的形状的表面，在上述表面设有：多个突起部；多条棱线，其分别通过鞍部连接上述多个突起部；以及多个孔，其分别由上述多个突起部中的任意的至少3个突起部和连接上述任意的至少3个突起部的棱线所规定，相邻的孔的中心间的平均距离p和上述鞍部的平均深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系。
在某实施方式中，上述平均距离p为180nm以上420nm以下。
在某实施方式中，上述多个孔的平均深度q为380nm以上410nm以下。
在某实施方式中，上述表面为多孔氧化铝层的表面。
本发明的模具的制作方法是具有将蛾眼结构的表面形状反转后的形状的表面的模具的制作方法，包含：准备在表面设有铝的基材的工序；以及通过对上述铝进行使用酒石酸作为电解液的阳极氧化、以及蚀刻而形成多孔氧化铝层的工序，该多孔氧化铝层具有设有如下部分的表面：多个突起部；多条棱线，其分别通过鞍部连接上述多个突起部；以及多个孔，其分别由上述多个突起部中的任意的至少3个突起部和连接上述任意的至少3个突起部的棱线所规定，在形成上述多孔氧化铝层的工序中，使得相邻的孔的中心间的平均 距离p和上述鞍部的平均深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系，且使得上述平均距离p为404nm以上420nm以下。
在某实施方式中，在形成上述多孔氧化铝层的工序中，使得上述平均距离p为180nm以上420nm以下。
在某实施方式中，在形成上述多孔氧化铝层的工序中，使得上述多个孔的平均深度q为380nm以上410nm以下。
本发明的蛾眼结构的制作方法包含：用如上所述的制作方法制作模具的工序；以及通过在上述模具与光固化性树脂相接的状态下照射光而使上述光固化性树脂固化的工序。
发明效果
通过使用本发明的模具，能适当制作充分抑制了光的反射的防反射件。
附图说明
图1（a）是本发明的模具的实施方式的鸟瞰SEM像，（b）是（a）所示的模具的示意性截面图。
图2（a）是本实施方式的模具的俯视SEM像，（b）是（a）所示的模具的截面SEM像，（c）是（a）所示的模具的鸟瞰SEM像。
图3（a）和（b）是示出本发明的模具的制作方法的实施方式的示意图。
图4（a）～（e）是示出本实施方式的蛾眼用模具中的多孔氧化铝层的形成方法的示意图。
图5是示出本发明的防反射件的制作方法的实施方式的示意图。
图6（a）是比较例1的蛾眼用模具的示意性俯视图，（b）是（a）所示的模具的示意性截面图，（c）是比较例1的防反射件的示意性截面图，（d）是示出（c）的防反射件和空气的界面的有效折射率的变化的坐标图。
图7（a）是本实施方式的模具的示意性俯视图，（b）是（a）所示的模具的示意性截面图，（c）是本实施方式的防反射件的示意性截面图，(d)是示出(c)的防反射件和空气的界面的有效折射率的变化的坐标图。
图8(a)是比较例2的蛾眼用模具的示意性截面图，(b)是使用(a)所示的模具制作的比较例2的防反射件的示意性截面图，(c)是比较例3的蛾眼用模具的示意性截面图，(d)是使用(c)所示的模具制作的比较例3的防反射件的示意性截面图，(e)是本实施方式的蛾眼用模具的示意性截面图，(f)是使用(e)所示的模具制作的本实施方式的防反射件的示意性截面图。
图9(a)～(e)是模具a～e的截面SEM像。
图10(a)～(e)是从相对于模具a～e的表面整体的法线方向倾斜45度的方向拍摄的鸟瞰SEM像。
图11(a)～(e)是防反射件A～E的截面SEM像。
图12(a)～(c)是示出防反射件A～E的截面SEM像的测定方法的示意图。
图13是示出防反射件A～E的反射光谱的坐标图。
图14(a)～(h)是模具f～m的截面SEM像。
图15(a)～(h)是从相对于模具f～m的表面整体的法线方向倾斜45度的方向拍摄的鸟瞰SEM像。
图16(a)～(h)是防反射件F～M的截面SEM像。
图17(a)是示出防反射件F～I的反射光谱的坐标图，(b)是示出防反射件J～M的反射光谱的坐标图。
图18(a)和(b)是现有的蛾眼用模具(压模)的示意图。
具体实施方式
下面，参照附图说明本发明的蛾眼用模具和使用蛾眼用模具制作的防反射件及其制作方法的实施方式。但是，本发明并不限于下面的实施方式。
(实施方式1)
首先，参照图1说明本发明的蛾眼用模具100的实施方式。图1(a)中示出蛾眼用模具100的鸟瞰SEM像，图1(b)中示出蛾眼用 模具100的示意性截面图。SEM像由扫描型电子显微镜(Scanning Electron Microscope：SEM)拍摄。鸟瞰SEM像是从相对于蛾眼用模具100的表面整体的法线方向倾斜的方向拍摄的图像。
蛾眼用模具100具有使蛾眼结构的表面形状反转的形状的表面，使用于具有蛾眼结构的防反射件的制作。在蛾眼用模具100的表面设有：多个突起部；多条棱线，其分别通过鞍部连接多个突起部；以及多个孔，其分别由多个突起部中的任意的至少3个突起部和连接任意的至少3个突起部的棱线所规定。例如，各突起部为尖状，各孔为锥形形状。各突起部设于至少被3个孔包围的位置。
图1(b)中示出蛾眼用模具100的相邻的孔的中心间的距离p、孔的深度q、以及鞍部的深度r。在蛾眼用模具100中，以相邻的孔局部地相连的方式设置，相邻的孔的中心间的平均距离与孔的孔径的平均值大致相等。此外，严格地，相邻的孔的中心间的距离不是恒定的，不过，相邻的任意的2个孔的中心间的距离之差比较小。在本说明书的下面说明中，有时将该平均距离仅称为“相邻距离”。
在此，参照图2说明蛾眼用模具100的相邻的孔的中心间的平均距离p、孔的平均深度q、以及鞍部的平均深度r的测定方法。
图2(a)中示出蛾眼用模具100的俯视SEM像。求出俯视SEM像中相邻的孔的中心间的平均距离p。对于平均距离p，例如，针对某孔选择中心间的距离短的3个孔并测定这些孔的距离。针对各孔测定与相邻的中心间的距离并计算出平均值，由此求出平均距离p。平均距离p例如为180nm以上420nm以下。此外，距离p的标准偏差除以距离p的平均值所得的值为30％程度。
