JP2008306217A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本願発明によれば、液浸リソグラフィで使用するためのバール・プレートであって、その周縁部で中央部よりも高いバール密度を有しており、それによって、より高い圧力差が周縁部に適用されたときでも、バールの圧縮が依然として中央部と実質的に同じになるバール・プレートが提供される。
【選択図】図2
Description
放射線の投影ビームを提供するための照明システムと、
投影ビームの断面にパターンを与えるパターン形成デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルであって、バール・プレートと、該バール・プレートに保持された基板全体にわたる圧力差を確立するための真空システムとを有し、前記圧力差が、前記基板の周縁部で中央部よりも大きい基板テーブルと、
パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルに保持された基板との間の空間に高屈折率の液体を供給するための液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置であって、
前記バール・プレート上のバールの密度が、前記周縁部で前記中央部よりも高いことを特徴とするリソグラフィ装置が提供される。
基板を提供するステップと、
照明システムを使用して、放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成デバイスを使用して、投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間に高屈折率の液体を提供するステップと、
パターン形成された放射線のビームを基板のターゲット部分に投影するステップと
を含むデバイス製造方法であって、
前記基板が、基板全体にわたる圧力差によってバール・プレート上に保持され、前記圧力差が、前記基板の周縁部で中央部よりも大きく、前記バール・プレート上のバールの密度が、前記周縁部で前記中央部よりも高いことを特徴とするデバイス製造方法が提供される。
放射線(例えばUV放射線またはDUV放射線)の投影ビームPBを提供するための照明システム(照明器)ILと、
パターン形成デバイス(例えばマスク)MAを支持するための支持構造であって、要素PLに対してパターン形成デバイスを正確に位置決めするための第1の位置決めデバイスPMに接続された第1の支持構造(例えばマスク・テーブル)MTと、
基板(例えばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するための基板テーブルであって、要素PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTと、
パターン形成デバイスMAによって投影ビームPBに与えられたパターンを、基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のダイを備える)に結像するための投影システム(例えば屈折投影レンズ)PLと
を有する。
IL 照明システム、照明器
MA パターン形成デバイス
PM 第1の位置決め手段
MT 支持構造、マスク・テーブル
W 基板
PW 第2の位置決め手段
WT 基板テーブル、ウェハ・テーブル
C ターゲット部分
PL 投影システム
SO 放射線源
BD ビーム送達システム
AM 調整デバイス
IN 積分器
CO 集光器
MB ミラー・ブロック
10 液体リザーバ
11 高屈折率の液体
12 シール部材
13 入口/出口管
14 出口
15 入口
16 ガス・シール
18、19 溝
20 バール・プレート
21、22、24、25 バール
23、27 壁
26 アパーチャ
28 気体入口
G1、G2、G3、G4、G5 間隙
Claims (19)
- 放射線の投影ビームを提供するための照明システムと、
投影ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターン形成デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルであって、バール・プレートと、該バール・プレート上に保持された基板全体にわたって圧力差を確立するための真空システムとを有し、前記圧力差は、前記基板の中央部よりも周縁部で大きい基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルに保持された基板との間の空間に高屈折率の液体を供給するための液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置において、
前記バール・プレート上のバールの密度が、前記中央部よりも前記周縁部で高いリソグラフィ装置。 - 前記周縁部でのバールの密度と前記中央部でのバールの密度との比が、装置の使用時のそれらの部分での圧力差の比に実質的に等しい請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記周縁部および中央部の前記バールが全て実質的に同じ公称サイズであり、しかし単位面積当たりの数が周縁部でより多い請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バールの断面積が前記周縁部でより大きい請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記周縁部が、前記基板の外周縁の内側に延びる実質的に環状の領域である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記環状領域が、前記バール・プレートの半径の5%〜20%の範囲の幅を有している請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バール・プレートが、前記周縁部を前記中央部から離隔する直立壁を有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- バールの密度が、前記周縁部内で実質的に一定である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- バールの密度が、前記中央部内で実質的に一定である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 基板を提供するステップと、
照明システムを使用して放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成デバイスを使用して前記投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間に高屈折率の液体を提供するステップと、
パターン形成された放射線のビームを前記基板のターゲット部分に投影するステップと
を含むデバイス製造方法であって、
前記基板が、前記基板にわたる圧力差によってバール・プレートに保持され、該圧力差が、前記基板の中央部よりも周縁部で大きく、前記バール・プレート上のバールの密度が、前記中央部よりも前記周縁部で高いデバイス製造方法。 - 前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルに保持された基板との間の空間に高屈折率の液体が供給されるリソグラフィ投影装置で使用するためのバール・プレートであって、
前記バール・プレートの周縁部でのバールの密度が、その中央部での密度よりも高いバール・プレート。 - 前記周縁部でのバールの密度と前記中央部でのバールの密度との比が、装置の使用時のそれらの部分での圧力差の比に実質的に等しい請求項11に記載のバール・プレート。
- 前記周縁部および中央部の前記バールが全て実質的に同じ公称サイズであり、しかし単位面積当たりの数が周縁部でより多い請求項11に記載のバール・プレート。
- 前記バールの断面積が周縁部でより大きい請求項11に記載のバール・プレート。
- 前記周縁部が、前記基板の外周縁の内側に延びる実質的に環状の領域である請求項11に記載のバール・プレート。
- 前記環状領域が、前記バール・プレートの半径の5%〜20%の範囲の幅を有している請求項11に記載のバール・プレート。
- 前記バール・プレートが、前記周縁部を前記中央部から離隔する直立壁を有している請求項11に記載のバール・プレート。
- バールの密度が、前記周縁部内で実質的に一定である請求項11に記載のバール・プレート。
- バールの密度が、前記中央部内で実質的に一定である請求項11に記載のバール・プレート。
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