JP2008524396A5 - - Google Patents

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  1. (a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された、70〜150ミクロンの厚さを有する二軸延伸ポリエステルフィルム。
  2. 厚さ450〜1800ミクロンの本質的に非晶質のキャストフィルムを、温度を90〜130℃に保持しながら、2.5×2.5〜3.5×3.5の比で伸張し、そして前記伸張フィルムを、その寸法を保持しながら、260℃〜Tm(ここでTmは示差走査熱量測定法(DSC)によって測定したポリエステルの融点である)の実際フィルム温度においてヒートセットすることによって製造された、請求項1に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  3. 前記キャストフィルムが450〜1400ミクロンの厚さを有する請求項2に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  4. 前記キャストフィルムが2.5×2.5〜3×3の比で伸張された請求項3に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  5. 260℃に予熱されたはんだ浴中に10秒間浸漬した場合に、3%以下の収縮率を示す請求項1に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  6. 前記1,4−シクロヘキサンジメタノール残基が60〜100モル%の範囲のトランス異性体含量を有する請求項1に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  7. 前記1,4−シクロヘキサンジメタノール残基が60〜80モル%の範囲のトランス異性体含量を有する請求項6に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  8. 前記二酸残基が99.5〜95モル%のテレフタル酸残基及び0.5〜5モル%のイソフタル酸残基を含む請求項1に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  9. (a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された厚さ70〜150ミクロンの二軸延伸ポリエステルフィルムであって、
    前記ポリエステルフィルムが、厚さ450〜1800ミクロンの本質的に非晶質のキャストフィルムを温度を90〜130℃に保持しながら、2.5×2.5〜3.5×3.5の比で伸張し、そして前記伸張フィルムを、その寸法を保持しながら、260℃〜Tm(ここでTmは示差走査熱量測定法(DSC)によって測定されるポリエステルの融点である)の実際フィルム温度においてヒートセットすることによって製造され、
    前記ポリエステルフィルムが、260℃に予熱されたはんだ浴中に10秒間浸漬した場合の収縮率が3%以下である二軸延伸ポリエステルフィルム。
  10. 前記キャストフィルムが450〜1400ミクロンの厚さを有する請求項9に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  11. 前記キャストフィルムが2.5×2.5〜3×3の比で伸張された請求項10に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  12. 前記伸張フィルムが、その寸法を保持しながら、1〜120秒間ヒートセットされた請求項9に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  13. 前記キャストフィルムを、マシン方向及びその横断方向に、逐次伸張させることによって製造された請求項12に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  14. 前記キャストフィルムを、マシン方向及びその横断方向に、同時に伸張させることによって製造された請求項12に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  15. 積層体の少なくとも1つが
    I.熱硬化性接着剤;並びに
    II.(a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された、厚さ70〜150ミクロンの二軸延伸ポリエステルフィルム
    を順に含む1つ又はそれ以上の積層体を含んでなる熱可塑性樹脂製品。
  16. 前記ポリエステルフィルムが、厚さ450〜1800ミクロンの本質的に非晶質のキャストフィルムを、温度を90〜130℃に保持しながら、2.5×2.5〜3.5×3.5の比で伸張し、そして前記伸張フィルムを、その寸法を保持しながら、260℃〜Tm(ここでTmは示差走査熱量測定法(DSC)によって測定されるポリエステルの融点である)の実際フィルム温度においてヒートセットすることによって、製造される請求項15に記載の熱可塑性樹脂製品。
  17. 前記キャストフィルムが450〜1400ミクロンの厚さを有する請求項16に記載の熱可塑性樹脂製品。
  18. 前記キャストフィルムが2.5×2.5〜3×3の比で伸張された請求項17に記載の熱可塑性樹脂製品。
  19. 少なくとも1つの積層体が
    I.銅層;
    II.前記熱硬化性接着剤;及び
    III.前記二軸延伸ポリエステルフィルム
    を順に含む請求項15に記載に熱可塑性樹脂製品。
  20. 前記銅層が17〜140ミクロンの厚さを有し且つ前記ポリエステルが、示差走査熱量測定法(DSC)によって測定された融点が少なくとも270℃及びASTM法D2857−95に従ってフェノール60重量%及びテトラクロロエタン40重量%からなる溶媒100mL当たりポリマー0.50gを用いて25℃において測定されたインヘレント粘度が0.4〜1.2である請求項19に記載の熱可塑性樹脂製品。
  21. 積層体を、120〜180℃の温度において加圧下で熱硬化性接着剤を硬化させるのに充分な時間、加熱することを含んでなり、少なくとの1つの積層体が、