典型地，从表面整体的法线方向观看，棱线在以最短距离连接相邻的2个突起部的顶点的方向延伸。例如，当观看沿着某方向的鞍部的截面时，表面为向上凸出的形状，当观看沿着其它方向的鞍部的截面时，表面为向下凸出的形状。另外，典型地，突起部由其它的3个突起部和通过鞍部的棱线连接。
例如，在1个孔的周围设有3个以上6个以下突起部。另外，突起部设于被3个以上6个以下的孔包围的位置，具体地，在着眼于任 意的1个突起部的情况下，3个以上6个以下的孔的中心位于从该突起部直至该突起部的顶点与离该突起部的顶点最近的突起部的顶点之间的距离为止的范围内。
图2(b)中示出蛾眼用模具100的截面SEM像。测定截面SEM像中多个孔的深度并计算出其平均值，由此求出孔的平均深度q。孔的平均深度q例如为380nm以上410nm以下。此外，深度q的标准偏差除以该深度q的平均值所得的值为5％程度。
图2(c)中示出蛾眼用模具100的鸟瞰SEM像。该鸟瞰SEM像是从相对于蛾眼用模具100的表面整体的法线方向倾斜45度倾斜的方向拍摄的图像。求出鸟瞰SEM像中对由棱线所连接的2个突起部的顶点进行连接的假想的直线和鞍部的距离s，针对各鞍部测定上述距离s并求出上述距离s的平均值。然后，考虑到鸟瞰SEM像是从倾斜45度的方向拍摄的图像，计算出该平均值和 2的积，由此求出鞍部的平均深度r。此外，不必说，孔的平均深度r比鞍部的平均深度q小。
此外，在本说明书的下面的说明中，有时将相邻的孔的中心间的平均距离p仅称为平均距离p。另外，有时将模具的孔的平均深度q仅称为深度q，同样，有时将鞍部的平均深度r仅称为深度r。此外，深度r的标准偏差除以其平均值所得的值为30％程度。
蛾眼用模具100使用于防反射件的制作。例如，将蛾眼用模具100的表面形状转印到树脂，由此制作设有蛾眼结构的防反射件。在防反射件的表面设有多个凸部，防反射件的凸部与模具100的孔对应地形成。因此，严格地，在防反射件中，相邻的2个凸部的顶点间的距离也不是恒定的，不过，相邻的任意的2个凸部的顶点间的距离大致相等。该距离例如为180nm以上420nm以下。此外，在下面的说明中，与蛾眼用模具100的相邻的孔的中心间的平均同样，有时将防反射件的相邻的任意凸部的中心间的平均距离仅称为“相邻距离”。
此外，一般，防反射件的凸部的相邻距离越长，越容易引起防反射件的光的散射，反射光强度越容易增大。与此相对，防反射件 的凸部的相邻距离越短，光的反射率的波长依赖性越变得比较大，出射光的色感与入射光相比容易变化，有时即使非彩色的光入射，反射光也带有色感。
在本实施方式的蛾眼用模具100中，相邻的孔局部地相连，设有连接突起部的棱线。因此，与在蛾眼用模具的表面设有平坦面的情况相比，能减少用转印法制作防反射件时的冲压压力并且能提高脱模性，能改善生产性。
而且，在本实施方式的蛾眼用模具100中，相邻的孔的中心间的平均距离p和鞍部的平均深度r的比r/p满足0.15≤r/p≤0.60的关系。比r/p反映蛾眼用模具100的突起部的形状。比r/p越大，即p恒定而r越大，或者r恒定而p越小，则突起部为越尖的形状。详细后述，但通过使比r/p满足上述的关系，使用蛾眼用模具100制作的防反射件能充分抑制光的反射。
按照如下方式制作这样的蛾眼用模具100。下面，参照图3说明蛾眼用模具100的制作方法。
首先，如图3(a)所示，准备具有由铝100a形成的表面的基材100t。这样的基材100t通过例如在绝缘基板(典型地，为玻璃基板)100s上沉积铝膜100a而制作。铝膜100a的厚度为例如1.0μm。此外，可以使用块状的铝作为基材100t。
接着，如图3(b)所示，进行阳极氧化和蚀刻，由此，基材100t的铝膜100a的一部分变为多孔氧化铝层100c。在多孔氧化铝层100c中，相邻的孔的中心间的平均距离p和鞍部的平均深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系。按照如上方式制作蛾眼用模具100。
在此，参照图4说明多孔氧化铝层100c的制作方法。
首先，如图4(a)所示，准备基材100t，基材100t具有设有铝膜100a的表面。
接着，如图4(b)所示，针对基材100t进行阳极氧化，由此形成多孔氧化铝层100b，多孔氧化铝层100b具有在相对于基材100t的表面垂直的方向延伸的细孔100p。利用阳极氧化，在基材100t的表面同时进行铝膜100a的氧化和溶解，形成在相对于基材100t的表面 垂直的方向延伸的细孔100p。
例如，阳极氧化是通过在硫酸、草酸、或者磷酸等酸性电解液或者碱性电解液中浸渍基材并将该基材作为阳极施加电压而进行。此时，相邻的细孔的中心间的平均距离和细孔的深度根据阳极氧化的条件而变化。此外，相邻的细孔的中心间的平均距离相当于阻挡层的厚度的大致2倍，与阳极氧化时的电压大致成比例。细孔的中心间的平均距离为例如180nm至420nm的范围内。另外，细孔的孔径依赖于电解液的种类、浓度、温度等。优选细孔以某种程度上紊乱的规则性进行排列。但是，细孔可以不规则(即，不具有周期性)地排列，或者可以有规则地排列。
例如，在形成平均距离p为180nm的孔的情况下，将液温5℃的草酸0.6wt％作为电解液以化成电压80V进行25秒钟阳极氧化。或者，在形成平均距离p为400nm的孔的情况下，将液温5℃的酒石酸2wt％作为电解液以化成电压200V进行30秒钟至45秒钟阳极氧化。
接着，如图4(c)所示，进行蚀刻，由此，细孔100p的孔径扩大。使用液温30℃的磷酸1mol/L进行数十分钟蚀刻。
接着，如图4(d)所示，再次对铝100a局部地进行阳极氧化，由此使细孔100p在深度方向生长，并且加厚多孔氧化铝层100b。在此，细孔100p的生长从已形成的细孔100p的底部开始，所以细孔100p的侧面为阶梯状。
之后，根据需要，如图4(e)所示，进一步蚀刻多孔氧化铝层100b，由此进一步扩大细孔100p的孔径。蚀刻与上述的蚀刻同样地进行。这样形成图3(b)所示的多孔氧化铝层100c。
阳极氧化和蚀刻重复进行多次直至相邻的孔局部地相连。此外，优选最后不是蚀刻而是阳极氧化。由此，能使孔的底点比较狭窄。
下面，参照图5说明防反射件200的制作方法。
首先，准备蛾眼用模具100和被加工物150。
