JP2008533725A - 狭小半導体溝構造 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 狭小溝を形成するための半導体製造方法であって、
基板上に第1の絶縁材料の層を形成するステップと、
前記第1の絶縁材料の層を貫通し、前記基板内に至る溝を形成するステップと、
前記第1の層上および前記溝の露出部上に、第2の絶縁材料を形成するステップと、
前記第1の絶縁材料の層および前記溝の底部から、前記第2の絶縁材料を除去するステップと、
前記溝をエピタキシャル材料で充填するステップと、
前記第1の絶縁材料の層を除去するステップと、
前記第2の絶縁材料の残りの部分を除去して、狭小溝を形成するステップと、
を有する方法。 - 前記第1の絶縁材料の層を形成するステップは、前記第1の絶縁材料を成長させるステップを有することを特徴する請求項1に記載の方法。
- 前記第2の絶縁材料を形成するステップは、前記第2の絶縁材料を成長させるステップを有することを特徴する請求項1または2に記載の方法。
- 前記第2の絶縁材料を除去するステップは、ブランケットドライエッチング処理プロセスを適用するステップを有することを特徴する請求項1乃至3のいずれか一つに記載の方法。
- 前記充填するステップは、エピタキシャル材料を成長させるステップを有することを特徴する請求項1乃至4のいずれか一つに記載の方法。
- 前記第1の絶縁材料の層を除去するステップは、化学的機械的研磨処理を適用するステップを有することを特徴する請求項1乃至5のいずれか一つに記載の方法。
- さらに、水素を含む雰囲気で、前記基板を高温で熱処理するステップを有することを特徴する請求項1乃至6のいずれか一つに記載の方法。
- 溝を有する半導体装置であって、
前記溝は、当該半導体装置を製作する際に使用される半導体処理プロセスの臨界寸法の1/10未満の幅寸法を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記溝は、当該半導体装置を製作する際に使用される半導体処理プロセスの臨界寸法の1/100未満の幅寸法を有することを特徴する請求項8に記載の半導体装置。
- 前記溝は、当該半導体装置を製作する際に使用される半導体処理プロセスの臨界寸法の1/1000未満の幅寸法を有することを特徴する請求項8に記載の半導体装置。
- さらに、前記溝に隣接して設置された、前記溝とほぼ同じ深さのエピタキシャル材料の領域を有することを特徴する請求項8乃至10のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 前記エピタキシャル材料は、当該半導体装置の基板のキャリア型とは反対のキャリア型であることを特徴する請求項11に記載の半導体装置。
- 前記エピタキシャル材料の領域は、前記溝の片方の側面にのみ設置されることを特徴する請求項11に記載の半導体装置。
- さらに、前記溝に隣接する垂直チャネルを有することを特徴する請求項8乃至13のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 狭小溝を形成するための方法であって、
半導体基板に第1の溝を形成するステップと、
前記第1の溝に隣接して、前記第1の溝の端部に対して実質的に平行に、第1の材料の層を設置するステップと、
前記第1の材料の層に隣接して、前記第1の材料の層の端部に対して実質的に平行に、第2の材料の層を設置するステップと、
前記第2の材料の層を残したまま、前記第1の材料の層を除去して、狭小溝を形成するステップと、
を有する方法。 - 前記第1の材料の層は、絶縁材料を含むことを特徴する請求項15に記載の方法。
- 前記第2の材料の層は、前記半導体基板を含む材料のエピタキシャルな形態を有することを特徴する請求項15または16に記載の方法。
- 前記狭小溝は、前記半導体基板上に半導体装置を製作する際に使用される半導体プロセスの臨界寸法に比べて、1/10未満の幅の寸法を有することを特徴する請求項15乃至17のいずれか一つに記載の方法。
- 前記第1の材料の層を設置するステップは、前記材料を成長させるステップを有することを特徴する請求項15乃至18のいずれか一つに記載の方法。
- 前記第2の材料の層を設置するステップは、前記材料を成長させるステップを有することを特徴する請求項15乃至19のいずれか一つに記載の方法。
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