JP2008170236A - X線及び中性子線の反射率曲線測定方法及び測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】白色X線または中性子線を透過型ポリクロメータ1に背面から入射させて扇型に収束後発散し進行方向に依存してX線または中性子線の波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化するX線束または中性子線束を作成する。X線束または中性子線束の収束点に試料Sを配置して当該X線束を一定の照射角で試料表面に照射し、前記試料表面で反射した反射X線または中性子線の強度分布を一次元検出器2で測定し、その一次元強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するX線または中性子線反射率曲線を求める。
【選択図】図1
Description
"A Fast X-Ray Absorption Spectrometer for Use with Synchrotron
Radiation", Japanese Journal of Applied Physics, vol. 20, No.11, p2223-p2228, November
1981)。X線波長λとX線エネルギーEとは、λ=12.4/Eの関係があるので、上記文献においてすべてエネルギーのスケールで記述されている事柄はこの波長とエネルギーの関係を表す式を適用することにより本明細書における記述と比較できる。
X線源から白色X線が出射してプリポリクロメータ4に入射する。プリポリクロメータ4では傾斜多層膜11の層間距離に応じて透過型ポリクロメータ1の各結晶位置において外乱(バックグラウンド)となるX線波長がカットされて所要波長のX線束が透過型ポリクロメータ1へ入射される。
2…一次元検出器
3…分析装置
4…プリポリクロメータ
11…傾斜多層膜
Claims (12)
- 白色X線を湾曲結晶に背面から入射させて扇型に収束後発散し進行方向に依存してX線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化するX線束を作成し、前記X線束の収束点に試料を配置して当該X線束を一定の照射角で試料表面に照射し、前記試料表面で反射した反射X線の強度分布を測定し、その強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するX線反射率曲線を求めることを特徴とするX線反射率曲線の測定方法。
- 前記湾曲結晶の各入射位置において白色X線のうちバックグラウンドとなるX線成分を前記湾曲結晶の前段でカットすることを特徴とする請求項1記載のX線反射率曲線の測定方法。
- 白色X線が背面から入射して湾曲結晶より出射して扇型に収束後発散し進行方向に依存してX線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化するX線束を一定の照射角で試料表面に照射する湾曲結晶と、
前記試料の後方に配置され、前記試料表面で反射した反射X線が入射する一次元又は二次元検出器と、
前記一次元又は二次元検出器で検出された反射X線の強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するX線反射率曲線を求める分析装置と、
を具備したことを特徴とするX線反射率曲線の測定装置。 - 前記湾曲結晶の前段に配置され、入射する白色X線のうち前記湾曲結晶の各入射位置においてバックグラウンドとなる成分をカットするプリポリクロメータを備えたことを特徴とする請求項3記載のX線反射率曲線の測定装置。
- 白色中性子線を湾曲結晶に背面から入射させて扇型に収束後発散し進行方向に依存して中性子線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化する中性子線束を作成し、前記中性子線束の収束点に試料を配置して当該中性子線束を一定の照射角で試料表面に照射し、前記試料表面で反射した反射中性子線の強度分布を測定し、その強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化する中性子線反射率曲線を求めることを特徴とする中性子線反射率曲線の測定方法。
- 前記湾曲結晶の各入射位置において白色中性子線のうちバックグラウンドとなる中性子線成分を前記湾曲結晶の前段でカットすることを特徴とする請求項5記載の中性子線反射率曲線の測定方法。
- 白色中性子線が背面から入射して湾曲結晶より出射して扇型に収束後発散し進行方向に依存して中性子線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化する中性子線束を一定の照射角で試料表面に照射する湾曲結晶と、
前記試料の後方に配置され、前記試料表面で反射した反射中性子線が入射する一次元又は二次元検出器と、
前記一次元又は二次元検出器で検出された反射中性子線の強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化する中性子線反射率曲線を求める分析装置と、
を具備したことを特徴とする中性子線反射率曲線の測定装置。 - 前記湾曲結晶の前段に配置され、入射する白色中性子線のうち前記湾曲結晶の各入射位置においてバックグラウンドとなる成分をカットするプリポリクロメータを備えたことを特徴とする請求項7記載の中性子線反射率曲線の測定装置。
- 白色X線を楕円曲面に湾曲した反射型結晶に入射して扇型に収束後発散し進行方向に依存してX線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化するX線束を作成し、前記X線束の収束点に試料を配置して当該X線束を一定の照射角で試料表面に照射し、前記試料表面で反射した反射X線の強度分布を測定し、その強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するX線反射率曲線を求めることを特徴とするX線反射率曲線の測定方法。
- 楕円曲面に入射した白色X線を反射して扇型に収束後発散し進行方向に依存してX線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化するX線束を作成し一定の照射角で試料表面に照射する楕円曲面に湾曲した反射型結晶と、
前記試料の後方に配置され、前記試料表面で反射した反射X線が入射する一次元又は二次元検出器と、
前記一次元又は二次元検出器で検出された反射X線の強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するX線反射率曲線を求める分析装置と、
を具備したことを特徴とするX線反射率曲線の測定装置。 - 白色中性子線を楕円曲面に湾曲した反射型結晶に入射して扇型に収束後発散し進行方向に依存して中性子線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化する中性子線束を作成し、前記中性子線束の収束点に試料を配置して当該中性子線束を一定の照射角で試料表面に照射し、前記試料表面で反射した反射中性子線の強度分布を測定し、その強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化する中性子線反射率曲線を求めることを特徴とする中性子線反射率曲線の測定方法。
- 楕円曲面に入射した白色中性子線を反射して扇型に収束後発散し進行方向に依存して中性子線波長がその下限値から当該下限値の3倍から10倍の範囲で連続的に変化する中性子線束を作成し一定の照射角で試料表面に照射する楕円曲面に湾曲した反射型結晶と、
前記試料の後方に配置され、前記試料表面で反射した反射中性子線が入射する一次元又は二次元検出器と、
前記一次元又は二次元検出器で検出された反射中性子線の強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化する中性子線反射率曲線を求める分析装置と、
を具備したことを特徴とする中性子線反射率曲線の測定装置。
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