接着，以在蛾眼用模具100与被加工物150之间夹着光固化性树脂的状态进行光(例如紫外光)的照射，使光固化性树脂固化而制 作防反射件200。被加工物150为例如具有可挠性的高分子膜，具体地，高分子膜为例如TAC(三醋酸纤维素)膜。另外，例如使用丙烯酸系树脂作为光固化性树脂，其粘度为500±200cP，固化时的收缩率为10％程度。转印以20kg/cm2以下的压力进行。例如，压力可以为20kg/cm2，也可以为10kg/cm2。或者，转印可以用手动进行，也可以为1kg/cm2以下的压力。
例如，在蛾眼用模具100与被加工物150之间施加光固化性树脂。光固化性树脂可以施加于被加工物150的表面，而且可以施加于蛾眼用模具100的表面。在蛾眼用模具100上滴下光固化性树脂，然后，可以用辊使TAC膜贴合以使得气泡不进入到树脂内。然后，隔着蛾眼用模具100对光固化性树脂照射光(例如紫外光)，由此使光固化性树脂固化。例如，光的照射使用i线(365nm)进行。照射能量为100mJ/cm2以上3J/cm2以下，例如为2J/cm2。
此外，一般，构成防反射件的树脂由于固化而收缩，因此防反射件的凸部的高度比蛾眼用模具的孔的深度小。另外，详细后述，但在模具的鞍部的深度比较小的情况下，防反射件的凸部的高度根据模具的孔的深度而大致恒定，但在模具的鞍部的深度大到某种程度的情况下，在与模具的鞍部对应的部分留有构成防反射件的树脂，凸部的高度降低。
例如，固化的树脂几乎不吸收光，具体地，对于可见光(波长380-780nm)，相对于空气的相对透射率为90％以上。另外，优选固化的树脂具有高可靠性。例如，即使在高温(例如95℃)或者低温(例如-40℃)下长时间(例如500小时)放置，在室温下至少在目视下表面也不发生变化。另外，即使在重复多次(例如100次)急剧的温度变化(例如，从-40℃下30分钟到85℃下30分钟)后，至少在目视下表面也不发生变化。而且，即使在高温多湿下(例如，温度60℃，湿度95％)长时间(例如100小时)放置，至少在目视下表面也不发生变化。另外，这样的树脂的铅笔硬度为1H以上。
然后，从防反射件200分离蛾眼用模具100。这样，能制作设有蛾眼结构的防反射件200。在防反射件200的表面设有多个凸部，例 如，凸部具有大致圆锥形状。防反射件200的折射率例如为1.5。
如上所述，在本实施方式的蛾眼用模具100中，相邻的孔局部地相连，相邻的突起部通过鞍部由棱线连接。在使用这样的蛾眼用模具100所制作的防反射件200中，在凸部之间不存在平坦面，因此入射到防反射件200的光的折射率连续地变化，反射被抑制。
在此，参照图6和图7说明与比较例1的蛾眼用模具500及防反射件600比较的本实施方式的模具100和防反射件200的优点。
首先，参照图6说明比较例1的蛾眼用模具500和防反射件600。图6(a)中示出蛾眼用模具500的示意性俯视图，图6(b)中示出模具500的示意性截面图。在蛾眼用模具500的表面未设置鞍部，在模具500的表面设有被3个孔包围的平坦面。
图6(c)中示出使用蛾眼用模具500制作的防反射件600的示意性截面图。防反射件600的表面与蛾眼用模具500的表面对应地形成。此外，虽然不严格，但在此为了简化，防反射件600的凸部的形状以与由蛾眼用模具500的孔所规定的形状一致的方式示出。如图6(a)和图6(b)所示，在蛾眼用模具500的表面设有被3个孔包围的平坦面，在防反射件600的表面上也在凸部之间设有平坦面。在该情况下，如图6(d)所示，有效折射率在平坦面上急剧变化，不能充分抑制光的反射。
接着，参照图7说明本实施方式的蛾眼用模具100和防反射件200。图7(a)中示出蛾眼用模具100的示意性俯视图，图7(b)中示出蛾眼用模具100的示意性截面图。在蛾眼用模具100的表面设有至少被3个孔包围的突起部，并且设有连接相邻的突起部的棱线。
图7(c)中示出使用蛾眼用模具100制作的防反射件200的示意性截面图。防反射件200的表面与蛾眼用模具100的表面对应地形成。此外，在此也为了简化，防反射件200的凸部的形状以与由蛾眼用模具100的孔所规定的形状一致的方式示出。与图6(c)所示的防反射件600不同，在防反射件200的表面，在凸部之间未形成平坦面。在该情况下，如图7(d)所示，有效折射率沿着凸部的高度方向平缓地变化，其结果是，光的反射被充分抑制。
此外，在参照图6和图7的上述的说明中，为了简化，防反射件的凸部的形状与由模具的孔所规定的形状一致，但严格地，防反射件的凸部的形状与由模具的孔所规定的形状不一致。因此，若仅使用在表面设有鞍部的模具，不能实现充分抑制反射的防反射件。
接着，参照图8对与比较例2的蛾眼用模具300A和防反射件400A、以及比较例3的蛾眼用模具300B和防反射件400B比较的本实施方式的蛾眼用模具100和防反射件200的优点进行说明。
图8(a)中示出比较例2的蛾眼用模具300A的示意性截面图。在蛾眼用模具300A中设有鞍部，但鞍部的深度r相对于相邻的孔的中心间的平均距离p比较小，突起部的斜度比较平缓。在蛾眼用模具300A中，平均距离p和鞍部的深度r满足r/p＜0.15的关系。
图8(b)中示出比较例2的防反射件400A。防反射件400A使用蛾眼用模具300A而制作。如上所述，蛾眼用模具300A的突起部的斜度比较平缓，因此在防反射件400A的凸部之间形成有大致平坦的面，其结果是，有效折射率与图6(d)所示的同样，在防反射件400A的底面附近急剧地变化。因此，防反射件400A不能充分防止光的反射。
另外，在防反射件400A中，凸部的倾斜从凸部的顶点朝向底面大致恒定。在该情况下，有效折射率的变化的比例从凸部的顶点越朝向底面越大。这样，当有效折射率的变化的比例比较大地变化时，不能充分防止反射。而且，在平均距离p短的情况下，防反射件400A的反射光的色感与入射光相比发生变化。
图8(c)中示出比较例3的蛾眼用模具300B的示意性截面图。在蛾眼用模具300B中设有鞍部，但鞍部的深度r相对于相邻的孔的中心间的平均距离p比较大，突起部的斜度比较急。在蛾眼用模具300B中，平均距离p和鞍部的深度r满足0.60＜r/p的关系。
图8(d)中示出比较例3的防反射件400B。防反射件400B使用蛾眼用模具300B而制作。如上所述，蛾眼用模具300B的突起部的斜度比较急，因此防反射件400B的凸部之间比较高。因此，即使蛾眼用模具300A、300B的孔的深度大致相等，防反射件400B的凸部 也比防反射件400A的凸部低，凸部的纵横比减小。因此，防反射件400B不能充分防止光的反射。