    I.銅層;
    II.熱硬化性接着剤;並びに
    III.(a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された、厚さ70〜150ミクロンの二軸延伸ポリエステルフィルム
    を順に含む1つ又はそれ以上の積層体を含む熱可塑性樹脂製品の製造方法。
  22. 前記ポリエステルフィルムが、厚さ450〜1800ミクロンの本質的に非晶質のキャストフィルムを、温度を90〜130℃に保持しながら、2.5×2.5〜3.5×3.5の比で伸張し、そして、その伸張フィルムを寸法を保持しながら、260℃〜Tm(ここでTmは示差走査熱量測定法(DSC)によって測定されるポリエステルの融点である)の実際フィルム温度においてヒートセットすることによって製造される請求項21に記載の方法。
  23. 前記キャストフィルムが450〜1400ミクロンの厚さを有する請求項22に記載の方法。
  24. 前記キャストフィルムを2.5×2.5〜3×3の比で伸張する請求項23に記載の方法。
  25. (a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された、厚さ70〜150ミクロンの少なくとも1つの二軸延伸ポリエステルフィルムを含んでなるフレキシブル電子回路基板。
  26. 前記ポリエステルフィルムが、厚さ450〜1800ミクロンの本質的に非晶質のキャストフィルムを、温度を90〜130℃に保持しながら、2.5×2.5〜3.5×3.5の比で伸張し、そして前記伸張フィルムを寸法を保持しながら260℃〜Tm(ここでTmは示差走査熱量測定法(DSC)によって測定されるポリエステルの融点である)の実際フィルム温度においてヒートセットすることによって製造される請求項25に記載のフレキシブル電子回路基板。
  27. 前記キャストフィルムが450〜1400ミクロンの厚さを有する請求項26に記載のフレキシブル電子回路基板。
  28. 前記キャストフィルムが2.5×2.5〜3×3の比で伸張されたものである請求項27に記載のフレキシブル電子回路基板。
  29. 260℃に予熱されたはんだ浴中に10秒間浸漬した場合に3%以下の収縮率を示す請求項25に記載のフレキシブル電子回路基板。
  30. 少なくとも1つの積層体が
    I.銅層;
    II.熱硬化性接着剤;及び
    III.前記二軸延伸ポリエステルフィルム
    を順に含んでなる、1つ又はそれ以上の積層体を含む請求項25に記載のフレキシブル電子回路基板。
  31. (a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された、260℃に予熱されたはんだ浴中に10秒間浸漬した場合の収縮率が3%以下である二軸延伸ポリエステルフィルム。
  32. 前記ポリエステルが、ASTM法D2857−95に従ってフェノール60重量%及びテトラクロロエタン40重量%からなる溶媒100mL当たりポリマー0.50gを用いて25℃において測定した場合に、0.5〜1.1のインヘレント粘度を有する請求項31に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  33. (a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された二軸延伸ポリエステルフィルムであって、
    前記ポリエステルフィルムが、厚さ450〜1800ミクロンの本質的に非晶質のキャストフィルムを、温度を90〜130℃に保持しながら、2.5×2.5〜3.5×3.5の比で伸張し、そして前記伸張フィルムを、寸法を保持しながら、260℃〜Tm(ここでTmは示差走査熱量測定法(DSC)によって測定されるポリエステルの融点である)の実際フィルム温度においてヒートセットすることによって製造され、
    前記ポリエステルフィルムの、260℃に予熱されたはんだ浴中に10秒間浸漬した場合の収縮率が3%以下である
    二軸延伸ポリエステルフィルム。
  34. 前記キャストフィルムが450〜1400ミクロンの厚さを有する請求項33に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  35. 前記キャストフィルムが2.5×2.5〜3×3の比で伸張された請求項34に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  36. 前記伸張フィルムが寸法を保持しながら1〜120秒間ヒートセットされた請求項33に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  37. 前記キャストフィルムを、マシン方向及びその横断方向に、逐次伸張させることによって製造された請求項36に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  38. 前記キャストフィルムを、マシン方向及びその横断方向に、同時に伸張させることによって製造された請求項36に記載の二軸延伸ポリエステルフィルム。
  39. 積層体の少なくとも1つが
    I.熱硬化性接着剤;並びに
    II.(a)95〜100モル%のテレフタル酸残基を含む二酸残基;
    (b)95〜100モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むジオール残基;及び
    (c)0.5〜5モル%の別のジカルボン酸又はジオール残基
    を含んでなる、合計100モル%の二酸残基及び合計100モル%のジオール残基を含むポリエステルから製造された、260℃に予熱されたはんだ浴中に10秒間浸漬した場合に3%以下の収縮率を示す二軸延伸ポリエステルフィルム
    を順に含む1つ又はそれ以上の積層体を含んでなる熱可塑性樹脂製品。
  40. 少なくとも1つの積層体が
    I.銅層;
    II.前記熱硬化性接着剤;及び
    III.前記二軸延伸ポリエステルフィルム
    を順に含む請求項39に記載に熱可塑性樹脂製品。
  41. 請求項39に記載の熱可塑性樹脂製品を含むフレキシブル電子回路基板。
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