JP2008515171A - 基板洗浄装置及び洗浄部材の交換時期判定方法 - Google Patents
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Abstract
Description
〔発明を実施するための最良の形態〕
転数で同図の矢印Fで示す方向に回転する洗浄部材2に当接して該洗浄部材2の外周面を押圧洗浄する石英板等の当接部材(洗浄治具)14と、該当接部材14を並進運動させる駆動装置21を具備して構成される。
を測定手段13でモニターする。ここでは、洗浄液11に含まれるパーティクル数を測定
したり、洗浄液11の成分濃度を測定したりすることで、洗浄液11の汚染度をモニター
する。このモニター結果を駆動装置21にフィードバックすることで、洗浄部材2の汚染
度が低くなるように当接部材14の動作を制御する。即ち、洗浄液11の汚染度が高いと
判断された場合は、制御装置19は、洗浄部材2が汚染されていると判断し、駆動装置2
1へ所定の制御信号を送信して当接部材14の動きを制御することで、洗浄部材2の洗浄
条件を変更する。
式図である。スポンジ材等で構成された洗浄部材2は、同図(a)に示すように、表面部
分に比較的硬質で小さい気孔28が形成された表層部25を備え、その内部に、比較的軟
質で大きい気孔28が形成された下層部26を備えて構成されている。従って、洗浄部材
2の表層部25が残存している場合は、同図(a)に示すように、表面の気孔28の数は
少なく、その径も小さい。
する洗浄部材洗浄装置の構成例を示す図である。同図に示す洗浄部材洗浄装置10-4は
、ペンシル型スポンジ2を洗浄槽12に溜めた洗浄液11内に浸漬させて、観察壁15に
反復衝突させることで洗浄を行うもので、その構成及び動作は図4に示す洗浄部材洗浄装
置1-2と共通するため、ここでは詳細な説明は省略する。
Claims (17)
- 基板に当接してスクラブ洗浄する洗浄部材を備えた基板洗浄装置の洗浄部材交換時期判定方法であって、
前記洗浄部材の表面状態を検知する表面状態検知手段で基板洗浄作業中又は洗浄部材洗浄中の洗浄部材の表面状態を検知し、該検知した表面状態の変化から該洗浄部材の交換時期を判定する方法。 - 前記洗浄部材の交換時期を判定する表面状態の変化は該洗浄部材表面の単位面積当たりの孔径分布・孔面積等の気孔状態の変化である請求項1に記載の方法。
- 前記洗浄部材の交換時期を判定する表面状態の変化は該洗浄部材表面の硬度の変化である請求項1に記載の方法。
- 基板に当接してスクラブ洗浄する洗浄部材を備えた基板洗浄装置の洗浄部材交換時期判定方法であって、
前記洗浄部材と前記基板の少なくとも一方を回転させた状態でこれらを当接させて該洗浄部材と該基板の相対運動により該基板をスクラブ洗浄する際に、回転測定手段により前記洗浄部材の回転状態及び/又は前記基板の回転状態を測定し、該回転状態の変化から洗浄部材の表面状態を検知し、該検知した表面状態の変化から該洗浄部材の交換時期を判定する方法。 - 基板に当接してスクラブ洗浄する洗浄部材を備えた基板洗浄装置において、
前記洗浄部材の基板洗浄作業中又は洗浄部材洗浄中の表面状態を検知する表面状態検知手段と、該表面状態検知手段で検知した前記洗浄部材の表面状態の変化から該洗浄部材の交換時期を判定する交換時期判定手段を具備することを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項5に記載の基板洗浄装置において、前記表面状態検知手段は前記洗浄部材の回転状態及び/又は前記基板の回転状態を測定する回転測定手段を具備し、該回転測定手段は、前記洗浄部材と前記基板の少なくとも一方を回転させた状態でこれらを当接させて該洗浄部材と該基板の相対運動により該基板をスクラブ洗浄する際に、前記洗浄部材の回転状態及び/又は前記基板の回転状態を測定し、前記交換時期判定手段は、該測定した回転状態の変化から洗浄部材の表面状態を検知する基板洗浄装置。
- 請求項5に記載の基板洗浄装置において、前記表面状態検知手段は前記洗浄部材表面の画像を取得する画像取得手段を具備し、前記交換時期判定手段は、前記画像取得手段で取得した画像データを処理し、該洗浄部材表面の単位面積当たりの孔径分布・孔面積等の気孔状態から前記洗浄部材の交換時期を判定する基板洗浄装置。
- 請求項7に記載の基板洗浄装置において、前記表面状態検知手段は、前記洗浄部材と前記画像取得手段との間に観察媒体を有し、前記画像取得手段は前記観察媒体を介して洗浄部材表面の画像を取得する基板洗浄装置。
- 請求項7に記載の基板洗浄装置において、前記表面状態検知手段は、前記洗浄部材表面の硬度を測定する硬度測定手段を具備し、前記交換時期判定手段は該硬度測定手段で測定した前記洗浄部材表面の硬度から前記洗浄部材の交換時期を判定する基板洗浄装置。
- 前記硬度測定手段は超微小硬度計又は薄膜硬度計を具備する請求項9に記載の基板洗浄装置。
- 請求項7に記載の基板洗浄装置において、前記交換時期判定手段は、前記表面状態検知手段で検知した前記洗浄部材の表面状態が表層部を示す状態から下層部を示す状態に変化した場合に、前記洗浄部材の交換信号を出す基板洗浄装置。
- 請求項7に記載の基板洗浄装置であって、前記洗浄部材に押し付けて該洗浄部材を洗浄する当接部材、該当接部材を駆動制御する駆動制御手段、及び洗浄液を収納し少なくとも前記洗浄部材と前記当接部材の当接部分を浸漬させる洗浄槽を具備する洗浄部材洗浄装置、前記洗浄槽内の洗浄液中のパーティクル数及び/又は成分濃度を測定する測定手段、並びに前記測定手段による測定結果を前記駆動制御手段にフィードバックするフィードバック機構を含む基板洗浄装置。
- 請求項12に記載の基板洗浄装置において、前記洗浄部材の洗浄後前記洗浄槽に収納した洗浄液をオーバーフローさせるオーバーフロー機構、又は前記洗浄槽から引き上げた洗浄部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を含む基板洗浄装置。
- 基板洗浄装置であって、
基板に当接してスクラブ洗浄する洗浄部材、前記洗浄部材に押し付けて該洗浄部材を洗浄する当接部材、該当接部材を駆動制御する駆動制御手段、及び洗浄液を収納し少なくとも前記洗浄部材と前記当接部材の当接部分を浸漬させる洗浄槽を具備する洗浄部材洗浄装置、
前記洗浄槽内の洗浄液中のパーティクル数及び/又は成分濃度を測定する測定手段、
前記測定手段による測定結果を前記駆動制御手段にフィードバックするフィードバック
機構、を含む基板洗浄装置。 - 請求項14に記載の基板洗浄装置において、前記洗浄部材の洗浄後、前記洗浄槽に収納した洗浄液をオーバーフローさせるオーバーフロー機構、又は前記洗浄槽から引き上げた洗浄部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を含む基板洗浄装置。
- 請求項14に記載の基板洗浄装置において、前記測定手段で測定された洗浄液中のパーティクル数及び/又は成分濃度が規定値以上になった場合は、前記洗浄部材の交換信号を出す基板洗浄装置。
- 請求項14に記載の基板洗浄装置であって、前記洗浄部材、前記当接部材、前記洗浄槽、前記観察壁のいずれか又は総てを超音波洗浄する超音波洗浄機構を含む基板洗浄装置。
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