另外，在防反射件400B中，凸部的半值宽度比凸部的中心间的距离的一半更大，凸部的倾斜从凸部的顶点朝向底面平缓，其变化的比例比较大。在该情况下，有效折射率的变化的比例从凸部的顶点越朝向底面越小。这样，当有效折射率的变化的比例比较大地变化时，不能充分防止反射。
图8(e)中示出本实施方式的蛾眼用模具100的示意性截面图。在蛾眼用模具100中，相邻的孔的中心间的平均距离p和鞍部的深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系。
图8(f)中示出本实施方式的防反射件200。防反射件200使用蛾眼用模具100而制作。在此，防反射件200的凸部具有与比较例2的防反射件400A的凸部大致相同的高度，在防反射件200中，能在凸部的纵横比维持得高的状态下将凸部设为吊钟形状。
这样，在本实施方式的蛾眼用模具100中，相邻的孔的中心间的平均距离p和鞍部的深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系，由此，能充分防止光的反射。
下面，说明孔的中心间的平均距离(相邻距离)p、孔的深度q以及鞍部的深度r不同的模具、以及使用这样的模具制作的防反射件。首先，说明孔的相邻距离p和孔的平均深度q大致恒定而鞍部的平均深度r不同的模具a～e、以及使用模具a～e制作的防反射件的特性。
按照如下方式制作模具a。首先，准备5cm见方的玻璃基板，在玻璃基板上沉积厚度1.0μm的铝膜，由此形成基材。
接着，对基材进行阳极氧化，由此形成具有细孔的多孔氧化铝层。在此，将液温5℃的草酸0.6wt％作为电解液以化成电压80V进行25秒钟阳极氧化，由此，形成相邻距离p为180nm的细孔。
接着，使用液温30℃的磷酸1mol/L进行19分钟蚀刻。通过该蚀刻，细孔的孔径扩大。
阳极氧化和蚀刻重复进行直至相邻的孔局部地相连。具体地， 交替地重复进行5次阳极氧化和4次蚀刻处理。这样制作出模具a。在模具a中，孔的相邻距离p为大致180nm，孔的平均深度q为大致380nm。
模具b～e除了蚀刻时间不同的方面之外与模具a同样地被制作。模具b～e的蚀刻时间分别为21分钟、23分钟、25分钟以及30分钟。
图9(a)～图9(e)中分别示出模具a～e的截面SEM像，图10(a)～图10(e)中分别示出从相对于模具a～e的表面整体的法线方向倾斜45度的方向拍摄的鸟瞰SEM像。另外，表1中分别示出用于制作模具a～e的蚀刻时间、模具a～e的相邻距离p、以及孔的深度q、鞍部的深度r。
[表1]
模具 a b c d e
蚀刻时间(分钟) 19 21 23 25 30
p 181 185 182 181 182
q 380 385 380 381 386
r 26.7 62.6 85 104.8 159.8
此外，在此虽未图示，但在模具a～e的俯视SEM像中，对各孔的中心到距离短的3个孔的中心的距离进行测定，将其平均设为相邻距离p。另外，孔的深度q在截面SEM像中被求出。而且，在倾斜45度的鸟瞰SEM像中在20个位置对将某孔的周围所形成的2个突起部的顶点连接的假想线段和鞍部的距离进行测定，求出该距离的平均值后，考虑到鸟瞰SEM像是从相对于模具的表面的法线方向倾斜45度的方向拍摄的图像，由平均值和 2的积求出鞍部的深度r。
在模具a～e的任一个中，孔的相邻距离p均为大致180nm，孔的深度为大致380nm。与此相对，在模具a～e中鞍部的深度r不同，蚀刻时间越长，鞍部的深度r越大。
使用这样的模具a～e制作防反射件A～E。防反射件A～E的制作是通过如上所述将模具a～e的表面形状转印到固化性树脂而进 行，与模具a～e的孔对应地形成防反射件A～E的凸部。
图11(a)～图11(e)中分别示出防反射件A～E的截面SEM像。与模具a～e的孔对应地形成防反射件A～E的凸部。
按照如下方式测定防反射件的结构。下面，参照图12说明防反射件的测定方法。
首先，如图12(a)所示，准备形成于被加工物150上的防反射件200。
接着，如图12(b)所示，通过将被加工物150和防反射件200折曲而断开，使防反射件200的截面露出。然后，在防反射件200的截面沉积金。
然后，如图12(c)所示，用SEM拍摄防反射件200的截面。测定截面SEM像中数个位置的凸部的高度并求出其平均，并且求出凸部的高度为一半时的凸部的横宽(半值宽度)的平均。此外，在下面的说明中，有时将防反射件的凸部的平均高度T仅称为深度T，同样，有时将凸部的平均半值宽度HW仅称为半值宽度HW。
表2示出防反射件A～E的凸部的高度T和半值宽度HW。
[表2]
防反射件 A B C D E
凸部高度T(nm) 220 228 220 204 172
半值宽度HW(nm) 90 96 98 102 104.6
防反射件A～E的凸部的相邻距离p与模具a～e的孔的相邻距离大致相等，为大致180nm。与此相对，防反射件A～E的凸部的高度T及半值宽度HW不同。
首先，着眼于凸部的高度T。在防反射件A～C中，凸部的高度T大致相等。如上所述，凸部的相邻距离p为大致180nm，因此在防反射件A～C中，凸部的纵横比大致相等。防反射件D的凸部的高度T比防反射件A～C的凸部的高度T小，防反射件E的凸部的高度T比防反射件D的凸部的高度T进一步小。
接着，着眼于凸部的半值宽度HW。防反射件A～E的半值宽度HW分别不同。如上所述，防反射件A～E的凸部的相邻距离p为大 致180nm。防反射件A的凸部的半值宽度HW为90nm，防反射件A的凸部为大致圆锥形状。与此相对，防反射件B～E的凸部的半值宽度HW比90nm大，凸部具有吊钟形状，凸部成为按防反射件B、C、D以及E的顺序降低高度的形状。
接着，测定防反射件A～E的反射特性。反射特性的测定是在将防反射件A～E贴附于黑色的丙烯酸板上的状态下进行。例如，使用标准光D65作为光源，并且使用柯尼卡美能达(KONICAMINOLTA)公司制造的CM-2600d作为分光色度计，由标准光D65相对于XYZ表色系加权因子的透射率特性定义各防反射件A～E的物体颜色，然后，测定来自防反射件A～E的反射光的Y值、L*值、a*、b*以及色度C*。
图13中示出防反射件A～E的反射光谱。防反射件A的反射光谱的长波长区域的反射率比较高，反射率大大依赖于波长。另外，在防反射件E的反射光谱中，反射率的波长依赖性比较低，反射率自身比较高。与此相对，在防反射件B～D的反射光谱中，反射率比较低，波长依赖性也比较小。
表3示出防反射件A～E中的凸部的高度T和半值宽度HW、以及防反射件A～E的反射光的Y值、L*值、a*、b*以及C*。
[表3]
防反射件 A B C D E
凸部高度T(nm) 220 228 220 204 172
半值宽度HW(nm) 90 96 98 102 104.6
Y值 0.2903 0.2608 0.1932 0.2032 0.2806
L*值 -2.534 -4.563 -6.347 -5.884 -4.254
a* 1.610 2.003 0.548 1.262 1.461
b* 7.601 3.416 4.055 1.380 -0.443
C* 7.770 3.960 4.092 1.870 1.527
测定的结果是，防反射件A和E的反射光强度与防反射件B～D 相比高。在防反射件A中，凸部的半值宽度HW小，凸部为大致圆锥形状。因此，沿着凸部的高度方向的有效折射率的变化的比例比较大地变化，其结果是，防反射件A不能充分防止反射。
另外，在防反射件E中，相对于凸部的相邻距离p的凸部的高度T小，因此凸部的纵横比小。另外，防反射件E的凸部的半值宽度HW比较大，沿着凸部的高度方向的有效折射率的变化的比例比较大地变化。因此，防反射件E不能充分防止反射。
另外，对防反射件A～E照射非彩色的光并目视其反射光的结果是，基于防反射件A的反射光出现变色，与此相对，基于防反射件B～E的反射光的变色不可识别。因此，为了抑制反射光的变色，优选将反射光的C*设为5.0以下。
表4中示出用于制作模具a～e的蚀刻时间、模具a～e的孔的相邻距离p、孔的深度q、鞍部的深度r、r/p、r/q、使用模具a～e制作的防反射件A～E的凸部的高度T、半值宽度HW、防反射件A～E的反射光的Y值、L*值、a*、b*、C*。
[表4]
模具 a b c d e
蚀刻时间(分钟) 19 21 23 25 30
p 181 185 182 181 182
q 380 385 380 381 386
r 26.7 62.6 85 104.8 159.8
r/p 0.148 0.338 0.467 0.580 0.878
r/q 0.070 0.163 0.224 0.275 0.414
防反射件 A B C D E
T(nm) 220 228 220 204 172
HW(nm) 90 96 98 102 104.6
Y值 0.290 0.261 0.193 0.203 0.281
L*值 -2.534 -4.563 -6.347 -5.884 -4.254
a* 1.610 2.003 0.548 1.262 1.461
b* 7.601 3.416 4.055 1.380 -0.443
C* 7.770 3.960 4.092 1.870 1.527
构成防反射件A～E的树脂在固化时收缩，因此防反射件A～E的凸部的高度T比蛾眼用模具a～e的孔的深度q小。此外，在蛾眼用模具a～c中，鞍部的深度r比较小，因此防反射件A～C的凸部的高度T大致恒定，但在蛾眼用模具d和e中，鞍部的深度r比较大，因此当转印时，在与模具d和e的鞍部对应的部分留有构成防反射件D和E的树脂，凸部的高度T降低。
另外，伴随着模具a～e的鞍部的深度r变大，防反射件A～E的凸部的半值宽度HW增加。模具的鞍部的深度r越大，在防反射件的凸部之间越留有多的树脂，其结果是，防反射件的凸部成为降低高度的形状。
在蛾眼用模具a中，鞍部的深度r小，因此防反射件A的凸部的 半值宽度HW短。如上所述，防反射件A的凸部为大致圆锥形状，沿着凸部的高度方向的有效折射率的变化比例比较大地变化，其结果是，防反射件A不能充分防止反射。
另外，如上所述，防反射件D和E的凸部的高度T与防反射件A～C相比低，特别是与鞍部的深度r大的模具e对应的防反射件E的凸部的高度T小。如上所述，在防反射件E中，相对于凸部的相邻距离p的凸部的高度T小，另外，半值宽度HW大，因此防反射件E不能充分防止反射。
一般，在防反射件的凸部的相邻距离p比较短的情况下，Y值比较低，但容易产生反射光的变色。根据本实施方式，蛾眼用模具的孔的相邻距离p和鞍部的深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系，由此能将凸部的相邻距离p为大致180nm的防反射件的Y值抑制为0.27以下，并且能将反射光的色度C*抑制为5.0以下。
此外，在上述的说明中，模具的孔和防反射件的凸部的相邻距离p为大约180nm，但相邻距离不限于此。下面，说明相邻距离p为大致400nm的模具f～m、和使用模具f～m制作的防反射件F～M。
按照如下方式制作模具f。首先，准备5cm见方的玻璃基板，在玻璃基板上沉积厚度1.0μm的铝膜，由此形成基材。
接着，对基材进行阳极氧化，由此形成具有细孔的多孔氧化铝层。在此，将液温5℃的酒石酸2wt％作为电解液以化成电压200V进行30秒钟阳极氧化，形成相邻距离p为大致400nm的细孔。
接着，使用液温30℃的磷酸1mol/L进行100分钟蚀刻。通过蚀刻，细孔的孔径扩大。
阳极氧化和蚀刻重复进行直至相邻的孔局部地相连，具体地，交替地重复进行5次阳极氧化和4次蚀刻处理。
此外，模具g～i除了蚀刻时间不同的方面以外与模具f同样地被制作。在模具g～i中，蚀刻时间分别为110分钟、120分钟以及150分钟。另外，模具j～m除了阳极氧化的时间不同的方面以外与模具f～i同样地被制作。在各个模具j～m中，进行阳极氧化的时间为45分钟。
图14(a)～图14(h)中分别示出模具f～m的截面SEM像，图15(a)～图15(h)中分别示出模具f～m的斜向地倾斜45度的鸟瞰SEM像。另外，表5中示出制作模具f～m时的阳极氧化时间和蚀刻时间、以及模具f～m的孔的相邻距离p、孔的深度q、鞍部的深度r。
[表5]
此外，在此也未图示，但在模具f～m的俯视SEM像中测定各孔的中心到距离短的3个孔的中心的距离，将该距离的平均设为相邻距离p。另外，孔的深度q在截面SEM像中被求出。而且，在倾斜45度的鸟瞰SEM像中在20个位置对将某孔的周围所形成的2个突起部的顶点连接的假想线段和鞍部的距离进行测定，求出该距离的平均值后，考虑到鸟瞰SEM像是从相对于模具的表面整体的法线方向倾斜45度的方向拍摄的图像，由平均值和 2的积求出鞍部的深度r。
在模具f～m中，鞍部的深度r不同，蚀刻时间越长，鞍部的深度r越大。此外，在模具f～i中，孔的深度q为大致380nm，在模具j～m中，孔的深度q为大致400nm。这样，孔的深度q根据每1次的阳极氧化时间而不同。另外，在模具f～m的任一个中，相邻距离p均为大致400nm。
使用这样的模具f～m制作防反射件F～M。如上所述，防反射件F～M的制作是通过将模具f～m的表面形状转印到固化性树脂而进行，与模具f～m的孔对应地形成防反射件F～M的凸部。
图16(a)～图16(h)分别示出防反射件F～M的截面SEM像。如上所述，防反射件F～M的尺寸是参照图12测定的。
表6中示出防反射件F～M的凸部的高度T和半值宽度HW。此外，防反射件F～M的凸部的相邻距离p也为大致400nm。
[表6]
首先，着眼于防反射件F～I。防反射件F和G的凸部的高度T大致相等。如上所述，凸部的相邻距离p为大致400nm，因此在防反射件F和G中，凸部的纵横比大致相等。与此相对，防反射件H的凸部的高度T比防反射件F和G小，防反射件I的凸部的高度T比防反射件H更小。
防反射件F～I的半值宽度HW分别不同。如上所述，防反射件F～I的凸部的相邻距离p为大致400nm。防反射件F～I的凸部的半值宽度HW比作为相邻距离p的一半的200nm大，凸部具有吊钟形状。
接着，着眼于防反射件J～M。防反射件J～L的凸部的高度T大致相等。如上所述，凸部的相邻距离p为大致400nm，因此在防反射件J～L中，凸部的纵横比大致相等。与此相对，防反射件M的凸部的高度T比防反射件J～L小。
另外，防反射件J～M的半值宽度HW分别不同。如上所述，防反射件J～M的凸部的相邻距离p为大致400nm。防反射件J～M的凸部的半值宽度HW比作为相邻距离p的一半的200nm大，凸部具有吊钟形状。
接着，测定防反射件F～M的反射特性。反射特性的测定是在黑色的丙烯酸板上贴附防反射件F～M的状态下进行的。与上述同样，测定来自防反射件F～M的反射光的Y值、L*值、a*、b*以及C*。
下面，参照图17说明防反射件F～M的反射光谱。图17(a)中示出防反射件F～I的反射光谱。防反射件I的反射率从波长450nm到波长700nm比其它的防反射件高，防反射件I的平均反射率比防反射件F～H的平均反射率高。
图17(b)中示出防反射件J～M的反射光谱。防反射件M的反射率遍及可见光区域比防反射件J～L的反射率高。
表7中示出防反射件F～M中的凸部的高度T和半值宽度HW、以及防反射件F～M的反射光的Y值、L*值、a*、b*以及C*。
[表7]
测定的结果是，防反射件I、M的反射光强度与防反射件F～H、J～L相比高。在防反射件I、M中，相对于凸部的相邻距离p的凸部的高度T小，凸部的纵横比小。因此，防反射件I、M不能充分防止反射。
此外，对防反射件F～M照射非彩色的光并目视该其反射光的结果是，对哪个防反射件F～M都不能确认反射光的变色。这被认为：凸部的相邻距离p比较大，为大致400nm，所以容易产生光的散射，结果是变色被抑制。
表8中示出用于制作模具f～m的阳极氧化时间、蚀刻时间、模具f～m的孔的相邻距离p、孔的深度q、鞍部的深度r、r/p、r/q、使用模具f～m制作的防反射件F～M的凸部的高度T、半值宽度HW、防反射件F～M的反射光的Y值、L*值、a*、b*、C*。
[表8]
模具 f g h i j k l m
阳极氧化时间(分钟) 30 30 30 30 45 45 45 45
蚀刻时间(分钟) 100 110 120 150 100 110 120 150
p 404 417 404 408 420 412 406 411
q 380 380 386 384 400 400 410 405
r 110.5 147.4 165.8 257.0 105.3 147.4 184.2 251.3
r/p 0.274 0.353 0.410 0.630 0.251 0.358 0.454 0.611
r/q 0.291 0.388 0.430 0.669 0.263 0.368 0.449 0.620
防反射件 F G H I J K L M
T(nm) 210 206 198 176 265 260 260 222
HW(nm) 280 286 294 290 280 282 296 302
Y值 0.406 0.386 0.372 0.490 0.351 0.329 0.303 0.426
L*值 3.670 3.484 3.361 3.696 2.970 3.174 2.737 2.799
a* 0.254 0.277 -0.151 0.040 -0.205 -0.248 -0.075 -0.020
b* -2.095 -1.528 -1.514 -1.211 -1.005 -1.219 -0.672 -1.082
C* 2.110 1.553 1.522 1.212 1.025 1.243 0.676 1.082
构成防反射件F～M的树脂在固化时收缩，因此防反射件F～M的凸部的高度T比蛾眼用模具f～m的孔的深度q小。另外，模具的鞍部的深度r越大，在防反射件的凸部之间越留有越多的树脂，其结果是，防反射件的凸部成为降低高度的形状。
此外，在蛾眼用模具f～h中，鞍部的深度r比较小，因此防反射件F～H的凸部的高度T大致恒定，但在蛾眼用模具i中，鞍部的深度r比较大，因此当转印时，在模具i的鞍部对应的部分留有构成防反射件I的树脂，凸部的高度T大大降低。
同样，在蛾眼用模具j～l中，鞍部的深度r比较小，因此防反射件J～L的凸部的高度T大致恒定，但在蛾眼用模具m中，鞍部的深 度r比较大，因此当转印时，在与模具m的鞍部对应的部分留有构成防反射件M的树脂，凸部的高度T大大降低。这样，在与鞍部的深度r大的模具i、m对应的防反射件I、M中，相对于凸部的相邻距离p的凸部的高度T小，因此防反射件I、M不能充分防止反射。
如上所述，一般，在防反射件的凸部的相邻距离p比较长的情况下，难以产生反射光的变色，但散射成分变多，Y值变得比较高。根据本实施方式，蛾眼用模具的孔的相邻距离p和鞍部的深度r满足0.15≤r/p≤0.60的关系，由此能将凸部的相邻距离p为大致400nm的防反射件的Y值抑制为0.52以下。
这样，通过使用孔的相邻距离p和鞍部的深度r具有规定关系的蛾眼用模具，能实现充分防止反射的防反射件。
工业上的可利用性
根据本发明，能适当制作充分抑制光的反射的防反射件。
附图标记说明
100 蛾眼用模具
200 防反射件

Claims (3)

1.一种模具的制作方法，
该模具具有将蛾眼结构的表面形状反转后的形状的表面，
该模具的制作方法包含：
准备在表面设有铝的基材的工序；以及
通过对上述铝进行使用酒石酸作为电解液的阳极氧化、以及蚀刻而形成多孔氧化铝层的工序，该多孔氧化铝层具有设有如下部分的表面：多个突起部；多条棱线，其分别通过鞍部连接上述多个突起部；以及多个孔，其分别由上述多个突起部中的任意的至少3个突起部和连接上述任意的至少3个突起部的棱线所规定，
在形成上述多孔氧化铝层的工序中，使得相邻的孔的中心间的平均距离p和上述鞍部的平均深度r满足
0.15≤r/p≤0.60
的关系，且使得上述平均距离p为404nm以上420nm以下。
2.根据权利要求1所述的模具的制作方法，
在形成上述多孔氧化铝层的工序中，使得上述多个孔的平均深度q为380nm以上410nm以下。
3.一种蛾眼结构的制作方法，包含：
用权利要求1或2所述的制作方法制作模具的工序；以及
通过在上述模具与光固化性树脂相接的状态下照射光而使上述光固化性树脂固化的工序。
CN201080052752.2A 2009-11-27 2010-11-25 模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法 Active CN102639307B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009-270783 2009-11-27
JP2009270783 2009-11-27
PCT/JP2010/071030 WO2011065429A1 (ja) 2009-11-27 2010-11-25 モスアイ用型、ならびに、モスアイ用型およびモスアイ構造の作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102639307A CN102639307A (zh) 2012-08-15
CN102639307B true CN102639307B (zh) 2014-08-06

Family

ID=44066534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201080052752.2A Active CN102639307B (zh) 2009-11-27 2010-11-25 模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8747683B2 (zh)
CN (1) CN102639307B (zh)
TW (1) TWI457589B (zh)
WO (1) WO2011065429A1 (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5903943B2 (ja) * 2012-03-13 2016-04-13 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの製造方法、賦型用金型の製造方法及び反射防止フィルム
JP5144826B1 (ja) * 2012-06-05 2013-02-13 旭化成イーマテリアルズ株式会社 光学素子
WO2014021039A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 シャープ株式会社 型の製造方法
TWI465301B (zh) * 2012-09-25 2014-12-21 Univ Southern Taiwan Sci & Tec 多孔性氧化鋁模板之製作裝置
CN104511529A (zh) * 2013-09-30 2015-04-15 国立高雄第一科技大学 具表面微结构的弯形模具及其弯形冲头
JP2015114381A (ja) * 2013-12-09 2015-06-22 東京エレクトロン株式会社 反射防止機能を有する部材およびその製造方法
JP6343937B2 (ja) * 2014-01-10 2018-06-20 デクセリアルズ株式会社 反射防止構造体及びその設計方法
JP6784487B2 (ja) * 2015-10-30 2020-11-11 デクセリアルズ株式会社 光学体、および表示装置
CN114641709B (zh) * 2019-12-17 2024-05-24 国立研究开发法人产业技术综合研究所 防反射结构体及其制造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101423965A (zh) * 2007-10-29 2009-05-06 空中巴士西班牙有限公司 阳极化铝或铝合金的方法
CN101566699A (zh) * 2004-12-03 2009-10-28 夏普株式会社 抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压模的抗反射材料的制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10020877C1 (de) 2000-04-28 2001-10-25 Alcove Surfaces Gmbh Prägewerkzeug, Verfahren zum Herstellen desselben, Verfahren zur Strukturierung einer Oberfläche eines Werkstücks und Verwendung einer anodisch oxidierten Oberflächenschicht
US7066234B2 (en) 2001-04-25 2006-06-27 Alcove Surfaces Gmbh Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece
JP2003294910A (ja) 2002-04-08 2003-10-15 Sanyo Electric Co Ltd 光学素子および光源装置
JP4406553B2 (ja) 2003-11-21 2010-01-27 財団法人神奈川科学技術アカデミー 反射防止膜の製造方法
JP2005173457A (ja) 2003-12-15 2005-06-30 Konica Minolta Holdings Inc 反射防止構造を有する光学素子及び光学系
JP4368384B2 (ja) * 2004-12-03 2009-11-18 シャープ株式会社 反射防止材、光学素子、および表示装置ならびにスタンパの製造方法およびスタンパを用いた反射防止材の製造方法
JP5187495B2 (ja) * 2007-12-10 2013-04-24 株式会社豊田中央研究所 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜用鋳型、反射防止膜用鋳型を用いて得られた反射防止膜及びレプリカ膜を用いて得られた反射防止
JP5257131B2 (ja) 2009-02-23 2013-08-07 ソニー株式会社 光学素子の製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101566699A (zh) * 2004-12-03 2009-10-28 夏普株式会社 抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压模的抗反射材料的制造方法
CN101423965A (zh) * 2007-10-29 2009-05-06 空中巴士西班牙有限公司 阳极化铝或铝合金的方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011065429A1 (ja) 2011-06-03
CN102639307A (zh) 2012-08-15
TWI457589B (zh) 2014-10-21
TW201131196A (en) 2011-09-16
US20120234794A1 (en) 2012-09-20
US8747683B2 (en) 2014-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102639307B (zh) 模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法
CN102597332B (zh) 模具和模具的制造方法以及防反射膜
CN102791909B (zh) 阳极氧化层的形成方法、模具的制造方法以及防反射膜的制造方法
CN104395784B (zh) 防反射结构体、转印用模具、它们的制造方法和显示装置
JP4796217B2 (ja) 型および型の製造方法ならびに反射防止膜
CN101479031B (zh) 单粒子膜蚀刻掩模及其制造方法、使用该单粒子膜蚀刻掩模的微细结构体的制造方法及通过该制造方法得到的微细结构体
US20110100827A1 (en) Antireflection film, optical element comprising antireflection film, stamper, process for producing stamper, and process for producing antireflection film
CN105005106A (zh) 一种蜂窝状微凸光栅及其制备方法和应用
CN102301040B (zh) 模具和模具的制造方法、以及使用模具的防反射膜的制造方法
CN102575373A (zh) 模具和模具的制造方法以及防反射膜
JP2010281876A (ja) 光学素子及びそれを有する光学系
CN104854487B (zh) 光栅
CN108549122A (zh) 形成具有柱状透镜阵列的膜的方法
CN102859048B (zh) 模具和模具的制造方法
CN104507655B (zh) 模具的制造方法
EP2835669B1 (en) Method for manufacturing color filter, color filter, and display device
JP2006053220A (ja) 反射防止部を有する部材、その成形型及び該成形型の製造方法
CN104620138B (zh) 防反射膜及其制造方法、以及显示装置
WO2016167566A1 (ko) 반사방지패턴 구현을 위한 나노 임프린팅 공정용 롤 마스터 제조방법
CN104816410A (zh) 一种镜头模具及其制造方法、及镜头基片的制造方法
JP2008180970A (ja) 刻線が形成されている光学部品
CN204331287U (zh) 具有低表面粗糙度的压印模具
JP5622118B2 (ja) 反射防止フィルム、反射防止フィルムの作製に用いられる型、および、型の製造方法
JP5561284B2 (ja) 反射防止フィルムの作製に用いられる型の製造方法
TW200931027A (en) Manufacturing method for micro needle array by using convex fisheye mask

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant